JPH04316530A - 鎖状テルペン類 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な鎖状テルペン類に
関するものである。詳しくは、本発明の化合物は抗発癌
プロモーター作用(Cancer Surveys,
2, 540 (1983); 代謝、vol 25臨
時増刊号 癌 ■88, 3 (1988))及び抗腫
瘍作用(特公昭63−20213号公報)を有するザル
コフィトールAの製造のための重要な中間体である鎖状
テルペン類に関するものである。
関するものである。詳しくは、本発明の化合物は抗発癌
プロモーター作用(Cancer Surveys,
2, 540 (1983); 代謝、vol 25臨
時増刊号 癌 ■88, 3 (1988))及び抗腫
瘍作用(特公昭63−20213号公報)を有するザル
コフィトールAの製造のための重要な中間体である鎖状
テルペン類に関するものである。
【0002】
【従来の技術】下記構造式で表わされるザルコフィトー
ルAは、その14員環中に一つの共役二重結合を含む計
4つの二重結合を有するセンブラン型ジテルペンアルコ
ールである。
ルAは、その14員環中に一つの共役二重結合を含む計
4つの二重結合を有するセンブラン型ジテルペンアルコ
ールである。
【化2】
【0003】従来、ザルコフィトールAの合成法は知ら
れていなかったが、先に本発明者らは下に示すセスキテ
ルペノイドを出発原料とし、ホルミル体、化合物(F)
を鍵中間体とするザルコフィトールAの合成ルートの提
案を行なった(特願平1−181710)。この合成ル
ートを以下に示す。
れていなかったが、先に本発明者らは下に示すセスキテ
ルペノイドを出発原料とし、ホルミル体、化合物(F)
を鍵中間体とするザルコフィトールAの合成ルートの提
案を行なった(特願平1−181710)。この合成ル
ートを以下に示す。
【0004】
【化3】(上記式中、R6はC1〜C4の低級アルキル
基、R7はトリメチルシリル基、1−エトキシエチル基
又は水素原子、Yは塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子を表わす。)
基、R7はトリメチルシリル基、1−エトキシエチル基
又は水素原子、Yは塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子を表わす。)
【0005】上記したザルコフィトールAの製造ルート
によって、ザルコフィトールAを工業的に製造しようと
する場合、収率、選択性共に高くない上、毒性の高いセ
レン化合物を使用する必要のある末端位メチル基の酸化
工程を避けて通れない、といった大きな問題があった。
によって、ザルコフィトールAを工業的に製造しようと
する場合、収率、選択性共に高くない上、毒性の高いセ
レン化合物を使用する必要のある末端位メチル基の酸化
工程を避けて通れない、といった大きな問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、工業的
により有利な方法によってザルコフィトールAを大量か
つ安価に製造、供給することを目的として鋭意検討した
結果、本発明の鎖状テルペン類が上記の問題点を解決で
きる製造ルートにおける有用な中間体であることを見い
出し本発明に到達した。即ち、本発明の要旨は、下記一
般式(I)
により有利な方法によってザルコフィトールAを大量か
つ安価に製造、供給することを目的として鋭意検討した
結果、本発明の鎖状テルペン類が上記の問題点を解決で
きる製造ルートにおける有用な中間体であることを見い
出し本発明に到達した。即ち、本発明の要旨は、下記一
般式(I)
【化4】[式中、Xは塩素原子、−OC(O)R1(R
1は水素原子、C1〜C4のアルキル基又は置換基を有
していても良いフェニル基を表わす)、−SR2、−S
(O)R2(R2はC1〜C4のアルキル基又は置換基
を有していても良いフェニル基を表わす)、−NR3R
4、−N(O)R3R4(R3およびR4はそれぞれ独
立してC1〜C4のアルキル基又は一緒になって環を形
成したアルキル基を表わす)を表わし、Rはシアノ基、
ホルミル基又は−C(O)OR5(R5はC1〜C4の
アルキル基を表わす)を表わし、nは0又は1を表わす
。但し、nが0の時、Xは塩素原子又は−OC(O)R
1を表わす。]で示される鎖状テルペン類を提供するこ
とにある。以下、本発明につき詳細に説明する。
1は水素原子、C1〜C4のアルキル基又は置換基を有
していても良いフェニル基を表わす)、−SR2、−S
(O)R2(R2はC1〜C4のアルキル基又は置換基
を有していても良いフェニル基を表わす)、−NR3R
4、−N(O)R3R4(R3およびR4はそれぞれ独
立してC1〜C4のアルキル基又は一緒になって環を形
成したアルキル基を表わす)を表わし、Rはシアノ基、
ホルミル基又は−C(O)OR5(R5はC1〜C4の
アルキル基を表わす)を表わし、nは0又は1を表わす
。但し、nが0の時、Xは塩素原子又は−OC(O)R
1を表わす。]で示される鎖状テルペン類を提供するこ
とにある。以下、本発明につき詳細に説明する。
【0007】上記の定義において、R1のC1〜C4の
アルキル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、TSO−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブ
チル基等が挙げられ、置換基を有していても良いフェニ
ル基としてはフェニル基、p−トリル基、o−クロルフ
ェニル基、p−ニトロフェニル基等が挙げられる。
アルキル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、TSO−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブ
チル基等が挙げられ、置換基を有していても良いフェニ
ル基としてはフェニル基、p−トリル基、o−クロルフ
ェニル基、p−ニトロフェニル基等が挙げられる。
【0008】R2のC1〜C4のアルキル基としては、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、TSO−プロピ
ル基、tert−ブチル基、置換基を有していても良い
フェニル基としてはフェニル基、p−トリル基、p−ク
ロルフェニル基、o−ニトロフェニル基、o,p−ジニ
トロフェニル基等が挙げられる。
メチル基、エチル基、n−プロピル基、TSO−プロピ
ル基、tert−ブチル基、置換基を有していても良い
フェニル基としてはフェニル基、p−トリル基、p−ク
ロルフェニル基、o−ニトロフェニル基、o,p−ジニ
トロフェニル基等が挙げられる。
【0009】R3又はR4の具体例としては、メチル基
、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基又はR3と
R4が一緒になって環を形成しているシクロペンチル基
、シクロヘキシル基等が挙げられ、R5としてはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−
ブチル基等が挙げられる。
、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基又はR3と
R4が一緒になって環を形成しているシクロペンチル基
、シクロヘキシル基等が挙げられ、R5としてはメチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−
ブチル基等が挙げられる。
【0010】以下、一般式(I)で表わされる好ましい
化合物の具体例を示す。
化合物の具体例を示す。
【0011】
【表1】
【0012】
【表2】
【0013】
【表3】
【0014】
【表4】
【0015】
【表5】
【0016】
【表6】
【0017】
【表7】
【0018】
【表8】
【0019】次に、本発明の化合物の製法について説明
する。一般式(I)で表わされる化合物は、たとえばモ
ノテルペノイド、ゲラニアール(化合物(K),n=0
)あるいはセスキテルペノイド、ファルネサール(化合
物(K),n=1)から下記の合成ルートに従って製造
できる。
する。一般式(I)で表わされる化合物は、たとえばモ
ノテルペノイド、ゲラニアール(化合物(K),n=0
)あるいはセスキテルペノイド、ファルネサール(化合
物(K),n=1)から下記の合成ルートに従って製造
できる。
【0020】
【化5】(式中、R1、R2、R3、R4およびR5は
前記で定義した通りである。)
前記で定義した通りである。)
【0021】すなわち、化合物(K)を0.1〜10当
量の2−(ジメチルホスホノ)−イソバレロニトリル、
2−(ジエチルホスホノ)−イソバレロニトリル、2−
(ジエチルホスホノ)−イソバレル酸エチルなどの W
ittig−Horner 試薬にテトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン、n
−ヘキサン等の炭化水素系溶媒あるいはジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒中、−100〜100℃で、塩基として Witti
g−Horner 試薬に対して1当量以下の水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、n−ブチ
ルリウチム、リウチムジイソプロピルアミドなどの有機
金属、ナトリウムメトキシド、t−ブトキシカリウムな
どの金属アルコキシドを作用させることにより発生した
アニオンで−100〜100℃の温度下で処理する方法
、あるいは
量の2−(ジメチルホスホノ)−イソバレロニトリル、
2−(ジエチルホスホノ)−イソバレロニトリル、2−
(ジエチルホスホノ)−イソバレル酸エチルなどの W
ittig−Horner 試薬にテトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン、n
−ヘキサン等の炭化水素系溶媒あるいはジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒中、−100〜100℃で、塩基として Witti
g−Horner 試薬に対して1当量以下の水素化ナ
トリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、n−ブチ
ルリウチム、リウチムジイソプロピルアミドなどの有機
金属、ナトリウムメトキシド、t−ブトキシカリウムな
どの金属アルコキシドを作用させることにより発生した
アニオンで−100〜100℃の温度下で処理する方法
、あるいは
【化6】などのホスホラン化合物を、塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、あるいはメタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒中、−50〜1
00℃で5分間〜24時間作用する方法などにより化合
物(L)の内Rがシアノ基又は−CO2R5で表わされ
る化合物を得、さらにこれらをn−ヘキサン、ヘプタン
、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒中、−10
0〜150℃で0.1〜10当量の水素化ジイソブチル
アルミニウム等の金属水素化物を作用し、その後加水分
解する方法などにより化合物(L)の内Rがホルミル基
で表わされる化合物を製造できる。
ロロホルム等のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、あるいはメタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒中、−50〜1
00℃で5分間〜24時間作用する方法などにより化合
物(L)の内Rがシアノ基又は−CO2R5で表わされ
る化合物を得、さらにこれらをn−ヘキサン、ヘプタン
、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒中、−10
0〜150℃で0.1〜10当量の水素化ジイソブチル
アルミニウム等の金属水素化物を作用し、その後加水分
解する方法などにより化合物(L)の内Rがホルミル基
で表わされる化合物を製造できる。
【0022】Rがシアノ基、ホルミル基、−CO2R5
のいずれであれ、そしてnが0、1いずれであっても化
合物(L)を、いわゆるエン型クロル化反応(たとえば
、Bull.Chem.Soc.Jpn., 63,
1328(1990)およびその引用文献参照)、一例
を挙げれば、塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒中、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の存在下、0.
1〜1.5当量の塩化スルフリルを、−50〜+50℃
で作用させるなどの条件に付し、一般式(I)において
、Xが塩素原子で表わされる化合物を製造できる。
のいずれであれ、そしてnが0、1いずれであっても化
合物(L)を、いわゆるエン型クロル化反応(たとえば
、Bull.Chem.Soc.Jpn., 63,
1328(1990)およびその引用文献参照)、一例
を挙げれば、塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒中、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の存在下、0.
1〜1.5当量の塩化スルフリルを、−50〜+50℃
で作用させるなどの条件に付し、一般式(I)において
、Xが塩素原子で表わされる化合物を製造できる。
【0023】そして、このクロル化合物から、たとえば
、0.1〜10当量のギ酸ナトリウム、酢酸カリウム、
安息香酸ナトリウムなどの有機酸の金属塩テトラn−ブ
チルアンモニウムホルメート、テトラn−ブチルアンモ
ニウムアセテート、テトラ−n−ブチルアンモニウムベ
ンゾエートなどの有機酸のアンモニウム塩をジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン
性溶媒、あるいはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒中、場合によっては、クラウン
エーテル等を共存させるなどし、室温〜150℃で、3
0分から50時間反応させる方法などにより一般式(I
)においてXがOC(O)R1で表わされる化合物を製
造できる。また、たとえばメタンチオール、チオフェノ
ールなどのメルカプタン類の金属塩をジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテ
ル系溶媒あるいはメタノール、エタノールなどのアルコ
ール系溶媒中0〜150℃にて、10分から20時間作
用させるなどの方法により、一般式(I)においてXが
SR2で表わされる化合物を、0.1〜20当量のジメ
チルアミン、ジエチルアミン、モルホリンなどの2級ア
ミン類を、メタノール、エタノール等のアルコール系溶
媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性非プロトン性溶媒中、あるいは溶媒を用いずアミン
を溶媒兼用とし、0℃〜100℃で30分〜50時間作
用させる方法などにより、一般式(I)においてXがN
R3R4で表わされる化合物をそれぞれ製造できる。一
般式(I)においてXがSR2で表わされる化合物は、
化合物(L)(n=1)を塩化メチレン、クロロホルム
等のハロゲン系溶媒中、0.1〜1.5当量のフェニル
スルフェニルクロリド、o−クロルフェニルスルフェニ
ルクロリド等のスルフェニルクロリド類を、−50〜+
50℃にて、10分〜10時間作用させ一旦化合物(M
)とし、これをトリエチルアミン、ピリジン等のアミン
の存在下、ジメチルホルムアミド、トルエンなどの溶媒
中、50〜150℃に加熱するなどの処理を行なう(T
etrahedron, 40, 3481(1984
)参照)ことによっても製造できる。
、0.1〜10当量のギ酸ナトリウム、酢酸カリウム、
安息香酸ナトリウムなどの有機酸の金属塩テトラn−ブ
チルアンモニウムホルメート、テトラn−ブチルアンモ
ニウムアセテート、テトラ−n−ブチルアンモニウムベ
ンゾエートなどの有機酸のアンモニウム塩をジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン
性溶媒、あるいはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ンなどのエーテル系溶媒中、場合によっては、クラウン
エーテル等を共存させるなどし、室温〜150℃で、3
0分から50時間反応させる方法などにより一般式(I
)においてXがOC(O)R1で表わされる化合物を製
造できる。また、たとえばメタンチオール、チオフェノ
ールなどのメルカプタン類の金属塩をジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテ
ル系溶媒あるいはメタノール、エタノールなどのアルコ
ール系溶媒中0〜150℃にて、10分から20時間作
用させるなどの方法により、一般式(I)においてXが
SR2で表わされる化合物を、0.1〜20当量のジメ
チルアミン、ジエチルアミン、モルホリンなどの2級ア
ミン類を、メタノール、エタノール等のアルコール系溶
媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性非プロトン性溶媒中、あるいは溶媒を用いずアミン
を溶媒兼用とし、0℃〜100℃で30分〜50時間作
用させる方法などにより、一般式(I)においてXがN
R3R4で表わされる化合物をそれぞれ製造できる。一
般式(I)においてXがSR2で表わされる化合物は、
化合物(L)(n=1)を塩化メチレン、クロロホルム
等のハロゲン系溶媒中、0.1〜1.5当量のフェニル
スルフェニルクロリド、o−クロルフェニルスルフェニ
ルクロリド等のスルフェニルクロリド類を、−50〜+
50℃にて、10分〜10時間作用させ一旦化合物(M
)とし、これをトリエチルアミン、ピリジン等のアミン
の存在下、ジメチルホルムアミド、トルエンなどの溶媒
中、50〜150℃に加熱するなどの処理を行なう(T
etrahedron, 40, 3481(1984
)参照)ことによっても製造できる。
【0024】この様にして得た、一般式(I)において
XがSR2およびNR3R4で示される化合物から、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒中、0.
