JPH04234894A - 1−ハロゲン−1−オキソホスホレンの製造方法 - Google Patents
1−ハロゲン−1−オキソホスホレンの製造方法Info
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- JPH04234894A JPH04234894A JP3108351A JP10835191A JPH04234894A JP H04234894 A JPH04234894 A JP H04234894A JP 3108351 A JP3108351 A JP 3108351A JP 10835191 A JP10835191 A JP 10835191A JP H04234894 A JPH04234894 A JP H04234894A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6568—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/65681—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being part of a (thio)phosphinic acid or ester thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルコキシジハロゲンホ
スファンと1,3−ジエンの連続反応による1−ハロゲ
ン−1−オキソホスホレンの製造方法に関する。
スファンと1,3−ジエンの連続反応による1−ハロゲ
ン−1−オキソホスホレンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】下記一般式
【0003】
【化4】
【0004】上式中、R2、R3、R4及びR5は相互
に独立に、水素、塩素、臭素、又は随意塩素又は臭素で
置換された(C1−C4)−アルキル基を示し、及びX
は塩素又は臭素を示す、に対応する1−ハロゲン−1−
オキソホスホレンは、例えばハロゲンを含まない合成樹
脂系中の難燃性化合物として、カルボイミド化触媒とし
て又は殺黴剤として使用される物質の重要な原料物質で
ある。
に独立に、水素、塩素、臭素、又は随意塩素又は臭素で
置換された(C1−C4)−アルキル基を示し、及びX
は塩素又は臭素を示す、に対応する1−ハロゲン−1−
オキソホスホレンは、例えばハロゲンを含まない合成樹
脂系中の難燃性化合物として、カルボイミド化触媒とし
て又は殺黴剤として使用される物質の重要な原料物質で
ある。
【0005】1−ハロゲン−1−オキソホスホレンに対
する需要が増大するにつれて、これらの化合物を工業的
な量で製造することが必要となってきた。しかし従来の
合成方法は各種の欠点を有しているから、従来大量の生
産は不可能であるか又は極めて不利な条件下でのみ生産
されてきた。
する需要が増大するにつれて、これらの化合物を工業的
な量で製造することが必要となってきた。しかし従来の
合成方法は各種の欠点を有しているから、従来大量の生
産は不可能であるか又は極めて不利な条件下でのみ生産
されてきた。
【0006】例えばDE−PS1,191,204はト
リハロゲン化燐を1,3−ジエンに直接添加してトリハ
ロゲンホスホレンを製造し、次いで水、アルコール、ケ
トン、オルトカルボニル化合物等のような酸素−供与物
質との反応によって1−ハロゲン−1−オキソホスホレ
ンに転化する方法を記載している。しかしこの方法は数
日間に亙る反応時間、多数の工程を必要とし、及び収率
が少ないために極めて不満足なものである。
リハロゲン化燐を1,3−ジエンに直接添加してトリハ
ロゲンホスホレンを製造し、次いで水、アルコール、ケ
トン、オルトカルボニル化合物等のような酸素−供与物
質との反応によって1−ハロゲン−1−オキソホスホレ
ンに転化する方法を記載している。しかしこの方法は数
日間に亙る反応時間、多数の工程を必要とし、及び収率
が少ないために極めて不満足なものである。
【0007】別な方法は出発物質として亜燐酸モノエス
テル二塩化物を用い、オートクレーブ中で1,3−ジエ
ンに添加し、次いで1−ハロゲン−1−オキソホスホレ
ンとアルキルハロゲン化物又はアルキレン二ハロゲン化
物に開裂させる[B.A.アルブソフ(Arbusov
)、A.O.ヴィゼル(Vizel)、Y.Y.サミト
フ(Samitov)及びY.F.タレンコ(Tare
nko)、Izv. Akad. Nauk、SSSR
、Ser.Khim (1967)(3)、648;N
.A.ラズノヴァ( Razumova)、L.J.ズ
ブツォヴァ(Zubtsova)及びA.A.ペトロフ
(Petrov)、Zh.Obsh. Khim.
