JPH0418564A - 感光性エラストマー組成物用現像剤 - Google Patents
感光性エラストマー組成物用現像剤Info
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- JPH0418564A JPH0418564A JP2263892A JP26389290A JPH0418564A JP H0418564 A JPH0418564 A JP H0418564A JP 2263892 A JP2263892 A JP 2263892A JP 26389290 A JP26389290 A JP 26389290A JP H0418564 A JPH0418564 A JP H0418564A
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- JP
- Japan
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- developer
- represented
- elastomer composition
- photosensitive elastomer
- formula
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性エクス1〜マー組成物から画像を形成す
るのに用いられる現像剤に関するものであり、特にフレ
キソ印刷版を製版するのに好適な現像剤に関するもので
ある。
るのに用いられる現像剤に関するものであり、特にフレ
キソ印刷版を製版するのに好適な現像剤に関するもので
ある。
感光性エラストマー組成物から画像を形成するには、透
明画像担体を通して露光したあと、未露光部の感光性エ
ラストマー組成物が可溶な溶剤で坦像することにより行
なわれている。
明画像担体を通して露光したあと、未露光部の感光性エ
ラストマー組成物が可溶な溶剤で坦像することにより行
なわれている。
従来、フレキソ印刷版を製版するのに用いられている感
光性エラストマー組成物としては、−船釣((a)ジエ
ン系ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(C)
光重合開始剤を主成分としたちのか用いられている。し
たかってこれらはジエン系ポリマーを主成分とする為、
水あるいは水系の溶剤では未露光部を洗い出すことがで
きず、もっばらパークロルエチレン、i、ti−トリク
ロルエタン等の塩素系の有機溶剤か単独であるいはアル
コール類との組みあわぜか現像剤として用いられていた
のである。
光性エラストマー組成物としては、−船釣((a)ジエ
ン系ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(C)
光重合開始剤を主成分としたちのか用いられている。し
たかってこれらはジエン系ポリマーを主成分とする為、
水あるいは水系の溶剤では未露光部を洗い出すことがで
きず、もっばらパークロルエチレン、i、ti−トリク
ロルエタン等の塩素系の有機溶剤か単独であるいはアル
コール類との組みあわぜか現像剤として用いられていた
のである。
[発明か解決しようとする課題]
しかしなからこのような塩素系有機溶剤は引火性を有さ
ない為、取り扱い上の安全性という観点では利点を有す
るものの、反面人体に対する毒性か強い等衛生面では問
題を有しており、又、オゾン層破壊の一因となるなど、
作業環境改善、大気汚染防止の観点から非塩素系現像溶
剤の開発か望まれていた。さらに、性能的にも従来使用
されている塩素系現像溶剤の場合、画像部となる感光性
エラス]・マー組成物硬化物の膨潤か大きく、現像工程
で画像部の細線、細点かダメージを受Cノたり、又、膨
潤からの回復に長時間の乾燥を要するなとの欠点を有し
ており、この点からも改良か望まれていたのである。
ない為、取り扱い上の安全性という観点では利点を有す
るものの、反面人体に対する毒性か強い等衛生面では問
題を有しており、又、オゾン層破壊の一因となるなど、
作業環境改善、大気汚染防止の観点から非塩素系現像溶
剤の開発か望まれていた。さらに、性能的にも従来使用
されている塩素系現像溶剤の場合、画像部となる感光性
エラス]・マー組成物硬化物の膨潤か大きく、現像工程
で画像部の細線、細点かダメージを受Cノたり、又、膨
潤からの回復に長時間の乾燥を要するなとの欠点を有し
ており、この点からも改良か望まれていたのである。
(課題を解決するだめの手段)
本発明者らはかかる課題を解決する為に検討を重ねた結
果、特定のエステル類とアルコール類を特定容量比で配
合した有機溶剤を用いることにより目的を達成できるこ
とを見出し本発明を完成させるに到った。
果、特定のエステル類とアルコール類を特定容量比で配
合した有機溶剤を用いることにより目的を達成できるこ