1〜1.5当量の過酢酸、m−クロル過安息香酸などの
有機過酸を、−50〜50℃で、10分〜10時間作用
させる。メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒
中、これらの含水溶媒中、場合によっては、タングステ
ン等の金属の塩を触媒として共存させ、0.1〜5当量
の過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシド等の有機
過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素酸カリウム
等の過ヨウ素酸塩類を、−20〜100℃で10分〜1
00時間作用させるなどの方法により、それぞれ一般式
(I)においてXがS(O)R2およびN(O)R3R
4で表わされる化合物を製造できる。
XがSR2およびNR3R4で示される化合物から、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒中、0.
1〜1.5当量の過酢酸、m−クロル過安息香酸などの
有機過酸を、−50〜50℃で、10分〜10時間作用
させる。メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒
中、これらの含水溶媒中、場合によっては、タングステ
ン等の金属の塩を触媒として共存させ、0.1〜5当量
の過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシド等の有機
過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素酸カリウム
等の過ヨウ素酸塩類を、−20〜100℃で10分〜1
00時間作用させるなどの方法により、それぞれ一般式
(I)においてXがS(O)R2およびN(O)R3R
4で表わされる化合物を製造できる。
【0025】本発明の化合物から、前記した特願平1−
181710記載のザルコフィトールA合成ルートにお
ける鍵中間体(F)を、末端位メチル基の酸化工程を経
ない、たとえば以下に例示したルートによって製造でき
るので、ザルコフィトールAを工業的により有利に製造
することができる。
181710記載のザルコフィトールA合成ルートにお
ける鍵中間体(F)を、末端位メチル基の酸化工程を経
ない、たとえば以下に例示したルートによって製造でき
るので、ザルコフィトールAを工業的により有利に製造
することができる。
【0026】
【化7】
【0027】すなわち、一般式(I)においてXがS(
O)R2で表わされる化合物から、メタノール、トルエ
ン等の適当な溶媒中、あるいは無溶媒で0.1〜20当
量のトリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト
等の3価のリン化合物を0〜150℃で、10分〜10
0時間作用させるなどの方法により、[2,3]シグマ
トロピック転位と還元が同時に進行(Tetrahed
ron Lett., 1385(1973)参照)、
化合物(M)を製造できる。また、化合物(M)は、一
般式(I)においてXがN(O)R3R4で表わされる
化合物から、これをトルエン、アセトン等適当な溶媒中
、あるいは無溶媒で40〜100℃に、10分〜5時間
加熱することによりアリルオキシアミン、化合物(N)
とした後、たとえば、含水酢酸中で0〜100℃で、3
0分〜50時間金属亜鉛を作用させるなどの方法(Ch
emistry Lett.,2035(1986)参
照)によっても製造できる。
O)R2で表わされる化合物から、メタノール、トルエ
ン等の適当な溶媒中、あるいは無溶媒で0.1〜20当
量のトリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト
等の3価のリン化合物を0〜150℃で、10分〜10
0時間作用させるなどの方法により、[2,3]シグマ
トロピック転位と還元が同時に進行(Tetrahed
ron Lett., 1385(1973)参照)、
化合物(M)を製造できる。また、化合物(M)は、一
般式(I)においてXがN(O)R3R4で表わされる
化合物から、これをトルエン、アセトン等適当な溶媒中
、あるいは無溶媒で40〜100℃に、10分〜5時間
加熱することによりアリルオキシアミン、化合物(N)
とした後、たとえば、含水酢酸中で0〜100℃で、3
0分〜50時間金属亜鉛を作用させるなどの方法(Ch
emistry Lett.,2035(1986)参
照)によっても製造できる。
【0028】さらに、一般式(I)において、XがOC
(O)R1、nが0で表わされる化合物から、メタノー
ル、エタノール等の溶媒中、触媒量〜2当量の金属アル
コキシドを−50〜50℃にて作用させるエステル交換
の方法、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
等の溶媒中0.5〜10当量の水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の水溶液を−50〜50℃にて作用させる
加水分解の方法等により化合物(P)を製造でき、この
化合物から、たとえば下記の特願平2−7614記載の
合成ルートに従って前記した化合物(M)を製造できる
。
(O)R1、nが0で表わされる化合物から、メタノー
ル、エタノール等の溶媒中、触媒量〜2当量の金属アル
コキシドを−50〜50℃にて作用させるエステル交換
の方法、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
等の溶媒中0.5〜10当量の水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の水溶液を−50〜50℃にて作用させる
加水分解の方法等により化合物(P)を製造でき、この
化合物から、たとえば下記の特願平2−7614記載の
合成ルートに従って前記した化合物(M)を製造できる
。
【0029】
【化8】
【0030】すなわち、化合物(P)は、0.1〜50
当量の3,3−ジメトキシ−2−メチル−2−ブタノー
ルを無溶媒あるいはトルエン、キシレン、キノリン等の
溶媒中、0.01〜5当量の2,4−ジニトロフェノー
ル、シュウ酸、o−ニトロ安息香酸等の酸類の存在下、
生成するメタノールを留去しながら100〜250℃で
、5分〜10時間作用させるClaisen転位などに
より、化合物(Q)に変換することができる。
当量の3,3−ジメトキシ−2−メチル−2−ブタノー
ルを無溶媒あるいはトルエン、キシレン、キノリン等の
溶媒中、0.01〜5当量の2,4−ジニトロフェノー
ル、シュウ酸、o−ニトロ安息香酸等の酸類の存在下、
生成するメタノールを留去しながら100〜250℃で
、5分〜10時間作用させるClaisen転位などに
より、化合物(Q)に変換することができる。
【0031】化合物(Q)から、たとえばメタノール、
エタノール等の溶媒中、0.1〜10当量の水素化ホウ
素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム等の還元
剤を−80〜100℃で5分〜5時間作用させる方法な
どにより化合物(R)を製造でき、これをメタノール、
エタノールあるいは含水メタノール、アルコール等の溶
媒中、0.1〜10当量のメタ過ヨウ素酸ナトリウム、
メタ過ヨウ素カリウム等の過ヨウ素酸類で−50〜10
0℃、5分〜5日間処理する方法などにより化合物(S
)とすることができる。化合物(S)は、また化合物(
P)から、直接0.1〜5当量の酢酸水銀等の水銀塩の
存在下、1〜100当量のエチルビニルエーテル等のア
ルキルビニルエーテルを0〜100℃にて作用させ、化
合物(P)のビニルエーテル体に誘導するか、または文
献既知(J.Org.Chem., 48, 5406
(1983))の方法に従って3−アルコキシアクリル
酸に導いた後、触媒量のハイドロキノン等の存在下10
0〜250℃に加熱するなどの方法により製造できる。
エタノール等の溶媒中、0.1〜10当量の水素化ホウ
素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム等の還元
剤を−80〜100℃で5分〜5時間作用させる方法な
どにより化合物(R)を製造でき、これをメタノール、
エタノールあるいは含水メタノール、アルコール等の溶
媒中、0.1〜10当量のメタ過ヨウ素酸ナトリウム、
メタ過ヨウ素カリウム等の過ヨウ素酸類で−50〜10
0℃、5分〜5日間処理する方法などにより化合物(S
)とすることができる。化合物(S)は、また化合物(
P)から、直接0.1〜5当量の酢酸水銀等の水銀塩の
存在下、1〜100当量のエチルビニルエーテル等のア
ルキルビニルエーテルを0〜100℃にて作用させ、化
合物(P)のビニルエーテル体に誘導するか、または文
献既知(J.Org.Chem., 48, 5406
(1983))の方法に従って3−アルコキシアクリル
酸に導いた後、触媒量のハイドロキノン等の存在下10
0〜250℃に加熱するなどの方法により製造できる。
【0032】化合物(S)から、たとえば0.1〜5当
量のカルボメトキシエチリデントリフェニルホスホラン
、カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン等
のWittig試薬あるいは2−(ジエチルホスホノ)
−プロピオン酸エチルエステル、2−(ジメチルホスホ
ノ)−プロピオン酸エチルエステル等のWittig−
Horner試薬から調製したアニオンをジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン
性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン系溶媒あるいはメタノール、エタノール等のアルコー
ル系溶媒中、−80〜100℃にて、5分〜10時間作
用させるなどの方法により化合物(T)を製造できる。
量のカルボメトキシエチリデントリフェニルホスホラン
、カルボエトキシエチリデントリフェニルホスホラン等
のWittig試薬あるいは2−(ジエチルホスホノ)
−プロピオン酸エチルエステル、2−(ジメチルホスホ
ノ)−プロピオン酸エチルエステル等のWittig−
Horner試薬から調製したアニオンをジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン
性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン系溶媒あるいはメタノール、エタノール等のアルコー
ル系溶媒中、−80〜100℃にて、5分〜10時間作
用させるなどの方法により化合物(T)を製造できる。
【0033】化合物(T)に、さらにたとえばジエチル
エーテル、THF等のエーテル系溶媒中、0.1〜10
当量の水素化アルミニウムリチウム等の金属水素錯化合
物を−70〜100℃で作用させるか、あるいはベンゼ
ン、トルエン、n−ヘキサン、n−ペンタン等の炭化水
素系溶媒中、0.1〜10当量の水素化ジブチルアルミ
ニウム等の金属水素化物を、−70〜100℃で5分〜
5時間作用させるなどの方法に付し、化合物(M)(R
=CHO)に変換できる。
エーテル、THF等のエーテル系溶媒中、0.1〜10
当量の水素化アルミニウムリチウム等の金属水素錯化合
物を−70〜100℃で作用させるか、あるいはベンゼ
ン、トルエン、n−ヘキサン、n−ペンタン等の炭化水
素系溶媒中、0.1〜10当量の水素化ジブチルアルミ
ニウム等の金属水素化物を、−70〜100℃で5分〜
5時間作用させるなどの方法に付し、化合物(M)(R
=CHO)に変換できる。
【0034】さて、一般式(I)において、XがOC(
O)R1、nが1で表わされる化合物からは、前記した
一般式(I)においてXがOC(O)R1、nが0で表
わされる化合物より化合物(P)への変換と同様の反応
条件に付すことにより化合物(O)を製造できる。
O)R1、nが1で表わされる化合物からは、前記した
一般式(I)においてXがOC(O)R1、nが0で表
わされる化合物より化合物(P)への変換と同様の反応
条件に付すことにより化合物(O)を製造できる。
【0035】前記の方法で製造できる化合物(M)およ
び化合物(O)は、各々特願平2−7614、特願平2
−170785記載の方法により、前記した鍵中間体、
化合物(F)に変換できる。
び化合物(O)は、各々特願平2−7614、特願平2
−170785記載の方法により、前記した鍵中間体、
化合物(F)に変換できる。
【0036】すなわち、化合物(M)からアリルアルコ
ールをアリル転位することなくハロゲン化する方法、た
とえば当量〜10当量の四ハロゲン化炭素を当量〜10
当量のトリフェニルホスフィンの存在下、アセトニトリ
ル等の不活性溶媒中、あるいはクロル化の場合は四塩化
炭素を溶媒兼用で用い、室温から100℃の温度で1〜
8時間反応させる方法、あるいはジメチルホルムアミド
等の極性非プロトン性溶媒中、当量から10当量のメタ
ンスルホニルクロリドとハロゲン化金属塩、S−コリジ
ンを−40℃から室温で、1〜10時間作用させ、Rが
シアノ基または−C(O)OR5である場合はさらにジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、n−ヘキ
サン、n−ヘプタン等の炭化水素系溶媒中、−100℃
〜50℃で水素化ジブチルアルミニウム等の金属水素化
物、水素化アルミニウムナトリウム等の金属錯化合物を
0.1〜10当量、5分〜5時間作用させるなどの方法
を施し化合物(F)を製造できる。
ールをアリル転位することなくハロゲン化する方法、た
とえば当量〜10当量の四ハロゲン化炭素を当量〜10
当量のトリフェニルホスフィンの存在下、アセトニトリ
ル等の不活性溶媒中、あるいはクロル化の場合は四塩化
炭素を溶媒兼用で用い、室温から100℃の温度で1〜
8時間反応させる方法、あるいはジメチルホルムアミド
等の極性非プロトン性溶媒中、当量から10当量のメタ
ンスルホニルクロリドとハロゲン化金属塩、S−コリジ
ンを−40℃から室温で、1〜10時間作用させ、Rが
シアノ基または−C(O)OR5である場合はさらにジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、n−ヘキ
サン、n−ヘプタン等の炭化水素系溶媒中、−100℃
〜50℃で水素化ジブチルアルミニウム等の金属水素化
物、水素化アルミニウムナトリウム等の金属錯化合物を
0.1〜10当量、5分〜5時間作用させるなどの方法
を施し化合物(F)を製造できる。
【0037】また、化合物(O)からはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピル
エーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、n−
ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素
系溶媒中、0.1〜100当量の塩化チオニル、臭化チ
オニル、三塩化リン、三臭化リン、塩化水素、臭化水素
などのハロゲン化剤を−100℃〜+100℃で5分〜
100時間作用させ、Rがシアノ基または−C(O)O
R5である場合はさらにジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化
水素系溶媒中、−100〜50℃で水素化ジブチルアル
ミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウムナトリ
ウム等の金属錯化合物を0.1〜10当量、5分〜5時
間作用させるなどの方法を施し化合物(F)を製造でき
る。
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピル
エーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、n−
ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素
系溶媒中、0.1〜100当量の塩化チオニル、臭化チ
オニル、三塩化リン、三臭化リン、塩化水素、臭化水素
などのハロゲン化剤を−100℃〜+100℃で5分〜
100時間作用させ、Rがシアノ基または−C(O)O
R5である場合はさらにジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の炭化
水素系溶媒中、−100〜50℃で水素化ジブチルアル
ミニウム等の金属水素化物、水素化アルミニウムナトリ
ウム等の金属錯化合物を0.1〜10当量、5分〜5時
間作用させるなどの方法を施し化合物(F)を製造でき
る。
【0038】化合物(F)から、特願平1−18171
0記載の方法に従ってザルコフィトールAを製造できる
。
0記載の方法に従ってザルコフィトールAを製造できる
。
【0039】すなわち、前記ルート中の化合物(G)で
示される化合物の内、R7がトリメチルシリル基である
化合物は、たとえば、前記の方法で製造した化合物(F
)より塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチルなどの
溶媒中又は無溶媒で、当量から10当量のトリメチルシ
リルニトリルを少量のシアン化金属−18−クラウン−
6−エーテル錯体、テトラアルキルアンモニウムシアナ
イド等の触媒の存在下で、−20〜50℃にて、30分
〜5時間作用させて製造することができ、この化合物を
テトラヒドロフラン、メタノール等の溶媒に溶解後、0
.1〜3規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を0℃〜室温
で、5分〜5時間作用させる方法、又はテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等の溶媒中、−20℃〜室温で、触媒
量から10当量のフッ化テトラブチルアンモニウム等の
テトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法などに
よってR7が水素原子である化合物、シアノヒドリン体
を製造することができる。R7が1−エトキシエチル基
で表わされる化合物は、前記シアノヒドリン体より、エ
チルエーテル、酢酸エチル等の溶媒中、当量〜10当量
のエチルビニルエーテルを触媒量の塩酸、硫酸などの鉱
酸、パラトルエンスルホン酸などの有機強酸あるいはパ
ラトルエンスルホン酸のピリジニウム塩などの強酸の塩
の存在下、−20℃〜室温で、30分〜5時間作用させ
るなどの方法により製造することができる。
示される化合物の内、R7がトリメチルシリル基である
化合物は、たとえば、前記の方法で製造した化合物(F
)より塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチルなどの
溶媒中又は無溶媒で、当量から10当量のトリメチルシ
リルニトリルを少量のシアン化金属−18−クラウン−
6−エーテル錯体、テトラアルキルアンモニウムシアナ
イド等の触媒の存在下で、−20〜50℃にて、30分
〜5時間作用させて製造することができ、この化合物を
テトラヒドロフラン、メタノール等の溶媒に溶解後、0
.1〜3規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を0℃〜室温
で、5分〜5時間作用させる方法、又はテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等の溶媒中、−20℃〜室温で、触媒
量から10当量のフッ化テトラブチルアンモニウム等の
テトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法などに
よってR7が水素原子である化合物、シアノヒドリン体
を製造することができる。R7が1−エトキシエチル基
で表わされる化合物は、前記シアノヒドリン体より、エ
チルエーテル、酢酸エチル等の溶媒中、当量〜10当量
のエチルビニルエーテルを触媒量の塩酸、硫酸などの鉱
酸、パラトルエンスルホン酸などの有機強酸あるいはパ
ラトルエンスルホン酸のピリジニウム塩などの強酸の塩
の存在下、−20℃〜室温で、30分〜5時間作用させ
るなどの方法により製造することができる。
【0040】上記ルート中の化合物(G)の内、R7が
トリメチルシリル基あるいは1−エトキシエチル基で表
わされる化合物より、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素系溶媒又はn−ヘキサン、n−ヘプタン等の
飽和炭化水素系溶媒中、当量から10当量のリチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル
)アミド、水素化ナトリウムなどの塩基を、−70〜1
00℃で、5分〜10時間作用させる方法などにより、
化合物(H)の内、R7がトリメチルシリル基又は1−
エトキシエチル基である化合物を製造することができ、
さらにテトラヒドロフラン、メタノールなどの溶媒中、
0.1〜3規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を0℃〜室
温で、5分〜5時間作用させる方法、又はテトラヒドロ
フラン、ジオキサン等の溶媒中、−20℃〜室温で、触
媒量から10当量のフッ化テトラブチルアンモニウム等
のテトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法など
によって、化合物(H)の内、R7が水素原子である化
合物を製造することができる。
トリメチルシリル基あるいは1−エトキシエチル基で表
わされる化合物より、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素系溶媒又はn−ヘキサン、n−ヘプタン等の
飽和炭化水素系溶媒中、当量から10当量のリチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル
)アミド、水素化ナトリウムなどの塩基を、−70〜1
00℃で、5分〜10時間作用させる方法などにより、
化合物(H)の内、R7がトリメチルシリル基又は1−
エトキシエチル基である化合物を製造することができ、
さらにテトラヒドロフラン、メタノールなどの溶媒中、
0.1〜3規定の塩酸、硫酸等の鉱酸水溶液を0℃〜室
温で、5分〜5時間作用させる方法、又はテトラヒドロ
フラン、ジオキサン等の溶媒中、−20℃〜室温で、触
媒量から10当量のフッ化テトラブチルアンモニウム等
のテトラアルキルアンモニウム類を作用させる方法など
によって、化合物(H)の内、R7が水素原子である化
合物を製造することができる。
【0041】化合物(H)においてR7が水素原子で表
わされる化合物より、そのエチルエーテル、酢酸エチル
等の有機溶媒の溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液を0℃
〜室温で、5分〜5時間作用させるなどの操作によって
、あるいは、化合物(H)においてR6がトリメチルシ
リル基で表わされる化合物より、含水テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の溶媒中、触媒量から10当量のフッ
化テトラブチルアンモニウム等のフッ化アルキルアンモ
ニウム類を作用させる方法などの方法により直接、ケト
ン体、化合物(J)に変換することができ、これよりエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又はn
−ヘキサン、n−ヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒中−
70〜50℃で、水素化ジブチルアルミニウム等の金属
水素化物、水素化アルミニウムリチウム等の金属錯化合
物を当量〜10当量、5分〜5時間作用させる方法など
によりザルコフィトールAを製造することができる。
わされる化合物より、そのエチルエーテル、酢酸エチル
等の有機溶媒の溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液を0℃
〜室温で、5分〜5時間作用させるなどの操作によって
、あるいは、化合物(H)においてR6がトリメチルシ
リル基で表わされる化合物より、含水テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の溶媒中、触媒量から10当量のフッ
化テトラブチルアンモニウム等のフッ化アルキルアンモ
ニウム類を作用させる方法などの方法により直接、ケト
ン体、化合物(J)に変換することができ、これよりエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒
、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒又はn
−ヘキサン、n−ヘプタン等の飽和炭化水素系溶媒中−
70〜50℃で、水素化ジブチルアルミニウム等の金属
水素化物、水素化アルミニウムリチウム等の金属錯化合
物を当量〜10当量、5分〜5時間作用させる方法など
によりザルコフィトールAを製造することができる。
【0042】以上記してきた、本発明の化合物を中間体
とするザルコフィトールA合成ルートはザルコフィトー
ルAの製造のための工業上優れたルートであり、従って
本発明の化合物はその目的のために極めて重要な合成中
間体である。以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例により限定を受けるものではない。
とするザルコフィトールA合成ルートはザルコフィトー
ルAの製造のための工業上優れたルートであり、従って
本発明の化合物はその目的のために極めて重要な合成中
間体である。以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例により限定を受けるものではない。
【0043】合成例1
【化9】
【0044】アルゴン雰囲気下、2−(ジエチルホスホ
ノ)−イソバレロニトリル(6.54g、30mmol
)のトルエン溶液(55ml)に、カリウムビス(トリ
メチルシリル)アミドの0.5Mトルエン溶液56ml
を−70℃浴上かきまぜながら加えた。30分後、かき
まぜを続けながら同温度でゲラニアール(3.80g、
25mmol)を加え、約10時間かけ室温にまで昇温
した。反応混合物に水を加え、分液、有機層を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、乾燥(無
水MgSO4)、濾過、濃縮で得た残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開液n−ヘキサン:酢酸エ
チル100:1)に付し、目的とするニトリル体(4.
87g、90%、2Z:2E=22.4:1)が得られ
た。2Z体のスペクトルデータを以下に示す。
ノ)−イソバレロニトリル(6.54g、30mmol
)のトルエン溶液(55ml)に、カリウムビス(トリ
メチルシリル)アミドの0.5Mトルエン溶液56ml
を−70℃浴上かきまぜながら加えた。30分後、かき
まぜを続けながら同温度でゲラニアール(3.80g、
25mmol)を加え、約10時間かけ室温にまで昇温
した。反応混合物に水を加え、分液、有機層を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、乾燥(無
水MgSO4)、濾過、濃縮で得た残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開液n−ヘキサン:酢酸エ
チル100:1)に付し、目的とするニトリル体(4.
87g、90%、2Z:2E=22.4:1)が得られ
た。2Z体のスペクトルデータを以下に示す。
【0045】IR(film)cm−1;2980,2
940,2890,2220,1640,1450,1
390,1375,1295,1225,1105,1
030.NMR(CDCl3,250MHz)δppm
; 1.17(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH
3)2), 1.61, 1.69(各々bs, 各々
3H,−C=CCH3), 1.83(d,J=1.2
Hz,3H,−C=CCH3), 2.1−2.2(m
,4H,−CH2CH2−),2.53(hep,J=
6.8Hz,1H,CH(CH3)2), 5.08(
m,1H,−C=CHCH2−), 6.28, 6.
82(各々d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−
CH=).
940,2890,2220,1640,1450,1
390,1375,1295,1225,1105,1
030.NMR(CDCl3,250MHz)δppm
; 1.17(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH
3)2), 1.61, 1.69(各々bs, 各々
3H,−C=CCH3), 1.83(d,J=1.2
Hz,3H,−C=CCH3), 2.1−2.2(m
,4H,−CH2CH2−),2.53(hep,J=
6.8Hz,1H,CH(CH3)2), 5.08(
m,1H,−C=CHCH2−), 6.28, 6.
