JPH04333572A - 酸化物超電導体用mo原料の気化方法 - Google Patents
酸化物超電導体用mo原料の気化方法Info
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- JPH04333572A JPH04333572A JP10586891A JP10586891A JPH04333572A JP H04333572 A JPH04333572 A JP H04333572A JP 10586891 A JP10586891 A JP 10586891A JP 10586891 A JP10586891 A JP 10586891A JP H04333572 A JPH04333572 A JP H04333572A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は有機金属化学気相蒸着
(MOCVD)法を用いた酸化物超電導体用MO原料の
気化方法に関するものである。
(MOCVD)法を用いた酸化物超電導体用MO原料の
気化方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液体窒素温度(77K)以上で超
電導状態を示すY−Ba−Cu−O系やBi−Sr−C
a−Cu−O系などの酸化物超電導体を各種の方法で作
製することが盛んに行なわれてきた。その中で有機金属
化合物原料を用いるMOCVD法は一般に合成速度が速
い、連続合成が可能、自由な形状の物の上に合成できる
、厚膜状に合成できるなどの利点から酸化物超電導体の
デバイス化および線材化に有力な手法と見られ、広く検
討されている。しかし、実際に従来のMOCVD法を用
いた場合、刊行物{Applied Physics
Letters 54巻、380 ページ(1989)
およびJapanese Journal of Ap
plied Physics Letters 27巻
、1265ページ(1988)}にあるように、原料の
加熱温度を高く(特にBa等の希土類原料は260〜3
00℃)設定しなければ合成は行なえなかった。これは
、刊行物{Applied Physics Lett
ers 53巻、1750ページ(1988)}に指摘
されているように代表的な固体状のMO原料は一般に非
常に気化しにくいことに起因するものであった。
電導状態を示すY−Ba−Cu−O系やBi−Sr−C
a−Cu−O系などの酸化物超電導体を各種の方法で作
製することが盛んに行なわれてきた。その中で有機金属
化合物原料を用いるMOCVD法は一般に合成速度が速
い、連続合成が可能、自由な形状の物の上に合成できる
、厚膜状に合成できるなどの利点から酸化物超電導体の
デバイス化および線材化に有力な手法と見られ、広く検
討されている。しかし、実際に従来のMOCVD法を用
いた場合、刊行物{Applied Physics
Letters 54巻、380 ページ(1989)
およびJapanese Journal of Ap
plied Physics Letters 27巻
、1265ページ(1988)}にあるように、原料の
加熱温度を高く(特にBa等の希土類原料は260〜3
00℃)設定しなければ合成は行なえなかった。これは
、刊行物{Applied Physics Lett
ers 53巻、1750ページ(1988)}に指摘
されているように代表的な固体状のMO原料は一般に非
常に気化しにくいことに起因するものであった。
【0003】又、本発明者らは、上記従来のMOCVD
法による酸化物超電導体の合成において、MO原料に有
機溶剤蒸気を接触させることによってMO原料を従来よ
りも低温加熱で多量にかつ安定に反応部へ輸送すること
ができる合成方法を提案した(特願平1−169986
号明細書、特願平1−301940号明細書)。
法による酸化物超電導体の合成において、MO原料に有
機溶剤蒸気を接触させることによってMO原料を従来よ
りも低温加熱で多量にかつ安定に反応部へ輸送すること
ができる合成方法を提案した(特願平1−169986
号明細書、特願平1−301940号明細書)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
MOCVD法による酸化物超電導体の合成においては、
原料の難気化性に伴ってCVD反応部へ多量の原料を安
定に輸送することは不可能であるため、良好な特性を有
する酸化物超電導体の高速合成ならびに厚膜合成ができ
ないという大きな問題点があった。さらに、従来の方法
では合成(反応)時間を連続的に長くして膜厚を厚くし
た場合にも、その厚膜は組成が不均質になるために超電
導性を示さない、臨界温度が低いなどの超電導性能上の
欠点が避けられなかった。これらの欠点はすべてMO原
料の気化特性が良好でなく、従来のCVD合成で用いて
いる単なる加熱法では、原料の十分な気化がなされない
ことに原因があった。
MOCVD法による酸化物超電導体の合成においては、
原料の難気化性に伴ってCVD反応部へ多量の原料を安
定に輸送することは不可能であるため、良好な特性を有
する酸化物超電導体の高速合成ならびに厚膜合成ができ
