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JPH04250452A - フレキソ印刷用光重合性印刷プレート - Google Patents

フレキソ印刷用光重合性印刷プレート

Info

Publication number
JPH04250452A
JPH04250452A JP3179242A JP17924291A JPH04250452A JP H04250452 A JPH04250452 A JP H04250452A JP 3179242 A JP3179242 A JP 3179242A JP 17924291 A JP17924291 A JP 17924291A JP H04250452 A JPH04250452 A JP H04250452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymerizable
elastomer layer
layer
acid
printing element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3179242A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2607774B2 (ja
Inventor
Werner Abele
ヴエルナー・アーベレ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH04250452A publication Critical patent/JPH04250452A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2607774B2 publication Critical patent/JP2607774B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、フレキソ印刷プレートに関し
、さらに詳細には、その上に施された光重合性層とエラ
ストマー層からなり、ここで前記エラストマー層が少な
くとも1つの熱可塑性エラストマーブロック共重合体と
少なくとも1つのエポキシド樹脂と不飽和モノカルボン
酸および/またはポリカルボン酸またはそれらの酸無水
物とロジンとの付加物であり、ポリオールにより部分的
にエステル化された付加物との反応生成物を包含する、
光重合性印刷エレメントに関する。
【0002】
【発明の背景】印刷表面が感光層の画像様の露光で生成
され、続いて層の未露光部分を除去することに基づくフ
レキソ印刷プレートの製造に用いる光重合性記録材料の
使用は、この技術分野で良く知られている。この技術分
野では、固体の光重合性材料は画像様の露光が液体系で
行われるものとで区別されている。その上、水性−現像
可能な記録材料および有機溶媒で現像しうる記録材料が
存在する。
【0003】例えば、U.S. 4,238,560は
、支持体、感光層および艶消し(仕上)層からなる水性
−現像可能な印刷プレートを開示している。水溶液によ
る現像では、完全な艶消し層は感光層の非画像部分と同
じように除去される。現行の艶消し材料の他に、艶消し
層は、ウルマンの“Encyclopedia of 
Chemical Technolgy”,4版,Vo
lume 12, 530〜536頁,Verlog 
Chemie発行, 1976に記載されているように
ペイントおよび印刷インクにおける高度の顔料相溶性の
故に用いられるロジンまたはロジンエステルを含有して
いる。
【0004】溶媒−現像可能材料に比べて、水性−現像
可能な印刷プレートの特定な欠点は、アルコールおよび
水性印刷インクに対する低い耐性であり、これにより印
刷表面を膨潤させ、不良印刷の原因となる。
【0005】固体の溶媒−現像可能な記録材料の例は、
DE−C32215090(U.S. 4,323,6
36; 4,323,637; 4,369,246;
 4,423,135)、U.S. 4,266,00
5、 U.S. 4,320,188およびU.S.4
,430,417に開示されている。通常、このような
光重合性印刷プレートは、支持体、場合により接着剤ま
たは他の下地層、少なくとも1つの重合性バインダーを
含有する光重合性層、少なくとも1つの化学作用放射線
で付加−重合が可能であるエチレン系不飽和単量体、お
よび光重合開始剤または光開始剤系、そして現像溶媒に
可溶な柔軟な重合体フィルムおよび離脱が可能なカバー
シートから構成されている。
【0006】このような多重層の光重合性印刷プレート
を調製する好ましい方法は、前もって押出成型した光重
合性組成物をカレンダー機のニップに供給し、支持体と
カバーエレメントの間でカレンダーがけし、従ってそれ
らの間に光重合性層を形成させる方法である。
【0007】EP−B10,084,851(U.S.
 4,427,759および4,460,675)は、
多重層、カバーエレメントの柔軟な重合体フィルムと光
重合性層の間に、エラストマー層を有する光重合性印刷
エレメントの調製を開示している。このエラストマー層
は、エラストマーバインダーおよび随意の成分として、
第2のバインダー、色素、1つまたはそれ以上の単量体
、および光重合開始剤を含有している。