82(各々d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−
CH=).
【0046】合成例2
【化10】
【0047】ニトリル体(2Z体、217mg、1mm
ol)のn−ヘキサン4ml溶液にアルゴン雰囲気下、
−70℃にて水素化ジイソブチルアルミニウムの1Mト
ルエン溶液2mlをかきまぜながら滴下した。同温度で
1時間後、水0.8mlを加え、浴をはずしよくかきま
ぜ、生じた白色固体を濾別、洗浄(n−ヘキサン)し、
濾液を10%シュウ酸水溶液5mlと3時間はげしくか
きまぜた。有機層を分離、水洗、乾燥(無水MgSO4
)、濾過、濃縮した。上記操作はいずれもアルゴン雰囲
気下行なった。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(展開液n−ヘキサン:酢酸エチル50:1)に
付し、目的物(198mg、90%)を得た。
ol)のn−ヘキサン4ml溶液にアルゴン雰囲気下、
−70℃にて水素化ジイソブチルアルミニウムの1Mト
ルエン溶液2mlをかきまぜながら滴下した。同温度で
1時間後、水0.8mlを加え、浴をはずしよくかきま
ぜ、生じた白色固体を濾別、洗浄(n−ヘキサン)し、
濾液を10%シュウ酸水溶液5mlと3時間はげしくか
きまぜた。有機層を分離、水洗、乾燥(無水MgSO4
)、濾過、濃縮した。上記操作はいずれもアルゴン雰囲
気下行なった。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(展開液n−ヘキサン:酢酸エチル50:1)に
付し、目的物(198mg、90%)を得た。
【0048】IR(film)cm−1; 2980,
2940,2880,1670,1630,1455,
1375,1295,1235,1135,1105,
1075.NMR(CDCl3,250MHz)δpp
m; 1.07(d,J=6.8Hz,6H,−CH(
CH3)2), 1.62, 1.69(各々bs,
各々3H,−C=CCH3), 1.89(d,J=1
.0Hz,3H,−C=CCH3), 2.1−2.3
(m,4H,−CH2CH2−), 2.91(hep
,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2), 5
.10(m,1H,=CH−CH2−), 6.83,
7.14(各々d,J=12.0Hz,各々1H,=
CH−CH=), 10.29(s,1H,−CHO)
.
2940,2880,1670,1630,1455,
1375,1295,1235,1135,1105,
1075.NMR(CDCl3,250MHz)δpp
m; 1.07(d,J=6.8Hz,6H,−CH(
CH3)2), 1.62, 1.69(各々bs,
各々3H,−C=CCH3), 1.89(d,J=1
.0Hz,3H,−C=CCH3), 2.1−2.3
(m,4H,−CH2CH2−), 2.91(hep
,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2), 5
.10(m,1H,=CH−CH2−), 6.83,
7.14(各々d,J=12.0Hz,各々1H,=
CH−CH=), 10.29(s,1H,−CHO)
.
【0049】実施例1
【化11】
【0050】共役ジエンニトリル(431mg,1.9
8mmol)の塩化メチレン(2.1ml)溶液に、粉
末無水炭酸ナトリウム873mgを加え、氷水浴上激し
くかきまぜ、これに塩化スルフリル(0.17ml,2
.12mmol)の塩化メチレン(2.1ml)溶液を
20分を要し徐々に滴下した。滴下終了後、同温度でさ
らに30分かきまぜを続けた。塩化メチレンを減圧留去
後、n−ヘキサンを加え、濾過、n−ヘキサンで洗浄し
た。濾液を濃縮し得た粗生成物をSiO2カラムクロマ
トグラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル15
:1)に付し未反応の出発原料(34mg,7.9%)
に続いて目的とする二級アリルクロリド(438mg,
88%)を得た。
8mmol)の塩化メチレン(2.1ml)溶液に、粉
末無水炭酸ナトリウム873mgを加え、氷水浴上激し
くかきまぜ、これに塩化スルフリル(0.17ml,2
.12mmol)の塩化メチレン(2.1ml)溶液を
20分を要し徐々に滴下した。滴下終了後、同温度でさ
らに30分かきまぜを続けた。塩化メチレンを減圧留去
後、n−ヘキサンを加え、濾過、n−ヘキサンで洗浄し
た。濾液を濃縮し得た粗生成物をSiO2カラムクロマ
トグラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル15
:1)に付し未反応の出発原料(34mg,7.9%)
に続いて目的とする二級アリルクロリド(438mg,
88%)を得た。
【0051】IR(film)cm−1; 2970,
2940,2880,2210,1635,1465,
1450,1390,1375,1290,1030,
905,875.1H NMR(250MHz,CDC
l3)δppm; 1.14(d,6H,J=6.8H
z,−CH(CH3)2), 1.78(d,3H,J
=1.0Hz,CH3C=), 1.82(d,3H,
J=1.1Hz,CH3C=), 1.8−2.3(m
,4H,−CH2CH2−), 2.50(hep,1
H,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 4.3
2(t,1H,J=7.0Hz,−CHCl−), 4
.90(m,1H,HaHbC=), 5.01(s,
1H,HaHbC=), 6,26(bd,1H,J=
11.5Hz,=CHaHbC=), 6.78(dd
,1H,J=11.5, 0.7Hz,=CHa−Hb
C=).
2940,2880,2210,1635,1465,
1450,1390,1375,1290,1030,
905,875.1H NMR(250MHz,CDC
l3)δppm; 1.14(d,6H,J=6.8H
z,−CH(CH3)2), 1.78(d,3H,J
=1.0Hz,CH3C=), 1.82(d,3H,
J=1.1Hz,CH3C=), 1.8−2.3(m
,4H,−CH2CH2−), 2.50(hep,1
H,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 4.3
2(t,1H,J=7.0Hz,−CHCl−), 4
.90(m,1H,HaHbC=), 5.01(s,
1H,HaHbC=), 6,26(bd,1H,J=
11.5Hz,=CHaHbC=), 6.78(dd
,1H,J=11.5, 0.7Hz,=CHa−Hb
C=).
【0052】実施例2
【化12】
【0053】アリルクロリド(493mg,1.96m
mol)とテトラブチルアンモニウムアセテート(71
0mg,2.36mmol)のジメチルホルムアミド(
3.0ml)溶液を、アルゴン雰囲気下90℃に6時間
加熱した。反応終了後、反応混合物を氷水に投じジエチ
ルエーテル抽出、有機層の水洗、乾燥(MgSO4)、
濃縮で得た残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーに
て精製すると目的とする二級アセテート体(480mg
,89%)が得られた。
mol)とテトラブチルアンモニウムアセテート(71
0mg,2.36mmol)のジメチルホルムアミド(
3.0ml)溶液を、アルゴン雰囲気下90℃に6時間
加熱した。反応終了後、反応混合物を氷水に投じジエチ
ルエーテル抽出、有機層の水洗、乾燥(MgSO4)、
濃縮で得た残渣をSiO2カラムクロマトグラフィーに
て精製すると目的とする二級アセテート体(480mg
,89%)が得られた。
【0054】IR(film)cm−1; 2980,
2950,2880,2210,1740,1635,
1450,1370,1295,1240,1025,
905.1H−NMR(250MHz,CDCl3)δ
ppm; 1.13(d,6H,J=6.8Hz,−C
H(CH3)2), 1.70(s,3H,=CCH3
), 1.7−1.8(m,2H,−C(OAc)CH
2−), 1.80(d,3H,J=1.0Hz,=C
CH3), 2.04(s,3H,OAc), 2.0
−2.2(m,2H,−C(OAc)CH2CH2−)
, 2.49(hep,1H,J=6.8Hz,−CH
(CH3)2), 4.89(m,1H,=CHaHb
), 4.93(bs,1H,=CHaHb), 5.
10(t,1H,J=6.7Hz,−CH(OAc))
, 6.23(dd,1H,J=11.5, 1.2H
z, =CHa−CHb=),6.78(dd,1H,
J=11.5, 0.6Hz,=CHa−CHb=).
2950,2880,2210,1740,1635,
1450,1370,1295,1240,1025,
905.1H−NMR(250MHz,CDCl3)δ
ppm; 1.13(d,6H,J=6.8Hz,−C
H(CH3)2), 1.70(s,3H,=CCH3
), 1.7−1.8(m,2H,−C(OAc)CH
2−), 1.80(d,3H,J=1.0Hz,=C
CH3), 2.04(s,3H,OAc), 2.0
−2.2(m,2H,−C(OAc)CH2CH2−)
, 2.49(hep,1H,J=6.8Hz,−CH
(CH3)2), 4.89(m,1H,=CHaHb
), 4.93(bs,1H,=CHaHb), 5.
10(t,1H,J=6.7Hz,−CH(OAc))
, 6.23(dd,1H,J=11.5, 1.2H
z, =CHa−CHb=),6.78(dd,1H,
J=11.5, 0.6Hz,=CHa−CHb=).
【0055】参考例1
【化13】
【0056】アセテート(317mg,1.15mmo
l)のエタノール(2.0ml)溶液に氷水浴上かきま
ぜながら2Nの水酸化ナトリウム水溶液0.6mlを加
えた。2時間後、原料の消失を確認し大部分のエタノー
ルを減圧留去した。残渣に水とエーテルを加え、分液し
、有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残渣をSi
O2カラムクロマト精製(展開液,n−ヘキサン:Et
OAc6:1)し、目的物(263mg,98%)を得
た。
l)のエタノール(2.0ml)溶液に氷水浴上かきま
ぜながら2Nの水酸化ナトリウム水溶液0.6mlを加
えた。2時間後、原料の消失を確認し大部分のエタノー
ルを減圧留去した。残渣に水とエーテルを加え、分液し
、有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残渣をSi
O2カラムクロマト精製(展開液,n−ヘキサン:Et
OAc6:1)し、目的物(263mg,98%)を得
た。
【0057】IR(film)cm−1; 3450,
2980,2950,2880,2210,1640,
1450,1390,1295,1030,900. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.9Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.6−1.75(m,2H,=CCH2CH2
−), 1.71(s,3H,=CCH3), 1.8
2(d,J=1.0Hz,3H,=CCH3), 2.
0−2.3(m,2H,=CCH2CH2−), 2.
50(hep,J=6.9Hz,1H,−CH(CH3
)2), 4.03(t,J=6.3Hz,−CHOH
), 4.84, 4.94(各々bs,各々1H,C
=CH2), 6.27(dd,J=1.0,11.5
Hz,=CH−CH=), 6.8(d,J=11.5
Hz,=CH−CH=).
2980,2950,2880,2210,1640,
1450,1390,1295,1030,900. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.9Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.6−1.75(m,2H,=CCH2CH2
−), 1.71(s,3H,=CCH3), 1.8
2(d,J=1.0Hz,3H,=CCH3), 2.
0−2.3(m,2H,=CCH2CH2−), 2.
50(hep,J=6.9Hz,1H,−CH(CH3
)2), 4.03(t,J=6.3Hz,−CHOH
), 4.84, 4.94(各々bs,各々1H,C
=CH2), 6.27(dd,J=1.0,11.5
Hz,=CH−CH=), 6.8(d,J=11.5
Hz,=CH−CH=).
【0058】合成例3
【化14】
【0059】2−(ジエチルホスホノ)−イソバレロニ
トリル(8.72g,40mmol)のトルエン(75
ml)溶液に、アルゴン雰囲気下、−70℃にて撹拌し
ながらカリウムビス(トリメチルシリル)アミドの0.
5Mトルエン溶液75mlを徐々に加え、浴をはずし室
温にて30分間撹拌した。再び、−70℃に冷却して、
撹拌しながらファルネサール(5.88g,26.7m
mol)を加え、室温にまで昇温した。反応混合物に水
を加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濾過後濃縮により得た残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル=
100:1)にて精製し、目的とするニトリル(7.2
3g,96%,2Z:2E=25.6:1)を得た。2
Z体のスペクトルデータを下に示す。
トリル(8.72g,40mmol)のトルエン(75
ml)溶液に、アルゴン雰囲気下、−70℃にて撹拌し
ながらカリウムビス(トリメチルシリル)アミドの0.
5Mトルエン溶液75mlを徐々に加え、浴をはずし室
温にて30分間撹拌した。再び、−70℃に冷却して、
撹拌しながらファルネサール(5.88g,26.7m
mol)を加え、室温にまで昇温した。反応混合物に水
を加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濾過後濃縮により得た残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル=
100:1)にて精製し、目的とするニトリル(7.2
3g,96%,2Z:2E=25.6:1)を得た。2
Z体のスペクトルデータを下に示す。
【0060】IR(film)cm−1; 2980,
2940,2210,1640,1450,1390,
1290,1225,1110,1030. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.58(bs,3H×2,−C=CCH3),
1.65(bs,3H,−C=CCH3), 1.81
(d,J=1.2Hz,3H,−C=CCH3), 1
.9−2.2(m,8H,−CH2CH2−×2),
2.50(hep,J=6.8Hz,1H,−CH(C
H3)2), 5.06(m,1H,=CHCH2−)
, 6.26, 6.80(各々d,J=11.5Hz
,各々1H,=CH−CH=).
