JPH04277492A - Ｅｌ素子の製造方法 - Google Patents
Ｅｌ素子の製造方法Info
- Publication number
- JPH04277492A JPH04277492A JP3038567A JP3856791A JPH04277492A JP H04277492 A JPH04277492 A JP H04277492A JP 3038567 A JP3038567 A JP 3038567A JP 3856791 A JP3856791 A JP 3856791A JP H04277492 A JPH04277492 A JP H04277492A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- insulating layer
- back electrode
- reflective insulating
- slurry
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】［発明の目的］
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、分散型のＥＬパネルの
製造方法に係り、さらに詳しくは、背面電極上にチタン
酸バリウムを主体とする反射絶縁層が形成されたＥＬ素
子の製造方法に関する。
製造方法に係り、さらに詳しくは、背面電極上にチタン
酸バリウムを主体とする反射絶縁層が形成されたＥＬ素
子の製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】近時、分散型ＥＬ素子は、軽量・薄型で
形状の自由度に優れたフレキシブルな面発光体として注
目され、液晶のバックライトや乾式複写機の除電用光源
などとして広く利用されている。
形状の自由度に優れたフレキシブルな面発光体として注
目され、液晶のバックライトや乾式複写機の除電用光源
などとして広く利用されている。
【０００４】この分散型のＥＬ素子は、一般に、ＡＬな
どの金属箔からなる背面電極上に、白色の無機誘電体物
質として知られるチタン酸バリウムを主体とする反射絶
縁層、硫化亜鉛などの蛍光体粒子を有機蛍光顔料ととも
に有機誘電体中に分散してなる発光体層、発光体層との
接触面側に透明電極を形成したプラスチックフィルムか
らなる透明導電フィルムを順に積層した構成とされてお
り、背面電極と透明電極間に所要の電圧を印加すること
により発光現象を生起するようになっている。
どの金属箔からなる背面電極上に、白色の無機誘電体物
質として知られるチタン酸バリウムを主体とする反射絶
縁層、硫化亜鉛などの蛍光体粒子を有機蛍光顔料ととも
に有機誘電体中に分散してなる発光体層、発光体層との
接触面側に透明電極を形成したプラスチックフィルムか
らなる透明導電フィルムを順に積層した構成とされてお
り、背面電極と透明電極間に所要の電圧を印加すること
により発光現象を生起するようになっている。
【０００５】しかして、このようなＥＬ素子の製造にあ
たっては、従来、背面電極となる金属箔上に、チタン酸
バリウムをシアノエチルプルラン、シアノエチルポバー
ルなどの誘電率の高い有機高分子に混合してスラリー状
としたものを塗布乾燥して反射絶縁層を形成し、次いで
、この上に同様に蛍光体粒子を有機高分子に混合して得
られたスラリー状混合物を塗布し乾燥させて発光体層を
形成した後、この発光体層上に別に作製しておいた透明
導電フィルムを積層する方法が用いられている。
たっては、従来、背面電極となる金属箔上に、チタン酸
バリウムをシアノエチルプルラン、シアノエチルポバー
ルなどの誘電率の高い有機高分子に混合してスラリー状
としたものを塗布乾燥して反射絶縁層を形成し、次いで
、この上に同様に蛍光体粒子を有機高分子に混合して得
られたスラリー状混合物を塗布し乾燥させて発光体層を
形成した後、この発光体層上に別に作製しておいた透明
導電フィルムを積層する方法が用いられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法では、反射絶縁層の表面が平滑に形成されず、
そのために、この上に形成する発光体層も均一かつ平滑
に形成されず、均一な発光を得ることが難しいという問
題があった。また反射絶縁層の層内部も緻密でないため
、電気的損失を生じやすいという問題もあった。