【0008】然しながら、上述した溶媒−現像可能な材
料から調製されたフレキソ印刷プレートが、その中に一
様でない印刷特性をしばしば示す種々の欠点を有してい
ることは特に注目に値する。従って、アルコール性およ
び水性のフレキソ印刷インクを用いると印刷において不
適なインク転写がインク乗りの不足に通ずるがために満
足な印刷成績が得られないのである。5%ドットの転写
は、特にこのような印刷インクの使用で不完全になる傾
向がある。
【0009】従って本発明は、上に述べた印刷上の問題
点を除去し、改良されたインク転写を有するフレキソ印
刷プレートを調製するために固体の光重合性印刷エレメ
ントを利用できるようにすることを目的とする。さらに
、通常の有機溶媒を用いる洗い落とし現像を実行できる
ようにすべきである。同時に、光重合性印刷プレートの
他に特性に悪い影響を与えるべきではない。例えば、感
光性の低下は避けられるべきである。その上、フレキソ
印刷プレートは、膨潤が好ましくないドットの成長およ
び従って、欠陥のある印刷を引き起こすので、印刷イン
クによって膨潤してはならない。
【0010】驚くべきことに、上述の目的は、支持体(
a)、少なくとも1つのエラストマーバインダーを含有
する光重合性層(b)、少なくとも1つの化学作用放射
線で付加重合可能なエチレン系不飽和単量体、および光
開始剤または光開始剤系、少なくとも1つの熱可塑性の
エラストマーブロック共重合体を含有するエラストマー
層(c)、およびカバーシート(d)よりなる光重合性
印刷エレメントを使用することによって達成されるので
ある。
【0011】
【発明の要約】本発明は、 (a)  支持体; (b)  少なくとも1つのエラストマーバインダー、
少なくとも1つの化学作用放射線によって付加重合可能
なエチレン系不飽和単量体、および光開始剤または光開
始剤系を含有する光重合性層: (c)  少なくとも1つの熱可塑性、エラストマーブ
ロック共重合体を含有するエラストマー層;並びに(d
)  カバーシートよりなり、ここでエラストマー層(
c)が、さらに少なくとも1つのエポキシド樹脂と不飽
和モノカルボン酸および/またはポリカルボン酸または
それらの酸無水物のロジンとの付加物であって、ポリオ
ールにより部分的にエステル化された付加物との反応生
成物よりなるものである、光重合性印刷エレメントに関
する。
【0012】本発明のもう1つの態様は、光重合性印刷
エレメントの調製方法に関する。
【0013】本発明のさらに別の態様は、光重合性印刷
エレメントのエラストマー層(c)のためのコーティン
グ溶液の調製方法に関する。
【0014】また、本発明は、フレキソ印刷プレートの
調製方法に関する。
【0015】
【発明の詳述】また、本発明のエラストマー層(c)は
、少なくとも1つのエポキシド樹脂と不飽和モノカルボ
ン酸および/またはポリカルボン酸またはそれらの酸無
水物とロジンとの付加物であって、ポリオールにより部
分的にエステル化された付加物との反応生成物を含有し
ている。
【0016】驚くべきことにそして思いがけないことに
、本発明に必須である相対的に極性の化合物は、熱可塑
性のエラストマー層(c)のエラストマーブロック共重
合体と満足する程度に相溶性がある。この技術分野の当
業者は、これらの重合体が互いに相溶しがたいかまたは
相溶性が少なくとも限られたものであろうと予想し、そ
れ故光重合性印刷プレートの種々の層を一緒にカレンダ
ーがけする時、本発明の化合物はエラストマー層から滲
出してしまうであろうと考えたであろう。さらにまた、
当業者は印刷エレメント層また印刷プレートが本発明の
化合物と他の成分との相溶しがたい性質のために、互い
に離脱すると予想したであろう。ところがこれらの予測
とは反対に、本発明の光重合性エレメントとそれから調
製された印刷プレートは高度の安定性と均一性を示した
のである。
【0017】さらに、本発明で必須である化合物が、例
示した水性−現像可能な材料中における構造的に類似し
た化合物の上記に引用した用途におけるように溶液中で
光重合性印刷プレートの他の成分とは全く異なる挙動を
するにもかかわらず有機溶媒を用いる慣用的な現像が、
特定の添加物を使用しないで可能である。驚くべきこと
に、当業者が水性−現像可能な印刷プレートを用いる経
験から期待したような、本発明に必須の化合物は洗い落
ちることもなく、そして本発明により調製された印刷プ
レートはフレキソ印刷インクで膨潤することもないので
ある。
【0018】これとは対照的に、フレキソ印刷に用いる
溶媒−現像可能な印刷プレートの印刷性能は、本発明の
エラストマー層(c)の添加によってかなり改良された
のである。
【0019】本発明の光重合性印刷エレメントのエラス
トマー層(c)は、エポキシド樹脂/ロジン反応生成物
の重量で、5〜30重量%、好ましくは15〜25重量
%を含有している。もし5重量%より少なく使用される
と、印刷特性における著しい改良はみとめられない。も
し30重量%より多く使用されると、フレキソ印刷プレ
ートのアルコールおよび水性のフレキソ印刷インクへの
耐性はあまりに低くなりすぎて、印刷表面の膨潤を生じ
、結果としてドット成長をもたらす。例えば、ロジンと
の付加物を形成する不飽和モノカルボン酸またはポリカ
ルボン酸は、アクリル酸、メタクリル酸、フマール酸、
マレイン酸またはそれらの酸無水物を包含している。ア
