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JPH04182629A - Active matrix type liquid crystal display device - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display device

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Publication number
JPH04182629A
JPH04182629A JP2311458A JP31145890A JPH04182629A JP H04182629 A JPH04182629 A JP H04182629A JP 2311458 A JP2311458 A JP 2311458A JP 31145890 A JP31145890 A JP 31145890A JP H04182629 A JPH04182629 A JP H04182629A
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JP
Japan
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electrode
liquid crystal
storage capacitors
electrodes
crystal display
Prior art date
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Application number
JP2311458A
Other languages
Japanese (ja)
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JP2938558B2 (en
Inventor
Makoto Shibusawa
誠 渋沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP31145890A priority Critical patent/JP2938558B2/en
Publication of JPH04182629A publication Critical patent/JPH04182629A/en
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Publication of JP2938558B2 publication Critical patent/JP2938558B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To decrease the level shift of an impressed voltage and to allow high-grade displaying by providing isolated electrodes in such a manner that signal electrodes and picture element electrodes form storage capacitors via insulating layers. CONSTITUTION:The 1st storage capacitors 101, 103 are formed of the signal electrodes 15a, b and the isolated electrodes 31a, b via the insulating layers and the 2nd storage capacitors 102, 104 connected in series to the 1st storage capacitors are formed of the electrodes 31a, b and the picture element electrodes 19 via the insulating layers. The level shift of an impressed voltage, i.e. DELTAVp, is sufficiently lowered by providing the storage capacitors connected in parallel with a liquid crystal capacitor Clc in such a manner. The storage capacitors are constituted by the series connection of the 1st storage capacitors and the 2nd storage capacitors, by which the impression of a constant voltage to the picture element electrodes 19 by the other storage capacitors is obviated even if a pinhole, etc., arise in the insulating films constituting at least either of the storage capacitors.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、各画素にスイッチング素子が設けられて成る
アクティブマトリックス型液晶表示装置に係り、特にそ
の構造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an active matrix liquid crystal display device in which each pixel is provided with a switching element, and particularly to its structure.

(従来の技術) 近年、液晶表示装置は軽量、低消費電力の特徴を生かし
て種々の分野で数多く利用されるようになっきた。
(Prior Art) In recent years, liquid crystal display devices have come into widespread use in various fields, taking advantage of their light weight and low power consumption.

中でも、各画素毎にスイッチング素子が設けられて成る
アクティブマトリックス型液晶表示装置は、クロストー
クが少ない高コントラスト表示が可能であることから、
特に注目を集めている。
Among these, active matrix liquid crystal display devices, in which a switching element is provided for each pixel, are capable of high contrast display with little crosstalk.
It is attracting particular attention.

アクティブマトリックス型液晶表示装置の具体的な構成
としては、例えば一対の電極間に液晶組成物が挾持され
て成っている。一方の電極基板には、複数の信号電極と
走査電極とがマトリックス状に形成され、各交差部には
画素電極が接続された薄膜トランジスタがスイッチング
素子として設置されている。また、他方の電極基板には
、画素電極に対向する対向電極が形成されている。
A specific structure of an active matrix type liquid crystal display device is, for example, a liquid crystal composition is sandwiched between a pair of electrodes. A plurality of signal electrodes and scanning electrodes are formed in a matrix on one electrode substrate, and a thin film transistor connected to a pixel electrode is installed as a switching element at each intersection. Furthermore, a counter electrode facing the pixel electrode is formed on the other electrode substrate.

ところで、このようなアクティブマトリックス型液晶表
示装置の各表示画素では、薄膜トランジスタのゲート・
ソース電極間に寄生容量Cgsが存在しているため、走
査電極からゲート電極に印加されるゲート電圧がONか
らOFFに切り替わる時に、画素電極に印加される信号
電圧はΔVpだけ負側にずれてしまう。
By the way, in each display pixel of such an active matrix type liquid crystal display device, the gate and
Since a parasitic capacitance Cgs exists between the source electrodes, when the gate voltage applied from the scanning electrode to the gate electrode switches from ON to OFF, the signal voltage applied to the pixel electrode shifts to the negative side by ΔVp. .

このΔVpは、論理的には下記(1)式で求めることが
できるもので、ΔVpが大きいと画面のフリッカとなる
こともあり、高い表示品位を確保す4ム るできなかった。
This ΔVp can be logically determined by the following equation (1), and if ΔVp is large, the screen may flicker, making it impossible to ensure high display quality.

ΔVp = (Vg、on−Vg、off )* Cg
s/ (Cgs+ Clc) −(1)Vg、On;ゲ
ートオン電圧 Cgs;ゲート・ソース間容量 Vg、off’  ;ゲートオフ電圧 C1c;液晶容量 そこで、例えば液晶容量C1cと並列に蓄積容量Cを形
成することにより、ΔVpを軽減することが行われてい
る。
ΔVp = (Vg, on-Vg, off) * Cg
s/ (Cgs+ Clc) - (1) Vg, On; Gate-on voltage Cgs; Gate-source capacitance Vg, off'; Gate-off voltage C1c; Liquid crystal capacitance Therefore, for example, a storage capacitor C is formed in parallel with the liquid crystal capacitor C1c. This is how ΔVp is reduced.