とを見出し本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明は下記一般式<A>及び(B)で表わ
される化合物が(A)/ (B) −10010〜40
/60 (容量比)で配合されていることを特徴とする
感光性エラストマー組成物からの画像形成用現像剤 RCOOR2・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・(A>(式中R1はCト」3又はC21”l
5て市り、R2はC,R2,−Ar(At’−芳@族
基、n−O〜2)で表わされるアラルキル基、−CoR
2゜OC□H(n十m≦5.n≧1.m≧1)て表わざ
2m+1 れるアルコキシアルキル基、−<c、82゜0)2C,
I R2m+1 (n = 2〜6. m= 1〜4
)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレニル基を
表わす〕 R30H・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(−B )〔式中、Rは−〇 H
(rl=3〜10)で表n 2n+1 わされるアルキル基、−C。トリ、・Ar(△r−芳香
族阜、[]−1〜3)、−(C,)−12,O)、C1
1l[」(ロー2〜6.m=1〜4.a−1又は2゜2
m→1 a、・’(na=m)≦L’4)で表わされるアルコキ
シポリオキシアルキレニル基を表わ1−〕を提供するも
のである。
される化合物が(A)/ (B) −10010〜40
/60 (容量比)で配合されていることを特徴とする
感光性エラストマー組成物からの画像形成用現像剤 RCOOR2・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・(A>(式中R1はCト」3又はC21”l
5て市り、R2はC,R2,−Ar(At’−芳@族
基、n−O〜2)で表わされるアラルキル基、−CoR
2゜OC□H(n十m≦5.n≧1.m≧1)て表わざ
2m+1 れるアルコキシアルキル基、−<c、82゜0)2C,
I R2m+1 (n = 2〜6. m= 1〜4
)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレニル基を
表わす〕 R30H・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(−B )〔式中、Rは−〇 H
(rl=3〜10)で表n 2n+1 わされるアルキル基、−C。トリ、・Ar(△r−芳香
族阜、[]−1〜3)、−(C,)−12,O)、C1
1l[」(ロー2〜6.m=1〜4.a−1又は2゜2
m→1 a、・’(na=m)≦L’4)で表わされるアルコキ
シポリオキシアルキレニル基を表わ1−〕を提供するも
のである。
本発明の現像剤での洗い出しくこ用いられる感光性■ラ
ストマー組成物として好適なものは(1)ジエン系ポリ
マー、(2)エチレン性不飽和化合物、(3)光重合開
始剤を主成分としたものである。
ストマー組成物として好適なものは(1)ジエン系ポリ
マー、(2)エチレン性不飽和化合物、(3)光重合開
始剤を主成分としたものである。
(1)のジエン系ポリマーとしては共役ジエンモノマー
を単独重合あるいはモノオレフィン化合物と共重合させ
て得られるポリマーか用いられる。
を単独重合あるいはモノオレフィン化合物と共重合させ
て得られるポリマーか用いられる。
共役ジエンモノマーとしては、ブタジェン、イソプレン
、クロロプレンなどを例としてあげることかてきる。又
、共役ジエンモノマーと共重合させるのに用いられるモ
ノオレフィン化合物としては、スチレン、α−メチルス
チレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸及びこれらのエステル類などを例示ブ
ることかできる。これらのモノオレフィン化合物は単独
であるいは二種類以上の組み必わけて共役ジエンモノマ
ーとの共重合に使用される。
、クロロプレンなどを例としてあげることかてきる。又
、共役ジエンモノマーと共重合させるのに用いられるモ
ノオレフィン化合物としては、スチレン、α−メチルス
チレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸及びこれらのエステル類などを例示ブ
ることかできる。これらのモノオレフィン化合物は単独
であるいは二種類以上の組み必わけて共役ジエンモノマ
ーとの共重合に使用される。
フレキソ印刷版用感光性エラス1〜マー組成物に最も好
適なジエン系ポリマーはスチレン・ブタジエン系70ツ
ク共重合体あるい(はスチレン・イソプレン系フロック
共重合体−Cあり、又、本発明の現像剤か最も効果的に
用いられる。
適なジエン系ポリマーはスチレン・ブタジエン系70ツ
ク共重合体あるい(はスチレン・イソプレン系フロック
共重合体−Cあり、又、本発明の現像剤か最も効果的に