クリル酸およびマレイン酸が好ましい。付加物をエステ
ル化させるのに必要なポリオールは、飽和アルコールが
好ましく、ペンタエリスリトールとグリセリンが特に好
ましい。本発明の化合物を調製する最終反応段階のため
に必要なエポキシド樹脂は、固体または液体であること
ができる。これらのエポキシド当量重量(epoxid
e equivalent weight)は、100
〜1000gの間にあるべきであり、150〜400g
の間にあるのが好ましい。
【0020】不飽和の部分的にエステル化されたロジン
付加物対エポキシド樹脂の比は、2:1〜1:2である
べきであり、好ましくは1.5:1〜1:1.5であり
、そして1:1がさらに好ましい。エポキシド樹脂とロ
ジンはエラストマー層のコーティング溶液に個別的に加
えたり、製造工程の間に一緒に反応させることができ、
またはプレ−反応混合物としてのコーティング溶液に加
えることができる。
【0021】エラストマー層(c)は、EP−B100
84851に開示されているように少なくとも1つの熱
可塑性のエラストマーブロック共重合体の重量でバイン
ダーとして、50〜95重量%を含有している。ブロッ
ク共重合体の平均分子量は、80,000以上であるべ
きであり、100,000以上が好ましい。ポリスチレ
ンの末端ブロックの重量で、10〜30重量%、好まし
くは10〜25重量%を有するブロック共重合体が好ま
しい。ポリスチレンブロックとポリブタジエンまたはポ
リイソプレンブロックを有する2−ブロックおよび3−
ブロック共重合体は特に好ましい。ポリスチレン含有量
の重量で10〜30重量%を有するラジアル(ポリスチ
レン/ポリブタジエン)4をバインダーとして第一に使
用することができる。
【0022】また、エラストマー層(c)は、他の重合
体、好ましくは熱可塑性重合体の重量で0〜40重量%
を含有することができる。例としては、メチルメタクリ
レート/アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン、ス
チレン/メチルメタクリレート、アクリロニトリル/ブ
タジエン/スチレン、ブタジエン、イソプレン、クロロ
プレン、スチレン/ブタジエン、スチレン/イソプレン
またはそれらの混合物の重合体および共重合体を挙げる
ことができる。特に好適なのは、ASTM D 100
3による濁度で20%に等しいかまたは20%より少な
い、好ましくは12%に等しいかまたは12%より少な
い濁度を有し、ASTM D 785により測定したロ
ックウエル硬度で50に等しいかまたは50より大きい
、好ましくは80より大きい硬度を有する熱可塑性の重
合体である。
【0023】例えば、EP−B10084851(U.
S. 4,227,759および4,600,675)
に開示されているような色素、充填剤、開始剤、可塑剤
、溶媒等は追加的な慣用の添加剤として使用することが
できる。
【0024】エラストマー層(c)は、0.01〜0.
5mmの厚さであるべきであり、0.025〜0.12
mmの厚さが好ましい。
【0025】層は、溶媒、例えばトルエン、メチルエチ
ルケトン、アセトン、メチレンクロリド、パークロルエ
チレン等からのコーティングによって、または押出しコ
ーティングによってカバーシート(d)、例えばポリエ
チレンテレフタレートシート上に直接に、またはカバー
シート(d)上に位置している柔軟な重合体シート(e
)上にコーティングすることができる。コーティング特
性における著しい改良は、エラストマー層(c)に用い
るコーティング溶液を調製するための適当な溶媒中に熱
可塑性の重合体を他の成分と一緒に溶解しないという条
件で達成することができる。例えば、コーティング特性
における改良は、(i)熱可塑性重合体を溶媒中に、あ
らかじめ別々に溶解させること、(ii)重合体溶媒溶
液を予備濾過すること、そして(iii)この溶液を残
りのコーティング成分の溶液に添加することによって達
成することができる。重合体シート(e)は、0.00
25mm〜0.04mmの厚さであり、光重合性層(b
)のための現像用溶媒に可溶であり、そこから剥ぎとる
ことができる。このシートは、ポリアミド、エチレン/
酢酸ビニル共重合体、または同様な重合体からなってい
る。
【0026】本発明に必須の化合物は、層(c)を調製
するためのコーティング溶液または押出成型混合物に直
接に加えることができる。また、本発明の化合物のため
の出発化合物の適切な量を含有するエラストマー混合物
をコーティングするか押出成型し、このような層を熱処
理して、この層中に直接調製することもできる。
【0027】本発明の印刷エレメントの光重合性層(b
)は、少なくとも1つのエラストマーバインダーを含有
する。好適なバインダーは、DE−C32215090
(U.S. 4,323,639; 4,323,63
7; 4,369,246および4,423,135)
、U.S. 4,320,188およびU.S. 4,
162,919に記載したブロック共重合体を包含する
。好ましいブロック共重合体は、二つの熱可塑性ブロッ
ク、例えばポリスチレンの間にエラストマーブロック、
例えばポリブタジエンまたはポリイソプレンを有するA
−B−Aタイプである。ポリスチレン末端ブロックを有
する線状およびラジアルブロック共重合体、例えばポリ
