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JPH0418564A - 感光性エラストマー組成物用現像剤 - Google Patents

感光性エラストマー組成物用現像剤

Info

Publication number
JPH0418564A
JPH0418564A JP2263892A JP26389290A JPH0418564A JP H0418564 A JPH0418564 A JP H0418564A JP 2263892 A JP2263892 A JP 2263892A JP 26389290 A JP26389290 A JP 26389290A JP H0418564 A JPH0418564 A JP H0418564A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
represented
elastomer composition
photosensitive elastomer
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2263892A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Ozaki
修司 小崎
Shohei Nakamura
中村 庄平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2263892A priority Critical patent/JPH0418564A/ja
Priority to AU69838/91A priority patent/AU646831B2/en
Priority to EP91100768A priority patent/EP0439123B1/en
Priority to US07/643,272 priority patent/US5242782A/en
Priority to DE69127001T priority patent/DE69127001T2/de
Publication of JPH0418564A publication Critical patent/JPH0418564A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性エクス1〜マー組成物から画像を形成す
るのに用いられる現像剤に関するものであり、特にフレ
キソ印刷版を製版するのに好適な現像剤に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
感光性エラストマー組成物から画像を形成するには、透
明画像担体を通して露光したあと、未露光部の感光性エ
ラストマー組成物が可溶な溶剤で坦像することにより行
なわれている。
従来、フレキソ印刷版を製版するのに用いられている感
光性エラストマー組成物としては、−船釣((a)ジエ
ン系ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(C)
光重合開始剤を主成分としたちのか用いられている。し
たかってこれらはジエン系ポリマーを主成分とする為、
水あるいは水系の溶剤では未露光部を洗い出すことがで
きず、もっばらパークロルエチレン、i、ti−トリク
ロルエタン等の塩素系の有機溶剤か単独であるいはアル
コール類との組みあわぜか現像剤として用いられていた
のである。
[発明か解決しようとする課題] しかしなからこのような塩素系有機溶剤は引火性を有さ
ない為、取り扱い上の安全性という観点では利点を有す
るものの、反面人体に対する毒性か強い等衛生面では問
題を有しており、又、オゾン層破壊の一因となるなど、
作業環境改善、大気汚染防止の観点から非塩素系現像溶
剤の開発か望まれていた。さらに、性能的にも従来使用
されている塩素系現像溶剤の場合、画像部となる感光性
エラス]・マー組成物硬化物の膨潤か大きく、現像工程
で画像部の細線、細点かダメージを受Cノたり、又、膨
潤からの回復に長時間の乾燥を要するなとの欠点を有し
ており、この点からも改良か望まれていたのである。
(課題を解決するだめの手段) 本発明者らはかかる課題を解決する為に検討を重ねた結
果、特定のエステル類とアルコール類を特定容量比で配
合した有機溶剤を用いることにより目的を達成できるこ
とを見出し本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明は下記一般式<A>及び(B)で表わ
される化合物が(A)/ (B) −10010〜40
/60 (容量比)で配合されていることを特徴とする
感光性エラストマー組成物からの画像形成用現像剤 RCOOR2・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・(A>(式中R1はCト」3又はC21”l
 5て市り、R2はC,R2,−Ar(At’−芳@族
基、n−O〜2)で表わされるアラルキル基、−CoR
2゜OC□H(n十m≦5.n≧1.m≧1)て表わざ
2m+1 れるアルコキシアルキル基、−<c、82゜0)2C,
I R2m+1 (n = 2〜6. m= 1〜4 
)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレニル基を