うな方法では、反射絶縁層の表面が平滑に形成されず、
そのために、この上に形成する発光体層も均一かつ平滑
に形成されず、均一な発光を得ることが難しいという問
題があった。また反射絶縁層の層内部も緻密でないため
、電気的損失を生じやすいという問題もあった。
【０００７】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、背面電極上に、層内部が緻密でかつ
表面が平滑なチタン酸バリウムを主体とする反射絶縁層
を形成することができ、これによって均一な発光が得ら
れ、また電気的損失も少ない高品質のＥＬ素子を製造し
うる方法を提供することを目的とする。
になされたもので、背面電極上に、層内部が緻密でかつ
表面が平滑なチタン酸バリウムを主体とする反射絶縁層
を形成することができ、これによって均一な発光が得ら
れ、また電気的損失も少ない高品質のＥＬ素子を製造し
うる方法を提供することを目的とする。
【０００８】［発明の構成］
【０００９】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、背面
電極上に、チタン酸バリウムにシアノエチル化系のバイ
ンダ−１種以上を配合してなるスラリ−状混合物を塗布
し乾燥させて反射絶縁層を形成し、次いでこの反射絶縁
層上に発光体層を形成してＥＬ素子を製造する方法にお
いて、前記スラリ−状混合物を背面電極上に塗布し乾燥
させた後、その表面を所要の圧力でプレスし、しかる後
その上に発光体層を形成することを特徴とするものであ
る。
電極上に、チタン酸バリウムにシアノエチル化系のバイ
ンダ−１種以上を配合してなるスラリ−状混合物を塗布
し乾燥させて反射絶縁層を形成し、次いでこの反射絶縁
層上に発光体層を形成してＥＬ素子を製造する方法にお
いて、前記スラリ−状混合物を背面電極上に塗布し乾燥
させた後、その表面を所要の圧力でプレスし、しかる後
その上に発光体層を形成することを特徴とするものであ
る。
【００１０】本発明に使用されるシアノエチル化系のバ
インダ−としては、シアノエチルプルラン、シアノエチ
ルポリビニルアルコ−ル、シアノエチルセルロ−スなど
があげられ、これらの中から適宜選択されて単独または
混合して使用される。
インダ−としては、シアノエチルプルラン、シアノエチ
ルポリビニルアルコ−ル、シアノエチルセルロ−スなど
があげられ、これらの中から適宜選択されて単独または
混合して使用される。
【００１１】本発明においては、上記シアノエチル化系
のバインダ− １種以上をチタン酸バリウムに混合する
とともに、アセトンなどを配合して適度な粘度に調製し
たスラリ−状混合物を、背面電極、たとえばアルミなど
の金属箔上に所要量塗布し乾燥させた後、その上から直
接もしくはシリコーン系フィルムのようなプラスチック
フィルムなどを介して、プレスローラなどを用いてプレ
スする。その際のプレス圧は ５〜６０ ｋｇ／ｃｍ２
の範囲が適当である。プレス圧があまり低いと層表面
の平滑度が不十分となり、逆に余り高いと層の厚さが薄
くなって発光輝度の低下を招くおそれがある。このよう
にプレスすることによって、層内部が緻密になり、かつ
表面が平滑に形成される。なお、プレスの際に被せたプ
ラスチックフィルムは、プレス後取り除かれる。
のバインダ− １種以上をチタン酸バリウムに混合する
とともに、アセトンなどを配合して適度な粘度に調製し
たスラリ−状混合物を、背面電極、たとえばアルミなど
の金属箔上に所要量塗布し乾燥させた後、その上から直
接もしくはシリコーン系フィルムのようなプラスチック
フィルムなどを介して、プレスローラなどを用いてプレ
スする。その際のプレス圧は ５〜６０ ｋｇ／ｃｍ２
の範囲が適当である。プレス圧があまり低いと層表面
の平滑度が不十分となり、逆に余り高いと層の厚さが薄
くなって発光輝度の低下を招くおそれがある。このよう
にプレスすることによって、層内部が緻密になり、かつ
表面が平滑に形成される。なお、プレスの際に被せたプ
ラスチックフィルムは、プレス後取り除かれる。
【００１２】
【作用】本発明方法においては、反射絶縁層を構成する
チタン酸バリウムにシアノエチル化系のバインダ−１種
以上を配合してなるスラリ−状混合物を、背面電極上に
塗布し乾燥させた後、その表面を所要の圧力でプレスす
ることにより、層内部が緻密になり電気的損失が少なく
なる。また層表面が平滑に形成される結果、この層上に