40(12)、2554、(1969)]。反応時間は
トリハロゲン化燐を添加することにより或限度内で減少
することができる[N.N.ブリズニウク(Blizn
yuk)、Z.N.クヴァシャ(Kvasha)及びA
.F.コロミエツ(Kolomiets)、Zh. O
bschch. Khim. 37、1811(196
7)]が、その場合でも経済的に許容し得る短時間の反
応は得られていない。
テル二塩化物を用い、オートクレーブ中で1,3−ジエ
ンに添加し、次いで1−ハロゲン−1−オキソホスホレ
ンとアルキルハロゲン化物又はアルキレン二ハロゲン化
物に開裂させる[B.A.アルブソフ(Arbusov
)、A.O.ヴィゼル(Vizel)、Y.Y.サミト
フ(Samitov)及びY.F.タレンコ(Tare
nko)、Izv. Akad. Nauk、SSSR
、Ser.Khim (1967)(3)、648;N
.A.ラズノヴァ( Razumova)、L.J.ズ
ブツォヴァ(Zubtsova)及びA.A.ペトロフ
(Petrov)、Zh.Obsh. Khim.
40(12)、2554、(1969)]。反応時間は
トリハロゲン化燐を添加することにより或限度内で減少
することができる[N.N.ブリズニウク(Blizn
yuk)、Z.N.クヴァシャ(Kvasha)及びA
.F.コロミエツ(Kolomiets)、Zh. O
bschch. Khim. 37、1811(196
7)]が、その場合でも経済的に許容し得る短時間の反
応は得られていない。
【0008】従って長い反応時間、低い収率及びジエン
成分の重合のような、上記の既知の方法の欠点を伴わず
に取り扱いが簡単である、大量の1−ハロゲン−1−オ
キソホスホレンを経済的に製造できる方法を提供する課
題が生じている。
成分の重合のような、上記の既知の方法の欠点を伴わず
に取り扱いが簡単である、大量の1−ハロゲン−1−オ
キソホスホレンを経済的に製造できる方法を提供する課
題が生じている。
【0009】この課題は本発明による方法によって解決
される。
される。
【0010】
【好適な具体化の説明】本発明は溶剤としてトリハロゲ
ン化燐を使用し、加圧下に及び高温において単一工程で
連続的に行われる、亜燐酸モノアルキルエステルジハロ
ゲン化物と1,3−ジエンとの反応による1−ハロゲン
−1−オキソホスホレンの製造方法に関する。
ン化燐を使用し、加圧下に及び高温において単一工程で
連続的に行われる、亜燐酸モノアルキルエステルジハロ
ゲン化物と1,3−ジエンとの反応による1−ハロゲン
−1−オキソホスホレンの製造方法に関する。
【0011】本反応は下記式:
【0012】
【化5】
【0013】上式中、R2、R3、R4及びR5は相互
に独立に、ハロゲン又は随意塩素及び/又は臭素で置換
されている、(C1−C4)−アルキル、好適には(C
1−C2)−アルキルを示し、及びR1は随意塩素及び
/又は臭素で置換されている、(C1−C10)−アル
キル基、好適には(C1−C5)−アルキル基であり、
そしてXは塩素又は臭素を表す、により例示される。
に独立に、ハロゲン又は随意塩素及び/又は臭素で置換
されている、(C1−C4)−アルキル、好適には(C
1−C2)−アルキルを示し、及びR1は随意塩素及び
/又は臭素で置換されている、(C1−C10)−アル
キル基、好適には(C1−C5)−アルキル基であり、
そしてXは塩素又は臭素を表す、により例示される。
【0014】特に過剰なトリハロゲン化燐中のトリハロ
ゲン化燐、亜燐酸トリアルキル及び1,3−ジエン又は
トリハロゲン化燐、1,2−エポキシド及び1,3−ジ
エンの連続反応は好適である。この反応においては、ト
リハロゲン化燐と亜燐酸トリアルキル又はエポキシドと
の反応から形成された中間生成物(アルコキシジハロゲ
ンホスファン)は単離する必要がない。
ゲン化燐、亜燐酸トリアルキル及び1,3−ジエン又は
トリハロゲン化燐、1,2−エポキシド及び1,3−ジ
エンの連続反応は好適である。この反応においては、ト
リハロゲン化燐と亜燐酸トリアルキル又はエポキシドと