用いられる。
又、(2)の成分であるエチレン性不飽和化合物、(3
)の成分である光重合開始剤としては、この種の感光性
エラスl〜マー組成物に消削的に使用されているものの
中から任意に選ぶことかできる。
)の成分である光重合開始剤としては、この種の感光性
エラスl〜マー組成物に消削的に使用されているものの
中から任意に選ぶことかできる。
このような感光性エラストマー組成物としては、例えば
、特開昭47−37521号公報、特開昭511065
01号公報、特開昭52−64301号公報、特開昭5
3−127004号公報、特開昭EM−110287号
公報、特開昭58−48744号公報、特開昭58−6
2640号公報等に記載されているものを例としてあげ
ることかできる。
、特開昭47−37521号公報、特開昭511065
01号公報、特開昭52−64301号公報、特開昭5
3−127004号公報、特開昭EM−110287号
公報、特開昭58−48744号公報、特開昭58−6
2640号公報等に記載されているものを例としてあげ
ることかできる。
上記感光性エラストマー組成物からの画像形成用に用い
る本発明の現像剤は、一般式(A>及び(B)で表わさ
れる化合物の(A>/(B:)−10010〜40/6
0 (容量比)混合物て必る。
る本発明の現像剤は、一般式(A>及び(B)で表わさ
れる化合物の(A>/(B:)−10010〜40/6
0 (容量比)混合物て必る。
(A) R1GOOR2
R2ニーCnH2,−Ar <Ar−芳香族基、n−〇
〜2)で表わされるアラルキル基 C,H2nOCm H2m+1 (n 十m≦5゜n≧
1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキル基 (CrIH2nO> 20. H2m+1 (n =
2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコキシポリオキ
シアルキレニル基 (B) R30H RニーCH(n=3〜10)で表わされn 2n+す るアルキル基 CnH2n”Ar(A r−芳香族基、n−1〜3) (Go)−12,O> 、Cl1lH21Il、1(n
= 2〜6.m=1〜4.a=1又は2.a・(na
+m)≦1・′4)で表わされるアルコキシポリオギシ
アレキレニル基 一般式(A)で表わされる化合物は、酢酸あるいはプロ
ピオン酸のエステル類であるか、例えばフェニルアセデ
ート、フェニルプロピオネ−i〜、ヘンシルアセデート
、ベンジルプロピオネート、2〜フエニルエチルアセテ
ート、3−メ1〜キシブヂルアセテート、3−メトキシ
ブチルプロピオネート、4−(4’ −メトキシブ1
へキシ〉ブチルアセテート、ブチルジグリコールアセテ
ート等を例としてあげることかできる。
〜2)で表わされるアラルキル基 C,H2nOCm H2m+1 (n 十m≦5゜n≧
1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキル基 (CrIH2nO> 20. H2m+1 (n =
2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコキシポリオキ
シアルキレニル基 (B) R30H RニーCH(n=3〜10)で表わされn 2n+す るアルキル基 CnH2n”Ar(A r−芳香族基、n−1〜3) (Go)−12,O> 、Cl1lH21Il、1(n
= 2〜6.m=1〜4.a=1又は2.a・(na
+m)≦1・′4)で表わされるアルコキシポリオギシ
アレキレニル基 一般式(A)で表わされる化合物は、酢酸あるいはプロ
ピオン酸のエステル類であるか、例えばフェニルアセデ
ート、フェニルプロピオネ−i〜、ヘンシルアセデート
、ベンジルプロピオネート、2〜フエニルエチルアセテ
ート、3−メ1〜キシブヂルアセテート、3−メトキシ
ブチルプロピオネート、4−(4’ −メトキシブ1
へキシ〉ブチルアセテート、ブチルジグリコールアセテ
ート等を例としてあげることかできる。
一般式(B)で表わされる化合物はアルコール類である
が、例えばイソプロパツール、ブタノール、1−ヘプタ
ツール、2−メチルブタノール、ヘキυノール、ヘプタ
ツール、n−オクタツール、2−エチルへギサノール、
ノニルアルコール、デシルアルコール、ベンジルアルコ
ール、2−フェニルエタノール、3−メトキシブタノー
ル、2ブl〜キシエタノール、4−<4’ −メトキ
シブトキシ)ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブ
タノール等を例としてあげることかできる。
が、例えばイソプロパツール、ブタノール、1−ヘプタ
ツール、2−メチルブタノール、ヘキυノール、ヘプタ
ツール、n−オクタツール、2−エチルへギサノール、
ノニルアルコール、デシルアルコール、ベンジルアルコ
ール、2−フェニルエタノール、3−メトキシブタノー