ないという大きな問題点があった。さらに、従来の方法
では合成(反応)時間を連続的に長くして膜厚を厚くし
た場合にも、その厚膜は組成が不均質になるために超電
導性を示さない、臨界温度が低いなどの超電導性能上の
欠点が避けられなかった。これらの欠点はすべてMO原
料の気化特性が良好でなく、従来のCVD合成で用いて
いる単なる加熱法では、原料の十分な気化がなされない
ことに原因があった。
【0005】この発明はかかる課題を解決するためにな
されたもので、有機溶剤の有無にかかわらず、MO原料
を多量にかつ安定に輸送できるとともに、合成した超電
導体が良好な特性を示す酸化物超電導体用MO原料の気
化方法を得ることを目的とする。
されたもので、有機溶剤の有無にかかわらず、MO原料
を多量にかつ安定に輸送できるとともに、合成した超電
導体が良好な特性を示す酸化物超電導体用MO原料の気
化方法を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明のMOCVD法
による酸化物超電導体の気化方法は、多孔質固体の表面
及び内部の内の少なくとも一方に充填されたMO原料に
、キャリアガス、有機溶剤蒸気並びにキャリアガスと有
機溶剤蒸気の混合ガスの内の一種を接触させるものであ
る。
による酸化物超電導体の気化方法は、多孔質固体の表面
及び内部の内の少なくとも一方に充填されたMO原料に
、キャリアガス、有機溶剤蒸気並びにキャリアガスと有
機溶剤蒸気の混合ガスの内の一種を接触させるものであ
る。
【0007】
【作用】この発明において使用する多孔質固体は、固体
状のMO原料を常温時及び加熱状態時においても保持す
ることができ、かつその内部をキャリアガス又はキャリ
アガスと有機溶剤蒸気の混合ガスが通過することが可能
であって、原料へのガスの接触を促進するものである。
状のMO原料を常温時及び加熱状態時においても保持す
ることができ、かつその内部をキャリアガス又はキャリ
アガスと有機溶剤蒸気の混合ガスが通過することが可能
であって、原料へのガスの接触を促進するものである。
【0008】
実施例1.4つの原料加熱系統を有する通常の熱CVD
装置を用い、まずこの発明の一実施例の原料気化方法に
よるイットリウム系酸化物超電導体YBa2Cu3 O
7−Xを酸化マグネシウム基板上に合成する実験を行な
った。 原料としては、Y,Ba,Cuのヘキサフルオロアセチ
ルアセトン誘導体を用い、これらを各原料容器内にセッ
トした多孔質セラミック(SiO2 −Al2 O3
製、気孔率35%)上にそれぞれ保持させて加熱により
気化させた。合成条件としては、原料の加熱温度をY1
45℃、Ba280℃、Cu140℃に設定し、キャリ
アガスはアルゴン、反応ガスは酸素で反応部(炉)内圧
力は9.5Torr、基板温度は850℃に保持して3
0分間反応を行なった。反応後、酸素気流中で室温まで
自然放冷を行なったところ、膜厚0.5ミクロンのこの
発明の一実施例の気化方法による酸化物膜が得られた。 X線回折により結晶性および配向性を調査し、四端子法
により臨界温度を測定した。また、蛍光X線分析による
基板への堆積量測定結果からこの場合の合成速度を計算
で求め結果を表1に示す。
装置を用い、まずこの発明の一実施例の原料気化方法に
よるイットリウム系酸化物超電導体YBa2Cu3 O
7−Xを酸化マグネシウム基板上に合成する実験を行な
った。 原料としては、Y,Ba,Cuのヘキサフルオロアセチ
ルアセトン誘導体を用い、これらを各原料容器内にセッ
トした多孔質セラミック(SiO2 −Al2 O3
製、気孔率35%)上にそれぞれ保持させて加熱により
気化させた。合成条件としては、原料の加熱温度をY1
45℃、Ba280℃、Cu140℃に設定し、キャリ
アガスはアルゴン、反応ガスは酸素で反応部(炉)内圧
力は9.5Torr、基板温度は850℃に保持して3
0分間反応を行なった。反応後、酸素気流中で室温まで
自然放冷を行なったところ、膜厚0.5ミクロンのこの
発明の一実施例の気化方法による酸化物膜が得られた。 X線回折により結晶性および配向性を調査し、四端子法
により臨界温度を測定した。また、蛍光X線分析による
基板への堆積量測定結果からこの場合の合成速度を計算
で求め結果を表1に示す。
【0009】
【表1】
【0010】比較例1.比較のため、上記実施例1と同
一の原料および合成条件を用いて多孔質固体による原料
の保持を行なわない従来の気化方法により、同一組成の
酸化物超電導膜の合成を実施した。実施例1の方法の場
合と同様に、反応後酸素気流中で室温まで自然放冷を行
って0.2ミクロンの厚さの膜を得た。この膜について
も同様に、膜質および超電導特性の測定をおこなった。 これらの結果を表1に示す。
一の原料および合成条件を用いて多孔質固体による原料
の保持を行なわない従来の気化方法により、同一組成の
酸化物超電導膜の合成を実施した。実施例1の方法の場
合と同様に、反応後酸素気流中で室温まで自然放冷を行
って0.2ミクロンの厚さの膜を得た。この膜について
も同様に、膜質および超電導特性の測定をおこなった。 これらの結果を表1に示す。
【0011】表1から明らかなように、この発明の一実
