JPH04316588A - シリル化アシルホスフィンオキシド - Google Patents
シリル化アシルホスフィンオキシドInfo
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- -1 acyl phosphine oxide Chemical compound 0.000 title claims abstract description 82
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 73
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 68
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 66
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 107
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical class 0.000 claims description 38
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 37
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 36
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 7
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000006656 (C2-C4) alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006314 C5-C8 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005059 halophenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000006313 (C5-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 abstract 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 11
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 9
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 6
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005654 Michaelis-Arbuzov synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006528 (C2-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- UAWVMPOAIVZWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-2-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC=C1CCl UAWVMPOAIVZWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXVUZYLYWKWJIM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanamine Chemical compound NCCOCCN GXVUZYLYWKWJIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUYYOUXQOPCFDK-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-aminoethoxy)ethoxy]ethanamine Chemical compound NCCOC(C)OCCN KUYYOUXQOPCFDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOIUXVNTKWCWAK-UHFFFAOYSA-N C(C)OC1=C(C(=O)P(O[SiH](CC)CC)(O[SiH](CC)CC)=O)C=CC=C1 Chemical compound C(C)OC1=C(C(=O)P(O[SiH](CC)CC)(O[SiH](CC)CC)=O)C=CC=C1 GOIUXVNTKWCWAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RUFZXYPHFJWXQF-UHFFFAOYSA-N CC(CCl)(CCl)C(P(O)(O)=O)=O Chemical compound CC(CCl)(CCl)C(P(O)(O)=O)=O RUFZXYPHFJWXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEWRMZSVIVEQCP-UHFFFAOYSA-N [methoxy(phenyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(OC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C IEWRMZSVIVEQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006184 cellulose methylcellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- JQYKSDDVPXVEOL-UHFFFAOYSA-N chloro-hexyl-dimethylsilane Chemical group CCCCCC[Si](C)(C)Cl JQYKSDDVPXVEOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical compound ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004212 difluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3-diol Chemical compound CCCC(O)CCO AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002689 maleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N n'-(2-aminoethyl)ethane-1,2-diamine;2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.NCCNCCN IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004351 phenylcyclohexyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)C1(CCCCC1)* 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical class OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 239000011092 plastic-coated paper Substances 0.000 description 1
- 229920001603 poly (alkyl acrylates) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- KKFOMYPMTJLQGA-UHFFFAOYSA-N tribenzyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1COP(OCC=1C=CC=CC=1)OCC1=CC=CC=C1 KKFOMYPMTJLQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMZOBROUFBEGAR-UHFFFAOYSA-N tris(trimethylsilyl) phosphite Chemical compound C[Si](C)(C)OP(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C VMZOBROUFBEGAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005065 undecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリル化アシルホスフ
ィンオキシドを含有する光硬化性組成物、エチレン性不
飽和二重結合を含有している化合物の光重合に対する光
開始剤としてのシリル化アシルホスフィンオキシドの使
用、光開始剤としてシリル化アシルホスフィンオキシド
を使用するこのような化合物の光重合の工程、および新
規のシリル化アシルホスフィンオキシドに関する。
ィンオキシドを含有する光硬化性組成物、エチレン性不
飽和二重結合を含有している化合物の光重合に対する光
開始剤としてのシリル化アシルホスフィンオキシドの使
用、光開始剤としてシリル化アシルホスフィンオキシド
を使用するこのような化合物の光重合の工程、および新
規のシリル化アシルホスフィンオキシドに関する。
【0002】
【従来の技術】ヨーロッパ特許EP−B−7508号お
よびヨーロッパ特許公開公報EP−A−42567号で
は光開始剤として非シリル化モノアシルホスフィンオキ
シドを示している。ヨーロッパ特許公開公報EP−A−
184095では光開始剤としてビスアシルホスフィン
オキシドを使用している。若干のシリル化アシルホスフ
ィンオキシドの合成法および分光器による分析もまた既
に文献中に記述されている。例えば、該当するビス(ト
リメチルシリル)エステルはChemical Abs
tracts93(13):132614h ;Che
mical Abstracts 79(1):540
2yおよびJournal of OrganicCh
emistry 45 (21),4162−7,1
980 に記述されている。ビス( トリエチルシリル
) エステルは Chemical Abstract
s 78(7):43609h; Chemical
Abustructs 78(9):57505h;
Chemical Abustructs 80(11
):59044x; Chemical Abustr
ucts 78(13):83559y; Chemi
cal Abstracts 75(13):8772
9qおよび Chemical Abstracts
78(21):136372rに開示されている。該当
するモノシリルエステルはソ連邦特許SU−19350
5に記述されている。2つの異なるシリルエステル基を
含有する化合物はChemical Abustruc
ts 72(17):90571aおよび Chemi
cal Abustructs 70(1):4193
hに記述されている。とりわけ、シリル化アシルホスフ
ィンオキシドはホスホン酸およびヌクレオシド化ホスホ
ネートの製造の中間体として公知である。このようにこ
れらは中間体として記述されており、例えばそれはRe
cueil des Travaux Chemiqu
es des Pays−bas 105 (11)
,505−6,1986 ;Synthesis (8
),609−12,1978; Journal of
Chemical Society,Chemica
l Communication(7),285−6,
1978 ;Journal of Chemical
Society,Chemical Communi
cation(20),870−1,1978 ;Jo
urnal ofChemical Society,
Chemical Communication(17
),739,1979 ;Journal of Or
ganic Chemistry 49 (12),
2139−43,1984;THL(2),155−8
,1977;THL(28),2523−6,1978
およびBulletin of the Chemi
cal Society of Japan 51(7
),2160−70,1978である。
よびヨーロッパ特許公開公報EP−A−42567号で
は光開始剤として非シリル化モノアシルホスフィンオキ
シドを示している。ヨーロッパ特許公開公報EP−A−
184095では光開始剤としてビスアシルホスフィン
オキシドを使用している。若干のシリル化アシルホスフ
ィンオキシドの合成法および分光器による分析もまた既
に文献中に記述されている。例えば、該当するビス(ト
リメチルシリル)エステルはChemical Abs
tracts93(13):132614h ;Che
mical Abstracts 79(1):540
2yおよびJournal of OrganicCh
emistry 45 (21),4162−7,1
980 に記述されている。ビス( トリエチルシリル
) エステルは Chemical Abstract
s 78(7):43609h; Chemical
Abustructs 78(9):57505h;
Chemical Abustructs 80(11
):59044x; Chemical Abustr
ucts 78(13):83559y; Chemi
cal Abstracts 75(13):8772
9qおよび Chemical Abstracts
78(21):136372rに開示されている。該当
するモノシリルエステルはソ連邦特許SU−19350
5に記述されている。2つの異なるシリルエステル基を
含有する化合物はChemical Abustruc
ts 72(17):90571aおよび Chemi
cal Abustructs 70(1):4193
hに記述されている。とりわけ、シリル化アシルホスフ
ィンオキシドはホスホン酸およびヌクレオシド化ホスホ
ネートの製造の中間体として公知である。このようにこ
れらは中間体として記述されており、例えばそれはRe
cueil des Travaux Chemiqu
es des Pays−bas 105 (11)
,505−6,1986 ;Synthesis (8
),609−12,1978; Journal of
Chemical Society,Chemica
l Communication(7),285−6,
1978 ;Journal of Chemical
Society,Chemical Communi
cation(20),870−1,1978 ;Jo
urnal ofChemical Society,
Chemical Communication(17
),739,1979 ;Journal of Or
ganic Chemistry 49 (12),
2139−43,1984;THL(2),155−8
,1977;THL(28),2523−6,1978
およびBulletin of the Chemi
cal Society of Japan 51(7
),2160−70,1978である。
【0003】
【課題を解決するための手段】シリル化アシルホスフィ
ンオキシドはエチレン性不飽和二重結合を含有する化合
物の重合の光開始剤として非常に適当であることが今や
見出された。
ンオキシドはエチレン性不飽和二重結合を含有する化合
物の重合の光開始剤として非常に適当であることが今や
見出された。
【0004】本発明は従って、
(a)少なくとも1種類のエチレン性不飽和光重合性化
合物および (b)光開始剤として次式I:
合物および (b)光開始剤として次式I:
【化39】
(式中、R1 は
【化40】
で表される基であり、R2 はR1 に対して定義され
たものと同じであり、
たものと同じであり、
【化41】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基も
しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換され
ていてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/
または窒素原子を含有する5または6員複素環基を表す
か、または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フ
ェノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R
2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基も
しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換され
ていてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/
または窒素原子を含有する5または6員複素環基を表す
か、または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フ
ェノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R
2 が
【化42】
で表される基のとき、R6 は、ケイ素原子と結合して
6、7または8員環を形成することができ、この場合、
基:
6、7または8員環を形成することができ、この場合、
基:
【化43】
は、以下の基:
【化44】
に相当し、あるいはR1 およびR2 は基:−P=O
と一緒になって次式:
と一緒になって次式:
【化45】
で表される4員環を形成でき;R3 は炭素原子数1な
いし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキシ
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基も
しくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし1
2のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳香族
性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含
有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 および
R6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1な
いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基ま
たは非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のアルキル
基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4 、R5
およびR6 基の少なくとも2つは水素原子以外であ
る。)で表される化合物の少なくとも1種類からなる光
重合性組成物に関する。
いし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキシ
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基も
しくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし1
2のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基または炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳香族
性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含
有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 および
R6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1な
いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基ま
たは非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のアルキル
基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4 、R5
およびR6 基の少なくとも2つは水素原子以外であ
る。)で表される化合物の少なくとも1種類からなる光
重合性組成物に関する。
【0005】炭素原子数1ないし18のアルキル基であ
るR2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は枝分
かれしたまたは枝分かれしていないアルキル基でよく、
例えばそれらはメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、第三ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘプタデシル基またはオクダデシル基
である。 特にR2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は炭
素原子数1ないし12のアルキル基がよい。
るR2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は枝分
かれしたまたは枝分かれしていないアルキル基でよく、
例えばそれらはメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、第三ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘプタデシル基またはオクダデシル基
である。 特にR2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は炭
素原子数1ないし12のアルキル基がよい。
【0006】1置換または多置換の、例えば1置換ない
し3置換の、とりわけ1置換または2置換の炭素原子数
1ないし8のアルキル基であるR2 およびR3 は例
えば、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニ
ルエチル基、α,α−ジメチルベンジル基、2−メトキ
シエチル基、2−エトキシエチル基、2−ブトキシエチ
ル基、2−イソプロポキシエチル基、2−ブトキシプロ
ピル基、2−オクトチルオキシエチル基、クロロメチル
基、2−クロロエチル基またはトリクロロメチル基、好
ましくはベンジル基であってよい。
し3置換の、とりわけ1置換または2置換の炭素原子数
1ないし8のアルキル基であるR2 およびR3 は例
えば、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニ
ルエチル基、α,α−ジメチルベンジル基、2−メトキ
シエチル基、2−エトキシエチル基、2−ブトキシエチ
ル基、2−イソプロポキシエチル基、2−ブトキシプロ
ピル基、2−オクトチルオキシエチル基、クロロメチル
基、2−クロロエチル基またはトリクロロメチル基、好
ましくはベンジル基であってよい。
【0007】炭素原子数2ないし8のアルケニル基であ
るR2 は例えば、アリル基、メタリル基、1,1−ジ
メチルアリル基、ブテニル基、2−ヘキセニル基、オク
テニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基またはオクタ
デセニル基であってよい。
るR2 は例えば、アリル基、メタリル基、1,1−ジ
メチルアリル基、ブテニル基、2−ヘキセニル基、オク
テニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基またはオクタ
デセニル基であってよい。
【0008】炭素原子数2ないし6のアルケニル基であ
るR3 は例えば、ビニル基、プロペニル基またはブテ
ニル基であってよい。
るR3 は例えば、ビニル基、プロペニル基またはブテ
ニル基であってよい。
【0009】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
であるR2 およびR3 は例えば、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基またはシクロオクチル基であってよ
い。 例えば1置換ないし4置換の、置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基であるR2 およびR3
は例えば、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペ
ンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘ
キシル基、ジエチルシクロヘキシル基、メトキシシクロ
ヘキシル基、ジメトキシシクロヘキシル基、ジエトキシ
シクロヘキシル基、フェニルシクロペンチル基、フェニ
ルシクロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基、ジクロ
ロシクロヘキシル基またはジクロロシクロペンチル基で
あってよい。
であるR2 およびR3 は例えば、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基またはシクロオクチル基であってよ
い。 例えば1置換ないし4置換の、置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基であるR2 およびR3
は例えば、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペ
ンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘ
キシル基、ジエチルシクロヘキシル基、メトキシシクロ
ヘキシル基、ジメトキシシクロヘキシル基、ジエトキシ
シクロヘキシル基、フェニルシクロペンチル基、フェニ
ルシクロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基、ジクロ
ロシクロヘキシル基またはジクロロシクロペンチル基で
あってよい。
【0010】炭素原子数6ないし12のアリール基であ
るR2 およびR3 は例えば、フェニル基、α−ナフ
チル基、β−ナフチル基または4−ジフェニルイル基、
好ましくはフェニル基であってよい。置換された炭素原
子数6ないし12のアリール基としてのR2 およびR
3 は好ましくは1ないし3の置換基を持ちそしてそれ
らは例えば、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
トリクロロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリイ
ル基、メシチル基、エチルフェニル基、第三ブチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ヘキシルオ
キシフェニル基、メチルナフチル基、イソプロピルナフ
チル基、クロロナフチル基またはエトキシナフチル基、
特にクロロフェニル基またはメシチル基である。置換さ
れたアリール基であるR3 はさらに例えば、メトキシ
エチルフェニル基、エトキシメチルフェニル基、メチル
チオフェニル基、イソプロピルチオフェニル基または第
三ブチルチオフェニル基であってよい。アリール基の置
換基としてのアルキル基およびアルコキシ基は好ましく
は1ないし4の炭素原子数を持ち、とりわけメチル基ま
たはメトキシ基である。
るR2 およびR3 は例えば、フェニル基、α−ナフ
チル基、β−ナフチル基または4−ジフェニルイル基、
好ましくはフェニル基であってよい。置換された炭素原
子数6ないし12のアリール基としてのR2 およびR
3 は好ましくは1ないし3の置換基を持ちそしてそれ
らは例えば、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
トリクロロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリイ
ル基、メシチル基、エチルフェニル基、第三ブチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ヘキシルオ
キシフェニル基、メチルナフチル基、イソプロピルナフ
チル基、クロロナフチル基またはエトキシナフチル基、
特にクロロフェニル基またはメシチル基である。置換さ
れたアリール基であるR3 はさらに例えば、メトキシ
エチルフェニル基、エトキシメチルフェニル基、メチル
チオフェニル基、イソプロピルチオフェニル基または第
三ブチルチオフェニル基であってよい。アリール基の置
換基としてのアルキル基およびアルコキシ基は好ましく
は1ないし4の炭素原子数を持ち、とりわけメチル基ま
たはメトキシ基である。
【0011】複素環基であるR2 およびR3 は単環
式または多環式、特に単環式または二環、の、例えば縮
合ベンゼン環であってよく、それらは例えばフリル基、
チエニル基、ピリル基、ピリジル基、インドリル基、ベ
ンズオキサゾリル基、イミダゾリル基である。この型の
複素環基は好ましくは4ないし12の炭素原子数を含有
する。該複素環基は1置換または多置換のたとえば1置
換または2置換であってよい。その例はジメチルピリジ
ル基、メチルキノリル基、ジメチルピリル基、メトキシ
フリル基、ジメトキシピリジル基およびジフルオロピリ
ジル基である。
式または多環式、特に単環式または二環、の、例えば縮
合ベンゼン環であってよく、それらは例えばフリル基、
チエニル基、ピリル基、ピリジル基、インドリル基、ベ
ンズオキサゾリル基、イミダゾリル基である。この型の
複素環基は好ましくは4ないし12の炭素原子数を含有
する。該複素環基は1置換または多置換のたとえば1置
換または2置換であってよい。その例はジメチルピリジ
ル基、メチルキノリル基、ジメチルピリル基、メトキシ
フリル基、ジメトキシピリジル基およびジフルオロピリ
ジル基である。
【0012】炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で
あるR2 、R4 、R5 およびR6 は例えばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基または
ドデコキシ基である。
あるR2 、R4 、R5 およびR6 は例えばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基または
ドデコキシ基である。
【0013】炭素原子数1ないし8のアルキル基で置換
されたフェニル基であるR4 、R5 およびR6 は
好ましくは1ないし3の、特に1ないし2のアルキル置
換基を含み、そしてそれらは例えば、トリル基、キシリ
ル基、メシチル基またはエチルフェニル基である。
されたフェニル基であるR4 、R5 およびR6 は
好ましくは1ないし3の、特に1ないし2のアルキル置
換基を含み、そしてそれらは例えば、トリル基、キシリ
ル基、メシチル基またはエチルフェニル基である。
【0014】ハロゲン原子は好ましくは塩素原子である
。
。
【0015】好ましいのは、式中、R2 がR1 に対
して定義されたものと同じであり、次式:
して定義されたものと同じであり、次式:
【化46】
で表される基としてのR1 およびR2 が同一である
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;または非置
換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアル
キル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で
置換された炭素原子数6ないし12のアリール基;ハロ
ゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていても
よい5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子お
よび/または窒素原子を含有する複素環基を表すか、ま
たは炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ
基またはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;または非置
換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアル
キル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で
置換された炭素原子数6ないし12のアリール基;ハロ
ゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基または炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていても
よい5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子お
よび/または窒素原子を含有する複素環基を表すか、ま
たは炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ
基またはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が
【
化47】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
化47】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
【化48】
は、基IIa、IIbまたはIIcに相当していてよく
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 は炭素原子数1
ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコ
キシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハロ
ゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリー
ル基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、酸
素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する複
素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6 は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す組成物が与えられるときである。
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 は炭素原子数1
ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコ
キシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハロ
ゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリー
ル基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、酸
素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する複
素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6 は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す組成物が与えられるときである。
【0016】式中、R2 はR1 に対して定義された
ものと同じであり、
ものと同じであり、
【化49】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が
【化50】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:
員環を形成することができ、この場合、基:
【化51】
は、基IIaに相当し;R3 は炭素原子数1ないし1
2のアルキル基;ハロゲン原子で置換された炭素原子数
1ないし8のアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基;あるいは非置換のまたは炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8の
アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原
子数6ないし12のアリール基を表し;ならびにR4
、R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、または非置換のもしくは炭
素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル
基を表す組成物が与えられることもまた好ましい。
2のアルキル基;ハロゲン原子で置換された炭素原子数
1ないし8のアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基;あるいは非置換のまたは炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8の
アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原
子数6ないし12のアリール基を表し;ならびにR4
、R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、または非置換のもしくは炭
素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル
基を表す組成物が与えられることもまた好ましい。
【0017】さらに好ましい本発明の具体例は、式中、
R2 はR1 に対して定義されたものと同じであり、
R2 はR1 に対して定義されたものと同じであり、
【化52】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、非置換のま
たはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表し、またはR2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、非置換のま
たはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表し、またはR2 が
【化53】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して環
を形成でき、この場合、基:
を形成でき、この場合、基:
【化54】
は、基IIaに相当し;R3 は非置換のまたはハロゲ
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲン
原子で置換されたフェニル基を表し;R4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、またはフェニル基を表す組成物である。
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲン
原子で置換されたフェニル基を表し;R4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、またはフェニル基を表す組成物である。
【0018】よりさらに好ましいのは式中、R2 はR
1 に対して定義されたものと同じであり、
1 に対して定義されたものと同じであり、
【化55】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、またはR2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、またはR2 が
【化56】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:
員環を形成することができ、この場合、基:
【化57】
は、基IIaに相当し;R3 は非置換のまたはハロゲ
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
、あるいは非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくは
ハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびに
R4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭素
原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表す
組成物が与えられることである。
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
、あるいは非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくは
ハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびに
R4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭素
原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表す
組成物が与えられることである。
【0019】本発明はさらに光開始剤(b)の他に少な
くとも1種類の他の光開始剤および/または他の添加剤
を含有する組成物を提供する。
くとも1種類の他の光開始剤および/または他の添加剤
を含有する組成物を提供する。
【0020】光重合性組成物はその組成物に基づき0.