具体的な構成としては、絶縁層を介して画素電極とオー
バーラツプするように所定の電圧が印加される蓄積容量
電極を形成し蓄積容量Cを形成する方法等がとられてい
る。
As a specific structure, a storage capacitor C is formed by forming a storage capacitor electrode to which a predetermined voltage is applied so as to overlap the pixel electrode via an insulating layer.

(発明が解決しようとする課題) 蓄積容量電極を設けて液晶表示装置のΔVpを低減させ
るためには、高い絶縁層の信頼性が要求される。仮に絶
縁層にピンホール等の欠陥が存在すると、蓄積容量電極
と画素電極とがショートしてしまい、液晶組成物には常
に蓄積容量電極の電圧が印加され、表示不良を引起こす
ためである。
(Problems to be Solved by the Invention) In order to reduce ΔVp of a liquid crystal display device by providing a storage capacitor electrode, high reliability of the insulating layer is required. This is because if a defect such as a pinhole exists in the insulating layer, the storage capacitor electrode and the pixel electrode will be short-circuited, and the voltage of the storage capacitor electrode will always be applied to the liquid crystal composition, causing display defects.

そこで、上記した課題を解決するものとして、例えば特
開平1−239531号公報には複数の蓄積容量Cを直
列に接続する液晶表示装置が記載されている。このよう
に蓄積容量Cを複数個直列に接続するといった冗長設計
により、仮に一つの蓄積容量Cが絶縁層のピンホールに
よりショートしても、他の蓄積容量Cにより蓄積容量電
極と画素電極とが電気的に接続されることがないため、
良好な表示を行うことができる。
In order to solve the above-mentioned problems, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-239531 describes a liquid crystal display device in which a plurality of storage capacitors C are connected in series. With this redundant design in which multiple storage capacitors C are connected in series, even if one storage capacitor C shorts out due to a pinhole in the insulating layer, other storage capacitors C will connect the storage capacitor electrode and the pixel electrode. Since there is no electrical connection,
Good display can be performed.

しかし、絶縁層を介して画素電極とオーバーラツプする
第1の蓄積容量電極、第1の蓄積容量電極と絶縁層を介
してオーバーラツプする第2の蓄積容量電極を順次設け
ることは、製造工程の大幅な増加を招くため、好ましい
ものではなかった。
However, sequentially providing a first storage capacitor electrode that overlaps with the pixel electrode through an insulating layer and a second storage capacitor electrode that overlaps with the first storage capacitor electrode through an insulating layer requires a significant increase in the manufacturing process. This was not desirable as it led to an increase in

本発明は上述した課題に鑑がみ成されたもので、液晶表
示装置の印加電圧のレベルシフト、即ちΔVpを十分に
低減させ高品位な表示を可能とすると共に、高製造歩留
まり、高生産性を得ることができるアクティブマトリッ
クス型液晶表示装置を提供することを目的としたもので
ある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and enables high-quality display by sufficiently reducing the level shift of the applied voltage of a liquid crystal display device, that is, ΔVp, and also enables high manufacturing yield and high productivity. The object of the present invention is to provide an active matrix type liquid crystal display device that can obtain the following characteristics.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明のアクティブマトリックス型液晶表示装置は、複
数本の信号電極と走査電極とがマトリックス状に配置さ
れ、信号電極と走査電極との交差部に画素電極に接続さ
れた薄膜トランジスタを備えた第1の電極基板と、画素
電極に対向する対向電極を備えた第2の電極基板と、第
1の電極基板と第2の電極基板とによって挟持される液
晶層とを備えたアクティブマトリックス型液晶表示装置
であって、信号電極および画素電極と絶縁層を介して蓄
積容量が形成されるように設置された孤立電極とを具備
したことを特徴としたものである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The active matrix liquid crystal display device of the present invention has a plurality of signal electrodes and scanning electrodes arranged in a matrix, and intersections between the signal electrodes and the scanning electrodes. a first electrode substrate having a thin film transistor connected to the pixel electrode; a second electrode substrate having a counter electrode facing the pixel electrode; and a second electrode substrate sandwiched between the first electrode substrate and the second electrode substrate. an active matrix type liquid crystal display device, comprising a signal electrode, a pixel electrode, and an isolated electrode disposed such that a storage capacitor is formed through an insulating layer. It is something.

(作 用) 本発明のアクティブマトリックス型液晶表示装置は、上
述したように信号電極および画素電極と絶縁層を介して
蓄積容量が形成されるように孤立電極を設けるものであ
る。
(Function) As described above, the active matrix type liquid crystal display device of the present invention is provided with isolated electrodes so that a storage capacitor is formed through the signal electrode, the pixel electrode, and the insulating layer.

このような構成とすることにより、絶縁層を介して信号
電極と孤立電極とによって第1の蓄積容量が形成され、
また絶縁層を介して孤立電極と画素電極により第1の蓄
積容量に直列に接続される第2の蓄積容量が形成される
こととなる。
With such a configuration, the first storage capacitor is formed by the signal electrode and the isolated electrode via the insulating layer,
Further, a second storage capacitor is formed which is connected in series to the first storage capacitor by the isolated electrode and the pixel electrode via the insulating layer.