施例の気化方法は従来の気化方法に比べて合成速度が2
.5倍速くなると同時に、臨界温度が従来の方法による
膜と比べるとはるかに高くなった。
施例の気化方法は従来の気化方法に比べて合成速度が2
.5倍速くなると同時に、臨界温度が従来の方法による
膜と比べるとはるかに高くなった。
【0012】実施例2.実施例1と同一のCVD装置を
用い、各原料別にキャリアガスの流入路中に原料を内部
に充填したブロック状の金属製多孔体(アルミ粉末焼結
体、気孔率48%)を配置した。Y,BaおよびCuの
ジピバロイルメタン誘導体を原料として用い、多孔体の
部分をそれぞれ120℃、190℃、120℃に加熱し
ながら、れらの中にキャリアガスのアルゴンと共にジピ
バロイルメタンの溶剤蒸気を流入させて接触させた。そ
の他の条件は実施例1と同様にして、この発明の他の実
施例の方法によるイットリウム系酸化物超電導体の合成
を行った。目的組成も実施例1と同様である。結果を表
2に示す。
用い、各原料別にキャリアガスの流入路中に原料を内部
に充填したブロック状の金属製多孔体(アルミ粉末焼結
体、気孔率48%)を配置した。Y,BaおよびCuの
ジピバロイルメタン誘導体を原料として用い、多孔体の
部分をそれぞれ120℃、190℃、120℃に加熱し
ながら、れらの中にキャリアガスのアルゴンと共にジピ
バロイルメタンの溶剤蒸気を流入させて接触させた。そ
の他の条件は実施例1と同様にして、この発明の他の実
施例の方法によるイットリウム系酸化物超電導体の合成
を行った。目的組成も実施例1と同様である。結果を表
2に示す。
【0013】
【表2】
【0014】実施例3.実施例2において、ジピバロイ
ルメタンの溶剤蒸気を用いない他は実施例2と同様に、
この発明のさらに他の実施例によるイットリウム系酸化
物超電導体の合成を行ない結果を表2に示す。ただし、
この場合上記の加熱温度では原料の気化が十分なされな
いため、各MO原料の設定温度はそれぞれ145℃、2
70℃、140℃に保持した。
ルメタンの溶剤蒸気を用いない他は実施例2と同様に、
この発明のさらに他の実施例によるイットリウム系酸化
物超電導体の合成を行ない結果を表2に示す。ただし、
この場合上記の加熱温度では原料の気化が十分なされな
いため、各MO原料の設定温度はそれぞれ145℃、2
70℃、140℃に保持した。
【0015】比較例2.実施例2において、溶剤蒸気も
金属多孔体も使用しない、従来の方法で、酸化物超電導
体を合成した。ただし、この場合には、蒸気の加熱温度
では原料の気化が十分になされないため、各MO原料の
設定温度はそれぞれ145℃、270℃、140℃に保
持した。以上三つのサンプルの特性を表2に示す。
金属多孔体も使用しない、従来の方法で、酸化物超電導
体を合成した。ただし、この場合には、蒸気の加熱温度
では原料の気化が十分になされないため、各MO原料の
設定温度はそれぞれ145℃、270℃、140℃に保
持した。以上三つのサンプルの特性を表2に示す。
【0016】表2から実施例1の場合と同様に、この発
明の実施例の方法でしかも有機溶剤を用いた方法による
酸化物超電導体は、従来の合成方法によるものよりも低
温加熱であるにもかかわらず合成速度が6倍速くなると
同時に、臨界温度がはるかに高くなることが明らかであ
る。また、有機溶剤を用いないこの発明の実施例の場合
にも、従来法と比べると合成速度は3倍近くに向上し、
かつ臨界温度も高くなることが分かる。
明の実施例の方法でしかも有機溶剤を用いた方法による
酸化物超電導体は、従来の合成方法によるものよりも低
温加熱であるにもかかわらず合成速度が6倍速くなると
同時に、臨界温度がはるかに高くなることが明らかであ
る。また、有機溶剤を用いないこの発明の実施例の場合
にも、従来法と比べると合成速度は3倍近くに向上し、
かつ臨界温度も高くなることが分かる。
【0017】従来法による酸化物超電導体の合成速度が
低い理由は、固体状のMO原料が加熱によって気化され
にくく、かつ安定に輸送されにくいことに起因するもの
と考えられる。そして、これら従来法によるサンプルの
超電導特性が良好でない主な原因は、C軸配向している
にもかかわらず、各原料の不安定輸送に起因した合成膜
中における組成の不均質性が生じることによると推定さ
れる。
低い理由は、固体状のMO原料が加熱によって気化され
にくく、かつ安定に輸送されにくいことに起因するもの
と考えられる。そして、これら従来法によるサンプルの
超電導特性が良好でない主な原因は、C軸配向している
にもかかわらず、各原料の不安定輸送に起因した合成膜
中における組成の不均質性が生じることによると推定さ
れる。
【0018】この発明に係わる多孔質固体は、キャリア
ガスまたはキャリアガスと有機溶剤蒸気との混合ガスを
MO原料に対して良好に接触させる役目をなすと考えら
れる。特に、加熱時においても原料の融解物にガスが十
分に接触できるために、MO原料の気化を促進するもの
と推察される。ところで、多孔質固体としては、セラミ
ックスまたはガラス質からなる多孔体、発泡金属、焼結
金属、金属繊維、無機繊維、無機繊維強化金属などのよ
うな物が適しており、望ましくは300℃程度以上の耐