の反応から形成された中間生成物(アルコキシジハロゲ
ンホスファン)は単離する必要がない。
【0015】好適にはトリハロゲン化燐は75ないし1
25%過剰に使用される。
25%過剰に使用される。
【0016】中間生成物(アルコキシジハロゲンホスフ
ァン)は下記反応式:
ァン)は下記反応式:
【0017】
【化6】
【0018】上式中、Xは塩素、又は臭素を示し、R1
は随意塩素及び/又は臭素で置換された(C1−C10
)−アルキル基、好適には(C1−C5)−アルキル基
を示し、及びR6、R7、R8及びR9は相互に独立に
、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は臭素で置
換された(C1−C4)−アルキル、好適には(C1−
C2)−アルキルを示し、又はそれらは(C5−C7)
−シクロアルキル又はフェニルを示す、に従って形成さ
れる。
は随意塩素及び/又は臭素で置換された(C1−C10
)−アルキル基、好適には(C1−C5)−アルキル基
を示し、及びR6、R7、R8及びR9は相互に独立に
、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は臭素で置
換された(C1−C4)−アルキル、好適には(C1−
C2)−アルキルを示し、又はそれらは(C5−C7)
−シクロアルキル又はフェニルを示す、に従って形成さ
れる。
【0019】大部分の異性体的に純粋な1−ハロゲン−
1−オキソホスホレンは室温では通常取り扱いの困難な
結晶状である。しかし本発明による合成条件下では、こ
れらの化合物は多くの場合液状である、1−ハロゲン−
1−オキソホスホレン−3及び1−ハロゲン−1−オキ
ソホスホレン−2の異性体の混合物として得られること
が常である。
1−オキソホスホレンは室温では通常取り扱いの困難な
結晶状である。しかし本発明による合成条件下では、こ
れらの化合物は多くの場合液状である、1−ハロゲン−
1−オキソホスホレン−3及び1−ハロゲン−1−オキ
ソホスホレン−2の異性体の混合物として得られること
が常である。
【0020】本発明の方法で使用されるトリハロゲン化
燐は三塩化燐又は三臭化燐であることができる。
燐は三塩化燐又は三臭化燐であることができる。
【0021】本発明により使用されるアルキルジハロゲ
ンホスファンは下記一般式
ンホスファンは下記一般式
【0022】
【化7】R1OPX2
上式中、R1により示される基は随意塩素及び/又は臭
素で置換された(C1−C10)−アルキル基、好適に
は(C1−C5)−アルキル基であり、及びXは塩素又
は臭素を表す、に対応する化合物である。これらの化合
物は既知の方法、例えば生じる塩化水素を真空中で除去
しながら、トリハロゲン化燐及びアルコールから製造す
ることができる。それらの製造のための他の既知の方法
はフーベン−ヴァイル(Houben− Weyl)
、有機化学の方法(Methoden der Org
anischen Chemie)、12/2巻、12
頁以降及び補遺E1巻、352頁以降に記載されている
。
素で置換された(C1−C10)−アルキル基、好適に
は(C1−C5)−アルキル基であり、及びXは塩素又
は臭素を表す、に対応する化合物である。これらの化合
物は既知の方法、例えば生じる塩化水素を真空中で除去
しながら、トリハロゲン化燐及びアルコールから製造す
ることができる。それらの製造のための他の既知の方法
はフーベン−ヴァイル(Houben− Weyl)
、有機化学の方法(Methoden der Org
anischen Chemie)、12/2巻、12
頁以降及び補遺E1巻、352頁以降に記載されている
。
【0023】下記一般式
【0024】
【化8】P(OR1)3
上式中、R1は上記と同じ意味を有する、は本発明の方
法の特定の具体化に使用される亜燐酸トリアルキルの例
であり、例えば亜燐酸トリメチル、亜燐酸トリエチル、
亜燐酸トリプロピル、亜燐酸トリブチル、亜燐酸トリペ
ンチル、亜燐酸トリス−(2−エチル−ヘキシル)、及
び亜燐酸トリ−2−クロロエチルが挙げられ、低沸点の