スチレン/ポリイソプレン/ポリスチレン、(ポリスチ
レン/ポリブタジエン)4Siまたは(ポリスチレン/
ポリイソプレン)4Siのようなブロック共重合体が特
に好ましい。ブロック共重合体の平均分子量は、80,
000と300,000の間にあるべきであり、100
,000と250,000の間にあるのが好ましい。ポ
リスチレンの割合は、重量で10〜40重量%であるべ
きであり、15〜30重量%であることが好ましい。
【0028】また、光重合性層(b)は、少なくとも1
つの化学作用放射線による付加−重合可能なエチレン系
不飽和モノマーを含有している。1つのエチレン系不飽
和基を有する単量体ならびにいくつかのエチレン系不飽
和基を有する単量体などを本発明を実施するのに使用す
ることができる。単量体は単独または互いに共同で使用
することができる。モノ不飽和アクリレートおよび/ま
たはメタクリレートおよびポリ不飽和アクリレートおよ
び/またはメタクリレートの単量体混合物が好ましい。 このような単量体混合物はDE−C13744243(
U.S. 通し番号,07/274,464)に記載さ
れている。
【0029】本発明を実施するのに好適な単量体として
、オクチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イ
ソデシルメタクリレート、2−ヘキシルオキシエチルア
クリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジメタクリレートおよびトリメチロール
プロパントリアクリレートを挙げることができる。
【0030】さらに、光重合性層(b)は光開始剤また
は光開始剤系、例えばα−メチルベンゾイン、ベンゾフ
ェノン、ベンジルジメチルケタールまたはエチルアント
ラキノン/4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
ェノンを含有する。さらに、光重合性層(b)は、EP
−B10084851(U.S. 4,427,759
および4,460,675)に開示されているように、
他の添加物、例えば充填剤、色素、抗酸化剤および可塑
剤を含有することができる。可塑剤は、ポリスチレンま
たはポリブタジエンに基づいて重量で0〜30重量%で
あり、平均分子量が1,000と10,000の間にあ
るのが好ましい。
【0031】光重合性層(b)は、一般に65〜95重
量%のバインダー、5〜30重量%の単量体または単量
体混合物および0.5〜5重量%の開始剤を含有する。
【0032】光重合性層は、支持体(a)上に載ってい
る。好適な支持体には、例えばアルミニウム、合成樹脂
シートがある。ポリエステルシート、場合により接着剤
層および/またはハレーション防止層でコートしたシー
トが好ましい。ポリエチレンテレフタレートシートが特
に好ましい。
【0033】本発明の光重合性エレメントは、EP−B
10084851(U.S. 4,427,759およ
び4,460,675)に記載された方法で調製される
のが好ましい。この方法において、前もって押出成型し
た光重合性組成物はカレンダーのニップに供給され、支
持体とカバーエレメントの間でカレンダーにかけれるも
のであり、このカバーエレメントは、カバーシート(d
)、随意の柔軟なシートおよび本発明のエラストマー層
(c)からなるものである。光重合性層は支持体により
一つの面上に結合し、カバーエレメントのエラストマー
層(c)によりもう一つの面上に結合するようになって
いる。
【0034】上に論じたようにして調製された光重合性
印刷エレメントは冷却され、場合により支持体を通して
化学作用放射線で前露光される。通常、カバーシートは
除去され、画像−保持したトランスパレンシーが光重合
性印刷エレメント上に置かれた。ついでエレメントは化
学作用放射線でトランスパレンシーを通して露光される
。随意の柔軟な重合体シート(e)、光重合性層(b)
の未露光部分およびエラストマー層(c)の未露光部分
は現像剤溶媒、例えば塩素化炭化水素による洗い落しで
除去される。このような現像剤の例として、場合により
アルコール、例えばn−ブタノールと混和しうる1,1
,1−トリクロロエタン、または飽和または芳香族炭化
水素がある。ドイツ特許出願P 3,828,551(
U.S. 通し番号07/604,986)に開示され
た溶媒が好ましい。例えば、ドレンチング、浸漬、噴霧
、ローラー塗りは、全て現像剤を適用するのに許容しう
る方法である。層の非架橋部分の除去は、ブラシで容易
に行うことができる。 現像に引続いて、生成した印刷プレートは40〜75℃
で乾燥され、ついで後露光され、そして/または例えば
ハロゲンを含まない溶液で処理されて非粘着性の表面を
生成する。後露光と処理の工程は、いずれの順序でも行
うことができる。
【0035】次の実施例は、本発明の実施を説明するの
に役立つものである。
【0036】
【実施例】次の実施例において与えられたパーセントと
部は、他に断わらない限り、重量に関するものである。
【0037】〔比較実施例1〕   ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレンブロ
ック共重合体(15%ポリスチレン)、ブルックフィー
ルド粘度1600mPa.s(25%トルエン中)  
                         