熱性を有するものが良い。その気孔率としては大きいほ
うが望ましいが、概ね30%以上の物が使用に適してい
る。
ガスまたはキャリアガスと有機溶剤蒸気との混合ガスを
MO原料に対して良好に接触させる役目をなすと考えら
れる。特に、加熱時においても原料の融解物にガスが十
分に接触できるために、MO原料の気化を促進するもの
と推察される。ところで、多孔質固体としては、セラミ
ックスまたはガラス質からなる多孔体、発泡金属、焼結
金属、金属繊維、無機繊維、無機繊維強化金属などのよ
うな物が適しており、望ましくは300℃程度以上の耐
熱性を有するものが良い。その気孔率としては大きいほ
うが望ましいが、概ね30%以上の物が使用に適してい
る。
【0019】また、この発明に係わるMO原料としては
、金属のアセチルアセトネート、ジピバロイルメタネー
ト、アルコキシド、ヘキサフルオロアセチルアセトネー
ト、ペンタフルオロプロパノイルピバロイルメタネート
、シクロペンタジエニルおよびそれらの誘導体ならびに
他の有機金属錯体をも使用可能であり、これらの原料は
多孔質固体上に単において用いてもよく、また多孔質構
造内部に充填して使用してもよい。
、金属のアセチルアセトネート、ジピバロイルメタネー
ト、アルコキシド、ヘキサフルオロアセチルアセトネー
ト、ペンタフルオロプロパノイルピバロイルメタネート
、シクロペンタジエニルおよびそれらの誘導体ならびに
他の有機金属錯体をも使用可能であり、これらの原料は
多孔質固体上に単において用いてもよく、また多孔質構
造内部に充填して使用してもよい。
【0020】さらに、この発明ではキャリアガスのみを
MO原料と接触させても良い。また、有機溶剤蒸気をキ
ャリアガスとともにMO原料に接触させて用いても良く
、この場合には更に良好な気化が得られる。有機溶剤の
用い方としては、例えば原料を充填した多孔質固体中に
直接流入させてもよいが、実施例のようにキャリアガス
との混合ガスとして原料に接触させた方が効率良い気化
がなされる。この場合に使用できる有機溶剤としては、
アセチルアセトン、ジピバロイルメタン、エチルアルコ
ールやイソプロピルアルコールなどのアルコール類、メ
チルエチルエーテルなどのエーテル類、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、ジエチルアミンなどのアミン類、
ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジオキサン、ペンタ
フルオロプロパノイルピバロイルメタン、シクロペンタ
ジエン、テトラヒドロフラン等の蒸気を用いることがで
きる。
MO原料と接触させても良い。また、有機溶剤蒸気をキ
ャリアガスとともにMO原料に接触させて用いても良く
、この場合には更に良好な気化が得られる。有機溶剤の
用い方としては、例えば原料を充填した多孔質固体中に
直接流入させてもよいが、実施例のようにキャリアガス
との混合ガスとして原料に接触させた方が効率良い気化
がなされる。この場合に使用できる有機溶剤としては、
アセチルアセトン、ジピバロイルメタン、エチルアルコ
ールやイソプロピルアルコールなどのアルコール類、メ
チルエチルエーテルなどのエーテル類、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、ジエチルアミンなどのアミン類、
ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジオキサン、ペンタ
フルオロプロパノイルピバロイルメタン、シクロペンタ
ジエン、テトラヒドロフラン等の蒸気を用いることがで
きる。
【0021】
【発明の効果】以上のように、多孔質固体の表面及び内
部の内の少なくとも一方に充填された有機金属(MO)
原料に、キャリアガス、有機溶剤蒸気並びにキャリアガ
スと有機溶剤蒸気の混合ガスの内の一種を接触させるこ
とにより、MO原料を多量にかつ安定に反応部へ輸送す
ることができるとともに合成した超電導体が良好な特性
を示す、さらにはこれにより酸化物超電導体の高速合成
及び厚膜合成が行える酸化物超電導体用MO原料の気化
方法を得ることができる。
部の内の少なくとも一方に充填された有機金属(MO)
原料に、キャリアガス、有機溶剤蒸気並びにキャリアガ
スと有機溶剤蒸気の混合ガスの内の一種を接触させるこ
とにより、MO原料を多量にかつ安定に反応部へ輸送す
ることができるとともに合成した超電導体が良好な特性
を示す、さらにはこれにより酸化物超電導体の高速合成
及び厚膜合成が行える酸化物超電導体用MO原料の気化
方法を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 多孔質固体の表面及び内部の内の少な
くとも一方に充填された有機金属(MO)原料に、キャ
リアガス、有機溶剤蒸気並びにキャリアガスと有機溶剤
蒸気の混合ガスの内の一種を接触させる酸化物超電導体