05ないし15重量%、好ましくは0.2ないし5重量
%の光開始剤(b)を含有しているのが都合がよい。
05ないし15重量%、好ましくは0.2ないし5重量
%の光開始剤(b)を含有しているのが都合がよい。
【0021】本発明は 次式Ia:
【化58】
(式中、 R1 は
【化59】
で表される基であり、R2 はR1 に対して定義され
たものと同じであり、
たものと同じであり、
【化60】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されて
いてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/ま
たは窒素原子を含有する5または6員複素環基を表すか
;または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェ
ノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R2
が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基ま
たは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されて
いてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/ま
たは窒素原子を含有する5または6員複素環基を表すか
;または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フェ
ノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R2
が
【化61】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
【化62】
は、以下の基:
【化63】
に相当し、あるいはR1 およびR2 は基:−P=O
と一緒になって次式:
と一緒になって次式:
【化64】
で表される4員環を形成でき;R3 ’は炭素原子数1
ないし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
コキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原
子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキ
シアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基
もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし
12のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳
香族性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子
を含有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
基、または非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のア
ルキル基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4
、R5 およびR6 の少なくとも2つで表される基は
水素原子以外であり;但し(1)もし、R1 およびR
2 が同一であり、ならびにR4 、R5 およびR6
は同じ意味を持ち、そしてメチル基またはエチル基で
あるならば、R3 ’は炭素原子数1ないし5のアルキ
ル基、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基またはハロフェニル基でなく、および(2)もし、
R3 ’がメチル基であれば、基R1 中のR4 、R
5 およびR6 は同時にはエチル基でない。)で表さ
れる化合物にも関する。
ないし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
コキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原
子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキ
シアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基
もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし
12のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳
香族性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子
を含有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
基、または非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のア
ルキル基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4
、R5 およびR6 の少なくとも2つで表される基は
水素原子以外であり;但し(1)もし、R1 およびR
2 が同一であり、ならびにR4 、R5 およびR6
は同じ意味を持ち、そしてメチル基またはエチル基で
あるならば、R3 ’は炭素原子数1ないし5のアルキ
ル基、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基またはハロフェニル基でなく、および(2)もし、
R3 ’がメチル基であれば、基R1 中のR4 、R
5 およびR6 は同時にはエチル基でない。)で表さ
れる化合物にも関する。
【0022】好ましいものは、式中、R2 がR1 に
対して定義されたものと同じであり、次式:
対して定義されたものと同じであり、次式:
【化65】
で表される基としてのR1 およびR2 が同一である
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非置換のま
たはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基
もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換さ
れた炭素原子数6ないし12のアリール基;またはハロ
ゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていて
もよい5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子
または窒素原子を含有する複素環基を表すか;あるいは
炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ基ま
たはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非置換のま
たはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基
もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換さ
れた炭素原子数6ないし12のアリール基;またはハロ
ゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていて
もよい5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子
または窒素原子を含有する複素環基を表すか;あるいは
炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ基ま
たはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が
【化6
6】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
6】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:
【化67】
は、基IIa、IIbまたはIIcに相当していてよく
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 ’は炭素原子数
1ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハ
ロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリ
ール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、
酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する
複素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す;式Iaの化合物が与えられるこ
とである。
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 ’は炭素原子数
1ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハ
ロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリ
ール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、
酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する
複素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す;式Iaの化合物が与えられるこ
とである。
【0023】式中、R2 はR1 に対して定義された
ものと同じであり、
ものと同じであり、
【化68】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が
【化69】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:
員環を形成することができ、この場合、基:
【化70】
は、基IIaに相当し;R3 ’は炭素原子数1ないし
12のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子
数1ないし8のアルキル基、非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;あるいは非置換のまたは炭素
原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8
のアルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素
原子数6ないし12のアリール基を表し;ならびにR4
、R5およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、または非置換のもしくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基を表す式Ia
で表される化合物が与えられることもまた好ましい。
12のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子
数1ないし8のアルキル基、非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;あるいは非置換のまたは炭素
原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8
のアルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素
原子数6ないし12のアリール基を表し;ならびにR4
、R5およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、または非置換のもしくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基を表す式Ia
で表される化合物が与えられることもまた好ましい。
【0024】さらに好ましい実例は、式中、R2 はR
1 に対して定義されたものと同じであり、
1 に対して定義されたものと同じであり、
【化71】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は非置換の
またはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もし
くはフェニル基を表し、およびR2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は非置換の
またはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もし
くはフェニル基を表し、およびR2 が
【化72】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:
員環を形成することができ、この場合、基:
【化73】