                         
      67.4%  メチルメタクリレート/ア
クリロニトリル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー
  46/9/14/31             
                   31.3% 
 酸性ブルー(C.I. 13390)       
                    1.3%

0038】多重層カバーシートは、次の方法で調製され
る:色素とテトラポリマーは、116℃で一緒に練り合
わせ、ついで押出成型し、粒状化された。この混合物と
エラストマー層(c)の残りの成分をメチレンクロリド
中の15%溶液に加工処理した。得られたコーティング
溶液をEP−B10084851(U.S. 4,42
7,759および4,460,675)の実施例1に記
載されているようにポリエチレンテレフタレート支持体
の上にポリアミドコーティングをしたその上に押出しス
リットコーターで0.38mmのスリット巾を用いて施
した。ついでコーティングされた支持体は乾燥され、シ
リコン−コートのポリエチレンテレフタレート保護層を
有する支持体が提供されたのである。 乾燥層の厚さは0.051mmであった。
【0039】フレキソ印刷エレメントは、次のように調
製された:次の光重合性混合物は、EP−B10084
851の実施例1におけるように、ポリエチレンテレフ
タレート保護層が除去された後、2軸スクリュー押出し
機で押出成型され、ポリエチレンテレフタレート支持体
と上述のカバーエレメントのエラストマー層(c)との
間でカレンダーにかけられた:                          
                         
          部    2,2−ジメトキシ−
2−フェニルアセトフェノン          1.
4  ヘキサメチレングリコールジアクリレート   
               5.3  ヘキサメチ
レングリコールジメタクリレート          
      3.7  2,6−ジ−第3ブチル−p−
クレゾール                  0.
166  ハイドロキノン             
                         
    0.001  レッドダイ(C.I. 109
)                        
     0.003  ヒドロキシエチルメタクリレ
ート                       
   0.13  ポリスチレン/ポリイソプレン/ポ
リスチレンブロック共重合体(15%ポリスチレン分子
量150,000)                
           82.3  α−メチルスチレ
ン/ビニルトルエンレジン             
   6  微結晶性ハイドロカーボンワックス   
                     1
【00
40】冷却、支持体を介しての全体的の背面側の露光、
およびポリエチレンテレフタレートカバー層の除去後、
画像を保持しているトランスパレンシーはポリイミド層
上に配置され、印刷プレートは化学作用放射線で6分間
トランスパレンシーを通して露光された。光重合性印刷
プレートを、テトラクロロエチレン/n−ブタノール混
合物(75/25容積パーセント)を用いる洗い落しで
現像させ、かくしてポリイミド層、光重合性層(b)お
よびエラストマー層(c)の未露光部分を除去した。つ
いでEP−B10084851の実施例1におけるよう
に、フレキソ印刷プレートは乾燥され、次亜塩素酸塩水
溶液で処理され、後露光された。
【0041】〔実施例2〕 エラストマー層(c)の組成   ポリスチレン/ポリイソプレン/ポリスチレンブロ
ック共重合体(15%ポリスチレン)、ブルックフィー
ルド粘度1600mPa.s(25%トルエン中)  
                         