メチル及びエチル誘導体が好適である。亜燐酸トリアル
キルを選択するための重要な判断基準は、トリハロゲン
化燐との反応の副産物として得られるハロゲン化アルキ
ルの工業的利用の適性である。三塩化燐とメタノールか
ら又は三塩化燐と亜燐酸トリメチルの平衡により製造さ
れたメトキシジクロロホスファンが使用される場合は、
1−ハロゲン−1−オキソホスホレン以外に副産物とし
てクロロメタンが得られ、それは例えばメチルクロロシ
ランのロチョウ(Rochow)合成に使用できる。
法の特定の具体化に使用される亜燐酸トリアルキルの例
であり、例えば亜燐酸トリメチル、亜燐酸トリエチル、
亜燐酸トリプロピル、亜燐酸トリブチル、亜燐酸トリペ
ンチル、亜燐酸トリス−(2−エチル−ヘキシル)、及
び亜燐酸トリ−2−クロロエチルが挙げられ、低沸点の
メチル及びエチル誘導体が好適である。亜燐酸トリアル
キルを選択するための重要な判断基準は、トリハロゲン
化燐との反応の副産物として得られるハロゲン化アルキ
ルの工業的利用の適性である。三塩化燐とメタノールか
ら又は三塩化燐と亜燐酸トリメチルの平衡により製造さ
れたメトキシジクロロホスファンが使用される場合は、
1−ハロゲン−1−オキソホスホレン以外に副産物とし
てクロロメタンが得られ、それは例えばメチルクロロシ
ランのロチョウ(Rochow)合成に使用できる。
【0025】本発明による方法の特定の具体化において
使用される1,2−エポキシドは下記式
使用される1,2−エポキシドは下記式
【0026】
【化9】
【0027】上式中、R6、R7、R8及びR9は相互
に独立に、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は
臭素で置換された(C1−C4)−アルキル、好適には
(C1−C2)−アルキルを示し、又は(C5−C7)
−シクロアルキル又はフェニルを示す、に対応する化合
物であることができる。エチレンオキシド、プロピレン
オキシド及びエピクロルヒドリンが好適である。
に独立に、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は
臭素で置換された(C1−C4)−アルキル、好適には
(C1−C2)−アルキルを示し、又は(C5−C7)
−シクロアルキル又はフェニルを示す、に対応する化合
物であることができる。エチレンオキシド、プロピレン
オキシド及びエピクロルヒドリンが好適である。
【0028】使用される1,3−ジエンは原則として下
記の一般式
記の一般式
【0029】
【化10】
【0030】R2、R3、R4及びR5は相互に独立に
、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は臭素で置
換された(C1−C4)−アルキル、好適には(C1−
C2)−アルキルを示す、に対応する任意の1,3−ジ
エンであることができる。特に例えばブタジエン、イソ
プレン、クロロプレン及び1−メチル−ブタジエンのよ
うな1,3−ジエンが特に適当である。ブタジエン及び
イソプレンが特に好適である。
、水素、塩素、臭素、又は随意塩素及び/又は臭素で置
換された(C1−C4)−アルキル、好適には(C1−
C2)−アルキルを示す、に対応する任意の1,3−ジ
エンであることができる。特に例えばブタジエン、イソ
プレン、クロロプレン及び1−メチル−ブタジエンのよ
うな1,3−ジエンが特に適当である。ブタジエン及び
イソプレンが特に好適である。
【0031】反応混合物に可溶性である重合防止剤、例
えばフェノチアジン、ハイドロキノン、p−tert−
ブチルピロカテコール等を最高1重量%の量まで反応混
合物中に添加することができる(フーベン−ヴァイル、
有機化学の方法、14/1巻、26頁以降)。
えばフェノチアジン、ハイドロキノン、p−tert−
ブチルピロカテコール等を最高1重量%の量まで反応混
合物中に添加することができる(フーベン−ヴァイル、
有機化学の方法、14/1巻、26頁以降)。
【0032】本発明による方法は好適には50ないし1