表わす〕 R30H・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(−B )〔式中、Rは−〇  H
(rl=3〜10)で表n   2n+1 わされるアルキル基、−C。トリ、・Ar(△r−芳香
族阜、[]−1〜3)、−(C,)−12,O)、C1
1l[」(ロー2〜6.m=1〜4.a−1又は2゜2
m→1 a、・’(na=m)≦L’4)で表わされるアルコキ
シポリオキシアルキレニル基を表わ1−〕を提供するも
のである。
本発明の現像剤での洗い出しくこ用いられる感光性■ラ
ストマー組成物として好適なものは(1)ジエン系ポリ
マー、(2)エチレン性不飽和化合物、(3)光重合開
始剤を主成分としたものである。
(1)のジエン系ポリマーとしては共役ジエンモノマー
を単独重合あるいはモノオレフィン化合物と共重合させ
て得られるポリマーか用いられる。
共役ジエンモノマーとしては、ブタジェン、イソプレン
、クロロプレンなどを例としてあげることかてきる。又
、共役ジエンモノマーと共重合させるのに用いられるモ
ノオレフィン化合物としては、スチレン、α−メチルス
チレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸及びこれらのエステル類などを例示ブ
ることかできる。これらのモノオレフィン化合物は単独
であるいは二種類以上の組み必わけて共役ジエンモノマ
ーとの共重合に使用される。
フレキソ印刷版用感光性エラス1〜マー組成物に最も好
適なジエン系ポリマーはスチレン・ブタジエン系70ツ
ク共重合体あるい(はスチレン・イソプレン系フロック
共重合体−Cあり、又、本発明の現像剤か最も効果的に
用いられる。
又、(2)の成分であるエチレン性不飽和化合物、(3
)の成分である光重合開始剤としては、この種の感光性
エラスl〜マー組成物に消削的に使用されているものの
中から任意に選ぶことかできる。
このような感光性エラストマー組成物としては、例えば
、特開昭47−37521号公報、特開昭511065
01号公報、特開昭52−64301号公報、特開昭5
3−127004号公報、特開昭EM−110287号
公報、特開昭58−48744号公報、特開昭58−6
2640号公報等に記載されているものを例としてあげ
ることかできる。
上記感光性エラストマー組成物からの画像形成用に用い
る本発明の現像剤は、一般式(A>及び(B)で表わさ
れる化合物の(A>/(B:)−10010〜40/6
0 (容量比)混合物て必る。
(A)  R1GOOR2 R2ニーCnH2,−Ar <Ar−芳香族基、n−〇
〜2)で表わされるアラルキル基 C,H2nOCm H2m+1 (n 十m≦5゜n≧
1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキル基 (CrIH2nO> 20. H2m+1 (n = 
2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコキシポリオキ
シアルキレニル基 (B)  R30H RニーCH(n=3〜10)で表わされn  2n+す るアルキル基 CnH2n”Ar(A r−芳香族基、n−1〜3) (Go)−12,O> 、Cl1lH21Il、1(n
 = 2〜6.m=1〜4.a=1又は2.a・(na
+m)≦1・′4)で表わされるアルコキシポリオギシ
アレキレニル基 一般式(A)で表わされる化合物は、酢酸あるいはプロ
ピオン酸のエステル類であるか、例えばフェニルアセデ
ート、フェニルプロピオネ−i〜、ヘンシルアセデート
、ベンジルプロピオネート、2〜フエニルエチルアセテ
ート、3−メ1〜キシブヂルアセテート、3−メトキシ
ブチルプロピオネート、4−(4’  −メトキシブ1
へキシ〉ブチルアセテート、ブチルジグリコールアセテ
ート等を例としてあげることかできる。
一般式(B)で表わされる化合物はアルコール類である
が、例えばイソプロパツール、ブタノール、1−ヘプタ
ツール、2−メチルブタノール、ヘキυノール、ヘプタ
ツール、n−オクタツール、2−エチルへギサノール、
ノニルアルコール、デシルアルコール、ベンジルアルコ
ール、2−フェニルエタノール、3−メトキシブタノー
ル、2ブl〜キシエタノール、4−<4’  −メトキ
シブトキシ)ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブ
タノール等を例としてあげることかできる。
一般式(A>及び(B)で表わされる化合物は所望によ
り二種以上を組みあわせて用いても良い。
一般式(A)で表わされる化合物は感光性エラス1〜マ
ー組成物を容易に溶解する性質を有するのに対し一般式
(B>で表わされる化合物の場合、感光性エラス]〜マ
ー組成物をほとんどあるいは全く溶解しない。
一般式(B)で表わされる化合物は 1、一般式(A>で表わされる化合物による感光性エラ
ストマー組成物硬化物の膨潤を減少させる。
2、感光性エラス(〜マー組成物の表面に透明画像担体
との密着を容易にする目的て可撓性ポリマーフィルム層
か設けられている場合、このポリマーフィルムの現像液
への溶解を可能にする。
の目的で必要に応じて(A> / (B) −1001
0〜40・′60(容量比)の範囲で一般式(A)で表