                         
      53.2%  メチルメタクリレート/ア
クリロニトリル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー
  46/9/14/31             
                   24.7% 
 酸性ブルー(C.I. 13390)       
                    1.1% 
 アクリル酸で修飾ロジンされグリセリンで部分エステ
ル化されたロジン(酸価220〜250,粘度 約17
mPa.s 20℃,50%エタノール中)     
                         
                         
   10.5%  ビスフェノールA/エピクロロヒ
ドリンエポキシドレジン(エポキシド当量 182〜1
94g,粘度9〜14Pa.s 25℃,ASTM D
 445による)                 
                         
                10.5%
【004
2】メチレンクロリド中の17%溶液(上記)を、室温
で24時間撹拌し、ついで処実施例1におけるようにエ
ラストマー層中で  理した。印刷プレートを、実施例
1に記載したように調製し、処理した。感光性、露光寛
容度および現像性能は実施例1の印刷プレートに対応し
ていた。
【0043】〔実施例3〕 エラストマー層(c)の組成   ラジアル(ポリスチレン/ポリブタジエン)4Si
ブロック共重合体(20%ポリスチレン)、粘度 19
mm2/s(5.23%トルエン中)        
51.2%  メチルメタクリレート/アクリロニトリ
ル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー  46/9
/14/31、濁度 10%(ASTM 1003)、
ロックウエル硬度 103(ASTM785)    
                         
  25.6%  ジデシルフタレート中に分散した銅
フタロシアニン(C.I. 74160)      
                         
                         
      1%  アクリル酸で修飾されグリセリン
で部分エステル化されたロジン(酸価 220〜250
,粘度 約17mPa.s 20℃,50%エタノール
中)   11.8%  ビスフェノールA/エピクロ
ロヒドリンエポキシドレジン(エポキシド当量 182
〜194g,粘度 9〜14Pa.s 25℃,AST
M D 445による)              
                         
                     10.4
【0044】テトラポリマーをトルエン/メチルエチ
ルケトン(4:1)に溶解させ、溶液を濾過した。17
%溶液をこの溶液および残りの成分から調製した。エラ
ストマー層の調製および全ての他の処理工程は実施例1
に記載されているように行った。感光性、露光寛容度お
よび現像性能は、実施例1の印刷プレートに対応してい
た。印刷プレートは、オゾンに対して著しく改良された
安定性を示した。
【0045】〔実施例4〕 エラストマー層(c)の組成   ラジアル(ポリスチレン/ポリブタジエン)4Si
ブロック共重合体(20%ポリスチレン)、粘度 19
mm2/s(5.23%トルエン中)        
  45%  メチルメタクリレート/アクリロニトリ
ル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー  46/9
/14/31、濁度10%(ASTM 1003)、ロ
ックウエル硬度 103(ASTM785)     
                         
   22%  ジデシルフタレート中に分散した銅フ
タロシアニン(C.I. 74160)       
                         
                         
       1%  アクリル酸で修飾されグリセリ
ンで部分エステル化されたロジン(酸価 220〜25
0,粘度 約17mPa.s 20℃,50%エタノー
ル中)     13%  ビスフェノールA/エピク
ロロヒドリンエポキシドレジン(エポキシド当量 18
2〜194g,粘度 9〜14Pa.s 25℃,AS
TM D 445による)             
                         
                        1
9%
【0046】コーティング溶液とエラストマー層の
調製および全ての他の処理工程は実施例3におけるよう
に行った。感光性、露光寛容度および現像性能は実施例
1の印刷プレートに対応していた。印刷プレートは、オ
ゾンに対して著しく改良された安定性を示した。
【0047】〔実施例5〕 エラストマー層(c)の組成   ラジアル(ポリスチレン/ポリブタジエン)4Si
ブロック共重合体(20%ポリスチレン)、粘度 19
mm2/s(5.23%トルエン中)        
  50%  メチルメタクリレート/アクリロニトリ
ル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー  46/9
/14/31、濁度10%(ASTM 1003)、ロ
ックウエル硬度 103(ASTM785)     
                         
   25%  ジデシルフタレート中に分散した銅フ
タロシアニン(C.I. 74160)       
                         
                         
       1%  アクリル酸で修飾されグリセリ
ンで部分エステル化されたロジン(酸価 220〜25
0,粘度 約17mPa.s 20℃,50%エタノー
ル中)     14%  ビスフェノールA/エピク
ロロヒドリンエポキシドレジン(エポキシド当量 18
2〜194g,粘度 9〜14Pa.s 25℃,AS
TM D 445による)             
                         