80℃、最も好適には100ないし150℃の温度範囲
で行うことができる。
80℃、最も好適には100ないし150℃の温度範囲
で行うことができる。
【0033】反応時間は使用される温度に依存する。好
適な温度範囲においては、反応時間は一般に15分間な
いし2時間、特に30分間ないし1時間である。
適な温度範囲においては、反応時間は一般に15分間な
いし2時間、特に30分間ないし1時間である。
【0034】本発明による方法は例えば下記のように行
われる:計量ポンプにより出発原料は冷却装置を備え、
そして同時に反応混合物を加熱可能な加圧蛇管(coi
l)中に圧入する耐圧計量ポンプ用の受器としても役立
つ、混合容器中に導入される。加圧蛇管の端に取り付け
られた弁は、蛇管の内部に必要な圧力を保持する。この
圧力は所与の反応温度における揮発性成分の蒸気圧に等
しい。 反応生成物の取り出しも上記の弁を通じて行われる。
われる:計量ポンプにより出発原料は冷却装置を備え、
そして同時に反応混合物を加熱可能な加圧蛇管(coi
l)中に圧入する耐圧計量ポンプ用の受器としても役立
つ、混合容器中に導入される。加圧蛇管の端に取り付け
られた弁は、蛇管の内部に必要な圧力を保持する。この
圧力は所与の反応温度における揮発性成分の蒸気圧に等
しい。 反応生成物の取り出しも上記の弁を通じて行われる。
【0035】1−ハロゲン−1−オキソホスホレンは溶
剤として使用されたトリハロゲン化燐及び副産物として
生成したハロゲン又はジハロゲンアルカンから既知の方
法、例えば低圧蒸留により分離される。
剤として使用されたトリハロゲン化燐及び副産物として
生成したハロゲン又はジハロゲンアルカンから既知の方
法、例えば低圧蒸留により分離される。
【0036】それより先の1−ハロゲン−1−オキソホ
スホレンの精製は又減圧蒸留により行うことができる。
スホレンの精製は又減圧蒸留により行うことができる。
【0037】下記の実施例を示すことにより本発明を更
に一層詳細に記載する。
に一層詳細に記載する。
【0038】
【実施例1】1−クロロ−3−メチル−1−オキソホス
ホレンの異性体混合物の連続的製造方法1時間当たり2
75g(4モル)のイソプレン、917g(6.67モ
ル)の三塩化燐及び165g(1.33モル)の亜燐酸
トリメチルを水冷式混合容器中に計量導入する。混合容
器内の温度は18℃である。耐圧式ポンプが均質な反応
混合物を130℃に加熱された油浴中に位置する容量7
00mlの反応蛇管中に送り込む(1.2l/時間)。 平均滞留時間は35分間である。反応蛇管の内側の圧力
は15バールである。圧力維持弁を経て反応混合物が反
応蛇管を出る時に、混合物中の圧力は開放され、そして
混合物は冷却し、粗製生成物容器中に集積される。大部
分のクロロメタンはこの段階で逸出し、ブライン凝縮器
中に凝縮し、同様にブラインで冷却された他の容器中に
集積される。収量は1時間毎の処理量を測定することに
より決定される。粗製生成物を常圧で80℃に加熱し、
残留するクロロメタンがあれば蒸発させる。過剰の三塩
化燐は70℃の塔底(sump)温度で20ミリバール
で蒸留して取り出し、ブライン凝縮器中で凝縮させる。 残渣の蒸留(3ミリバールで110−120℃)により
568g(理論量の94.4%)の1−クロロ−3−メ
チル−1−オキソホスホレンが得られる。異性体混合物
は58%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホ
レン−3及び42%の1−クロロ−3−メチル−1−オ
キソホスホレン−2から成っている。クロロメタンの収
量は196g(理論量の97%)である。
ホレンの異性体混合物の連続的製造方法1時間当たり2
75g(4モル)のイソプレン、917g(6.67モ
ル)の三塩化燐及び165g(1.33モル)の亜燐酸
トリメチルを水冷式混合容器中に計量導入する。混合容
器内の温度は18℃である。耐圧式ポンプが均質な反応
混合物を130℃に加熱された油浴中に位置する容量7
00mlの反応蛇管中に送り込む(1.2l/時間)。 平均滞留時間は35分間である。反応蛇管の内側の圧力