ル、2ブl〜キシエタノール、4−<4’ −メトキ
シブトキシ)ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブ
タノール等を例としてあげることかできる。
一般式(A>及び(B)で表わされる化合物は所望によ
り二種以上を組みあわせて用いても良い。
り二種以上を組みあわせて用いても良い。
一般式(A)で表わされる化合物は感光性エラス1〜マ
ー組成物を容易に溶解する性質を有するのに対し一般式
(B>で表わされる化合物の場合、感光性エラス]〜マ
ー組成物をほとんどあるいは全く溶解しない。
ー組成物を容易に溶解する性質を有するのに対し一般式
(B>で表わされる化合物の場合、感光性エラス]〜マ
ー組成物をほとんどあるいは全く溶解しない。
一般式(B)で表わされる化合物は
1、一般式(A>で表わされる化合物による感光性エラ
ストマー組成物硬化物の膨潤を減少させる。
ストマー組成物硬化物の膨潤を減少させる。
2、感光性エラス(〜マー組成物の表面に透明画像担体
との密着を容易にする目的て可撓性ポリマーフィルム層
か設けられている場合、このポリマーフィルムの現像液
への溶解を可能にする。
との密着を容易にする目的て可撓性ポリマーフィルム層
か設けられている場合、このポリマーフィルムの現像液
への溶解を可能にする。
の目的で必要に応じて(A> / (B) −1001
0〜40・′60(容量比)の範囲で一般式(A)で表
わされる化合物と組みあわせて使用される。
0〜40・′60(容量比)の範囲で一般式(A)で表
わされる化合物と組みあわせて使用される。
一般式(A)で表わされる化合物の中でも感光性エラス
トマー組成物の溶解性に比し、硬化物への膨潤か少なく
、細線、細点、細字等の現像時の欠けか少なく、又、現
像後の乾゛操も比較的短時間で済むという観点から、 CH3COOCC00C0t−12nQC+1 (n十
m≦5、n≧19m≧1〉で表わされるアルコキシアル
キルアセテートや、 CH3COO(Cr、 H2nO) 2 CII+ H
2m+1 < n=2〜6.m=1〜4)で表わされる
アルコキシポリオキシアルキレニルアセテ−1〜か特に
好ましい。
トマー組成物の溶解性に比し、硬化物への膨潤か少なく
、細線、細点、細字等の現像時の欠けか少なく、又、現
像後の乾゛操も比較的短時間で済むという観点から、 CH3COOCC00C0t−12nQC+1 (n十
m≦5、n≧19m≧1〉で表わされるアルコキシアル
キルアセテートや、 CH3COO(Cr、 H2nO) 2 CII+ H
2m+1 < n=2〜6.m=1〜4)で表わされる
アルコキシポリオキシアルキレニルアセテ−1〜か特に
好ましい。
従来用いられてきた塩素系の現像)8剤を用いて感光性
エラストマー組成物の現像を行なうと、乾燥後、硬化物
表面にオレンジピールと呼ばれるオレンジの皮のような
模様の汚れか生じる為、析しい現像溶剤で版面を拭き取
る工程か必要であった。
エラストマー組成物の現像を行なうと、乾燥後、硬化物
表面にオレンジピールと呼ばれるオレンジの皮のような
模様の汚れか生じる為、析しい現像溶剤で版面を拭き取
る工程か必要であった。
これに対し本発明の現像溶剤を用いて現像するとこのよ
うなオレンジピールは少なく、特にCH3C00Cn
H2nOCm ]」2m+1 (n十m≦5、n≧1.
m≧1) で表わされるアルコキシアルキルアセテートを用いて現
像する場合はオレンジピールを全く生じないため、乾燥
後に新しい現像液で硬化物表面を拭き取る必要かないと
いう利点を有している。特に3−メトキシブチルアセテ
ートは優れた特性を示す。
うなオレンジピールは少なく、特にCH3C00Cn
H2nOCm ]」2m+1 (n十m≦5、n≧1.
m≧1) で表わされるアルコキシアルキルアセテートを用いて現
像する場合はオレンジピールを全く生じないため、乾燥
後に新しい現像液で硬化物表面を拭き取る必要かないと
いう利点を有している。特に3−メトキシブチルアセテ
ートは優れた特性を示す。
一般的に感光性エラストマー組成物表面に透明画像担体
との密着性を向上させる目的て設【ノられる可撓性ポリ
マーフィルムとしてはセルロース誘導体やポ」ノアミド
類が用いられる。
との密着性を向上させる目的て設【ノられる可撓性ポリ
マーフィルムとしてはセルロース誘導体やポ」ノアミド
類が用いられる。
エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等
のセルロース誘導体の場合、一般式(A)の化合物のみ
でも溶解可能であり、また、一般式(B)で表わされる
化合物としてどの溶剤でも組みあわせて用いることかで
きる。
のセルロース誘導体の場合、一般式(A)の化合物のみ
でも溶解可能であり、また、一般式(B)で表わされる
化合物としてどの溶剤でも組みあわせて用いることかで
きる。
一方、可撓性ポリマーフィルムとしてポリアミド類が用