                        1
0%
【0048】ロジンとエポキシド樹脂の混合物を1
75℃で2時間撹拌しながら加熱させ、トルエンに可溶
な均一の組成物を生成した。この溶液と残りの成分を、
トルエン/メチルエチルケトン(4:1)の17%溶液
中で処理した。エラストマー層の調製および全ての他の
処理工程は、実施例3におけるように行った。感光性、
露光寛容度および現像性能は、実施例1の印刷プレート
に対応していた。印刷プレートは、オゾンに対して著し
く改良された安定性を示した。
【0049】〔実施例6〕 エラストマー層(c)の組成   ラジアル(ポリスチレン/ポリブタジエン)4Si
ブロック共重合体(20%ポリスチレン)、粘度 19
mm2/s(5.23%トルエン中)        
  53%  メチルメタクリレート/アクリロニトリ
ル/ブタジエン/スチレンテトラポリマー  46/9
/14/31、濁度10%(ASTM 1003)、ロ
ックウエル硬度 103(ASTM785)     
                         
   27%  ジデシルフタレート中に分散した銅フ
タロシアニン(C.I. 74160)       
                         
                         
       1%  アクリル酸で修飾されグリセリ
ンで部分エステル化されたロジン(酸価 220〜25
0,粘度 約17mPa.s 20℃,50%エタノー
ル中)     10%  ビスフェノールA/エピク
ロロヒドリンエポキシドレジン(エポキシド当量 18
2〜194g,粘度 9〜14Pa.s 25℃,AS
TM D 445による)             
                         
                         
 9%
【0050】コーティング溶液とエラストマー層
の調製および全ての他の処理工程は実施例3におけるよ
うに行った。感光性、露光寛容度および現像性能は実施
例1の印刷プレートに対応していた。印刷プレートは、
オゾンに対して著しく改良された安定性を示した。
【0051】〔印刷試験〕印刷試験は、フレキソ印刷機
を用い、80m/分の印刷速度で170線/cmと5g
/m2を有するスクリーンローラーでアルコール性フレ
キソ印刷インク(CYAN,粘度 29mPa・秒/D
IN 53211)を用い白色に着色したポリエチレン
シート上で行われた。
【0052】本発明の光重合性エレメントから調製され
た印刷プレートは、より高い完全段調濃度、および比較
の材料より優れた線と固体領域の再現性を示した。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  (a)  支持体; (b)  少なくとも1つのエラストマーバインダー、
    少なくとも1つの化学作用放射線によって付加重合性の
    エチレン系不飽和単量体、および光開始剤または光開始
    剤系を含有する光重合性層; (c)  少なくとも1つの熱可塑性のエラストマーブ
    ロック共重合体を含有するエラストマー層;並びに(d
    )  カバーシートよりなり、ここでエラストマー層(
    c)が、さらに少なくとも1つのエポキシド樹脂と不飽
    和モノカルボン酸および/またはポリカルボン酸または
    それらの酸無水物のロジンとの付加物であってポリオー
    ルにより部分的にエステル化された付加物との反応生成
    物よりなるものである、光重合性印刷エレメント。
  2. 【請求項2】  エラストマー層(c)がエポキシド樹
    脂と、不飽和モノカルボン酸および/またはポリカルボ
    ン酸またはそれらの酸無水物とロジンとの付加物であっ
    て、ポリオールにより部分的にエステル化された付加物
    との反応生成物の5〜30重量%を含有している請求項
    1記載の光重合性印刷エレメント。
  3. 【請求項3】  エラストマー層(c)がエポキシド樹
    脂と、アクリル酸および/またはメタクリル酸および/
    またはフマール酸および/またはマレイン酸またはそれ
    らの酸無水物とロジンとの付加物であり、ペンタエリス
    リトールおよび/またはグリセリンによりエステル化さ
    れた付加物との反応生成物の少なくとも1つを含有する
    請求項1または2記載の光重合性印刷エレメント。
  4. 【請求項4】  エラストマー層(c)のポリスチレン
    の含有量が15〜30重量%である熱可塑性のエラスト
    マーブロック共重合体の50〜95重量%を含有する請
    求項1記載の光重合性印刷エレメント。
  5. 【請求項5】  エラストマー層(c)のポリスチレン
    の含有量が15〜30重量%である少なくとも1つのラ
    ジアル(ポリスチレン/ポリブタジエン)4Siブロッ
    ク共重合体を含有する請求項1記載の光重合性印刷エレ
    メント。
  6. 【請求項6】  エラストマー層(c)が20%より少
    ない濁度と50より大きいロックウエル硬度を有する熱
    可塑性重合体の0〜40重量%を含有する請求項1記載
    の光重合性印刷エレメント。
  7. 【請求項7】  柔軟な重合体シート(e)がエラスト
    マー層(c)とカバーシート(d)の間に挿入される請
    求項1記載の光重合性印刷エレメント。
  8. 【請求項8】  (a)  重合体を溶媒に溶解し;(
    b)  重合体/溶媒の溶液を濾過し;そして(c) 
     (b)の重合体溶液に残りの成分を添加することから
    なる請求項6のエラストマー層(c)のためのコーティ
    ング液の製法。
  9. 【請求項9】  (a)  カレンダーのニップ中に少
    なくとも1つのエラストマーバインダー、化学作用放射
    線によって付加重合性の少なくとも1つのエチレン系不
    飽和単量体、および光開始剤または光開始剤系を含有す
    る光重合性組成物を供給し; (b)  支持体(a)と多重層カバーエレメントとの
    間の光重合性組成物をカレンダーがけし、それによりそ
    れらの間に光重合性層(b)を形成させることから成り
    、前記多重層カバーエレメントは、エラストマー層(c
    )とカバーシート(d)からなるものとし、ここでエラ
    ストマー層(c)は、さらに少なくとも1つの熱可塑性
    エラストマーブロック共重合体と、少なくとも1つのエ
    ポキシド樹脂と不飽和モノカルボン酸および/またはポ
    リカルボン酸またはそれらの酸無水物とロジンとの付加
    物であってポリオールにより部分的にエステル化された
    付加物との反応生成物からなるものである光重合性印刷
    エレメントの調製方法。
  10. 【請求項10】  (a)  請求項1記載の光重合性
    印刷エレメントに化学作用放射線を画像様に露光させ、
    ここで前記露光が (i)  カバーシート(d)を通してか、または(i
    i)  カバーシート(d)の除去後、エラストマー層
    (c)を通してか、または (iii)  カバーシート(d)の除去後、たわみ性
    の重合体シート(e)を通して、行われるものであり、
    ただし、前記シートがエラストマー層(c)とカバーシ
    ート(e)の間の光重合性印刷プレート上に存在するも
    のとし;そして (b)  もし存在するとすれば、柔軟なポリマーシー
    ト(e)を除去し、そして光重合性層(b)とエラスト
    マー層(c)の未露光部分を現像剤溶媒を用いる洗い落
    としで除去することからなるフレキソ印刷プレートの調
    製方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030129501A1 (en) * 2002-01-04 2003-07-10 Mischa Megens Fabricating artificial crystalline structures
US7704675B2 (en) 2006-11-09 2010-04-27 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor and stack thereof
DE102009044771A1 (de) 2009-12-04 2011-06-09 Bühler, Hans-Joachim, Dr. Verfahren zum werkstoffähnlichen Recycling von Elastomer enthaltenden Abfällen aus der Flexodruckplattenverarbeitung