は、基IIaに相当し;R3 ’は非置換のまたはハロ
ゲン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル
基;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲ
ン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびにR4
、R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基、またはフェニル基
を表す式Iaで表される化合物である。
ゲン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル
基;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲ
ン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびにR4
、R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基、またはフェニル基
を表す式Iaで表される化合物である。
【0025】さらに好ましいのは、式中、R2 はR1
に対して定義されたものと同じであり、
に対して定義されたものと同じであり、
【化74】
で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、およびR2 が
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、およびR2 が
【化75】
で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して、
7員環を形成することができ、この場合、基:
7員環を形成することができ、この場合、基:
【化76
】 は、基IIaに相当し;R3 ’はハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし4のアルキル基、あるいは非
置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基もしく
はハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならび
にR4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭
素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表
す、式Iaで表される化合物が与えられることである。
】 は、基IIaに相当し;R3 ’はハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし4のアルキル基、あるいは非
置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基もしく
はハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならび
にR4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭
素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表
す、式Iaで表される化合物が与えられることである。
【0026】式Iで表される個々の化合物の例は:ビス
(トリメチルシリル)2,4,6−トリメチルベンゾイ
ルホスホネート メチル−トリメチルシリル2,6−ジクロロベンゾイル
ホスホネート ジメチル第三ヘキシルシリル2,6−ジメトキシベンゾ
イルフェニルホスフィネート ジフェニルメチルシリルピバロイルイソブチルホスフィ
ネート エチルクロロヘキシルジメチルシリル2,4,6−トリ
メチルベンゾイルホスホネート トリメチルシリル2,6−ジメチルベンゾイルベンジル
ホスフィネート ビス(ジエチルシリル)2−エトキシベンゾイルホスホ
ネート ビス(ジメチルフェニルシリル)2,2−ビス(クロロ
メチル)プロピオニルホスホネートである。
(トリメチルシリル)2,4,6−トリメチルベンゾイ
ルホスホネート メチル−トリメチルシリル2,6−ジクロロベンゾイル
ホスホネート ジメチル第三ヘキシルシリル2,6−ジメトキシベンゾ
イルフェニルホスフィネート ジフェニルメチルシリルピバロイルイソブチルホスフィ
ネート エチルクロロヘキシルジメチルシリル2,4,6−トリ
メチルベンゾイルホスホネート トリメチルシリル2,6−ジメチルベンゾイルベンジル
ホスフィネート ビス(ジエチルシリル)2−エトキシベンゾイルホスホ
ネート ビス(ジメチルフェニルシリル)2,2−ビス(クロロ
メチル)プロピオニルホスホネートである。
【0027】式Iで表される化合物はそれ自体、公知の
方法で製造でき、例えば、それらは最初に言及した文献
に示されており、その中では、予め知られている式Iで
表される化合物もまた記述されている。
方法で製造でき、例えば、それらは最初に言及した文献
に示されており、その中では、予め知られている式Iで
表される化合物もまた記述されている。
【0028】式Iで表される化合物は例えば、THL(
2),155−8,1977 中に記述されているよう
に、モノアシルホスフィンオキシドのアルキルエステル
に相当するものからトリアルキルクロロシランを使用し
たエステル交換によって得ることができる:
2),155−8,1977 中に記述されているよう
に、モノアシルホスフィンオキシドのアルキルエステル
に相当するものからトリアルキルクロロシランを使用し
たエステル交換によって得ることができる:
【化77】
R7 はアルキル基またはアリール基を表す。他の基は
上述した中で定義されたものと同じもである。反応体の
理論比によって、反応式(A)によるモノシリルモノア
ルキルエステル化合物の調製もまた可能である。さらに
例えば、Synthesis(8),609−12,1
978 に記述されているようにトリアルキルクロロ
シランはトリアルキルブロモシランまたはトリアルキル
ヨードシランに置き換えてもよい。
上述した中で定義されたものと同じもである。反応体の
理論比によって、反応式(A)によるモノシリルモノア
ルキルエステル化合物の調製もまた可能である。さらに
例えば、Synthesis(8),609−12,1
978 に記述されているようにトリアルキルクロロ
シランはトリアルキルブロモシランまたはトリアルキル
ヨードシランに置き換えてもよい。
【0029】式Iの化合物の合成の他方法は、例えばヨ
ーロッパ特許EP−A0042567に記述されている
ように酸性塩素をトリス (トリアルキルシリル) ホ
スフィンと反応させるミカエリス−アルブーゾフ(Mi
chaelis−Arbusov)反応である:
ーロッパ特許EP−A0042567に記述されている
ように酸性塩素をトリス (トリアルキルシリル) ホ
スフィンと反応させるミカエリス−アルブーゾフ(Mi
chaelis−Arbusov)反応である:
【化78】
もし、トリス(アルキルシリル)ホスフィンが例えば次
式:
式:
【化79】
(式中R7 ’は炭素原子数1ないし12のアルキル基
、フェニル基またはベンジル基を表す。)で表される化
合物によって置換されている場合、次式:
、フェニル基またはベンジル基を表す。)で表される化
合物によって置換されている場合、次式:
【化80】
で表されるような化合物を得ることができる。式IIa
、IIb、IIcおよびIII の環式構造を包含する
化合物もミカエリス−アルブーゾフ反応で製造できる。
、IIb、IIcおよびIII の環式構造を包含する
化合物もミカエリス−アルブーゾフ反応で製造できる。
【0030】開始原料の製造法は慣用の用語として公知
であり、および技術に熟練した者に馴染みのものである
。反応式(A)および(B)中の開始原料であるモノア
シルホスフィンオキシドは例えば、相応するホスホナイ
ト〔アルコールとの反応によってクロロホスフィンから
得られる;フーベン−ホェイル(Houben−Wey
l),Methoden d.Org. Chemie
( 有機化学の方法 ),XII/1,324−32
7(1963),G.Thieme出版,Stuttg
art 参照〕と酸性塩素とのミカエリス−アルブーゾ
フ反応で製造できる。トリス( トリアルキルシリル)
ホスフィンおよびそれらの誘導体の合成もまた慣用の
用語として公知であり、例えばトリアルキルシリルクロ
リドを使用したP(OR)3 のエステル転換によって
行うことができる〔Journal of Organ
ic Chemisitry,28,2975(196
3) 参照〕。
であり、および技術に熟練した者に馴染みのものである
。反応式(A)および(B)中の開始原料であるモノア
シルホスフィンオキシドは例えば、相応するホスホナイ
ト〔アルコールとの反応によってクロロホスフィンから
得られる;フーベン−ホェイル(Houben−Wey
l),Methoden d.Org. Chemie
( 有機化学の方法 ),XII/1,324−32
7(1963),G.Thieme出版,Stuttg
art 参照〕と酸性塩素とのミカエリス−アルブーゾ
フ反応で製造できる。トリス( トリアルキルシリル)
ホスフィンおよびそれらの誘導体の合成もまた慣用の
用語として公知であり、例えばトリアルキルシリルクロ
リドを使用したP(OR)3 のエステル転換によって
行うことができる〔Journal of Organ
ic Chemisitry,28,2975(196
3) 参照〕。
【0031】式Iで表される化合物は本発明に従ってエ
チレン性不飽和化合物またはそれらの化合物を含む混合
物の光重合の光開始剤として使用できる。成分(a)は
エチレン性不飽和の、モノマーの、オリゴマーのまたは
ポリマーの化合物であってよく、該化合物は光重合を受
けて比較的高分子量の生成物を与え、そして同時にその
溶解性を変える。
チレン性不飽和化合物またはそれらの化合物を含む混合
物の光重合の光開始剤として使用できる。成分(a)は
エチレン性不飽和の、モノマーの、オリゴマーのまたは
ポリマーの化合物であってよく、該化合物は光重合を受
けて比較的高分子量の生成物を与え、そして同時にその
溶解性を変える。
【0032】不飽和化合物は1種またはそれ以上のオレ
フィンの二重結合を含んでいてよく、低分子量(モノマ
ー性)または比較的高分子量(オリゴマー性)であって
よい。
フィンの二重結合を含んでいてよく、低分子量(モノマ
ー性)または比較的高分子量(オリゴマー性)であって
よい。
【0033】特に適当な化合物の例は、エチレン性不飽
和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドとのエ
ステルであり、および主鎖中または側基中にエチレン性
不飽和基を含有するポリマー、例えば不飽和のポリエス
テル、ポリアミドおよびポリウレタンまたはそれらのコ
ポリマー、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー
、ポリイソプレンおよびイソプレンのコポリマー、側鎖
中に(メタ)アクリレート基を含むポリマーおよびコポ
リマー、および1種またはそれ以上のこれらのポリマー
の混合物である。
和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドとのエ
ステルであり、および主鎖中または側基中にエチレン性
不飽和基を含有するポリマー、例えば不飽和のポリエス
テル、ポリアミドおよびポリウレタンまたはそれらのコ
ポリマー、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー
、ポリイソプレンおよびイソプレンのコポリマー、側鎖
中に(メタ)アクリレート基を含むポリマーおよびコポ
リマー、および1種またはそれ以上のこれらのポリマー
の混合物である。
【0034】不飽和カルボン酸の例はアクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、およびリ
ノレン酸およびオレイン酸のような不飽和脂肪酸である
。このうちアクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、およびリ
ノレン酸およびオレイン酸のような不飽和脂肪酸である
。このうちアクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
【0035】適当なポリオールは芳香族のならびに特に
脂肪族のおよび脂環式のポリオールである。芳香族ポリ
オールの例はヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシジ
フェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、ノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシ
ドの例はこれら該ポリオール、特に芳香族ポリオールお
よびエピクロロヒドリンをベースにしたものである。他
の適当なポリオールは例えばポリビニルアルコールおよ
びそれらのコポリマー、またはヒドロキシルアルキルポ
リメタクリレートまたはそれらのコポリマーのような、
ポリマー鎖または側基中に水酸基を含有するポリマーお
よびコポリマーである。他の適当なポリオールは水酸末
端基を含むオリゴエステルである。
脂肪族のおよび脂環式のポリオールである。芳香族ポリ