わされる化合物と組みあわせて使用される。
一般式(A)で表わされる化合物の中でも感光性エラス
トマー組成物の溶解性に比し、硬化物への膨潤か少なく
、細線、細点、細字等の現像時の欠けか少なく、又、現
像後の乾゛操も比較的短時間で済むという観点から、 CH3COOCC00C0t−12nQC+1 (n十
m≦5、n≧19m≧1〉で表わされるアルコキシアル
キルアセテートや、 CH3COO(Cr、 H2nO) 2 CII+ H
2m+1 < n=2〜6.m=1〜4)で表わされる
アルコキシポリオキシアルキレニルアセテ−1〜か特に
好ましい。
従来用いられてきた塩素系の現像)8剤を用いて感光性
エラストマー組成物の現像を行なうと、乾燥後、硬化物
表面にオレンジピールと呼ばれるオレンジの皮のような
模様の汚れか生じる為、析しい現像溶剤で版面を拭き取
る工程か必要であった。
これに対し本発明の現像溶剤を用いて現像するとこのよ
うなオレンジピールは少なく、特にCH3C00Cn 
H2nOCm ]」2m+1 (n十m≦5、n≧1.
m≧1) で表わされるアルコキシアルキルアセテートを用いて現
像する場合はオレンジピールを全く生じないため、乾燥
後に新しい現像液で硬化物表面を拭き取る必要かないと
いう利点を有している。特に3−メトキシブチルアセテ
ートは優れた特性を示す。
一般的に感光性エラストマー組成物表面に透明画像担体
との密着性を向上させる目的て設【ノられる可撓性ポリ
マーフィルムとしてはセルロース誘導体やポ」ノアミド
類が用いられる。
エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等
のセルロース誘導体の場合、一般式(A)の化合物のみ
でも溶解可能であり、また、一般式(B)で表わされる
化合物としてどの溶剤でも組みあわせて用いることかで
きる。
一方、可撓性ポリマーフィルムとしてポリアミド類が用
いられる場合は感光性エラストマー組成物と同時に溶解
可能な溶剤は限られている。使用可能な溶剤としては次
の混合溶剤を例としてあげることかできる。
1、一般式(A>で表わされる化合物としでCH3CC
00CoH2nQCIIIH2+1(n+m≦5. n
≧1.m≧1)で表わされるアルコキシアルキルアセテ
−1〜 一般式(B)で表わされる化合物としてCn 8214
10日(n = 3〜10) テ表ワサレルアル」−ル を(A>/ (B)=9515〜40/’60て混合し
てなる溶剤、 これらの中では、ポリアミド系可撓性ポリマーフィルム
及び感光性エラストマー組成物双方の十分な溶解性を有
し、且つ安全上十分に高い引火点を持つという観点から
、一般式(B)で表わされる化合物のうちn=5〜7の
物を(A>/ (B)−90/10〜70/30で混合
してなる溶剤が特に好ましい。
2、一般式(A)で表わされる化合物とじてR’ C0
0R2 R’ : CH3,C2R5 R2ニーCH−Ar(Ar−芳香族基、n   2n =0〜2)で表わされるアラルキル基 (C,H2oO)  2  Cm ”2m+1  (n
  =  2〜6.m=1〜4)で表わされるアルコギ
シポリオキシアルキレニル基 一般式(B)で表わされる化合物としてAr −(gl
 H2oOH(Ar−芳@族基、「)−1〜3) を(A ) y’ (B ) =9515〜40/ 6
0て混合してなる溶剤。
一般式<A>で表わされる化合物と一般式(B)で表わ
される化合物は種々の組みあわせで用いることかできる
が、現像廃液の蒸留回収による再使用を容易にし、現像
操作中の各成分の蒸発速度の差による現像液組成の変化
を防ぐ為には、沸点の近いものを組みあわせて用いるの
か好ましい。
本発明の現像剤を用いての洗い出しは通常、ブラッシン
グ、あるいはスプレーによる吹きつ【プて行なわれる。
現像液の加温は特に必要としないので、現像装置として
は市販されているものをそのまま使用することかできる
本発明の現像剤は至濡よりも高い引火点を有しているた
め、通常の操作で特別に危険であるということはないか
、可燃物であるため火花等着火源となり得るものか現像
液あるいは現像液蒸気を多N(含む空気と接する可能性
のある構造である場合は、間仕切り等の安全対策を行な
うことか望ましい。
(実 施 例〕 以下、実施例により詳細に説明する。
実施例 1 特開昭55−、48744の実施例1に記載された方法
に従い、ポリスチレン−ポリブタジェン−ポリスチレン
ブロック共重合体くスチレン含量40%〉3句、液状1
.2−ポリブタジェン1 Kg、シオクヂルフマレート
4009、ラウリルマレイミド100g、2.2−ジメ
トキシ−2−フェニル7セトフエノン100 gを混練
して得られる感光性エラストマー組酸物をポリエステル
フィルムではさみ、厚さ2.8駅にプレスして得られた
シート30X20cmを用いて以下の検討を行った。
片側より紫外線蛍光灯にて880mJ −CIR’の露
光を行った後、反対の面のポリエステルフィルムを剥ぎ
取り透明画像担体を密省させ、紫外線蛍光灯にて600
0mJ−ctyt−2の露光を行ってレリーフを形成し
た。
現像剤として3−メトキシブチルアセテ−トコ1−ペン
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用いてロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、8分間の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得