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58125042A (ja) * 1982-01-21 1983-07-25 イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− 光重合体印刷プレ−トの製法
JPS61149945A (ja) * 1984-12-18 1986-07-08 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー 光重合体フレキソ印刷エレメントの製造方法
JPH0239048A (ja) * 1988-07-29 1990-02-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1099435A (en) * 1971-04-01 1981-04-14 Gwendyline Y. Y. T. Chen Photosensitive block copolymer composition and elements
US4323636A (en) * 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
US4162919A (en) * 1974-11-29 1979-07-31 Basf Aktiengesellschaft Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers
JPS5532086A (en) * 1978-08-30 1980-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive printing plate
JPS607261B2 (ja) * 1978-10-02 1985-02-23 旭化成株式会社 感光性エラストマ−組成物
DE2942183A1 (de) * 1979-10-18 1981-05-07 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
US4343637A (en) * 1980-08-15 1982-08-10 Owens-Corning Fiberglas Corporation Method and apparatus for monitoring the diameter of fibers
US4423135A (en) * 1981-01-28 1983-12-27 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Preparation of photosensitive block copolymer elements
DE3137416A1 (de) * 1981-09-19 1983-03-31 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
US4460675A (en) * 1982-01-21 1984-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58125042A (ja) * 1982-01-21 1983-07-25 イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− 光重合体印刷プレ−トの製法
JPS61149945A (ja) * 1984-12-18 1986-07-08 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー 光重合体フレキソ印刷エレメントの製造方法
JPH0239048A (ja) * 1988-07-29 1990-02-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物

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DE4022979C1 (ja) 1991-08-08
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DE59108462D1 (de) 1997-02-20
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EP0469307A1 (de) 1992-02-05

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