2940,2210,1640,1450,1390,
1290,1225,1110,1030. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.58(bs,3H×2,−C=CCH3),
1.65(bs,3H,−C=CCH3), 1.81
(d,J=1.2Hz,3H,−C=CCH3), 1
.9−2.2(m,8H,−CH2CH2−×2),
2.50(hep,J=6.8Hz,1H,−CH(C
H3)2), 5.06(m,1H,=CHCH2−)
, 6.26, 6.80(各々d,J=11.5Hz
,各々1H,=CH−CH=).
【0061】合成例4
【化15】
【0062】ニトリル体(856mg,3.0mmol
)のn−ヘキサン溶液(30ml)に、アルゴン雰囲気
下、−70℃で撹拌しながら水素化ジイソブチルアルミ
ニウムの0.5Mトルエン溶液6mlを加え、1時間後
水3mlを加え浴をはずし、よく撹拌した。得られた白
色固体を濾別後、洗浄して得た濾液を濃縮した。この残
渣をn−ヘキサン(10ml)に溶解し、10%シュウ
酸水溶液(5ml)とを併せて3時間撹拌し、有機層を
抽出分離、水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付
すと目的とするホルミル体(865mg,84%)が得
られた。
)のn−ヘキサン溶液(30ml)に、アルゴン雰囲気
下、−70℃で撹拌しながら水素化ジイソブチルアルミ
ニウムの0.5Mトルエン溶液6mlを加え、1時間後
水3mlを加え浴をはずし、よく撹拌した。得られた白
色固体を濾別後、洗浄して得た濾液を濃縮した。この残
渣をn−ヘキサン(10ml)に溶解し、10%シュウ
酸水溶液(5ml)とを併せて3時間撹拌し、有機層を
抽出分離、水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濾過濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付
すと目的とするホルミル体(865mg,84%)が得
られた。
【0063】IR(film)cm−1; 2980,
2940,2210,1640,1450,1390,
1290,1225,1110,1030. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
07(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.59, 1.61, 1.67(各々bs,
3H×3,−C=CCH3), 1.89(d,J=1
.0Hz,3H,−C=CCH3), 2.0−2.2
(m,8H,−CH2CH2−×2), 2.91(h
ep,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2),
5.10(m,1H,−C=CCH3), 6.81
, 7.16(各々d,J=12.0Hz,各々1H,
=CH−CH=), 10.29(s,1H,−CHO
).
2940,2210,1640,1450,1390,
1290,1225,1110,1030. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
07(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.59, 1.61, 1.67(各々bs,
3H×3,−C=CCH3), 1.89(d,J=1
.0Hz,3H,−C=CCH3), 2.0−2.2
(m,8H,−CH2CH2−×2), 2.91(h
ep,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2),
5.10(m,1H,−C=CCH3), 6.81
, 7.16(各々d,J=12.0Hz,各々1H,
=CH−CH=), 10.29(s,1H,−CHO
).
【0064】実施例3
【化16】
【0065】61%次亜塩素酸カルシウム(2.58g
,11mmol)の飽和硫酸ナトリウム水溶液(7.5
ml)中のサスペンジョンに共役ジエンニトリル(2.
85g,10mmol)の塩化メチレン(66ml)溶
液を加え、激しくかきまぜながらドライアイス(15g
)の小片を少量づつ加えた。不溶部を濾別した後、分液
し有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残渣をSi
O2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−ヘキサン
:酢酸エチル40:1)にて精製し目的とするクロル体
(2.69g,84%)を得た。
,11mmol)の飽和硫酸ナトリウム水溶液(7.5
ml)中のサスペンジョンに共役ジエンニトリル(2.
85g,10mmol)の塩化メチレン(66ml)溶
液を加え、激しくかきまぜながらドライアイス(15g
)の小片を少量づつ加えた。不溶部を濾別した後、分液
し有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残渣をSi
O2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−ヘキサン
:酢酸エチル40:1)にて精製し目的とするクロル体
(2.69g,84%)を得た。
【0066】IR(film)cm−1; 2970,
2930,2880,2205,1635,1450,
1390,1375,1365,1295,1225,
1160,1100,1025,905,875. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.14(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.59, 1.78(s,各々3H,=
CCH3), 1.81(d,3H,J=1.0Hz,
=CCH3), 1.8−2.1(m,4H,−CCl
CH2CH2C=), 2.1(m,4H,=CCH2
CH2C=), 2.50(hep,1H,J=6.8
Hz,−CH(CH3)2), 4.31(t,1H,
J=7.2Hz,−CHCl−), 4.87(m,1
H,HaHbC=), 4.97(bs,1H,HaH
bC=), 5.11(bm,1H,=CHCH2−)
, 6.26(bd,1H,J=11.5Hz,=CH
a−CHb=), 6.80(dd,1H,J=11.
5,0.7Hz,=CHa−CHb=).
2930,2880,2205,1635,1450,
1390,1375,1365,1295,1225,
1160,1100,1025,905,875. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.14(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.59, 1.78(s,各々3H,=
CCH3), 1.81(d,3H,J=1.0Hz,
=CCH3), 1.8−2.1(m,4H,−CCl
CH2CH2C=), 2.1(m,4H,=CCH2
CH2C=), 2.50(hep,1H,J=6.8
Hz,−CH(CH3)2), 4.31(t,1H,
J=7.2Hz,−CHCl−), 4.87(m,1
H,HaHbC=), 4.97(bs,1H,HaH
bC=), 5.11(bm,1H,=CHCH2−)
, 6.26(bd,1H,J=11.5Hz,=CH
a−CHb=), 6.80(dd,1H,J=11.
5,0.7Hz,=CHa−CHb=).
【0067】
実施例4
実施例4
【化17】
【0068】実施例と同様の反応を行ない92%の収率
で、目的とする二級エステル体を得た。
で、目的とする二級エステル体を得た。
【0069】IR(film)cm−1; 2970,
2930,2880,2210,1740,1635,
1430,1370,1240,1050,1025,
910.1H−NMR(250MHz,CDCl3)δ
ppm; 1.14(d,6H,J=6.8Hz,−C
H(CH3)2), 1.58, 1.69(s,各々
3H,=CCH3), 1.6−1.8(m,2H,−
C(OAc)CH2−), 1.80(d,3H,J=
1.0Hz,=CCH3), 1.8−2.0(m,2
H,−C(OAc)CH2CH2−), 2.02(s
,3H,−OAc), 2.1(m,4H,=CCH2
CH2C=), 2.50(hep,1H,−CH(C
H3)2), 4.86(m,1H,=CHaHb),
4.90(bs,1H,=CHaHb), 5.0−
5.2(m,2H,=CHCH2−と−CH(OAc)
−), 6.24(bd,1H,J=11.5Hz,=
CHa−CHb=),6.79(d,1H,J=11.
5Hz,=CHa−CHb=).
2930,2880,2210,1740,1635,
1430,1370,1240,1050,1025,
910.1H−NMR(250MHz,CDCl3)δ
ppm; 1.14(d,6H,J=6.8Hz,−C
H(CH3)2), 1.58, 1.69(s,各々
3H,=CCH3), 1.6−1.8(m,2H,−
C(OAc)CH2−), 1.80(d,3H,J=
1.0Hz,=CCH3), 1.8−2.0(m,2
H,−C(OAc)CH2CH2−), 2.02(s
,3H,−OAc), 2.1(m,4H,=CCH2
CH2C=), 2.50(hep,1H,−CH(C
H3)2), 4.86(m,1H,=CHaHb),
4.90(bs,1H,=CHaHb), 5.0−
5.2(m,2H,=CHCH2−と−CH(OAc)
−), 6.24(bd,1H,J=11.5Hz,=
CHa−CHb=),6.79(d,1H,J=11.
5Hz,=CHa−CHb=).
【0070】実施例5
【化18】
【0071】水素化ナトリウム(60%,30mg,0
.75mmol)をジメチルホルムアミド(0.7ml
)に加え、アルゴン雰囲気下、氷水浴上かきまぜながら
、チオフェノール(98mg,0.89mmol)を加
えた。役30分間かきまぜ均一溶液となった後、二級ア
リルクロリド(240mg,0.75mmol)を加え
よくかきまぜた。20分後、氷水およびエーテルを加え
、分液し、有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残
渣はSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−
ヘキサン:酢酸エチル25:1)にて精製し、目的スル
フィド(261mg,88%)を得た。
.75mmol)をジメチルホルムアミド(0.7ml
)に加え、アルゴン雰囲気下、氷水浴上かきまぜながら
、チオフェノール(98mg,0.89mmol)を加
えた。役30分間かきまぜ均一溶液となった後、二級ア
リルクロリド(240mg,0.75mmol)を加え
よくかきまぜた。20分後、氷水およびエーテルを加え
、分液し、有機層を乾燥(MgSO4)、濃縮した。残
渣はSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−
ヘキサン:酢酸エチル25:1)にて精製し、目的スル
フィド(261mg,88%)を得た。
【0072】IR(film)cm−1; 3080,
2970,2930,2870,2205,1635,
1580,1435,1385,1370,1290,
1220,1090,1070,1025,895. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.17(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.60, 1.77(s,各々3H,=
CCH3), 1.7−1.90(m,2H,−C(S
ph)CH2−), 1.83(d,3H,J=1.1
Hz,=CCH3), 2.06(bt,2H,J=7
.6Hz,−C(Sph)CH2CH2−), 2.5
2(hep,1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)
2), 3.58(dd,1H,J=8.4,6.6H
z,−CH(Sph)−), 4.61(bs,1H,
=CHaHb), 4.73(m,1H,=CHaHb
), 5.11(bm,1H,=CHCH2−), 6
.28(bd,1H,J=11.5Hz,=CHa−C
Hb=),6.81(d,1H,J=11.5Hz,=
CHa−CHb=), 7.2−7.4(m,5H,−
Sph).
2970,2930,2870,2205,1635,
1580,1435,1385,1370,1290,
1220,1090,1070,1025,895. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.17(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.60, 1.77(s,各々3H,=
CCH3), 1.7−1.90(m,2H,−C(S
ph)CH2−), 1.83(d,3H,J=1.1
Hz,=CCH3), 2.06(bt,2H,J=7
.6Hz,−C(Sph)CH2CH2−), 2.5
2(hep,1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)
2), 3.58(dd,1H,J=8.4,6.6H
z,−CH(Sph)−), 4.61(bs,1H,
=CHaHb), 4.73(m,1H,=CHaHb
), 5.11(bm,1H,=CHCH2−), 6
.28(bd,1H,J=11.5Hz,=CHa−C
Hb=),6.81(d,1H,J=11.5Hz,=
CHa−CHb=), 7.2−7.4(m,5H,−
Sph).
【0073】実施例6
【化19】
【0074】スルフィド(255mg,0.65mmo
l)のメタノール(1.5ml)溶液に、メタ過ヨウ素
酸ナトリウム(166mg,0.78mmol)の水溶
液を加え室温で3日間かきまぜた。メタノールを減圧留
去し、残渣にエーテル、水を加え、分液し、有機層を乾
燥(MgSO4)、濃縮した。 粗生成物をSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液
,n−ヘキサン:酢酸エチル7:1)に付し目的物、ス
ルホン体(200mg,74%)を得た。
l)のメタノール(1.5ml)溶液に、メタ過ヨウ素
酸ナトリウム(166mg,0.78mmol)の水溶
液を加え室温で3日間かきまぜた。メタノールを減圧留
去し、残渣にエーテル、水を加え、分液し、有機層を乾
燥(MgSO4)、濃縮した。 粗生成物をSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液
,n−ヘキサン:酢酸エチル7:1)に付し目的物、ス
ルホン体(200mg,74%)を得た。
【0075】IR(film)cm−1; 3070,
2970,2930,2880,2205,1635,
1585,1445,1390,1305,1150,
1085,1025,910. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.17(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.54, 1.79, 1.83(s,
各々3H,=CCH3), 1.8−2.1(m,4H
,−C(Sph)CH2CH2−), 2.15(m,
4H,=CCH2CH2C=), 2.53(hep,
1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 3.
50(dd,1H,J=11.0, 3.0Hz,−C
HS(O)ph), 4.70, 5.06(s,各々
1H,=CH2),5.06(bm,1H,=CHCH
2−), 6.27(bd,1H,J=11.5Hz,
=CHa−CHb=), 6.82(d,1H,J=1
1.5Hz,=CHa−CHb=), 7.5−7.9
(m,5H,−S(O)ph).
2970,2930,2880,2205,1635,
1585,1445,1390,1305,1150,
1085,1025,910. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.17(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH
3)2), 1.54, 1.79, 1.83(s,
各々3H,=CCH3), 1.8−2.1(m,4H
,−C(Sph)CH2CH2−), 2.15(m,
4H,=CCH2CH2C=), 2.53(hep,
1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 3.