いられる場合は感光性エラストマー組成物と同時に溶解
可能な溶剤は限られている。使用可能な溶剤としては次
の混合溶剤を例としてあげることかできる。
いられる場合は感光性エラストマー組成物と同時に溶解
可能な溶剤は限られている。使用可能な溶剤としては次
の混合溶剤を例としてあげることかできる。
1、一般式(A>で表わされる化合物としでCH3CC
00CoH2nQCIIIH2+1(n+m≦5. n
≧1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキルアセテ
−1〜 一般式(B)で表わされる化合物としてCn 8214
10日(n = 3〜10) テ表ワサレルアル」−ル を(A>/ (B)=9515〜40/’60て混合し
てなる溶剤、 これらの中では、ポリアミド系可撓性ポリマーフィルム
及び感光性エラストマー組成物双方の十分な溶解性を有
し、且つ安全上十分に高い引火点を持つという観点から
、一般式(B)で表わされる化合物のうちn=5〜7の
物を(A>/ (B)−90/10〜70/30で混合
してなる溶剤が特に好ましい。
00CoH2nQCIIIH2+1(n+m≦5. n
≧1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキルアセテ
−1〜 一般式(B)で表わされる化合物としてCn 8214
10日(n = 3〜10) テ表ワサレルアル」−ル を(A>/ (B)=9515〜40/’60て混合し
てなる溶剤、 これらの中では、ポリアミド系可撓性ポリマーフィルム
及び感光性エラストマー組成物双方の十分な溶解性を有
し、且つ安全上十分に高い引火点を持つという観点から
、一般式(B)で表わされる化合物のうちn=5〜7の
物を(A>/ (B)−90/10〜70/30で混合
してなる溶剤が特に好ましい。
2、一般式(A)で表わされる化合物とじてR’ C0
0R2 R’ : CH3,C2R5 R2ニーCH−Ar(Ar−芳香族基、n 2n =0〜2)で表わされるアラルキル基 (C,H2oO) 2 Cm ”2m+1 (n
= 2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコギ
シポリオキシアルキレニル基 一般式(B)で表わされる化合物としてAr −(gl
H2oOH(Ar−芳@族基、「)−1〜3) を(A ) y’ (B ) =9515〜40/ 6
0て混合してなる溶剤。
0R2 R’ : CH3,C2R5 R2ニーCH−Ar(Ar−芳香族基、n 2n =0〜2)で表わされるアラルキル基 (C,H2oO) 2 Cm ”2m+1 (n
= 2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコギ
シポリオキシアルキレニル基 一般式(B)で表わされる化合物としてAr −(gl
H2oOH(Ar−芳@族基、「)−1〜3) を(A ) y’ (B ) =9515〜40/ 6
0て混合してなる溶剤。
一般式<A>で表わされる化合物と一般式(B)で表わ
される化合物は種々の組みあわせで用いることかできる
が、現像廃液の蒸留回収による再使用を容易にし、現像
操作中の各成分の蒸発速度の差による現像液組成の変化
を防ぐ為には、沸点の近いものを組みあわせて用いるの
か好ましい。
される化合物は種々の組みあわせで用いることかできる
が、現像廃液の蒸留回収による再使用を容易にし、現像
操作中の各成分の蒸発速度の差による現像液組成の変化
を防ぐ為には、沸点の近いものを組みあわせて用いるの
か好ましい。
本発明の現像剤を用いての洗い出しは通常、ブラッシン
グ、あるいはスプレーによる吹きつ【プて行なわれる。
グ、あるいはスプレーによる吹きつ【プて行なわれる。
現像液の加温は特に必要としないので、現像装置として
は市販されているものをそのまま使用することかできる
。
は市販されているものをそのまま使用することかできる
。
本発明の現像剤は至濡よりも高い引火点を有しているた
め、通常の操作で特別に危険であるということはないか
、可燃物であるため火花等着火源となり得るものか現像
液あるいは現像液蒸気を多N(含む空気と接する可能性
のある構造である場合は、間仕切り等の安全対策を行な
うことか望ましい。
め、通常の操作で特別に危険であるということはないか
、可燃物であるため火花等着火源となり得るものか現像
液あるいは現像液蒸気を多N(含む空気と接する可能性
のある構造である場合は、間仕切り等の安全対策を行な
うことか望ましい。
(実 施 例〕
以下、実施例により詳細に説明する。
実施例 1
特開昭55−、48744の実施例1に記載された方法
に従い、ポリスチレン−ポリブタジェン−ポリスチレン
ブロック共重合体くスチレン含量40%〉3句、液状1
.2−ポリブタジェン1 Kg、シオクヂルフマレート
4009、ラウリルマレイミド100g、2.2−ジメ