用MO原料の気化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10586891A JPH04333572A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 酸化物超電導体用mo原料の気化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10586891A JPH04333572A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 酸化物超電導体用mo原料の気化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04333572A true JPH04333572A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=14418937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10586891A Pending JPH04333572A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 酸化物超電導体用mo原料の気化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04333572A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6921062B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
US7300038B2 (en) | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
JP2008538158A (ja) * | 2005-03-16 | 2008-10-09 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 固体原料から試薬を送出するためのシステム |
US7437060B2 (en) | 2003-07-23 | 2008-10-14 | Advanced Technology Materials, Inc. | Delivery systems for efficient vaporization of precursor source material |
US9991095B2 (en) | 2008-02-11 | 2018-06-05 | Entegris, Inc. | Ion source cleaning in semiconductor processing systems |
US10385452B2 (en) | 2012-05-31 | 2019-08-20 | Entegris, Inc. | Source reagent-based delivery of fluid with high material flux for batch deposition |
US10895010B2 (en) | 2006-08-31 | 2021-01-19 | Entegris, Inc. | Solid precursor-based delivery of fluid utilizing controlled solids morphology |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP10586891A patent/JPH04333572A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9004462B2 (en) | 2002-07-23 | 2015-04-14 | Entegris, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
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US7556244B2 (en) | 2002-07-23 | 2009-07-07 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
US9469898B2 (en) | 2002-07-23 | 2016-10-18 | Entegris, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
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JP4922286B2 (ja) * | 2005-03-16 | 2012-04-25 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | イオン注入システム及びフッ素化学物質供給源並びに二フッ化キセノン供給方法 |
JP2012052669A (ja) * | 2005-03-16 | 2012-03-15 | Advanced Technology Materials Inc | 固体原料から試薬を送出するためのシステム |
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