JPH043499Y2 - - Google Patents
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- JPH043499Y2 JPH043499Y2 JP7415486U JP7415486U JPH043499Y2 JP H043499 Y2 JPH043499 Y2 JP H043499Y2 JP 7415486 U JP7415486 U JP 7415486U JP 7415486 U JP7415486 U JP 7415486U JP H043499 Y2 JPH043499 Y2 JP H043499Y2
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- glass
- semiconductor element
- lid
- glass layer
- semiconductor
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- Expired
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Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は半導体集積回路素子を収納する半導体
パツケージに関し、特にガラス溶着によつてパツ
ケージの封止を行うガラス封止形半導体パツケー
ジの改良に関する。
パツケージに関し、特にガラス溶着によつてパツ
ケージの封止を行うガラス封止形半導体パツケー
ジの改良に関する。
従来、半導体素子、特に半導体集積回路素子を
収納するためのパツケージは内部に半導体素子を
収納するための空所を有する絶縁基体と蓋体とか
ら成る絶縁容器と、該容器内に収納される半導体
素子を外部回路に電気的に接続するための外部リ
ード端子とにより構成されており、基体および蓋
体の相対向する主面にあらかじめ封止用のガラス
層を被着形成するとともに基体主面に外部リード
端子を固定し、半導体素子の各電極と外部リード
端子とをワイヤボンドした後、それぞれのガラス
層を溶融一体化させることによつて内部に半導体
素子を気密に封止している。
収納するためのパツケージは内部に半導体素子を
収納するための空所を有する絶縁基体と蓋体とか
ら成る絶縁容器と、該容器内に収納される半導体
素子を外部回路に電気的に接続するための外部リ
ード端子とにより構成されており、基体および蓋
体の相対向する主面にあらかじめ封止用のガラス
層を被着形成するとともに基体主面に外部リード
端子を固定し、半導体素子の各電極と外部リード
端子とをワイヤボンドした後、それぞれのガラス
層を溶融一体化させることによつて内部に半導体
素子を気密に封止している。
しかし乍ら、この従来のガラス封止形半導体パ
ツケージは絶縁基体及び蓋体の相対向する主面に
被着されたそれぞれのガラス層が、通常低融点の
ガラス粉末に適当な溶剤を添加混合して得たガラ
スペーストをスクリーン印刷等の厚膜手法によつ
て塗布するとともに溶剤を加熱飛散させることに
より形成しており、その表面粗さがRmax50〜
70μmと極めて粗い。そのためこのガラス層はそ
の表面に大気中に含まれる水分等が付着し易く、
該付着した水分等は絶縁容器を封止した際、容器
内部に入り込み、内部に収納する半導体素子に作
用して半導体素子の特性に劣化やバラツキを発生
させるという欠点を有していた。
ツケージは絶縁基体及び蓋体の相対向する主面に
被着されたそれぞれのガラス層が、通常低融点の
ガラス粉末に適当な溶剤を添加混合して得たガラ
スペーストをスクリーン印刷等の厚膜手法によつ
て塗布するとともに溶剤を加熱飛散させることに
より形成しており、その表面粗さがRmax50〜
70μmと極めて粗い。そのためこのガラス層はそ
の表面に大気中に含まれる水分等が付着し易く、
該付着した水分等は絶縁容器を封止した際、容器
内部に入り込み、内部に収納する半導体素子に作
用して半導体素子の特性に劣化やバラツキを発生
させるという欠点を有していた。
また前記ガラス層は表面が粗く凸凹があること
から組立工程等において外力が印加された場合、
該外力は凸部に集中してガラス層の一部に欠落を
発生させてしまい、その結果、絶縁容器の気密が
ガラスの量不足によつて不良となつたり、欠落し
たガラスが内部に収納する半導体素子に衝突し、
半導体素子の特性に劣化やバラツキを発生させて
しまうという欠点も有していた。
から組立工程等において外力が印加された場合、
該外力は凸部に集中してガラス層の一部に欠落を
発生させてしまい、その結果、絶縁容器の気密が
ガラスの量不足によつて不良となつたり、欠落し
たガラスが内部に収納する半導体素子に衝突し、
半導体素子の特性に劣化やバラツキを発生させて
しまうという欠点も有していた。
本考案は上記欠点に鑑み案出されたもので、そ
の目的は封止用ガラスの水分等の付着及び封止用
ガラスの外力印加による欠落の発生を有効に防止
し、内部に収納される半導体素子の気密封止を完
全として半導体素子を長期間にわたり、正常に、
かつ安定に作動させることができるガラス封止形
半導体パツケージを提供することにある。
の目的は封止用ガラスの水分等の付着及び封止用
ガラスの外力印加による欠落の発生を有効に防止
し、内部に収納される半導体素子の気密封止を完