形成される発光体層も均一かつ平滑に形成され、均一な
面発光が得られる。
チタン酸バリウムにシアノエチル化系のバインダ−１種
以上を配合してなるスラリ−状混合物を、背面電極上に
塗布し乾燥させた後、その表面を所要の圧力でプレスす
ることにより、層内部が緻密になり電気的損失が少なく
なる。また層表面が平滑に形成される結果、この層上に
形成される発光体層も均一かつ平滑に形成され、均一な
面発光が得られる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明のＥＬ素子の製造方法の実施例
を記載する。
を記載する。
【００１４】まず、チタン酸バリウム粉末１００ｇと、
バインダーとしてシアノエチルプルランとシアノエチル
セルロ−スを重量比で１：１ の割合で混合したもの２
５ｇ とを磁性ポットに入れ、それぞれ１００ｇの１０
ｍｍφと２０ｍｍφのアルミナボ−ルとともに２４時間
ミ−リングした。次いで、このミ−リングしたスラリー
状のバインダ−含有チタン酸バリウムを、アセトンの添
加により適度な粘度に調整して、５０μｍ厚のアルミ箔
表面に塗布し、１００ ℃で３０分間乾燥させてチタン
酸バリウムを主体とする３０〜７０μｍ厚の層を一体に
形成した。この後、その上に１００μｍ厚のシリコ−ン
フィルムを被せ、ロ−ラにより表面を種々の圧力でプレ
スした。
バインダーとしてシアノエチルプルランとシアノエチル
セルロ−スを重量比で１：１ の割合で混合したもの２
５ｇ とを磁性ポットに入れ、それぞれ１００ｇの１０
ｍｍφと２０ｍｍφのアルミナボ−ルとともに２４時間
ミ−リングした。次いで、このミ−リングしたスラリー
状のバインダ−含有チタン酸バリウムを、アセトンの添
加により適度な粘度に調整して、５０μｍ厚のアルミ箔
表面に塗布し、１００ ℃で３０分間乾燥させてチタン
酸バリウムを主体とする３０〜７０μｍ厚の層を一体に
形成した。この後、その上に１００μｍ厚のシリコ−ン
フィルムを被せ、ロ−ラにより表面を種々の圧力でプレ
スした。
【００１５】このようにして形成されたチタン酸バリウ
ムを主体とする反射絶縁層の断面内部を走査型電子顕微
鏡（倍率１０００倍）で調べ、プレスする工程を除いて
同様にして形成した反射絶縁層の断面内部の同顕微鏡像
と比較したところ、プレスしたものはいずれもチタン酸
バリウム粒子が緻密に存在していたのに対し、プレスし
なかったものではチタン酸バリウム粒子間に隙間がある
ことが確認された。
ムを主体とする反射絶縁層の断面内部を走査型電子顕微
鏡（倍率１０００倍）で調べ、プレスする工程を除いて
同様にして形成した反射絶縁層の断面内部の同顕微鏡像
と比較したところ、プレスしたものはいずれもチタン酸
バリウム粒子が緻密に存在していたのに対し、プレスし
なかったものではチタン酸バリウム粒子間に隙間がある
ことが確認された。
【００１６】また、各プレス圧による表面粗さの改善率
（％）を、プレスしなかった場合の表面粗さをＲ０ 、
プレスしたものの表面粗さをＲｎ として次式より算出
した。 表面粗さの改善率＝（Ｒ０ −Ｒｎ ）／ Ｒ０ ×１
００（％）結果は図１に示した通りで、本発明による表
面粗さの改善効果、すなわち表面平滑度の向上が確認さ
れた。
（％）を、プレスしなかった場合の表面粗さをＲ０ 、
プレスしたものの表面粗さをＲｎ として次式より算出
した。 表面粗さの改善率＝（Ｒ０ −Ｒｎ ）／ Ｒ０ ×１
００（％）結果は図１に示した通りで、本発明による表
面粗さの改善効果、すなわち表面平滑度の向上が確認さ
れた。
【００１７】続いて、上記反射絶縁層上に、上記バイン
ダーに硫化亜鉛蛍光体を分散させてアセトンにより粘度
調整した発光性スラリー状混合物を塗布し、８０℃で乾
燥させて、２０〜７０μｍ の発光体層を一体に形成し
、さらにこの上に、一主面上にＩ．Ｔ．Ｏからなる透明
電極が形成された透明プラスチックフィルムを、透明電
極と発光体層を対向させて積層した後、これらを両面か
ら透明な防湿保護フィルム、６ナイロンフィルムで挟み
込み、熱圧着により一体化してＥＬ素子を製造した。
ダーに硫化亜鉛蛍光体を分散させてアセトンにより粘度
調整した発光性スラリー状混合物を塗布し、８０℃で乾
燥させて、２０〜７０μｍ の発光体層を一体に形成し
、さらにこの上に、一主面上にＩ．Ｔ．Ｏからなる透明
電極が形成された透明プラスチックフィルムを、透明電
極と発光体層を対向させて積層した後、これらを両面か