られた。この時のシートの厚みから膨潤率を求めたとこ
ろ現像前より3.8%膨潤していた。このシートを60
°Cにて1時間乾燥したところ、版厚は完全に現像前の
状態に回復していた。レリーフの欠けは見られず、幅4
00μ白抜き線の深度は98μであった。また、レリー
フ面上にはオレンジピールは全く観察されなかった。こ
のシートにG[及びCLクランプてそれぞれ550゜1
0100O−にy−2の後露光を行った後、フレキソ印
刷機にて印刷したところ、良質な印刷物が得られた。
実施例 2 現像剤として3−メトキシブチルアセテートを用い、実
施例1に準じた方法で未露光部の溶出を行ったところ、
7分の現像で現画像を忠実に再現したレリーフが得られ
た。この時シートの膨潤率は4.0%であった。60°
Cで1時間乾燥した後の版は完全に現像前の版厚に回復
しており、レリーフの欠けは見られなかった。幅400
μ白抜き線の深度は100μであり、オレンジピールは
仝くみられなかった。
比較例 1 現像剤としてテトラクロロエチレン:n−ブタノール3
 : 1 (V/V)混合液を用い、実施例1に準じた
方法で未露光部の溶出を行ったところ、4分間の現像で
シートの膨潤率は8.3%と大きく、これを60°Cで
1時間乾燥したところ、版厚は現像前と比べて未だ1.
2%膨潤しており、もとの版厚に回復するためには更に
1日以上室温で放置する必要かあった。レリーフ面の欠
けは16箇所見られ、幅400μ白抜き線の深度は97
μであり、レリーフ面には無数のオレンジピールが見ら
れ、新しいテトラクロロエチレンに浸したカーゼて拭き
とる必要かあった。
実施例 3 その他の現像剤を用い、実加例1に準じた方法で未露光
部の溶出を行った結果を表に示す。
(以下余白) 実施例 4 特開昭47−37521に記載された方法に従ってポリ
スチレン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重
合体3Kg、ポリビニル1〜ルエン1387.1.6−
ヘキサンシオールシアクリレート1377.1.6−ヘ
キサンシオールジメタクリレーi〜1177.2.2−
ジメトキシフェニルアセトフェノン559を混練して得
られる感光性エクス1〜マー組成物をポリエステルフィ
ルム及び可溶性ポリアミド被覆されたポリエステルフィ
ルムではさみ、厚さ2.8#にプレスして得られたシー
ト30X20cm8用いて以下の検討を行った。
ポリアミド被覆面と反対の側から紫外線蛍光灯にて66
0mJ −11−#I−2の露光を行った後、ポリアミ
ド被覆面のポリエステルフィルムを剥ぎ取り、透明画像
担体をバキュームシートによって密着させ、紫外線蛍光
灯にて6000mj−c/R−2の露光を行ってレリー
フを形成した。
現像剤として3−メトキシブチルアセテート:1−ペン
タノール4 : 1 (V/V)混合液を用い、ロータ
リーブラシ型現像機にて未露光部の溶出を行ったところ
、15分間の現像で現画像を忠実に両川したレリーフが
得られ、レリーフ表面のポリアミド層は完全に溶解して
いた。幅400μ白俵き線の深磨け82μであり、レリ
ーフ面にオレンジピールは全く観察されなかった。レリ
ーフ面の欠けも見られなかった。
(発明の効果〕 本発明の感光性エクス1〜マー組成物からの画像形成用
現像剤は、作業環境上及び大気汚染防止上、好ましい非
塩素系現像剤であって、且つ、画像部となる感光性エラ
ストマー硬化物(シート)の膨潤率か低く、レリーフ面
の欠は及びオレンジビールも極めて少ない等の効果を有
している現像剤である。
特訂出願人 旭化成工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記一般式(A)及び(B)で表わされる化合物が
    (A)/(B)=100/0〜40/60(容量比)で
    配合されていることを特徴とする感光性エラストマー組
    成物からの画像形成用現像剤。 R^1COOR^2……………………(A)(式中R^
    1はCH_3又はC_2H_5であり、R^2は−C_
    nH_2_n・Ar(Ar=芳香族基、n=0〜2)で
    表わされるアラルキル基、−C_nH_2_nOC_m
    H_2_m_+_1(n+m≦5、n≧1、m≧1)で
    表わされるアルコキシアルキル基、−(C_nH_2_
    nO)_2C_mH_2_m_+_1(n=2〜6、m
    =1〜4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
    ニル基を表わす) R^3OH…………………………(B) (式中、R^3は−C_nH_2_n_+_1(n=3
    〜10)で表わされるアルキル基、−C_nH_2_n
    ・Ar(Ar=芳香族基、n=1〜3)、−(C_nH
    _2_nO)_aC_mH_2_m_+_1(n=2〜
    6、m=1〜4、a=1又は2、a/(na+m)≦1
    /4)で表わされるアルコキシポリオキシアレキレニル
    基を表わす)
JP2263892A 1990-01-22 1990-10-03 感光性エラストマー組成物用現像剤 Pending JPH0418564A (ja)