は15バールである。圧力維持弁を経て反応混合物が反
応蛇管を出る時に、混合物中の圧力は開放され、そして
混合物は冷却し、粗製生成物容器中に集積される。大部
分のクロロメタンはこの段階で逸出し、ブライン凝縮器
中に凝縮し、同様にブラインで冷却された他の容器中に
集積される。収量は1時間毎の処理量を測定することに
より決定される。粗製生成物を常圧で80℃に加熱し、
残留するクロロメタンがあれば蒸発させる。過剰の三塩
化燐は70℃の塔底(sump)温度で20ミリバール
で蒸留して取り出し、ブライン凝縮器中で凝縮させる。 残渣の蒸留(3ミリバールで110−120℃)により
568g(理論量の94.4%)の1−クロロ−3−メ
チル−1−オキソホスホレンが得られる。異性体混合物
は58%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホ
レン−3及び42%の1−クロロ−3−メチル−1−オ
キソホスホレン−2から成っている。クロロメタンの収
量は196g(理論量の97%)である。
【0039】
【実施例2】実施例2においては実施例1と同じ方法が
行われる。この場合には別個の装置中で予め既知の方法
により三塩化燐及びメタノールから製造されたメトキシ
ジクロロホスファンが使用され、既に次ぎの反応の溶剤
として必要な過剰な三塩化燐を含んでいる。
行われる。この場合には別個の装置中で予め既知の方法
により三塩化燐及びメタノールから製造されたメトキシ
ジクロロホスファンが使用され、既に次ぎの反応の溶剤
として必要な過剰な三塩化燐を含んでいる。
【0040】冷却された反応容器中に1時間当たりに下
記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン及び1
082gの予め製造された4モルのメトキシジクロロホ
スファンを含むメトキシジクロロホスファン/三塩化燐
混合物が導入される。
記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン及び1
082gの予め製造された4モルのメトキシジクロロホ
スファンを含むメトキシジクロロホスファン/三塩化燐
混合物が導入される。
【0041】反応及び精製は実施例1に記載されたよう
に行われる。
に行われる。
【0042】蒸留により精製された1時間当たり539
g(理論量の89.5%)の1−クロロ−3−メチル−
1−オキソホスホレンが得られる。
g(理論量の89.5%)の1−クロロ−3−メチル−
1−オキソホスホレンが得られる。
【0043】
【実施例3】実施例1と同様な条件下で1時間当たり下
記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン、91
7g(6.67モル)の三塩化燐及び221g(1.3
3モル)の亜燐酸トリエチルを反応させる。
記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン、91
7g(6.67モル)の三塩化燐及び221g(1.3
3モル)の亜燐酸トリエチルを反応させる。
【0044】連続工程の間に保持される圧力は10バー
ルである。
ルである。
【0045】1時間当たりに集積された反応混合物の量
が収量の決定に用いられる。
が収量の決定に用いられる。
【0046】生成物を蒸留により精製した後、1−クロ
ロ−3−メチル−1−オキソホスホレンの異性体混合物
500g(理論量の83.0%)が得られる。それは2
1.8%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホ
レン−3及び78.2%の1−クロロ−3−メチル−1
−オキソホスホレン−2から成っている。
ロ−3−メチル−1−オキソホスホレンの異性体混合物
500g(理論量の83.0%)が得られる。それは2
1.8%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホ
レン−3及び78.2%の1−クロロ−3−メチル−1