50(dd,1H,J=11.0, 3.0Hz,−C
HS(O)ph), 4.70, 5.06(s,各々
1H,=CH2),5.06(bm,1H,=CHCH
2−), 6.27(bd,1H,J=11.5Hz,
=CHa−CHb=), 6.82(d,1H,J=1
1.5Hz,=CHa−CHb=), 7.5−7.9
(m,5H,−S(O)ph).
【0076】実施例7
【化20】
【0077】クロル体(182mg,0.57mmol
)のエタノール(1.5ml)溶液に50%ジメチルア
ミン水溶液0.5mlを加え、室温にて2日間放置した
。過剰のジメチルアミンおよびエタノールを減圧留去し
、エーテルと1N水酸化ナトリウム水溶液を加えた。有
機層を乾燥(MgSO4)、濃縮で得た残渣をSiO2
クロマトグラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチ
ル1:1)にて精製し、目的アミン(130mg,70
%)を得た。
)のエタノール(1.5ml)溶液に50%ジメチルア
ミン水溶液0.5mlを加え、室温にて2日間放置した
。過剰のジメチルアミンおよびエタノールを減圧留去し
、エーテルと1N水酸化ナトリウム水溶液を加えた。有
機層を乾燥(MgSO4)、濃縮で得た残渣をSiO2
クロマトグラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチ
ル1:1)にて精製し、目的アミン(130mg,70
%)を得た。
【0078】IR(film)cm−1; 2970,
2950,2880,2820,2780,2210,
1635,1465,1450,1390,1365,
1150,1100,1045,1025,900. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.6(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH3
)2), 1.58, 1.63(s,各々3H,=C
CH3), 1.6−2.1(m,4H,C(NMe2
)CH2CH2−), 1.80(d,3H,J=1.
0Hz,=CCH3), 2.15(m,4H,=CC
H3), 2.17(s,6H,−NMe2), 3.
36(dd,1H,J=10.5, 4.0Hz,−C
H(NMe2)), 2.50(hep,1H,J=6
.8Hz,−CH(CH3)2), 4.76(bs,
1H,=CHaHb), 4.84(m,1H,=CH
aHb), 5.05(bm,H,=CHCH2−),
6.25(bd,1H,J=11.5Hz,=CHa
−CHb=),6.79(d,1H,J=11.5Hz
,=CHa−CHb=).
2950,2880,2820,2780,2210,
1635,1465,1450,1390,1365,
1150,1100,1045,1025,900. 1H−NMR(250MHz,CDCl3)δppm;
1.6(d,6H,J=6.8Hz,−CH(CH3
)2), 1.58, 1.63(s,各々3H,=C
CH3), 1.6−2.1(m,4H,C(NMe2
)CH2CH2−), 1.80(d,3H,J=1.
0Hz,=CCH3), 2.15(m,4H,=CC
H3), 2.17(s,6H,−NMe2), 3.
36(dd,1H,J=10.5, 4.0Hz,−C
H(NMe2)), 2.50(hep,1H,J=6
.8Hz,−CH(CH3)2), 4.76(bs,
1H,=CHaHb), 4.84(m,1H,=CH
aHb), 5.05(bm,H,=CHCH2−),
6.25(bd,1H,J=11.5Hz,=CHa
−CHb=),6.79(d,1H,J=11.5Hz
,=CHa−CHb=).
【0079】参考例2
【化21】
【0080】アリルアルコール体(470mg,2.0
2mmol)と3,3−ジメトキシ−2−メチル−2−
ブタノール(1.48g,10mmol)の混合物に、
2,4−ジニトロフェノール(28mg,0.15mm
ol)を加え、アルゴン雰囲気下、140℃の油浴上、
5時間加熱した。冷却後、過剰の試薬を減圧留去後、残
渣をSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−
ヘキサン:酢酸エチル6:1)にて精製し、目的とする
α−ヒドロキシケトン体(609mg,95%)を得た
。
2mmol)と3,3−ジメトキシ−2−メチル−2−
ブタノール(1.48g,10mmol)の混合物に、
2,4−ジニトロフェノール(28mg,0.15mm
ol)を加え、アルゴン雰囲気下、140℃の油浴上、
5時間加熱した。冷却後、過剰の試薬を減圧留去後、残
渣をSiO2カラムクロマトグラフィー(展開液,n−
ヘキサン:酢酸エチル6:1)にて精製し、目的とする
α−ヒドロキシケトン体(609mg,95%)を得た
。
【0081】IR(film)cm−1; 3520,
2990,2950,2890,2220,1715,
1640,1470,1450,1370,1165,
1075,1025,965. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.35(s,6H,−C(CH3)2OH),
1.61(s,3H,=CCH3),1.80(d,
J=1.2Hz,=CCH3), 2.1(m,4H,
=CCH2CH2C=), 2.26(bt,J=7.
5Hz,2H,−CH2CH2−O), 2.50(h
ep,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2),
2.63(t,J=7.5Hz,2H,−CH2C=
O), 5.09(bm,1H,=CHCH2−),
6.24(dd,J=0.8, 11.5Hz,1H,
=CH−CH=), 6.79(dd,J=0.7,
11.5Hz,1H,=CH−CH=).
2990,2950,2890,2220,1715,
1640,1470,1450,1370,1165,
1075,1025,965. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.35(s,6H,−C(CH3)2OH),
1.61(s,3H,=CCH3),1.80(d,
J=1.2Hz,=CCH3), 2.1(m,4H,
=CCH2CH2C=), 2.26(bt,J=7.
5Hz,2H,−CH2CH2−O), 2.50(h
ep,J=6.8Hz,1H,−CH(CH3)2),
2.63(t,J=7.5Hz,2H,−CH2C=
O), 5.09(bm,1H,=CHCH2−),
6.24(dd,J=0.8, 11.5Hz,1H,
=CH−CH=), 6.79(dd,J=0.7,
11.5Hz,1H,=CH−CH=).
【0082】
参考例3
参考例3
【化22】
【0083】α−ヒドロキシケトン体(93.3mg,
0.29mmol)のメタノール(4ml)溶液に水素
化ホウ素ナトリウム5.5mgを、氷水浴上かきまぜな
がら加えた。同温度で2時間かきまぜた後、メタノール
を減圧留去し、ジエチルエーテル、水を加え、有機層を
水洗、乾燥、濃縮で得た残渣をSiO2カラムクロマト
グラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル3:1
〜2:1)にて精製し、目的とするα−ジオール体(8
1.7mg,87%)を得た。
0.29mmol)のメタノール(4ml)溶液に水素
化ホウ素ナトリウム5.5mgを、氷水浴上かきまぜな
がら加えた。同温度で2時間かきまぜた後、メタノール
を減圧留去し、ジエチルエーテル、水を加え、有機層を
水洗、乾燥、濃縮で得た残渣をSiO2カラムクロマト
グラフィー(展開液,n−ヘキサン:酢酸エチル3:1
〜2:1)にて精製し、目的とするα−ジオール体(8
1.7mg,87%)を得た。
【0084】IR(film)cm−1; 3450,
2970,2930,2870,2210,1635,
1450,1385,1290,1220,1160,
1075,1015,915. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
12, 1.16(各々s,各々3H,−C(CH3)
2OH), 1.13(d,J=6.8Hz,6H,−
CH(CH3)2), 1.3−1.7(m,2H,=
CCH2CH2CHOH), 1.59(d,J=0.
6Hz,3H,=CCH3), 1.80(d,J=1
.1Hz,3H,=CCH3), 2.0−2.3(m
,6H,=CCH2CH2CHOH,−CCH2CH2
C=), 2.49(hep,J=6.8Hz,1H,
−CH(CH3)2), 3.30(bd,J=10.
3Hz,1H,−CHOH), 5.13(bm,1H
,=CHCH2−), 6.23(dd,J=0.7,
11.5Hz,1H,=CH−CH=), 6.79
(dd,J=0.6, 11.5Hz,1H,=CHa
−CHb=).
2970,2930,2870,2210,1635,
1450,1385,1290,1220,1160,
1075,1015,915. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
12, 1.16(各々s,各々3H,−C(CH3)
2OH), 1.13(d,J=6.8Hz,6H,−
CH(CH3)2), 1.3−1.7(m,2H,=
CCH2CH2CHOH), 1.59(d,J=0.
6Hz,3H,=CCH3), 1.80(d,J=1
.1Hz,3H,=CCH3), 2.0−2.3(m
,6H,=CCH2CH2CHOH,−CCH2CH2
C=), 2.49(hep,J=6.8Hz,1H,
−CH(CH3)2), 3.30(bd,J=10.
3Hz,1H,−CHOH), 5.13(bm,1H
,=CHCH2−), 6.23(dd,J=0.7,
11.5Hz,1H,=CH−CH=), 6.79
(dd,J=0.6, 11.5Hz,1H,=CHa
−CHb=).
【0085】参考例4
【化23】
【0086】α−ジオール体(503mg,1.58m
mol)のメタノール(15ml)溶液に、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム(450mg,2.1mmol)を加え
室温で1日かきまぜた。メタノールを減圧留去し、全体
をジエチルエーテル、水に溶解後、有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)、濃縮して得た残渣をSiO2カラムク
ロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル
10:1)にて精製し、目的とするホルミル体(348
mg,85%)を得た。
mol)のメタノール(15ml)溶液に、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム(450mg,2.1mmol)を加え
室温で1日かきまぜた。メタノールを減圧留去し、全体
をジエチルエーテル、水に溶解後、有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)、濃縮して得た残渣をSiO2カラムク
ロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル
10:1)にて精製し、目的とするホルミル体(348
mg,85%)を得た。
【0087】IR(film)cm−1; 2970,
2930,2720,2200,1725,1630,
1440,1385,1020. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.9Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.60(d,J=0.6Hz,3H,=CCH
3), 1.79(d,J=1.0Hz,3H,=CC
H3), 2.14(m,4H,=CCH2CH2C=
), 2.30(bt,J=7.4Hz,2H,−CH
2CH2CHO), 2.4−2.6(m,3H,−C
H2CHO,−CH(CH3)2), 6.23(d,
J=10.2Hz,1H,=CH−CH=), 6.7
9(dd,J=0.8,10.2Hz,1H,=CH−
CH=), 9.72(t,J=1.8Hz,1H,−
CHO).
2930,2720,2200,1725,1630,
1440,1385,1020. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.9Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.60(d,J=0.6Hz,3H,=CCH
3), 1.79(d,J=1.0Hz,3H,=CC
H3), 2.14(m,4H,=CCH2CH2C=
), 2.30(bt,J=7.4Hz,2H,−CH
2CH2CHO), 2.4−2.6(m,3H,−C
H2CHO,−CH(CH3)2), 6.23(d,
J=10.2Hz,1H,=CH−CH=), 6.7
9(dd,J=0.8,10.2Hz,1H,=CH−
CH=), 9.72(t,J=1.8Hz,1H,−
CHO).
【0088】参考例5
【化24】
【0089】ホルミル体(130mg,0.5mmol
)の塩化メチレン溶液(4ml)に、エトキシカルボニ
ルエチリデントリフェニルホスホラン(217mg,0
.6mmol)を加え、Ar雰囲気下、室温で5時間か
きまぜた。塩化メチレン減圧留去で得る残渣を、SiO
2カラムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:
酢酸エチル5:1)に付し、目的のエステル体168m
g(97%)を得た。
)の塩化メチレン溶液(4ml)に、エトキシカルボニ
ルエチリデントリフェニルホスホラン(217mg,0
.6mmol)を加え、Ar雰囲気下、室温で5時間か
きまぜた。塩化メチレン減圧留去で得る残渣を、SiO
2カラムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:
酢酸エチル5:1)に付し、目的のエステル体168m
g(97%)を得た。
【0090】IR(film)cm−1; 2970,
2930,2880,2210,1710,1640,
1445,1390,1365,1270,1180,
1120,1095,1080,1025. NMR(CDCl3,250MHz)δppm:1.1
4(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2)
,1.26(t,J=7.2Hz,3H,−CH2CH
3),1.60(d,J=0.7Hz,3H,=CCH
3),1.805,1.809(各々s,各々3H,=
CCH3),2.0−2.3(m,8H,−CH2CH
2−),2.50(hep,J=6.8Hz,1H,−
CH(CH3)2),4.16(q,J=7.2Hz,
2H,−CH2CH3),5.1(m,1H,=CHC
H2−),6.26(d,J=11.5Hz,1H,=
CH−CH=),6.71(tq,J=7.3,1.4
Hz,1H,=CHCH2−),6.80(dd,J=
0.7,11.5Hz,1H,=CH−CH=).