オールの例はヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシジ
フェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、ノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシ
ドの例はこれら該ポリオール、特に芳香族ポリオールお
よびエピクロロヒドリンをベースにしたものである。他
の適当なポリオールは例えばポリビニルアルコールおよ
びそれらのコポリマー、またはヒドロキシルアルキルポ
リメタクリレートまたはそれらのコポリマーのような、
ポリマー鎖または側基中に水酸基を含有するポリマーお
よびコポリマーである。他の適当なポリオールは水酸末
端基を含むオリゴエステルである。
【0036】脂肪族および脂環式ポリオールの例はアル
キレンジオール、好ましくは2ないし12の炭素原子を
もつもので例えば、エチレングリコール、1,2−およ
び1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−およ
び1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは200ないし1500の分子量を持つポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール1,2−
、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、1
,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロー
ル、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビトール
である。
キレンジオール、好ましくは2ないし12の炭素原子を
もつもので例えば、エチレングリコール、1,2−およ
び1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−およ
び1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは200ないし1500の分子量を持つポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール1,2−
、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、1
,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロー
ル、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビトール
である。
【0037】ポリオールは、部分的にまたは全てにおい
て、そのエステルの部分の遊離水酸基が例えばエステル
化または他のカルボン酸とのエステル化のように変性さ
れていてよい1種またはそれ以上の不飽和カルボン酸よ
ってエステル化されていてよい。
て、そのエステルの部分の遊離水酸基が例えばエステル
化または他のカルボン酸とのエステル化のように変性さ
れていてよい1種またはそれ以上の不飽和カルボン酸よ
ってエステル化されていてよい。
【0038】エステルの例は:トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラグリコールジアクリレト、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート
、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスルトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタア
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラメタクリレート、トリペンタエリスリトールオ
クタメタクリレート、ペンタエリスリトールジイタコネ
ート、ジペンタエリスリトールトリイタコネート、ジペ
ンタエリスリトールペンタイタコネート、ジペンタエリ
スリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジ
アクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート
、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−
ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアク
リレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエ
リスリトール−変性トリアクリレート、ソルビトールテ
トラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート
、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルア
クリレートおよびメタクリレート、グリセロールジアク
リレートおよびトリアクリレート、1,4−シクロヘキ
サンジアクリレート、200ないし1500の分子量を
持つポリエチレングリコールのビスアクリレートおよび
ビスメタクリレート、またはそれらの混合物である。
トリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラグリコールジアクリレト、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート
、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスルトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタア
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラメタクリレート、トリペンタエリスリトールオ
クタメタクリレート、ペンタエリスリトールジイタコネ
ート、ジペンタエリスリトールトリイタコネート、ジペ
ンタエリスリトールペンタイタコネート、ジペンタエリ
スリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジ
アクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート
、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−
ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアク
リレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエ
リスリトール−変性トリアクリレート、ソルビトールテ
トラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート
、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルア
クリレートおよびメタクリレート、グリセロールジアク
リレートおよびトリアクリレート、1,4−シクロヘキ
サンジアクリレート、200ないし1500の分子量を
持つポリエチレングリコールのビスアクリレートおよび
ビスメタクリレート、またはそれらの混合物である。
【0039】成分(a)は例えばアクリレート官能基を
含有するポリシロキサンのようなシリル化された樹脂で
あってもよい。
含有するポリシロキサンのようなシリル化された樹脂で
あってもよい。
【0040】成分(a)に対する適当な化合物はまた、
好ましくは2ないし6の、とりわけ2ないし4のアミノ
基をもつ芳香族の、脂環式および脂肪族のポリアミンの
同一のまたは異なった不飽和カルボン酸のアミドでもあ
る。この型のポリアミンの例はエチレンジアミン、1,
2−および1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1
,3−および1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペン
チレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチ
レンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノ
シクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジア
ミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、ジ(β−アミノエトキシ)エタンおよびジ(β
−アミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリア
ミンは、あるいは側鎖に更にアミノ基を持っていてもよ
いポリマーおよびコポリマー、およびアミノ末端基を含
有しているオリゴアミドである。この型の不飽和アミド
の例は:メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミント
リスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポ
キシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレ
ートおよびN−[(β−ヒドロキシエトキシ)エチル]
アクリルアミドである。
好ましくは2ないし6の、とりわけ2ないし4のアミノ
基をもつ芳香族の、脂環式および脂肪族のポリアミンの
同一のまたは異なった不飽和カルボン酸のアミドでもあ
る。この型のポリアミンの例はエチレンジアミン、1,
2−および1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1
,3−および1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペン
チレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチ
レンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノ
シクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジア
ミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
アミン、ジ(β−アミノエトキシ)エタンおよびジ(β
−アミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリア
ミンは、あるいは側鎖に更にアミノ基を持っていてもよ
いポリマーおよびコポリマー、およびアミノ末端基を含
有しているオリゴアミドである。この型の不飽和アミド
の例は:メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミント
リスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポ
キシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレ
ートおよびN−[(β−ヒドロキシエトキシ)エチル]
アクリルアミドである。
【0041】適当な不飽和ポリエステルおよびポリアミ
ドは例えばマレイン酸およびジオールまたはジアミンか
ら誘導される。マレイン酸の幾つかは他のジカルボン酸
によって置換されていてよい。これらは例えばスチレン
のようなエチレン性不飽和コモノマーと一緒に使用でき
る。ポリエステルおよびポリアミドもまたジカルボン酸
およびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、
特に例えば6ないし20の炭素原子を含有する比較的長
鎖の化合物から誘導される。ポリウレタンを例にすると
、それらは飽和または不飽和のジイソシアネートおよび
不飽和または飽和のジオールから増成される。
ドは例えばマレイン酸およびジオールまたはジアミンか
ら誘導される。マレイン酸の幾つかは他のジカルボン酸
によって置換されていてよい。これらは例えばスチレン
のようなエチレン性不飽和コモノマーと一緒に使用でき
る。ポリエステルおよびポリアミドもまたジカルボン酸
およびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、
特に例えば6ないし20の炭素原子を含有する比較的長
鎖の化合物から誘導される。ポリウレタンを例にすると
、それらは飽和または不飽和のジイソシアネートおよび
不飽和または飽和のジオールから増成される。
【0042】ポリブタジエンおよびポリイソプレンなら
びにそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマ
ーの例は、エチレン、プロペン、ブテン、ヘキセン、(
メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレンおよ
び塩化ビニルのようなオレフィンである。側鎖中の(メ
タ)アクリレート基を含有しているポリマーはまた公知
である。これらは例えばノボラックベースのエポキシ樹
脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物、ポリビニルア
ルコールまたは(メタ)アクリル酸を使用してエステル
化されているそれらのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
ポリマーまたはコポリマー、あるいはヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートを使用してエステル化されてい
る(メタ)アクリレートのホモポリマーまたはコポリマ
ーであってよい。
びにそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマ
ーの例は、エチレン、プロペン、ブテン、ヘキセン、(
メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレンおよ
び塩化ビニルのようなオレフィンである。側鎖中の(メ
タ)アクリレート基を含有しているポリマーはまた公知
である。これらは例えばノボラックベースのエポキシ樹
脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物、ポリビニルア
ルコールまたは(メタ)アクリル酸を使用してエステル
化されているそれらのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
ポリマーまたはコポリマー、あるいはヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートを使用してエステル化されてい
る(メタ)アクリレートのホモポリマーまたはコポリマ
ーであってよい。
【0043】光重合性化合物はそれのみまたは任意の所
望の混合物中で使用できる。好ましいのはポリオール(
メタ)アクリレートの混合物で与えられる場合である。
望の混合物中で使用できる。好ましいのはポリオール(
メタ)アクリレートの混合物で与えられる場合である。
【0044】本発明の組成物に結合剤を添加できる;こ
れは特に光重合性が液体または粘性物質の場合の方法で
ある。結合剤の量は例えば総組成物ベースで5ないし9
5重量%好ましくは10ないし90重量%、とりわけ5
0ないし90重量%であってよい。結合剤は適用の分野
および水性系および有機溶媒系での活性の発現、基質へ
の付着力および酸素感受性のようにそれらの要求される
特性によって選択される。
れは特に光重合性が液体または粘性物質の場合の方法で
ある。結合剤の量は例えば総組成物ベースで5ないし9
5重量%好ましくは10ないし90重量%、とりわけ5
0ないし90重量%であってよい。結合剤は適用の分野
および水性系および有機溶媒系での活性の発現、基質へ
の付着力および酸素感受性のようにそれらの要求される
特性によって選択される。
【0045】適当な結合剤の例は約5,000ないし2
000,000、好ましくは10,000ないし1,0
00,000の分子量を持つポリマーである。例として
:例えばメチルメタクリレート/エチルアクリレート/
メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリレ
ート)、ポリ(アルキルアクリレート)のようなホモポ
リマー性およびコポリマー性アクリレートおよびメタク
リレート;例えばセルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、メチルセルロースおよびエチルセ
ルロースのようなセルロースエステルおよびエーテル;
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴ
ム、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキ
シドおよびポリテトラヒドロフランのようなポリエーテ
ル;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、
塩素化ポリオレフィン、塩化ポリビニル、塩化ビニル/
塩化ビニリデンのコポリマー、アクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートおよびビニルアセテートと塩化ビニリ
デンとのコポリマー、ポリビニルアセテート、コポリ(
エチレン/ビニルアセテート)、ポリカプロラクタムお
よびポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のようなポリマ
ー、ポリ(エチレングリコールテレフラレート)および
ポリ(ヘキサメチレングリコールスシネート)のような
ポリエステルである。
000,000、好ましくは10,000ないし1,0
00,000の分子量を持つポリマーである。例として
:例えばメチルメタクリレート/エチルアクリレート/
メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリレ
ート)、ポリ(アルキルアクリレート)のようなホモポ
リマー性およびコポリマー性アクリレートおよびメタク
リレート;例えばセルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、メチルセルロースおよびエチルセ
ルロースのようなセルロースエステルおよびエーテル;
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴ
ム、例えばポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキ
シドおよびポリテトラヒドロフランのようなポリエーテ
ル;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、
塩素化ポリオレフィン、塩化ポリビニル、塩化ビニル/
塩化ビニリデンのコポリマー、アクリロニトリル、メチ
ルメタクリレートおよびビニルアセテートと塩化ビニリ
デンとのコポリマー、ポリビニルアセテート、コポリ(
エチレン/ビニルアセテート)、ポリカプロラクタムお
よびポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のようなポリマ
ー、ポリ(エチレングリコールテレフラレート)および
ポリ(ヘキサメチレングリコールスシネート)のような
ポリエステルである。
【0046】不飽和化合物はまた非光重合性フィルム形
成用成分と混合して使用することもできる。これらは、
物理的に乾燥性のポリマーまたは有機溶媒、例えばニト
ロセルロースまたはセルロースアセトブチレート中のそ
れらの溶液であってよい。しかしながら,それらはまた
ポリイソシアネート、ポリエポキシドまたはメラミン樹
脂のような化学的硬化性のまたは熱硬化性の樹脂であっ
てよい。熱硬化性樹脂の付随する用途は、第一段階で光
重合し第二段階で熱の後処理により架橋するいわゆるバ
イブリッド系に使用するのに重要である。
成用成分と混合して使用することもできる。これらは、
物理的に乾燥性のポリマーまたは有機溶媒、例えばニト
ロセルロースまたはセルロースアセトブチレート中のそ
れらの溶液であってよい。しかしながら,それらはまた
ポリイソシアネート、ポリエポキシドまたはメラミン樹
脂のような化学的硬化性のまたは熱硬化性の樹脂であっ
てよい。熱硬化性樹脂の付随する用途は、第一段階で光
重合し第二段階で熱の後処理により架橋するいわゆるバ
イブリッド系に使用するのに重要である。
【0047】光開始剤に加えて、光重合性混合物はさら
に多様な添加剤を含むことができる。そのような添加剤
は例えば、特に成分の混合による組成物の調製中の、時
期尚早の重合を防ぐための加熱抑制剤(thermal
inhibitors)であり、それらは例えばヒド
ロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノー
ル、β−ナフトールまたは2,6−ジ(第三ブチル)−
p−クレソールのような立体障害性フェノールである。
に多様な添加剤を含むことができる。そのような添加剤
は例えば、特に成分の混合による組成物の調製中の、時
期尚早の重合を防ぐための加熱抑制剤(thermal
inhibitors)であり、それらは例えばヒド
ロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノー
ル、β−ナフトールまたは2,6−ジ(第三ブチル)−
p−クレソールのような立体障害性フェノールである。
【0048】例えばナフセン酸、ステアリン酸またはオ
クタン酸の銅塩のような銅化合物、トリフェニルホスフ
ィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフィット
、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジルホスフ
ィットのようなりん化合物、トリメチルアンモニウムク
ロリドまたはトリメチルベンジルアンモニウムクロリド
のような第四アンモニウム化合物、またはN−ジエチル
ヒドロキシルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導体
のの使用によって暗室中の貯蔵寿命を増加させることが
可能である。
クタン酸の銅塩のような銅化合物、トリフェニルホスフ
ィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフィット
、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジルホスフ
ィットのようなりん化合物、トリメチルアンモニウムク
ロリドまたはトリメチルベンジルアンモニウムクロリド
のような第四アンモニウム化合物、またはN−ジエチル
ヒドロキシルアミンのようなヒドロキシルアミン誘導体
のの使用によって暗室中の貯蔵寿命を増加させることが
可能である。
【0049】重合中における大気中の酸素を排除するた
めにパラフィン又は類似のワックス様物質を添加するこ
とができる;それらはポリマー中で低い溶解度をもつた
め重合の開始において表面に移行し、そして空気との接
触を防ぐ薄い表面層を形成する。
めにパラフィン又は類似のワックス様物質を添加するこ
とができる;それらはポリマー中で低い溶解度をもつた
め重合の開始において表面に移行し、そして空気との接
触を防ぐ薄い表面層を形成する。
【0050】光安定剤として少量加えることができるも
のは紫外線吸収剤であり、例えばそれらはベンゾトリア
ゾール、ベンゾフェノンまたはオキザルアニリドタイプ
のものである。立体障害アミンタイプ(HALS)の光
安定剤もまた加えてよい。
のは紫外線吸収剤であり、例えばそれらはベンゾトリア
ゾール、ベンゾフェノンまたはオキザルアニリドタイプ
のものである。立体障害アミンタイプ(HALS)の光
安定剤もまた加えてよい。
【0051】ある場合では、2つまたはそれ以上の本発
明による光開始剤を使用することで有利となることが可
能である。これはもちろん公知の光開始剤との混合物、
例えば、ベンゾフェノンタイプ;アセトフェノン誘導体
タイプ例えば、α−ヒドロキシシクロアルキルフェニル
ケトン、α−アミノケトン、ベンゾインアルキルエーテ
ルおよびベンジルケタール;または非シリル化アシルホ
スフィンオキシドまたはチタノセンタイプの開始剤との
混合物の使用もまた可能である。
明による光開始剤を使用することで有利となることが可
能である。これはもちろん公知の光開始剤との混合物、
例えば、ベンゾフェノンタイプ;アセトフェノン誘導体
タイプ例えば、α−ヒドロキシシクロアルキルフェニル
ケトン、α−アミノケトン、ベンゾインアルキルエーテ
ルおよびベンジルケタール;または非シリル化アシルホ
スフィンオキシドまたはチタノセンタイプの開始剤との
混合物の使用もまた可能である。
【0052】アミン、例えばトリエタノールアミン、N
−メチル−ジエタノールアミン、エチル p−ジメチ
ルアミノベンゾエートまたはミヒラーケトン(Mich
ler’s ketone)を加えることによって、特
に着色製剤中で光重合を促進させることができる。アミ
ンの効果はベンゾフェノンタイプの芳香族ケトンを加え
ることによって増加する。
−メチル−ジエタノールアミン、エチル p−ジメチ
ルアミノベンゾエートまたはミヒラーケトン(Mich
ler’s ketone)を加えることによって、特
に着色製剤中で光重合を促進させることができる。アミ
ンの効果はベンゾフェノンタイプの芳香族ケトンを加え
ることによって増加する。
【0053】光重合は、スペクトル感光性を変位させる
か広げる光増感剤の添加によってもまた促進され得る。 これらは好ましくは芳香族カルボニル化合物例えば、ベ
ンゾフェノンの誘導体、チオキサントン、アントラキノ
ンまたは3−アシルクマリンならびに3−(アロイルメ
チレン)チアゾリンである。
か広げる光増感剤の添加によってもまた促進され得る。 これらは好ましくは芳香族カルボニル化合物例えば、ベ
ンゾフェノンの誘導体、チオキサントン、アントラキノ
ンまたは3−アシルクマリンならびに3−(アロイルメ
チレン)チアゾリンである。
【0054】他の慣用の添加剤の例は─用途によるが─
充填剤、顔料、染料、接着剤、湿潤剤および流れ助剤で
ある。
充填剤、顔料、染料、接着剤、湿潤剤および流れ助剤で
ある。
【0055】重合性組成物は多様な目的のために使用す
ることができ、例えば印刷用インク、ワニス、白色ペイ
ント、表面塗料、外部用途用の、写真複製工程用の、映
像記録工程用のおよび印刷プレートの製造用の塗料とし