トキシ−2−フェニル7セトフエノン100 gを混練
して得られる感光性エラストマー組酸物をポリエステル
フィルムではさみ、厚さ2.8駅にプレスして得られた
シート30X20cmを用いて以下の検討を行った。
に従い、ポリスチレン−ポリブタジェン−ポリスチレン
ブロック共重合体くスチレン含量40%〉3句、液状1
.2−ポリブタジェン1 Kg、シオクヂルフマレート
4009、ラウリルマレイミド100g、2.2−ジメ
トキシ−2−フェニル7セトフエノン100 gを混練
して得られる感光性エラストマー組酸物をポリエステル
フィルムではさみ、厚さ2.8駅にプレスして得られた
シート30X20cmを用いて以下の検討を行った。
片側より紫外線蛍光灯にて880mJ −CIR’の露
光を行った後、反対の面のポリエステルフィルムを剥ぎ
取り透明画像担体を密省させ、紫外線蛍光灯にて600
0mJ−ctyt−2の露光を行ってレリーフを形成し
た。
光を行った後、反対の面のポリエステルフィルムを剥ぎ
取り透明画像担体を密省させ、紫外線蛍光灯にて600
0mJ−ctyt−2の露光を行ってレリーフを形成し
た。
現像剤として3−メトキシブチルアセテ−トコ1−ペン
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用いてロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、8分間の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得
られた。この時のシートの厚みから膨潤率を求めたとこ
ろ現像前より3.8%膨潤していた。このシートを60
°Cにて1時間乾燥したところ、版厚は完全に現像前の
状態に回復していた。レリーフの欠けは見られず、幅4
00μ白抜き線の深度は98μであった。また、レリー
フ面上にはオレンジピールは全く観察されなかった。こ
のシートにG[及びCLクランプてそれぞれ550゜1
0100O−にy−2の後露光を行った後、フレキソ印
刷機にて印刷したところ、良質な印刷物が得られた。
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用いてロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、8分間の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得
られた。この時のシートの厚みから膨潤率を求めたとこ
ろ現像前より3.8%膨潤していた。このシートを60
°Cにて1時間乾燥したところ、版厚は完全に現像前の
状態に回復していた。レリーフの欠けは見られず、幅4
00μ白抜き線の深度は98μであった。また、レリー
フ面上にはオレンジピールは全く観察されなかった。こ
のシートにG[及びCLクランプてそれぞれ550゜1
0100O−にy−2の後露光を行った後、フレキソ印
刷機にて印刷したところ、良質な印刷物が得られた。
実施例 2
現像剤として3−メトキシブチルアセテートを用い、実
施例1に準じた方法で未露光部の溶出を行ったところ、
7分の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得られ
た。この時シートの膨潤率は4.0%であった。60°
Cで1時間乾燥した後の版は完全に現像前の版厚に回復
しており、レリーフの欠けは見られなかった。幅400
μ白抜き線の深度は100μであり、オレンジピールは
仝くみられなかった。
施例1に準じた方法で未露光部の溶出を行ったところ、
7分の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得られ
た。この時シートの膨潤率は4.0%であった。60°
Cで1時間乾燥した後の版は完全に現像前の版厚に回復
しており、レリーフの欠けは見られなかった。幅400
μ白抜き線の深度は100μであり、オレンジピールは
仝くみられなかった。
比較例 1
現像剤としてテトラクロロエチレン:n−ブタノール3
: 1 (V/V)混合液を用い、実施例1に準じた
方法で未露光部の溶出を行ったところ、4分間の現像で
シートの膨潤率は8.3%と大きく、これを60°Cで
1時間乾燥したところ、版厚は現像前と比べて未だ1.
2%膨潤しており、もとの版厚に回復するためには更に
1日以上室温で放置する必要かあった。レリーフ面の欠
けは16箇所見られ、幅400μ白抜き線の深度は97
μであり、レリーフ面には無数のオレンジピールが見ら
れ、新しいテトラクロロエチレンに浸したカーゼて拭き
とる必要かあった。
: 1 (V/V)混合液を用い、実施例1に準じた
方法で未露光部の溶出を行ったところ、4分間の現像で
シートの膨潤率は8.3%と大きく、これを60°Cで
1時間乾燥したところ、版厚は現像前と比べて未だ1.