2930,2880,2210,1710,1640,
1445,1390,1365,1270,1180,
1120,1095,1080,1025. NMR(CDCl3,250MHz)δppm:1.1
4(d,J=6.8Hz,6H,−CH(CH3)2)
,1.26(t,J=7.2Hz,3H,−CH2CH
3),1.60(d,J=0.7Hz,3H,=CCH
3),1.805,1.809(各々s,各々3H,=
CCH3),2.0−2.3(m,8H,−CH2CH
2−),2.50(hep,J=6.8Hz,1H,−
CH(CH3)2),4.16(q,J=7.2Hz,
2H,−CH2CH3),5.1(m,1H,=CHC
H2−),6.26(d,J=11.5Hz,1H,=
CH−CH=),6.71(tq,J=7.3,1.4
Hz,1H,=CHCH2−),6.80(dd,J=
0.7,11.5Hz,1H,=CH−CH=).
【0
091】参考例6
091】参考例6
【化25】
【0092】シアノエステル体(175mg,0.51
mmol)のトルエン(5ml)溶液に、アルゴン雰囲
気下、−70℃にて1M水素化ジイソブチルアルミニウ
ムトルエン溶液(2.1ml,2.1mmol)を徐々
に滴下した。同温にて2時間かきまぜた後、シュウ酸水
溶液(1M,4.2ml)を加え、再びアルゴン雰囲気
とし、さらにかきまぜながら室温にまで約2時間を要し
昇温した。液体クロマトグラフィーにより加水分解の完
結を確認後、有機層を水洗、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、乾燥、濾過、濃縮で得た残渣をSiO2
カラムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢
酸エチル7:1)にて調製し、目的物ヒドロキシホルミ
ル体(123mg,79%)を得た。
mmol)のトルエン(5ml)溶液に、アルゴン雰囲
気下、−70℃にて1M水素化ジイソブチルアルミニウ
ムトルエン溶液(2.1ml,2.1mmol)を徐々
に滴下した。同温にて2時間かきまぜた後、シュウ酸水
溶液(1M,4.2ml)を加え、再びアルゴン雰囲気
とし、さらにかきまぜながら室温にまで約2時間を要し
昇温した。液体クロマトグラフィーにより加水分解の完
結を確認後、有機層を水洗、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、乾燥、濾過、濃縮で得た残渣をSiO2
カラムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢
酸エチル7:1)にて調製し、目的物ヒドロキシホルミ
ル体(123mg,79%)を得た。
【0093】IR(film)cm−1; 3430,
2960,2920,2870,1670,1630,
1450,1390,1295,1230,1130,
1070,1010.NMR(CDCl3,250MH
z)δppm; 1.04(d,6H,J=6.8Hz
,−CH(CH3)2), 1.59(d,3H,J=
0.6Hz,−CH3−C=), 1.63(bs,3
H,−CH3−C=), 1.86(d,3H,J=1
.2Hz,−CH3−C=), 1.7−2.2(m,
8H,−CH2CH2−), 2.88(hep,1H
,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 3.95
(bs,2H,−CH2OH), 5.09(m,1H
,−CH2CH=), 5.38(bt,1H,J=6
.8Hz,−CH2CH=), 6.80(d,1H,
J=12.0Hz,=CH−CH=), 7.11(d
,1H,J=12.0Hz,=CH−CH=), 10
.25(s,1H,−CHO).
2960,2920,2870,1670,1630,
1450,1390,1295,1230,1130,
1070,1010.NMR(CDCl3,250MH
z)δppm; 1.04(d,6H,J=6.8Hz
,−CH(CH3)2), 1.59(d,3H,J=
0.6Hz,−CH3−C=), 1.63(bs,3
H,−CH3−C=), 1.86(d,3H,J=1
.2Hz,−CH3−C=), 1.7−2.2(m,
8H,−CH2CH2−), 2.88(hep,1H
,J=6.8Hz,−CH(CH3)2), 3.95
(bs,2H,−CH2OH), 5.09(m,1H
,−CH2CH=), 5.38(bt,1H,J=6
.8Hz,−CH2CH=), 6.80(d,1H,
J=12.0Hz,=CH−CH=), 7.11(d
,1H,J=12.0Hz,=CH−CH=), 10
.25(s,1H,−CHO).
【0094】参考例7
【化26】
【0095】乾燥した塩化リチウム(64mg,1.5
mmol)、2,6−ルチジン(0.23ml,2.0
mmol)、およびヒドロキシホルミル体(305mg
,1.0mmol)のジメチルホルムアミド(1.0m
l)溶液を氷水上で冷却し、アルゴン雰囲気下かきまぜ
ながらメタンスルホニルクロリド(160mg,1.4
mmol)を加えた。約8時間後、原料の消失を確認し
、全体を水とエーテルに溶解した。有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)、濃縮して得た残渣をSiO2カラムク
ロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル
15:1)にて精製し、目的とする化合物F(281m
g,87%)を得た。
mmol)、2,6−ルチジン(0.23ml,2.0
mmol)、およびヒドロキシホルミル体(305mg
,1.0mmol)のジメチルホルムアミド(1.0m
l)溶液を氷水上で冷却し、アルゴン雰囲気下かきまぜ
ながらメタンスルホニルクロリド(160mg,1.4
mmol)を加えた。約8時間後、原料の消失を確認し
、全体を水とエーテルに溶解した。有機層を水洗、乾燥
(MgSO4)、濃縮して得た残渣をSiO2カラムク
ロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル
15:1)にて精製し、目的とする化合物F(281m
g,87%)を得た。
【0096】IR(film)cm−1; 2970,
2930,2880,1670,1630,1445,
1390,1295,1265,1135. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
04(d,J=7.0Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.59, 1.70(各々bs,各々3H,−
C=CCH3), 1.87(d,J=1.3Hz,3
H,−C=CCH3), 1.9−2.2(m,8H,
−CH2CH2−), 2.89(hep,J=7.0
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.98(bs
,2H,−CH2Cl),5.09(m,1H,−C=
CHCH2−), 5.47(bt,J=6.5Hz,
1H,−C=CHCH2−), 6.82(d,J=1
2.0Hz,1H,−C=CH−CH=C(CHO)−
), 7.11(d,J=12.0Hz,−C=CH−
CH=C(CHO)−), 10.27(s,1H,−
CHO).
2930,2880,1670,1630,1445,
1390,1295,1265,1135. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
04(d,J=7.0Hz,6H,−CH(CH3)2
), 1.59, 1.70(各々bs,各々3H,−
C=CCH3), 1.87(d,J=1.3Hz,3
H,−C=CCH3), 1.9−2.2(m,8H,
−CH2CH2−), 2.89(hep,J=7.0
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.98(bs
,2H,−CH2Cl),5.09(m,1H,−C=
CHCH2−), 5.47(bt,J=6.5Hz,
1H,−C=CHCH2−), 6.82(d,J=1
2.0Hz,1H,−C=CH−CH=C(CHO)−
), 7.11(d,J=12.0Hz,−C=CH−
CH=C(CHO)−), 10.27(s,1H,−
CHO).
【0097】参考例8
【化27】
【0098】参考例1と同様な反応を行ない、目的アリ
ルアルコール体を97%の収率で得た。
ルアルコール体を97%の収率で得た。
【0099】IR(film)cm−1; 3380,
2990,2950,2895,2220,1635,
1450,1390,1295,1060,1025,
900.NMR(CDCl3,250MHz)δppm
; 1.14(d,J=6.8Hz,6H,−CH(C
H3)2), 1.60(s,3H,=CCH3),
1.6−1.7(m,2H,−CH(OH)CH2−)
, 1.70(s,3H,=CCH3), 1.81(
d,J=1Hz,3H,=CCH3),1.9−2.1
(bm,2H,−CH(OH)CH2CH2−), 2
.15(m,4H,=CCH2CH2C=), 2.5
0(hep,1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)
2),4.01(bm,−CH(OH)−), 4.8
1(m,1H,−C=CHaHb), 4.91(bs
,1H,−C=CHaHb), 5.11(bm,1H
,=CH−(CH2)2−), 6.25(bd,J=
11.5Hz,1H,=CHa−CHb=), 6.8
0(d,J=11.5Hz,1H,−CHa−CHb)
.
2990,2950,2895,2220,1635,
1450,1390,1295,1060,1025,
900.NMR(CDCl3,250MHz)δppm
; 1.14(d,J=6.8Hz,6H,−CH(C
H3)2), 1.60(s,3H,=CCH3),
1.6−1.7(m,2H,−CH(OH)CH2−)
, 1.70(s,3H,=CCH3), 1.81(
d,J=1Hz,3H,=CCH3),1.9−2.1
(bm,2H,−CH(OH)CH2CH2−), 2
.15(m,4H,=CCH2CH2C=), 2.5
0(hep,1H,J=6.8Hz,−CH(CH3)
2),4.01(bm,−CH(OH)−), 4.8
1(m,1H,−C=CHaHb), 4.91(bs
,1H,−C=CHaHb), 5.11(bm,1H
,=CH−(CH2)2−), 6.25(bd,J=
11.5Hz,1H,=CHa−CHb=), 6.8
0(d,J=11.5Hz,1H,−CHa−CHb)
.
【0100】参考例9
【化28】
【0101】アリルアルコール体(117mg,0.3
9mmol)をジエチルエーテル(1.0ml)に溶解
し、氷水浴上かきまぜながら塩化チオニル(0.029
ml,0.40mmol)を加えた。3時間後、溶媒を
減圧留去し、残渣をSiO2カラムクロマトグラフィー
(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル10:1)に付し
目的とするクロル体(112mg,90%)を得た。
9mmol)をジエチルエーテル(1.0ml)に溶解
し、氷水浴上かきまぜながら塩化チオニル(0.029
ml,0.40mmol)を加えた。3時間後、溶媒を
減圧留去し、残渣をSiO2カラムクロマトグラフィー
(展開液、n−ヘキサン:酢酸エチル10:1)に付し
目的とするクロル体(112mg,90%)を得た。
【0102】IR(film)cm−1; 2980,
2940,2880,2215,1635,1445,
1390,1265,1025. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.59, 1.64(各々bs,各々3H,−C
=CCH3), 1.81(d,J=1.0Hz,3H
,−C=CCH3), 1.9−2.2(m,8H,−
CH2CH2−×2),2.50(hep,J=6.8
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.96(bs
,2H,−CH2OH), 5.08(m,1H,−C
HCH2−), 5.36(bt,J=5.5Hz,1
H,=CHCH2−), 6.25, 6.80(各々
d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−CH=).
2940,2880,2215,1635,1445,
1390,1265,1025. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
14(d,J=6.8Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.59, 1.64(各々bs,各々3H,−C
=CCH3), 1.81(d,J=1.0Hz,3H
,−C=CCH3), 1.9−2.2(m,8H,−
CH2CH2−×2),2.50(hep,J=6.8
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.96(bs
,2H,−CH2OH), 5.08(m,1H,−C
HCH2−), 5.36(bt,J=5.5Hz,1
H,=CHCH2−), 6.25, 6.80(各々
d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−CH=).
【0103】参考例10
【化29】
【0104】アルコール体(904mg,3.0mmo
l)の四塩化炭素(2ml)溶液にトリフェニルホスフ
ィン(1.02g,3.9mmol)を加え加熱還流を
1時間行なった。大部分の四塩化炭素を減圧留去後、残
渣にn−ヘキサンを加え、濾過、洗浄後、濾液を濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開液,n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付し目
的とするクロル体(890mg,93%)を得た。
l)の四塩化炭素(2ml)溶液にトリフェニルホスフ
ィン(1.02g,3.9mmol)を加え加熱還流を
1時間行なった。大部分の四塩化炭素を減圧留去後、残
渣にn−ヘキサンを加え、濾過、洗浄後、濾液を濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開液,n−ヘキサン:酢酸エチル=10:1)に付し目
的とするクロル体(890mg,93%)を得た。
【0105】参考例11
【化30】
【0106】スルホキシド(70.3mg,0.17m
mol)とトリメチルホスファイト(43mg,0.3
5mmol)のメタノール(0.5ml)溶液をアルゴ
ン雰囲気下、3日間室温に放置した。メタノールを減圧
留去し、残渣をSiO2カラムクロマトグラフィー(展
開液,n−ヘキサン:酢酸エチル6:1)に付し目的ア
ルコール体(37.1mg,72%)を得た。
mol)とトリメチルホスファイト(43mg,0.3
5mmol)のメタノール(0.5ml)溶液をアルゴ
ン雰囲気下、3日間室温に放置した。メタノールを減圧
留去し、残渣をSiO2カラムクロマトグラフィー(展
開液,n−ヘキサン:酢酸エチル6:1)に付し目的ア
ルコール体(37.1mg,72%)を得た。
【0107】IR(film)cm−1; 3450,
2975,2930,2880,2210,1635,
1445,1385,1220,1020. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
17(d,J=6.7Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.62, 1.67(各々bs,各々3H,−C
=CCH3), 1.84(d,J=1.2Hz,3H
,−C=CCH3), 2.0−2.2(m,8H,−
CH2CH2−×2),2.53(hep,J=6.7
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.99(bs
,2H,−CH2OH), 5.11(m,1H,−C
HCH2−), 5.39(bt,J=5.5Hz,1
H,−CHCH2−), 6.28, 6.83(各々
d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−CH=).