て、歯科用充填材料として、接着剤として、光学ファイ
バー用の、プリント回路および電子部品のコーティング
剤として使用できる。
ることができ、例えば印刷用インク、ワニス、白色ペイ
ント、表面塗料、外部用途用の、写真複製工程用の、映
像記録工程用のおよび印刷プレートの製造用の塗料とし
て、歯科用充填材料として、接着剤として、光学ファイ
バー用の、プリント回路および電子部品のコーティング
剤として使用できる。
【0056】表面塗料においては、しばしばプレポリマ
ーとポリ不飽和モノマーの二成分混合物、またはさらに
モノ不飽和モノマーを含む三成分混合物が使用される。 この場合のプレポリマーは主に,塗膜(coating
film) の性質を決定し、そしてそれらの変化は
技術の熟練者が硬化塗膜(cured film)の特
性を改良することを可能としている。ポリ不飽和モノマ
ーは塗膜を不溶性にする架橋剤として作用する。モノ不
飽和モノマーは反応性希釈剤として作用し、その助力で
溶媒の使用を必要とせずに粘度が低下する。
ーとポリ不飽和モノマーの二成分混合物、またはさらに
モノ不飽和モノマーを含む三成分混合物が使用される。 この場合のプレポリマーは主に,塗膜(coating
film) の性質を決定し、そしてそれらの変化は
技術の熟練者が硬化塗膜(cured film)の特
性を改良することを可能としている。ポリ不飽和モノマ
ーは塗膜を不溶性にする架橋剤として作用する。モノ不
飽和モノマーは反応性希釈剤として作用し、その助力で
溶媒の使用を必要とせずに粘度が低下する。
【0057】プレポリマーに基づくそのような二−及び
三成分系は印刷インクならびに表面塗料、フォトレジス
ト又は他の光硬化性組成物として使用される。印刷イン
ク用結合剤はしばしば光硬化性プレポリマーをベースと
する単一成分系としても使用される。
三成分系は印刷インクならびに表面塗料、フォトレジス
ト又は他の光硬化性組成物として使用される。印刷イン
ク用結合剤はしばしば光硬化性プレポリマーをベースと
する単一成分系としても使用される。
【0058】不飽和ポリエステル樹脂は通常、モノ不飽
和モノマー、好ましくはスチレンを伴う二成分系中に使
用される。特定の単一成分系はしばしばフォトレジスト
、例えば独国特許DE−A 2308830に開示し
てあるように、ポリマレイミド、ポリカルコンまたはポ
リイミドのために使用される。
和モノマー、好ましくはスチレンを伴う二成分系中に使
用される。特定の単一成分系はしばしばフォトレジスト
、例えば独国特許DE−A 2308830に開示し
てあるように、ポリマレイミド、ポリカルコンまたはポ
リイミドのために使用される。
【0059】本発明における光硬化性組成物は全てのタ
イプの物質に対する塗料として適当であり、例えばそれ
らは、木材、紙、セラミック、ポリエステルおよびセル
ロースアセテートフィルムのようなプラスチック、銅お
よびアルミニウムのような金属であり、それらの上で光
重合による保護コーティングまたは映像を塗布できる。
イプの物質に対する塗料として適当であり、例えばそれ
らは、木材、紙、セラミック、ポリエステルおよびセル
ロースアセテートフィルムのようなプラスチック、銅お
よびアルミニウムのような金属であり、それらの上で光
重合による保護コーティングまたは映像を塗布できる。
【0060】物質のコーティングは液体組成物、溶液ま
たは懸濁液を物質に塗布することにより行える。これは
例えば浸漬、はけ塗り(brushing) 、噴霧ま
たはリバースロール塗布(reverse roll
coating)によって行われる。塗布率(塗布厚さ
) および物質のタイプ(塗布基材) は所望の適用範
囲に依存する。写真情報記録用の塗布基材は例えばポリ
エステル製、セルロースアセテート製、またはプラスチ
ック塗布紙製のフィルムであり;オフセット印刷プレー
ト用の基材は特別に処理したアルミニウムであり;プリ
ント回路の製造用の基材は銅コートの積層品である。写
真材料およびオフセット印刷プレートの塗布厚は通常約
0.5ないし10μmである。さらに溶剤を使用する場
合は塗布操作の後、それは除去される。
たは懸濁液を物質に塗布することにより行える。これは
例えば浸漬、はけ塗り(brushing) 、噴霧ま
たはリバースロール塗布(reverse roll
coating)によって行われる。塗布率(塗布厚さ
) および物質のタイプ(塗布基材) は所望の適用範
囲に依存する。写真情報記録用の塗布基材は例えばポリ
エステル製、セルロースアセテート製、またはプラスチ
ック塗布紙製のフィルムであり;オフセット印刷プレー
ト用の基材は特別に処理したアルミニウムであり;プリ
ント回路の製造用の基材は銅コートの積層品である。写
真材料およびオフセット印刷プレートの塗布厚は通常約
0.5ないし10μmである。さらに溶剤を使用する場
合は塗布操作の後、それは除去される。
【0061】結合材の乾燥時間はグラフィック製品の製
造率に対する重要因子であり、二級品の部分の度合いに
なるため、光硬化は印刷インクに対し重要とされている
。紫外線硬化性印刷インクは特にスクリーン印刷に重要
である。
造率に対する重要因子であり、二級品の部分の度合いに
なるため、光硬化は印刷インクに対し重要とされている
。紫外線硬化性印刷インクは特にスクリーン印刷に重要
である。
【0062】本発明による光硬化性混合物もまた印刷プ
レートの製造に高い適性を持つ;例えば直鎖ポリアミド
またはスチレン−ブタジエンゴムとアクリルアミドのよ
うな光重合性モノマーとの可溶性混合物で光開始剤が使
用される場合である。これらの系(湿潤のまたは乾燥の
)からできたフィルムおよびプレートをプリント原型の
陰型(または陽型)に曝露し、そして次に溶剤を用いて
非硬化領域を取り除く。
レートの製造に高い適性を持つ;例えば直鎖ポリアミド
またはスチレン−ブタジエンゴムとアクリルアミドのよ
うな光重合性モノマーとの可溶性混合物で光開始剤が使
用される場合である。これらの系(湿潤のまたは乾燥の
)からできたフィルムおよびプレートをプリント原型の
陰型(または陽型)に曝露し、そして次に溶剤を用いて
非硬化領域を取り除く。
【0063】光硬化の適用の他の分野は例えば金属シー
トおよび管、罐または瓶キャップのコーティングのよう
な金属コーティング、そして例えばPVC−基材の床ま
たは壁用被覆材のようなプラスチックコーティングの光
硬化である。
トおよび管、罐または瓶キャップのコーティングのよう
な金属コーティング、そして例えばPVC−基材の床ま
たは壁用被覆材のようなプラスチックコーティングの光
硬化である。
【0064】紙コーティングの光硬化の例はラベル、レ
コードカバーまたは本カバーの無色のコーティングであ
る。
コードカバーまたは本カバーの無色のコーティングであ
る。
【0065】映像加工へのおよび情報用光学製品の光硬
化性組成物への使用もまた重要である。ここでは基材へ
適用された塗膜(湿潤性または乾燥性)にフォトマスク
(photomask)を通して短波光を照射し、そし
て塗膜の未露光部分は溶剤(現像液)で処理することに
より除去される。光硬化性コーティングはまた電気メッ
キにより金属に対しても適用することができる。暴露面
は架橋されおよび重合化されそしてそれゆえ不溶性とな
り基材上に残る。適当に着色すると可視像が得られる。 基材が金属蒸着層の場合、露光および現像エッチングす
ることにより、金属は未露光面に於いて除かれるか、ま
たは電気メッキにより厚さが増加される。このようにプ
リント回路およびフォトレジストを製造できる。
化性組成物への使用もまた重要である。ここでは基材へ
適用された塗膜(湿潤性または乾燥性)にフォトマスク
(photomask)を通して短波光を照射し、そし
て塗膜の未露光部分は溶剤(現像液)で処理することに
より除去される。光硬化性コーティングはまた電気メッ
キにより金属に対しても適用することができる。暴露面
は架橋されおよび重合化されそしてそれゆえ不溶性とな
り基材上に残る。適当に着色すると可視像が得られる。 基材が金属蒸着層の場合、露光および現像エッチングす
ることにより、金属は未露光面に於いて除かれるか、ま
たは電気メッキにより厚さが増加される。このようにプ
リント回路およびフォトレジストを製造できる。
【0066】本発明は少なくとも1種のエチレン性の二
重結合を含有する不揮発性の、モノマー性の、オリゴマ
ー性のまたはポリマー性の化合物の光重合工程で、式I
で表される化合物を上述の化合物に添加することに関し
、および200nmないし600nmの領域の光を混合
物に照射することを包含することにも関する。
重結合を含有する不揮発性の、モノマー性の、オリゴマ
ー性のまたはポリマー性の化合物の光重合工程で、式I
で表される化合物を上述の化合物に添加することに関し
、および200nmないし600nmの領域の光を混合
物に照射することを包含することにも関する。
【0067】この重合は、太陽光または短波放射線に富
む光の照射による光重合の公知技術で行われる。適当な
光源は代表的には水銀中圧、高圧及び低圧ランプ、超化
学線蛍光灯、金属ハライドランプ又はレーザであり、そ
の最大発光は250ないし450nmである。レーザー
光源は、調整されたレーザビームが直接、光硬化性の層
上に届くのでフォトマスクを必要としないことで有利で
ある。光増感剤との配合物で使用される場合、比較的長
波の光又は600nmまでのレーザビームを使用するこ
とも可能である。
む光の照射による光重合の公知技術で行われる。適当な
光源は代表的には水銀中圧、高圧及び低圧ランプ、超化
学線蛍光灯、金属ハライドランプ又はレーザであり、そ
の最大発光は250ないし450nmである。レーザー
光源は、調整されたレーザビームが直接、光硬化性の層
上に届くのでフォトマスクを必要としないことで有利で
ある。光増感剤との配合物で使用される場合、比較的長
波の光又は600nmまでのレーザビームを使用するこ
とも可能である。
【0068】組成物は個々の成分の混合により調製され
る。
る。
【0069】本発明はさらに上記工程で得られる硬化し
た組成物に関する。
た組成物に関する。
【0070】本発明による化合物は通常使用される樹脂
中で良好な溶解性を示す。シリル化樹脂、すなわちアク
リレート基を含有するポリシロキサンとの溶解性および
混和性もまた重要とするべきである。式Iで表される化
合物を含む組成物はよい保存寿命を持つ。表面塗料の式
Iで表される化合物の混和の結果、低臭性の、耐黄変性
の塗料を生成する。
中で良好な溶解性を示す。シリル化樹脂、すなわちアク
リレート基を含有するポリシロキサンとの溶解性および
混和性もまた重要とするべきである。式Iで表される化
合物を含む組成物はよい保存寿命を持つ。表面塗料の式
Iで表される化合物の混和の結果、低臭性の、耐黄変性
の塗料を生成する。
【0071】
【実施例】以下に示す実施例で、本発明をさらに詳細に
説明する。特に言及しない限り、記述中の「部」及び「
%」は、重量による。
説明する。特に言及しない限り、記述中の「部」及び「
%」は、重量による。
【0072】実施例1:
次式:
【化81】
(式中t−C6 H13は1,1,2,2−テトラメチ
ルエチル基を表す。)で表される化合物の製造。メチル
2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネ
ート6.0g(0.02mol)および第三ヘキシルジ
メチルクロロシラン4.3g(0.024mol)を攪
拌しながら160℃に加温し、そしてこの温度でさらに
3時間攪拌し、形成された塩化メチルはコールドトラッ
プ中で回収される。混合物を冷却し、高真空バルブ管(
沸点170℃/0.1mbar)中で残渣を蒸留し、透
明で黄色がかった油として上記化合物5.9g(理論値
の68.8%)を得る。 元素分析値: 計算値:C 66.94% H 8
.19%実測値:C 66.62%
H 8.29%
ルエチル基を表す。)で表される化合物の製造。メチル
2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネ
ート6.0g(0.02mol)および第三ヘキシルジ
メチルクロロシラン4.3g(0.024mol)を攪
拌しながら160℃に加温し、そしてこの温度でさらに
3時間攪拌し、形成された塩化メチルはコールドトラッ
プ中で回収される。混合物を冷却し、高真空バルブ管(
沸点170℃/0.1mbar)中で残渣を蒸留し、透
明で黄色がかった油として上記化合物5.9g(理論値
の68.8%)を得る。 元素分析値: 計算値:C 66.94% H 8
.19%実測値:C 66.62%
H 8.29%
【0073】実施例2ないし7:
実施例2ないし7の化合物は実施例1の化合物と類似の
方法で製造する。構造式および物理データを表1に示す
。表1:
方法で製造する。構造式および物理データを表1に示す
。表1:
【表1】
【0074】実施例8:
次式:
【化82】
で表される化合物の製造。80℃、窒素雰囲気下で、ト
リス(トリメチルシリル)ホスフィット8.7g(0.
029mol)をトルエン100ml中に塩化2−メト
キシベンジル4.8g(0.028mol)を溶解した
溶液に20分以上かけて滴下して添加する。混合物を8
0℃で3時間攪拌し、得られた黄色の液体を室温で冷却
し、ロータリーエバポレーターで蒸発濃縮する。残渣を
蒸留によって精製し、沸点118℃/2mbarを持つ
、淡黄色がかった油として上記化合物4.0g(理論値
の40%)を得る。 元素分析値: 計算値:C 46.65% H 6
.99%実測値:C 46.42%
H 7.40%
リス(トリメチルシリル)ホスフィット8.7g(0.