2%膨潤しており、もとの版厚に回復するためには更に
1日以上室温で放置する必要かあった。レリーフ面の欠
けは16箇所見られ、幅400μ白抜き線の深度は97
μであり、レリーフ面には無数のオレンジピールが見ら
れ、新しいテトラクロロエチレンに浸したカーゼて拭き
とる必要かあった。
実施例 3
その他の現像剤を用い、実加例1に準じた方法で未露光
部の溶出を行った結果を表に示す。
部の溶出を行った結果を表に示す。
(以下余白)
実施例 4
特開昭47−37521に記載された方法に従ってポリ
スチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重
合体3Kg、ポリビニル1〜ルエン1387.1.6−
ヘキサンシオールシアクリレート1377.1.6−ヘ
キサンシオールジメタクリレーi〜1177.2.2−
ジメトキシフェニルアセトフェノン559を混練して得
られる感光性エクス1〜マー組成物をポリエステルフィ
ルム及び可溶性ポリアミド被覆されたポリエステルフィ
ルムではさみ、厚さ2.8#にプレスして得られたシー
ト30X20cm8用いて以下の検討を行った。
スチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重
合体3Kg、ポリビニル1〜ルエン1387.1.6−
ヘキサンシオールシアクリレート1377.1.6−ヘ
キサンシオールジメタクリレーi〜1177.2.2−
ジメトキシフェニルアセトフェノン559を混練して得
られる感光性エクス1〜マー組成物をポリエステルフィ
ルム及び可溶性ポリアミド被覆されたポリエステルフィ
ルムではさみ、厚さ2.8#にプレスして得られたシー
ト30X20cm8用いて以下の検討を行った。
ポリアミド被覆面と反対の側から紫外線蛍光灯にて66
0mJ −11−#I−2の露光を行った後、ポリアミ
ド被覆面のポリエステルフィルムを剥ぎ取り、透明画像
担体をバキュームシートによって密着させ、紫外線蛍光
灯にて6000mj−c/R−2の露光を行ってレリー
フを形成した。
0mJ −11−#I−2の露光を行った後、ポリアミ
ド被覆面のポリエステルフィルムを剥ぎ取り、透明画像
担体をバキュームシートによって密着させ、紫外線蛍光
灯にて6000mj−c/R−2の露光を行ってレリー
フを形成した。
現像剤として3−メトキシブチルアセテート:1−ペン
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用い、ロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、15分間の現像で現画像を忠実に両川したレリーフが
得られ、レリーフ表面のポリアミド層は完全に溶解して
いた。幅400μ白俵き線の深磨け82μであり、レリ
ーフ面にオレンジピールは全く観察されなかった。レリ
ーフ面の欠けも見られなかった。
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用い、ロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、15分間の現像で現画像を忠実に両川したレリーフが
得られ、レリーフ表面のポリアミド層は完全に溶解して
いた。幅400μ白俵き線の深磨け82μであり、レリ
ーフ面にオレンジピールは全く観察されなかった。レリ
ーフ面の欠けも見られなかった。
(発明の効果〕
本発明の感光性エクス1〜マー組成物からの画像形成用
現像剤は、作業環境上及び大気汚染防止上、好ましい非
塩素系現像剤であって、且つ、画像部となる感光性エラ
ストマー硬化物(シート)の膨潤率か低く、レリーフ面
の欠は及びオレンジビールも極めて少ない等の効果を有
している現像剤である。
現像剤は、作業環境上及び大気汚染防止上、好ましい非
塩素系現像剤であって、且つ、画像部となる感光性エラ
ストマー硬化物(シート)の膨潤率か低く、レリーフ面
の欠は及びオレンジビールも極めて少ない等の効果を有
している現像剤である。
特訂出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記一般式(A)及び(B)で表わされる化合物が
(A)/(B)=100/0〜40/60(容量比)で
配合されていることを特徴とする感光性エラストマー組
成物からの画像形成用現像剤。 R^1COOR^2……………………(A)(式中R^
1はCH_3又はC_2H_5であり、R^2は−C_
nH_2_n・Ar(Ar=芳香族基、n=0〜2)で
表わされるアラルキル基、−C_nH_2_nOC_m
H_2_m_+_1(n+m≦5、n≧1、m≧1)で
表わされるアルコキシアルキル基、−(C_nH_2_
nO)_2C_mH_2_m_+_1(n=2〜6、m
=1〜4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす) R^3OH…………………………(B) (式中、R^3は−C_nH_2_n_+_1(n=3
〜10)で表わされるアルキル基、−C_nH_2_n
・Ar(Ar=芳香族基、n=1〜3)、−(C_nH
_2_nO)_aC_mH_2_m_+_1(n=2〜
6、m=1〜4、a=1又は2、a/(na+m)≦1
/4)で表わされるアルコキシポリオキシアレキレニル
基を表わす)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2263892A JPH0418564A (ja) | 1990-01-22 | 1990-10-03 | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
AU69838/91A AU646831B2 (en) | 1990-01-22 | 1991-01-21 | A method for producing a photocured image structure |
EP91100768A EP0439123B1 (en) | 1990-01-22 | 1991-01-22 | A method for producing flexographic printing plates having a photocured image structure |
US07/643,272 US5242782A (en) | 1990-01-22 | 1991-01-22 | Method for producing a photocured image structure |
DE69127001T DE69127001T2 (de) | 1990-01-22 | 1991-01-22 | Verfahren zur Herstellung flexographischer Druckplatten mit photogehärteter Bildstruktur |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1057590 | 1990-01-22 | ||
JP2-10575 | 1990-01-22 | ||
JP2263892A JPH0418564A (ja) | 1990-01-22 | 1990-10-03 | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0418564A true JPH0418564A (ja) | 1992-01-22 |
Family
ID=26345872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2263892A Pending JPH0418564A (ja) | 1990-01-22 | 1990-10-03 | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5242782A (ja) |
EP (1) | EP0439123B1 (ja) |
JP (1) | JPH0418564A (ja) |
AU (1) | AU646831B2 (ja) |
DE (1) | DE69127001T2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993010484A1 (en) * | 1991-11-15 | 1993-05-27 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Developer for photosensitive elastomer composition |