−オキソホスホレン−2から成っている。
【0047】238g(理論量の92.2%)の塩化エ
チルが得られる。
チルが得られる。
【0048】
【実施例4】実施例1に記載された条件下で1時間当た
り下記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン、
917g(6.67モル)の三塩化燐及び388g(1
.33モル)の亜燐酸トリ−n−ペンチルを連続的に反
応させる。反応蛇管内の圧力は3バールである。
り下記の量:即ち、275g(4モル)のイソプレン、
917g(6.67モル)の三塩化燐及び388g(1
.33モル)の亜燐酸トリ−n−ペンチルを連続的に反
応させる。反応蛇管内の圧力は3バールである。
【0049】蒸留により精製するために1時間当たりに
集積された反応混合物の量が収量の決定に用いられる。 下記:即ち、358g(理論量の84%)の塩化n−ペ
ンチル及び18.1%の1−クロロ−3−メチル−1−
オキソホスホレン−3及び81.9%の1−クロロ−3
−メチル−1−オキソホスホレン−2の異性体混合物4
95g(理論量の82.2%)が得られる。
集積された反応混合物の量が収量の決定に用いられる。 下記:即ち、358g(理論量の84%)の塩化n−ペ
ンチル及び18.1%の1−クロロ−3−メチル−1−
オキソホスホレン−3及び81.9%の1−クロロ−3
−メチル−1−オキソホスホレン−2の異性体混合物4
95g(理論量の82.2%)が得られる。
【0050】
【実施例5】実施例1と同様に実施される。ブタジエン
、三塩化燐及び亜燐酸トリメチルが反応に用いられる。
、三塩化燐及び亜燐酸トリメチルが反応に用いられる。
【0051】1時間当たり下記の量、即ち、216g(
4モル)のブタジエン、917g(6.67モル)の三
塩化燐及び165g(1.33モル)の亜燐酸トリメチ
ルが処理される。
4モル)のブタジエン、917g(6.67モル)の三
塩化燐及び165g(1.33モル)の亜燐酸トリメチ
ルが処理される。
【0052】収量の決定は1時間当たりに得られた反応
混合物の量を基礎としており、蒸留による精製後、56
%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホレン−
3及び44%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホ
スホレン−2の異性体混合物494g(90.5%)が
得られる。
混合物の量を基礎としており、蒸留による精製後、56
%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホスホレン−
3及び44%の1−クロロ−3−メチル−1−オキソホ
スホレン−2の異性体混合物494g(90.5%)が
得られる。
【0053】本明細書及び実施例は本発明を例示するた
めのもので、本発明を限定するものではなく、そして本
発明の精神及び範囲内で当業者には他の具体化が自ら示
唆されることを理解されよう。
めのもので、本発明を限定するものではなく、そして本
発明の精神及び範囲内で当業者には他の具体化が自ら示
唆されることを理解されよう。
【0054】本発明の主なる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【0055】1.溶剤としてトリハロゲン化燐を用いて
加圧下及び高温度において反応が単一段階で連続的に行
われることを特徴とする、式
加圧下及び高温度において反応が単一段階で連続的に行
われることを特徴とする、式
【0056】
【化11】R1O−PX2
上式中、R1により示される基は(C1−C10)−ア
ルキル、又は塩素及び/又は臭素で置換された(C1−
C10)−アルキルであり、及びXは塩素又は臭素を表
す、に対応するアルコキシジハロゲンホスファンと、式
ルキル、又は塩素及び/又は臭素で置換された(C1−
C10)−アルキルであり、及びXは塩素又は臭素を表
す、に対応するアルコキシジハロゲンホスファンと、式
【0057】