2975,2930,2880,2210,1635,
1445,1385,1220,1020. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
17(d,J=6.7Hz,6H,CH(CH3)2)
, 1.62, 1.67(各々bs,各々3H,−C
=CCH3), 1.84(d,J=1.2Hz,3H
,−C=CCH3), 2.0−2.2(m,8H,−
CH2CH2−×2),2.53(hep,J=6.7
Hz,1H,−CH(CH3)2), 3.99(bs
,2H,−CH2OH), 5.11(m,1H,−C
HCH2−), 5.39(bt,J=5.5Hz,1
H,−CHCH2−), 6.28, 6.83(各々
d,J=11.5Hz,各々1H,=CH−CH=).
【0108】参考例12
【化31】
【0109】ニトリル体(890mg,2.78mmo
l)をn−ヘキサン30mlに溶解し、アルゴン雰囲気
下、水素化ジイソブチルアルミニウムの1Mトルエン溶
液4.2mlを−70℃にて徐々に滴下した。1時間後
、2mlの水を加え、浴をはずし激しく撹拌し、生じた
白色固体を濾過後、n−ヘキサンで洗浄して、得られた
濾液をさらに10%シュウ酸水溶液と共に撹拌した。有
機層を洗浄、乾燥、濾過および濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エ
チル=20:1)に付し化合物(F)(781mg,8
7%)を得た。
l)をn−ヘキサン30mlに溶解し、アルゴン雰囲気
下、水素化ジイソブチルアルミニウムの1Mトルエン溶
液4.2mlを−70℃にて徐々に滴下した。1時間後
、2mlの水を加え、浴をはずし激しく撹拌し、生じた
白色固体を濾過後、n−ヘキサンで洗浄して、得られた
濾液をさらに10%シュウ酸水溶液と共に撹拌した。有
機層を洗浄、乾燥、濾過および濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開液、n−ヘキサン:酢酸エ
チル=20:1)に付し化合物(F)(781mg,8
7%)を得た。
【0110】参考例13
【化32】
【0111】化合物F(640mg,2.0mmol)
をトリメチルシリルニトリル(0.35ml,2.6m
mol)に溶解し、窒素雰囲気下、氷水浴上でかきまぜ
ながら極少量のシアン化カリウム/18−クラウン6−
エーテル錯体を加えた。2時間後、原料の消失を確認し
、過剰のトリメチルシリルニトリルを留去し粗目的物(
647mg,定量的)が得られた。
をトリメチルシリルニトリル(0.35ml,2.6m
mol)に溶解し、窒素雰囲気下、氷水浴上でかきまぜ
ながら極少量のシアン化カリウム/18−クラウン6−
エーテル錯体を加えた。2時間後、原料の消失を確認し
、過剰のトリメチルシリルニトリルを留去し粗目的物(
647mg,定量的)が得られた。
【0112】IR(film)cm−1; 2960,
2930,2880,2320,1445,1255,
1080,875,845. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
11, 1.15(各々d,J=6.9Hz,各々3H
,−CH(CH3)2), 1.60, 1.71,
1.77(各々s,各々3H,−C=CCH3), 1
.9−2.2(m,8H,−CH2CH2−), 2.
64(hep,J=6.9Hz,1H,−CH(CH3
)2), 3.99(s,1H,−CH2Cl), 5
.11(m,1H,−C=CHCH2−), 5.33
(s,1H,−CHCN), 5.48(bt,J=6
.5Hz,1H,−C=CHCH2−), 6.04,
6.25(各々d,J=11.3Hz,各々1H,−
C=CH−CH=C−).
2930,2880,2320,1445,1255,
1080,875,845. NMR(CDCl3,250MHz)δppm; 1.
11, 1.15(各々d,J=6.9Hz,各々3H
,−CH(CH3)2), 1.60, 1.71,
1.77(各々s,各々3H,−C=CCH3), 1
.9−2.2(m,8H,−CH2CH2−), 2.
64(hep,J=6.9Hz,1H,−CH(CH3
)2), 3.99(s,1H,−CH2Cl), 5
.11(m,1H,−C=CHCH2−), 5.33
(s,1H,−CHCN), 5.48(bt,J=6
.5Hz,1H,−C=CHCH2−), 6.04,
6.25(各々d,J=11.3Hz,各々1H,−
C=CH−CH=C−).
【0113】参考例14
【化33】
【0114】アルゴン雰囲気下、リチウムヘキサメチル
ジシラジドのテトラヒドロフラン溶液(20ml,5.
0mmol,0.25M)を55℃の油浴上撹拌し、こ
の溶液に出発物質(378mg,0.895mmol)
のテトラヒドロフラン溶液(15ml)を50分かけて
滴下した。この温度で20分間撹拌した後、反応溶液を
氷(50g)を入れた飽和食塩水(30ml)−ヘキサ
ン(20ml)混合液にあけ、反応を停止した。有機層
を分離後、水層をヘキサン−エーテル(5:1,30m
l)で抽出した抽出液を乾燥(Na2SO4)し、減圧
下溶媒を除去した後得られる残渣をシリカゲルカラムク
ロマトで精製すると目的物(288mg,83%)とケ
トン体(42.9mg,0.11mmol,16%)が
得られた。目的物の物性は以下の通りである。
ジシラジドのテトラヒドロフラン溶液(20ml,5.
0mmol,0.25M)を55℃の油浴上撹拌し、こ
の溶液に出発物質(378mg,0.895mmol)
のテトラヒドロフラン溶液(15ml)を50分かけて
滴下した。この温度で20分間撹拌した後、反応溶液を
氷(50g)を入れた飽和食塩水(30ml)−ヘキサ
ン(20ml)混合液にあけ、反応を停止した。有機層
を分離後、水層をヘキサン−エーテル(5:1,30m
l)で抽出した抽出液を乾燥(Na2SO4)し、減圧
下溶媒を除去した後得られる残渣をシリカゲルカラムク
ロマトで精製すると目的物(288mg,83%)とケ
トン体(42.9mg,0.11mmol,16%)が
得られた。目的物の物性は以下の通りである。
【0115】IR(film)cm−1; 2970,
2920,1440,1385,1253,1125,
1085,940,845,755. PMR(CDCl3,250MHz)δppm; 0.
23(s,9H,−SiMe3), 1.09,1.1
5(各々d,J=6.7Hz,各々3H,−CH(CH
3)2), 1.50, 1.62(各々bs,各々3
H,−C=CCH3), 1.70(d,J=1.3H
z,3H,−C=CCH3), 2.0−2.2(m,
8H,−CH2CH2×2), 2.51(sep,J
=6.7Hz,1H,−CH(CH3)2), 2.5
5, 2.65(各々d,J=14.2Hz,各々1H
,−CHaHbCN−), 4.94(bt,J=6.
1Hz,1H,−C=CHCH2−), 5.15(b
t,J=5.6Hz,1H,−C=CHCH2−),
6.17, 6.44(各々d,J=11.8Hz,各
々1H,−C=CH−CH=C−).
2920,1440,1385,1253,1125,
1085,940,845,755. PMR(CDCl3,250MHz)δppm; 0.
23(s,9H,−SiMe3), 1.09,1.1
5(各々d,J=6.7Hz,各々3H,−CH(CH
3)2), 1.50, 1.62(各々bs,各々3
H,−C=CCH3), 1.70(d,J=1.3H
z,3H,−C=CCH3), 2.0−2.2(m,
8H,−CH2CH2×2), 2.51(sep,J
=6.7Hz,1H,−CH(CH3)2), 2.5
5, 2.65(各々d,J=14.2Hz,各々1H
,−CHaHbCN−), 4.94(bt,J=6.
1Hz,1H,−C=CHCH2−), 5.15(b
t,J=5.6Hz,1H,−C=CHCH2−),
6.17, 6.44(各々d,J=11.8Hz,各
々1H,−C=CH−CH=C−).
【0116】参考
例15
例15
【化34】
【0117】アルゴン雰囲気下、出発物質(288mg
,0.74mmol)のテトラヒドロフラン溶液(10
ml)に水(0.3ml)およびフッ化テトラブチルア
ンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(16μl,0.
016mmol,1.0M)を加えた。反応溶液を室温
で17時間撹拌した後、飽和食塩水(10ml)を加え
、有機物をヘキサン−エーテル(5:1,30ml×2
)で抽出した。抽出液を乾燥(Na2SO4)後、溶媒
を減圧下留去すると目的とする大環状ケトン体(200
mg,94%)が得られた。
,0.74mmol)のテトラヒドロフラン溶液(10
ml)に水(0.3ml)およびフッ化テトラブチルア
ンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(16μl,0.
016mmol,1.0M)を加えた。反応溶液を室温
で17時間撹拌した後、飽和食塩水(10ml)を加え
、有機物をヘキサン−エーテル(5:1,30ml×2
)で抽出した。抽出液を乾燥(Na2SO4)後、溶媒
を減圧下留去すると目的とする大環状ケトン体(200
mg,94%)が得られた。
【0118】参考例16
【化35】
【0119】アルゴン雰囲気下、水素化アルミニウムリ
チウムのジエチルエーテル溶液(2.94ml,2.0
mmol,0.68M)を撹拌し、これに(S)−2−
(2,6−キシリジノメチル)ピロリジン(490mg
,2.4mmol)を室温でゆっくり滴下し、滴下終了
後、反応混合物を室温で2時間撹拌した。反応混合物を
−74℃に冷却し、これに大環状ケトン体(69mg,
0.24mmol)のジエチル溶液(3ml)を10分
間かけて滴下した。−74℃で1時間撹拌後、硫酸ナト
リウム飽和水溶液(1ml)を加え、室温でしばらく撹
拌した。ジエチルエーテル(10ml)および希塩酸(
20ml)を加え、有機層を分離後、水層をジエチルエ
ーテル(20ml)で抽出した。抽出液を飽和食塩水(
20ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
減圧下溶媒を留去し、得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製すると、光学活性ザルコ
フィトールA(61mg,88%)が得られた。
チウムのジエチルエーテル溶液(2.94ml,2.0
mmol,0.68M)を撹拌し、これに(S)−2−
(2,6−キシリジノメチル)ピロリジン(490mg
,2.4mmol)を室温でゆっくり滴下し、滴下終了
後、反応混合物を室温で2時間撹拌した。反応混合物を
−74℃に冷却し、これに大環状ケトン体(69mg,
0.24mmol)のジエチル溶液(3ml)を10分
間かけて滴下した。−74℃で1時間撹拌後、硫酸ナト
リウム飽和水溶液(1ml)を加え、室温でしばらく撹
拌した。ジエチルエーテル(10ml)および希塩酸(
20ml)を加え、有機層を分離後、水層をジエチルエ
ーテル(20ml)で抽出した。抽出液を飽和食塩水(
20ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、
減圧下溶媒を留去し、得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製すると、光学活性ザルコ
フィトールA(61mg,88%)が得られた。
【0120】得られた光学活性ザルコフィトールAの光
学純度はCHIRALCELL OD を用いるHPL
C分析により93%であることが判明した。[α]24
D:+204.4°(C=0.27,CHCl3)
学純度はCHIRALCELL OD を用いるHPL
C分析により93%であることが判明した。[α]24
D:+204.4°(C=0.27,CHCl3)
【0
121】
121】
【発明の効果】本発明の化合物は、抗発癌プロモーター
作用および抗腫瘍作用を有するザルコフィトールAの合
成中間体として、極めて有用である。
作用および抗腫瘍作用を有するザルコフィトールAの合
成中間体として、極めて有用である。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】[式中、Xは塩素原子、−OC(O)R1(R
1は水素原子、C1〜C4のアルキル基又は置換基を有
していても良いフェニル基を表わす)、−SR2、−S
(O)R2(R2はC1〜C4のアルキル基又は置換基
を有していても良いフェニル基を表わす)、−NR3R
4、−N(O)R3R4(R3およびR4はそれぞれ独
立してC1〜C4のアルキル基又は一緒になって環を形
成したアルキル基を表わす)を表わし、Rはシアノ基、
ホルミル基又は−C(O)OR5(R5はC1〜C4の
アルキル基を表わす)を表わし、nは0又は1を表わす
。但し、nが0の時、Xは塩素原子又は−OC(O)R
1を表わす。]で示される鎖状テルペン類。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3018451A JPH04316530A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 鎖状テルペン類 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP3018451A JPH04316530A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 鎖状テルペン類 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH04316530A true JPH04316530A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=11971995
Family Applications (1)
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JP3018451A Pending JPH04316530A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 鎖状テルペン類 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH04316530A (ja) |
-
1991
- 1991-01-17 JP JP3018451A patent/JPH04316530A/ja active Pending
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