US5521054A (en) * | 1993-06-25 | 1996-05-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Developing solution comprising an aromatic hydrocarbon, an alcohol, and an ester |
JP2005320513A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-17 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸素吸収性樹脂組成物 |
JP2006037068A (ja) * | 2004-02-23 | 2006-02-09 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸素吸収性樹脂組成物 |
JP2006227174A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Ricoh Co Ltd | レジスト現像液及びパターン形成方法 |
JP2007531897A (ja) * | 2003-04-24 | 2007-11-08 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | レジスト組成物およびレジストを除去するための有機溶剤 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040142282A1 (en) * | 2001-11-27 | 2004-07-22 | Hendrickson Constance Marie | Alkyl ester developing solvent for photopolymerizable printing plates |
US8349185B2 (en) | 2010-10-20 | 2013-01-08 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for rebalancing a multicomponent solvent solution |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3891443A (en) * | 1973-02-01 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Mat finish photosensitive relief plates |
US3984582A (en) * | 1975-06-30 | 1976-10-05 | Ibm | Method for preparing positive resist image |
DE3012522A1 (de) * | 1980-03-31 | 1981-10-08 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
DE3118884A1 (de) * | 1981-05-13 | 1982-12-02 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von reliefkopien |
US4394435A (en) * | 1981-10-01 | 1983-07-19 | Uniroyal, Inc. | Syndiotactic polybutadiene composition for a photosensitive printing plate |
US4535054A (en) * | 1983-05-05 | 1985-08-13 | Hughes Aircraft Company | Wet process for developing styrene polymer resists for submicron lithography |
DE3446074A1 (de) * | 1984-12-18 | 1986-06-19 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen | Verfahren zur herstellung von roentgen-resists |
DE68926242T2 (de) * | 1988-08-23 | 1996-09-19 | Du Pont | Verfahren zur herstellung von flexographischen druckreliefs |
-
1990
- 1990-10-03 JP JP2263892A patent/JPH0418564A/ja active Pending
-
1991
- 1991-01-21 AU AU69838/91A patent/AU646831B2/en not_active Ceased
- 1991-01-22 EP EP91100768A patent/EP0439123B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-22 DE DE69127001T patent/DE69127001T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-22 US US07/643,272 patent/US5242782A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993010484A1 (en) * | 1991-11-15 | 1993-05-27 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Developer for photosensitive elastomer composition |
US5521054A (en) * | 1993-06-25 | 1996-05-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Developing solution comprising an aromatic hydrocarbon, an alcohol, and an ester |
US5578420A (en) * | 1993-06-25 | 1996-11-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Process for producing a flexographic printing plate |
JP2007531897A (ja) * | 2003-04-24 | 2007-11-08 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | レジスト組成物およびレジストを除去するための有機溶剤 |
JP2006037068A (ja) * | 2004-02-23 | 2006-02-09 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸素吸収性樹脂組成物 |
JP2005320513A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-17 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 酸素吸収性樹脂組成物 |
JP2006227174A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Ricoh Co Ltd | レジスト現像液及びパターン形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0439123B1 (en) | 1997-07-30 |
AU646831B2 (en) | 1994-03-10 |
EP0439123A3 (en) | 1992-01-29 |
DE69127001T2 (de) | 1998-02-19 |
US5242782A (en) | 1993-09-07 |
AU6983891A (en) | 1991-07-25 |
DE69127001D1 (de) | 1997-09-04 |
EP0439123A2 (en) | 1991-07-31 |
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