【化12】
【0058】上式中、R2、R3、R4及びR5は相互
に独立に、水素、(C1−C4)−アルキル、又は塩素
及び/又は臭素で置換されている、(C1−C4)−ア
ルキルを示す、に対応する1,3−ジエンとを反応させ
ることによる、式
に独立に、水素、(C1−C4)−アルキル、又は塩素
及び/又は臭素で置換されている、(C1−C4)−ア
ルキルを示す、に対応する1,3−ジエンとを反応させ
ることによる、式
【0059】
【化13】
【0060】上式中、Xは塩素又は臭素を表し、及びR
2、R3、R4及びR5は上記と同じ意味を有する、に
対応する1−ハロゲン−1−オキソホスホレンの製造方
法。
2、R3、R4及びR5は上記と同じ意味を有する、に
対応する1−ハロゲン−1−オキソホスホレンの製造方
法。
【0061】2.使用されるアルキルジハロゲンホスフ
ァンR1O−PX2が式
ァンR1O−PX2が式
【0062】
【化14】(R1O)3P
上式中、R1は(C1−C10)−アルキル、又は塩素
及び/又は臭素で置換された(C1−C10)−アルキ
ルを表す、に対応する亜燐酸トリアルキル及び溶剤とし
て使用されるトリハロゲン化燐から単離することなくそ
の場で製造されることを特徴とする、上記1に記載の方
法。 3.使用されるアルキルジハロゲンホスファンR1O−
PX2が式
及び/又は臭素で置換された(C1−C10)−アルキ
ルを表す、に対応する亜燐酸トリアルキル及び溶剤とし
て使用されるトリハロゲン化燐から単離することなくそ
の場で製造されることを特徴とする、上記1に記載の方
法。 3.使用されるアルキルジハロゲンホスファンR1O−
PX2が式
【0063】
【化15】
【0064】上式中、R6、R7、R8及びR9は相互
に独立に、水素、塩素、臭素、(C1−C4)−アルキ
ル、塩素及び/又は臭素で置換された(C1−C4)−
アルキル、又は(C5−C7)−シクロアルキル又はフ
ェニルを示す、に対応する1,2−エポキシド及び溶剤
として使用されるトリハロゲン化燐から単離することな
くその場で製造されることを特徴とする、上記1に記載
の方法。 4.反応が50゜ないし180℃、好適には100゜な
いし150℃の温度で行われることを特徴とする、上記
1に記載の方法。
に独立に、水素、塩素、臭素、(C1−C4)−アルキ
ル、塩素及び/又は臭素で置換された(C1−C4)−
アルキル、又は(C5−C7)−シクロアルキル又はフ
ェニルを示す、に対応する1,2−エポキシド及び溶剤
として使用されるトリハロゲン化燐から単離することな
くその場で製造されることを特徴とする、上記1に記載
の方法。 4.反応が50゜ないし180℃、好適には100゜な
いし150℃の温度で行われることを特徴とする、上記
1に記載の方法。
【0065】5.R2、R3、R4及びR5が相互に独
立に(C1−C2)−アルキルを示す、上記1に記載の
方法。
立に(C1−C2)−アルキルを示す、上記1に記載の
方法。
【0066】6.R1が(C1−C5)−アルキルを示
す、上記1に記載の方法。
す、上記1に記載の方法。
Claims (1)
- 【請求項1】 溶剤としてトリハロゲン化燐を用いて
加圧下及び高温度において反応が単一段階で連続的に行
われることを特徴とする、式 【化1】R1O−PX2 上式中、R1により示される基は(C1−C10)−ア
ルキル、又は塩素及び/又は臭素で置換された(C1−
C10)−アルキルであり、及びXは塩素又は臭素を表
す、に対応するアルコキシジハロゲンホスファンと、式
【化2】 上式中、R2、R3、R4及びR5は相互に独立に、水
素、(C1−C4)−アルキル、又は塩素及び/又は臭
素で置換されている、(C1−C4)−アルキルを示す
、に対応する1,3−ジエンとを反応させることによる
、式【化3】 上式中、Xは塩素又は臭素を表し、及びR2、R3、R
4及びR5は上記と同じ意味を有する、に対応する1−
ハロゲン−1−オキソホスホレンの製造方法。
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