全として半導体素子を長期間にわたり、正常に、
かつ安定に作動させることができるガラス封止形
半導体パツケージを提供することにある。
本考案は、相対向する主面にガラス層を被着さ
せた絶縁基体と蓋体とで外部リード端子を挟持
し、前記ガラス層を溶融一体化することにより半
導体素子を内部に気密封止するガラス封止形半導
体パツケージにおいて、前記絶縁基体及び蓋体の
主面に被着させたガラス層の表面粗さを
Rmax5.0μm以下としたことを特徴とするもので
ある。
せた絶縁基体と蓋体とで外部リード端子を挟持
し、前記ガラス層を溶融一体化することにより半
導体素子を内部に気密封止するガラス封止形半導
体パツケージにおいて、前記絶縁基体及び蓋体の
主面に被着させたガラス層の表面粗さを
Rmax5.0μm以下としたことを特徴とするもので
ある。
次に本考案を添付図面に基づき詳細に説明す
る。
る。
第1図及び第2図は本考案のガラス封止型半導
体パツケージの一実施例を示し、1はセラミツ
ク、ガラス等の電気絶縁材料から成るパツケージ
基体、2は同じく電気絶縁材料から成る蓋体であ
る。この絶縁基体1と蓋体2とにより絶縁容器3
が構成される。
体パツケージの一実施例を示し、1はセラミツ
ク、ガラス等の電気絶縁材料から成るパツケージ
基体、2は同じく電気絶縁材料から成る蓋体であ
る。この絶縁基体1と蓋体2とにより絶縁容器3
が構成される。
前記絶縁基体1及び蓋体2にはそれぞれの中央
部に半導体素子を収納するための凹部が形成して
あり該基体1の凹部底面には半導体素子4が樹
脂、ガラス、ロウ材等の接着材を介して取着固定
される。前記基体1及び蓋体2には、その相対向
する主面に封止用のガラス層6a,6bがそれぞ
れ被着されており、該ガラス層6a,6bを加熱
溶融させ一体化させることにより絶縁容器3内の
半導体素子4を気密に封止する。
部に半導体素子を収納するための凹部が形成して
あり該基体1の凹部底面には半導体素子4が樹
脂、ガラス、ロウ材等の接着材を介して取着固定
される。前記基体1及び蓋体2には、その相対向
する主面に封止用のガラス層6a,6bがそれぞ
れ被着されており、該ガラス層6a,6bを加熱
溶融させ一体化させることにより絶縁容器3内の
半導体素子4を気密に封止する。
前記ガラス層6a,6bは例えば低融点のガラ
スから成り、該ガラス粉末に適当な溶剤を添加し
て得たガラスペーストを従来周知の厚膜手法を採
用することにより基体1及び蓋体2の相対向する
主面に形成される。
スから成り、該ガラス粉末に適当な溶剤を添加し
て得たガラスペーストを従来周知の厚膜手法を採
用することにより基体1及び蓋体2の相対向する
主面に形成される。
また、前記ガラス層6a,6bは絶縁基体1と
蓋体2の相対向する主面にガラスペーストを塗布
した後、約470℃の温度で焼成され、ガラスを一
旦溶融させることによつて表面の凸凹が取り除か
れており、表面粗さがRmax5.0μm以下となつて
いる。
蓋体2の相対向する主面にガラスペーストを塗布
した後、約470℃の温度で焼成され、ガラスを一
旦溶融させることによつて表面の凸凹が取り除か
れており、表面粗さがRmax5.0μm以下となつて
いる。
この絶縁基体1と蓋体2の相対向する主面に被
着されたガラス層6a,6bはその表面粗さが
Rmax5.0μm以下であり、鏡面をなしていること
から大気中に含まれる水分等は極めて付着しにく
く、ガラス層6a,6bに付着した水分等が絶縁
容器3の封止の際に容器3内に入り込み、内部に
収納する半導体素子4に作用して半導体素子4の
特性にバラツキや劣化を発生させてしまうという
ことが有効に防止される。また前記ガラス層6
a,6bはその表面がRmax5.0μm以下の鏡面で
あることから、組立工程等において外力が印加さ
れたとしても該外力は一点に集中することなく全
体に分散され、ガラス層6a,6bの一部に欠落
を発生することもない。
着されたガラス層6a,6bはその表面粗さが
Rmax5.0μm以下であり、鏡面をなしていること
から大気中に含まれる水分等は極めて付着しにく
く、ガラス層6a,6bに付着した水分等が絶縁
容器3の封止の際に容器3内に入り込み、内部に
収納する半導体素子4に作用して半導体素子4の
特性にバラツキや劣化を発生させてしまうという
ことが有効に防止される。また前記ガラス層6
a,6bはその表面がRmax5.0μm以下の鏡面で
あることから、組立工程等において外力が印加さ
れたとしても該外力は一点に集中することなく全
体に分散され、ガラス層6a,6bの一部に欠落
を発生することもない。
そのためこれによつてガラスの量不足による絶
縁容器3の気密不良や欠落したガラスが半導体素
子4に衝突し、半導体素子4の特性が劣化したり
バラツキを発生したりすることも有効に防止され
る。
縁容器3の気密不良や欠落したガラスが半導体素
子4に衝突し、半導体素子4の特性が劣化したり
バラツキを発生したりすることも有効に防止され
る。
前記絶縁基体1と蓋体2との間には導電性材
料、例えばアルミニウム(Al)、銅(Cu)、コバ
ール(Fe−Ni−Co)等の金属から成る外部リー
ド端子5が配されており、該外部リード端子5は
半導体素子4の各電極7がワイヤ5aを介し電気
的に接続され、外部リード端子5を外部回路に接
続することにより半導体素子4が外部回路と接続