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EP91100768A EP0439123B1 (en) 1990-01-22 1991-01-22 A method for producing flexographic printing plates having a photocured image structure
US07/643,272 US5242782A (en) 1990-01-22 1991-01-22 Method for producing a photocured image structure
DE69127001T DE69127001T2 (de) 1990-01-22 1991-01-22 Verfahren zur Herstellung flexographischer Druckplatten mit photogehärteter Bildstruktur

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993010484A1 (en) * 1991-11-15 1993-05-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Developer for photosensitive elastomer composition
US5521054A (en) * 1993-06-25 1996-05-28 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developing solution comprising an aromatic hydrocarbon, an alcohol, and an ester
JP2005320513A (ja) * 2004-03-31 2005-11-17 Toyo Seikan Kaisha Ltd 酸素吸収性樹脂組成物
JP2006037068A (ja) * 2004-02-23 2006-02-09 Toyo Seikan Kaisha Ltd 酸素吸収性樹脂組成物
JP2006227174A (ja) * 2005-02-16 2006-08-31 Ricoh Co Ltd レジスト現像液及びパターン形成方法
JP2007531897A (ja) * 2003-04-24 2007-11-08 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 レジスト組成物およびレジストを除去するための有機溶剤

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040142282A1 (en) * 2001-11-27 2004-07-22 Hendrickson Constance Marie Alkyl ester developing solvent for photopolymerizable printing plates
US8349185B2 (en) 2010-10-20 2013-01-08 E I Du Pont De Nemours And Company Method for rebalancing a multicomponent solvent solution

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3891443A (en) * 1973-02-01 1975-06-24 Polychrome Corp Mat finish photosensitive relief plates
US3984582A (en) * 1975-06-30 1976-10-05 Ibm Method for preparing positive resist image
DE3012522A1 (de) * 1980-03-31 1981-10-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3118884A1 (de) * 1981-05-13 1982-12-02 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von reliefkopien
US4394435A (en) * 1981-10-01 1983-07-19 Uniroyal, Inc. Syndiotactic polybutadiene composition for a photosensitive printing plate
US4535054A (en) * 1983-05-05 1985-08-13 Hughes Aircraft Company Wet process for developing styrene polymer resists for submicron lithography
DE3446074A1 (de) * 1984-12-18 1986-06-19 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Verfahren zur herstellung von roentgen-resists
DE68926242T2 (de) * 1988-08-23 1996-09-19 Du Pont Verfahren zur herstellung von flexographischen druckreliefs

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993010484A1 (en) * 1991-11-15 1993-05-27 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Developer for photosensitive elastomer composition
US5521054A (en) * 1993-06-25 1996-05-28 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developing solution comprising an aromatic hydrocarbon, an alcohol, and an ester
US5578420A (en) * 1993-06-25 1996-11-26 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Process for producing a flexographic printing plate
JP2007531897A (ja) * 2003-04-24 2007-11-08 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 レジスト組成物およびレジストを除去するための有機溶剤
JP2006037068A (ja) * 2004-02-23 2006-02-09 Toyo Seikan Kaisha Ltd 酸素吸収性樹脂組成物
JP2005320513A (ja) * 2004-03-31 2005-11-17 Toyo Seikan Kaisha Ltd 酸素吸収性樹脂組成物
JP2006227174A (ja) * 2005-02-16 2006-08-31 Ricoh Co Ltd レジスト現像液及びパターン形成方法

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Publication number Publication date
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