ら透明な防湿保護フィルム、６ナイロンフィルムで挟み
込み、熱圧着により一体化してＥＬ素子を製造した。
【００１８】得られたＥＬ素子の発光特性を調べたとこ
ろ、いずれも面全体の均一かつ安定した発光が確認され
た。
ろ、いずれも面全体の均一かつ安定した発光が確認され
た。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＥＬ素子
の製造方法によれば、層内部が緻密でかつ表面が平滑な
チタン酸バリウムを主体とする反射絶縁層を形成するこ
とができ、したがって発光が均一で、かつ電気的損失も
少ない高品質、高特性のＥＬ素子を製造することができ
る。
の製造方法によれば、層内部が緻密でかつ表面が平滑な
チタン酸バリウムを主体とする反射絶縁層を形成するこ
とができ、したがって発光が均一で、かつ電気的損失も
少ない高品質、高特性のＥＬ素子を製造することができ
る。
【図１】本発明による表面粗さの改善効果を示すグラフ
である。
である。
Claims (1)
- 【請求項１】 背面電極上に、チタン酸バリウムにシ
アノエチル化系のバインダ−１種以上を配合してなるス
ラリ−状混合物を塗布し乾燥させて反射絶縁層を形成し
、次いでこの反射絶縁層上に発光体層を形成してＥＬ素
子を製造する方法において、前記スラリ−状混合物を背
面電極上に塗布し乾燥させた後、その表面を所要の圧力
でプレスし、しかる後その上に発光体層を形成すること
を特徴とするＥＬ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3038567A JPH04277492A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | Ｅｌ素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3038567A JPH04277492A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | Ｅｌ素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04277492A true JPH04277492A (ja) | 1992-10-02 |
Family
ID=12528879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3038567A Pending JPH04277492A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | Ｅｌ素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04277492A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001060126A1 (fr) * | 2000-02-07 | 2001-08-16 | Tdk Corporation | Procede de production d'un substrat composite, substrat composite et dispositif el comprenant ce dernier |
-
1991
- 1991-03-05 JP JP3038567A patent/JPH04277492A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001060126A1 (fr) * | 2000-02-07 | 2001-08-16 | Tdk Corporation | Procede de production d'un substrat composite, substrat composite et dispositif el comprenant ce dernier |
| US6709695B2 (en) | 2000-02-07 | 2004-03-23 | Tdk Corporation | Composite substrate, method of making, and EL device using the same |
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