029mol)をトルエン100ml中に塩化2−メト
キシベンジル4.8g(0.028mol)を溶解した
溶液に20分以上かけて滴下して添加する。混合物を8
0℃で3時間攪拌し、得られた黄色の液体を室温で冷却
し、ロータリーエバポレーターで蒸発濃縮する。残渣を
蒸留によって精製し、沸点118℃/2mbarを持つ
、淡黄色がかった油として上記化合物4.0g(理論値
の40%)を得る。 元素分析値: 計算値:C 46.65% H 6
.99%実測値:C 46.42%
H 7.40%
【0075】実施例9ないし11:
実施例9ないし11の化合物は適当な酸塩化物を使用し
て実施例8の化合物と類似の方法で製造する。化合物お
よび油の元素分析値を以下の表2に示す。
て実施例8の化合物と類似の方法で製造する。化合物お
よび油の元素分析値を以下の表2に示す。
【化83】
表2:
【表2】
【0076】実施例12:ワニス中の開始剤反応性光硬
化性組成物を 登録商標ロスキダル(Roskydal) UV 5
02A〔スチレン中の不飽和ポリエステルの溶液;独国
、バイエル(BAYER)社製〕 99.5
部登録商標BYK 300〔流体助剤;ビー・ワイ・
ケー−マリンクロド(Byk−Mallinckrod
t)社製〕
0.5部から製造する。試験され
る光開始剤2重量%をこの組成物に混合する。この配合
物を白色の合成樹脂で塗布されたチップボード(chi
pboad) に100μmの塗布厚に塗布する。その
後試料に水銀中圧ランプ(2×80W/cm)を備えた
PPG露光装置中で照射する。この操作中、試料をラン
プの下、20m/分の速度で走行するベルト上で、払い
耐性塗布表面を示すのに十分に何度も通過させる。より
少ない通過数がより良い試験化合物の光開始剤作用であ
る。試料の硬度はケーニッヒ振子硬度(Koenig
pendulum hardness)を測定して決定
する(DIN 53157)。第二欄のより大きい数
値が試験試料のより硬いものである。試料の黄変を、1
回は暴露直後におよびさらに4時間暴露した後にもう1
回、ASTM D 1925−70による黄色度指数と
して測定する。より低い値がより少ない試料の黄変を示
す。結果を表3にまとめる。 表3:
化性組成物を 登録商標ロスキダル(Roskydal) UV 5
02A〔スチレン中の不飽和ポリエステルの溶液;独国
、バイエル(BAYER)社製〕 99.5
部登録商標BYK 300〔流体助剤;ビー・ワイ・
ケー−マリンクロド(Byk−Mallinckrod
t)社製〕
0.5部から製造する。試験され
る光開始剤2重量%をこの組成物に混合する。この配合
物を白色の合成樹脂で塗布されたチップボード(chi
pboad) に100μmの塗布厚に塗布する。その
後試料に水銀中圧ランプ(2×80W/cm)を備えた
PPG露光装置中で照射する。この操作中、試料をラン
プの下、20m/分の速度で走行するベルト上で、払い
耐性塗布表面を示すのに十分に何度も通過させる。より
少ない通過数がより良い試験化合物の光開始剤作用であ
る。試料の硬度はケーニッヒ振子硬度(Koenig
pendulum hardness)を測定して決定
する(DIN 53157)。第二欄のより大きい数
値が試験試料のより硬いものである。試料の黄変を、1
回は暴露直後におよびさらに4時間暴露した後にもう1
回、ASTM D 1925−70による黄色度指数と
して測定する。より低い値がより少ない試料の黄変を示
す。結果を表3にまとめる。 表3:
【表3】
Claims (15)
- 【請求項1】 (a)少なくとも1種類のエチレン性
不飽和光重合性化合物および(b)光開始剤として次式
I: 【化1】 (式中、R1 は 【化2】 で表される基であり、R2 はR1 に対して定義され
たものと同じであり、 【化3】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基も
しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換され
ていてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/
または窒素原子を含有する5または6員複素環基を表す
か;または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フ
ェノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R
2 が【化4】 で表される基のとき、R6 は、ケイ素原子と結合して
6、7または8員環を形成することができ、この場合、
基: 【化5】 は、以下の基: 【化6】 に相当し、あるいはR1 およびR2 は基:−P=O
と一緒になって次式: 【化7】 で表される4員環を形成でき;R3 は炭素原子数1な
いし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基また
は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキシ
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基も
しくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし1
2のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳香
族性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を
含有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 およ
びR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基
または非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4 、R
5 およびR6 基の少なくとも2つは水素原子以外で
ある。)で表される化合物の少なくとも1種類からなる
光重合性組成物。 - 【請求項2】 式中、R2 がR1 に対して定義さ
れたものと同じであり、次式: 【化8】 で表される基としてのR1 およびR2 が同一である
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非置換のま
たはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基
もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換さ
れた炭素原子数6ないし12のアリール基;ハロゲン原
子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていてもよい
5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および
/または窒素原子を含有する複素環基を表すか;または
炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ基ま
たはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が【化9
】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:【化10】 は、基IIa、IIbまたはIIcに相当していてよく
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 は炭素原子数1
ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2ない
し4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコ
キシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハロ
ゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリー
ル基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、酸
素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する複
素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6 は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 式中、R2 はR1 に対して定義さ
れたものと同じであり、 【化11】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が 【化12】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:【化13】 は、基IIaに相当し;R3 は炭素原子数1ないし1
2のアルキル基;ハロゲン原子置換された炭素原子数1
ないし8のアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8
のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数1ない
し8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ
基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ない
し12のアリール基を表し;ならびにR4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、または非置換のもしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基を表す請
求項2記載の組成物。 - 【請求項4】 式中、R2 はR1 に対して定義さ
れたものと同じであり、 【化14】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、非置換のま
たはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のア
ルキル基を表し、またはR2 が 【化15】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して環
を形成でき、この場合、基: 【化16】 は、基IIaに相当し;R3 は非置換のまたはハロゲ
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲン
原子で置換されたフェニル基を表し;ならびにR4 、
R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭
素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基、またはフェニル基を表す請求項
3記載の組成物。 - 【請求項5】 式中、R2 はR1 に対して定義さ
れたものと同じであり、 【化17】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、およびR2 が 【化18】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:【化19】 は、基IIaに相当し;R3 は非置換のまたはハロゲ
ン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
、あるいは非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくは
ハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびに
R4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭素
原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表す
請求項4記載の組成物。 - 【請求項6】 光開始剤(b)の他に少なくとも1種
類の他の光開始剤および/または他の添加剤を含有する
請求項1記載の組成物。 - 【請求項7】 組成物に基づき0.05ないし15重
量%、特に0.2ないし5重量%の成分(b)を含有す
る請求項1記載の組成物。 - 【請求項8】 次式Ia: 【化20】 (式中、 R1 は 【化21】 で表される基であり、R2 はR1 に対して定義され
たものと同じであり、 【化22】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし12のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数
2ないし18のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12
のアルコキシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非
置換のまたはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし12のアルコキ
シ基で置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
;ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基も
しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換され
ていてもよい芳香族性の、酸素原子、硫黄原子および/
または窒素原子を含有する5または6員複素環基を表す
か;または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、フ
ェノキシ基またはベンジルオキシ基を表し、および、R
2 が【化23】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:【化24】 は、以下の基: 【化25】 に相当し、あるいはR1 およびR2 は基:−P=O
と一緒になって次式: 【化26】 で表される4員環を形成でき;R3 ’は炭素原子数1
ないし18のアルキル基;ハロゲン原子、フェニル基ま
たは炭素原子数1ないし12のアルコキシ基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし6のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
コキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原
子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキ
シアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基
もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし
12のアリール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基で置換されていてもよい5または6員の芳
香族性の、酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子
を含有する複素環基を表し;ならびにR4 、R5 お
よびR6 は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数
1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
基、または非置換のもしくは炭素原子数1ないし8のア
ルキル基で置換されたフェニル基を表し、そしてR4
、R5 およびR6 の少なくとも2つで表される基は
水素原子以外であり;但し(1)もし、R1 およびR
2 が同一であり、ならびにR4 、R5 およびR6
は同じ意味を持ち、そしてメチル基またはエチル基で
あるならば、R3 ’は炭素原子数1ないし5のアルキ
ル基、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基またはハロフェニル基でなく、および(2)もし、
R3 ’がメチル基であれば、基R1 中のR4 、R
5 およびR6 は同時にはエチル基でない。)で表さ
れる化合物。 - 【請求項9】 式中、R2 がR1 に対して定義さ
れたものと同じであり、次式: 【化27】 で表される基としてのR1 およびR2 が同一である
かまたは異なっていてよく;あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基;フェニル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2
ないし8のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、フェニル基もしくはハロゲン原子で置換された
炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基;非置換のま
たはハロゲン原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基
もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換さ
れた炭素原子数6ないし12のアリール基;またはハロ
ゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基で置換されていて
もよい5または6員の芳香族性の、酸素原子、硫黄原子
または窒素原子を含有する複素環基を表すか;あるいは
炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、フェノキシ基ま
たはベンジルオキシ基を表し、および、R2 が【化2
8】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して6
、7または8員環を形成することができ、この場合、基
:【化29】 は、基IIa、IIbまたはIIcに相当していてよく
、あるいはR1 およびR2 は基:−P=Oと一緒に
なって式IIIの環を形成でき;R3 ’は炭素原子数
1ないし12のアルキル基;ハロゲン原子、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基またはフェニル基で置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基;炭素原子数2な
いし4のアルケニル基;非置換のまたは炭素原子数1な
いし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基;非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアル
コキシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハ
ロゲン原子で置換された炭素原子数6ないし12のアリ
ール基;またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基で置換されていてもよい5または6員の芳香族性の、
酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有する
複素環基を表し;ならびにR4 、R5 およびR6は
、互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または非置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基を表す請求項8記載の化合物。 - 【請求項10】 式中、R2 はR1 に対して定義
されたものと同じであり、 【化30】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル基で置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基
を表し、および、R2 が 【化31】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:【化32】 は、基IIaに相当し;R3 ’は炭素原子数1ないし
12のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子
数1ないし8のアルキル基、非置換のまたは炭素原子数
1ないし8のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し8のシクロアルキル基;あるいは非置換のまたは炭素
原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8
のアルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換された炭素
原子数6ないし12のアリール基を表し;ならびにR4
、R5およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、または非置換のもしくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基を表す請求項
8記載の化合物。 - 【請求項11】 式中、R2 はR1 に対して定義
されたものと同じであり、 【化33】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 は、非置換
のまたはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくはフェニル基を表し、およびR2 が 【化34】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して7
員環を形成することができ、この場合、基:【化35】 は、基IIaに相当し;R3 ’は非置換のまたはハロ
ゲン原子で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル
基;非置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基
、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲ
ン原子で置換されたフェニル基を表し;ならびにR4
、R5 およびR6 は、互いに独立して、水素原子、
炭素原子数1ないし8のアルキル基、またはフェニル基
を表す請求項10記載の化合物。 - 【請求項12】 式中、R2 はR1 に対して定義
されたものと同じであり、 【化36】 で表される基としてのR1 およびR2 は同一である
かまたは異なっていてよく、あるいはR2 はフェニル
基を表し、およびR2 が 【化37】 で表される基のとき、R6 はケイ素原子と結合して、
7員環を形成することができ、この場合、基:【化38
】 は、基IIaに相当し;R3 ’はハロゲン原子で置換
された炭素原子数1ないし4のアルキル基、あるいは非
置換のまたは炭素原子数1ないし6のアルキル基もしく
はハロゲン原子で置換されたフェニル基を表し;ならび
にR4 、R5 およびR6 は、互いに独立して、炭
素原子数1ないし8のアルキル基またはフェニル基を表
す請求項11記載の化合物。 - 【請求項13】 エチレン性不飽和化合物の光重合の
光開始剤として請求項1で定義された式Iの化合物を使
用する方法。 - 【請求項14】 請求項1記載の組成物に200nm
ないし600nmの範囲の光を照射することからなるエ
チレン性不飽和二重結合を含む化合物を光重合する方法
。 - 【請求項15】 請求項14記載の方法によって得ら
れる硬化組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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CH3689/90-0 | 1990-11-21 |
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---|---|
JPH04316588A true JPH04316588A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=4261406
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3331486A Pending JPH04316588A (ja) | 1990-11-21 | 1991-11-20 | シリル化アシルホスフィンオキシド |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US5210110A (ja) |
EP (1) | EP0487453B1 (ja) |
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EP0487453A1 (de) | 1992-05-27 |
US5210110A (en) | 1993-05-11 |
DE59107840D1 (de) | 1996-06-27 |
EP0487453B1 (de) | 1996-05-22 |
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