されることになる。
料、例えばアルミニウム(Al)、銅(Cu)、コバ
ール(Fe−Ni−Co)等の金属から成る外部リー
ド端子5が配されており、該外部リード端子5は
半導体素子4の各電極7がワイヤ5aを介し電気
的に接続され、外部リード端子5を外部回路に接
続することにより半導体素子4が外部回路と接続
されることになる。
前記外部リード端子5は、絶縁容器3をガラス
層6a,6bを溶融一体化させて気密封止する際
に同時に基体1と蓋体2の間に取着される。
層6a,6bを溶融一体化させて気密封止する際
に同時に基体1と蓋体2の間に取着される。
かくして、この半導体パツケージによれば、基
体1の凹部底面に半導体素子4を取着固定すると
ともに該半導体素子4の各電極7をワイヤ5aに
より外部リード端子5に接続させた後、基体1と
蓋体2にあらかじめ被着させておいたガラス層6
a,6bを加熱溶融させ、一体化させることによ
りその内部に半導体素子4を気密に封止する。
体1の凹部底面に半導体素子4を取着固定すると
ともに該半導体素子4の各電極7をワイヤ5aに
より外部リード端子5に接続させた後、基体1と
蓋体2にあらかじめ被着させておいたガラス層6
a,6bを加熱溶融させ、一体化させることによ
りその内部に半導体素子4を気密に封止する。
本考案のガラス封止形半導体パツケージによれ
ば、絶縁基体及び蓋体の相対向する主面に被着さ
れたガラス層の表面粗さをRmax5.0μm以下とし
たことから大気中に含まれる水分等のガラス層表
面への付着を極小となすことができ、該水分等の
半導体素子への作用を皆無として半導体素子を長
期間にわたり正常、かつ安定に作動させることが
できる。
ば、絶縁基体及び蓋体の相対向する主面に被着さ
れたガラス層の表面粗さをRmax5.0μm以下とし
たことから大気中に含まれる水分等のガラス層表
面への付着を極小となすことができ、該水分等の
半導体素子への作用を皆無として半導体素子を長
期間にわたり正常、かつ安定に作動させることが
できる。
また組立工程等においてガラス層に外力が印加
されても該外力はガラス層の表面がRmax5.0μm
以下の鏡面であることから一点に集中することな
く全体に分散されて小となり、ガラス層の一部が
欠落することは皆無となる。そのため、これによ
りガラスの量不足による絶縁容器の気密不良及び
欠落したガラスの半導体素子への衝突による半導
体素子の特性劣化も有効に防止することが可能と
なる。
されても該外力はガラス層の表面がRmax5.0μm
以下の鏡面であることから一点に集中することな
く全体に分散されて小となり、ガラス層の一部が
欠落することは皆無となる。そのため、これによ
りガラスの量不足による絶縁容器の気密不良及び
欠落したガラスの半導体素子への衝突による半導
体素子の特性劣化も有効に防止することが可能と
なる。
第1図は本考案のガラス封止形半導体パツケー
ジの一実施例を示す分解斜視図、第2図は第1図
のガラス封止形半導体パツケージの封止後の断面
図である。 1……絶縁基体、2……蓋体、4……半導体素
子、5……外部リード端子、6a,6b……ガラ
ス層、7……電極。
ジの一実施例を示す分解斜視図、第2図は第1図
のガラス封止形半導体パツケージの封止後の断面
図である。 1……絶縁基体、2……蓋体、4……半導体素
子、5……外部リード端子、6a,6b……ガラ
ス層、7……電極。
Claims (1)
- 相対向する主面にガラス層を被着させた絶縁基
体と蓋体とで外部リード端子を挟持し、前記ガラ
ス層を溶融一体化することにより半導体素子を内
部に気密封止するガラス封止形半導体パツケージ
において、前記絶縁基体及び蓋体の主面に被着さ
せたガラス層の表面粗さをRmax5.0μm以下とし
たことを特徴とするガラス封止形半導体パツケー
ジ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7415486U JPH043499Y2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7415486U JPH043499Y2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62186433U JPS62186433U (ja) | 1987-11-27 |
JPH043499Y2 true JPH043499Y2 (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=30919115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7415486U Expired JPH043499Y2 (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH043499Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP7415486U patent/JPH043499Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62186433U (ja) | 1987-11-27 |
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