このように液晶容量C1cと並列に接続される蓄積容量
を設けることにより、印加電圧のレベルシフト、即ちΔ
Vpを十分に低減することができる。
By providing a storage capacitor connected in parallel with the liquid crystal capacitor C1c in this way, the level shift of the applied voltage, that is, Δ
Vp can be sufficiently reduced.

そして、第1の蓄積容量と第2の蓄積容量の直列接続で
蓄積容量を構成することにより、少なくとも一方の蓄積
容量を構成する絶縁膜にピンホール等が発生しても、他
方の蓄積容量により画素電極に定電圧が印加されること
がない。
By configuring the storage capacitor by connecting the first storage capacitor and the second storage capacitor in series, even if a pinhole or the like occurs in the insulating film that constitutes at least one storage capacitor, the other storage capacitor A constant voltage is not applied to the pixel electrode.

更に、絶縁層を介して信号電極および画素電極とオーバ
ーラツプするように孤立電極を設は複数の蓄積容量を構
成することにより、絶縁層を介して画素電極とオーバー
ラツプするように蓄積容量電極を設けていた従来の液晶
表示装置と同様の製造工程で製造することが可能である
Furthermore, by configuring a plurality of storage capacitors by providing an isolated electrode so as to overlap the signal electrode and the pixel electrode through the insulating layer, the storage capacitor electrode can be provided so as to overlap the pixel electrode through the insulating layer. It can be manufactured using the same manufacturing process as conventional liquid crystal display devices.

(実 施 例) 以下、本発明の一実施例のアクティブマトリックス型液
晶表示装置(1)を例にとり、図面を参照して詳細に説
明する。
(Example) Hereinafter, an active matrix liquid crystal display device (1) according to an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示
装置(1)の概略正面図を示し、第2図は第1図におい
てA−A’線に沿って切断した概略断面図を示すもので
ある。
FIG. 1 shows a schematic front view of the active matrix liquid crystal display device (1) of this embodiment, and FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view taken along line AA' in FIG. 1. .

アクティブマトリックス型液晶表示装置(1)は、第1
の電極基板(11)と第2の電極基板(51)とによっ
て液晶組成物(61)が挟持されて構成されている。
The active matrix liquid crystal display device (1) includes a first
A liquid crystal composition (61) is sandwiched between an electrode substrate (11) and a second electrode substrate (51).

第1の電極基板(11)は、絶縁性ガラス基板(13)
上に複数本の信号電極(15)と走査電極(17)とが
マトリックス状に形成されている。そして、これら信号
電極(15)と走査電極(17)との各交点部には、画
素電極(19)に接続された薄膜トランジスタ(21)
が設置されている。
The first electrode substrate (11) is an insulating glass substrate (13)
A plurality of signal electrodes (15) and scanning electrodes (17) are formed in a matrix on the top. A thin film transistor (21) connected to the pixel electrode (19) is located at each intersection of the signal electrode (15) and the scanning electrode (17).
is installed.

この薄膜トランジスタ(21)について詳述すると、絶
縁性ガラス基板(13)上には走査電極(17)と一体
に形成されたゲート電極(21a)が設置されており、
このゲート電極(2ia)上には酸化シコン(SiOX
)から成る絶縁層(23)が設置されている。そして、
この絶縁層(23)を介したゲート電極(21a)上に
は、i型の水素化アモルファスシリコンが半導体層(2
5)として形成されており、更に半導体層(25)上に
は互いに電気的に分離されたn型の水素化アモルファス
シリコンがドレイン領域(27)、ソース領域(29)
として形成されている。このドレイン領域(27)はモ
リブデン(MO)膜とアルミニウム(A1)膜とが積層
されたドレイン電極(21b)により信号電極(15)
に、ソース領域(29)も同様にモリブデン(M o 
)膜とアルミニウム(AI)膜とが積層されたソース電
極(2Lc)により画素電極(19)に接続されている
To explain this thin film transistor (21) in detail, a gate electrode (21a) formed integrally with a scanning electrode (17) is installed on an insulating glass substrate (13),
Silicon oxide (SiOX) is placed on this gate electrode (2ia).
) is provided. and,
On the gate electrode (21a) via this insulating layer (23), i-type hydrogenated amorphous silicon is deposited on the semiconductor layer (23).
5), and furthermore, n-type hydrogenated amorphous silicon electrically isolated from each other is formed on the semiconductor layer (25) as a drain region (27) and a source region (29).
It is formed as. This drain region (27) is connected to a signal electrode (15) by a drain electrode (21b) in which a molybdenum (MO) film and an aluminum (A1) film are laminated.
Similarly, the source region (29) is also made of molybdenum (Mo
) film and an aluminum (AI) film are stacked to form a source electrode (2Lc) connected to the pixel electrode (19).

また、本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示装
置(1)では、各画素電極(19)および各画素電極(
19)に隣接して設置される2本の信号電極(15a)
 、 (15b)と絶縁層(23)を介して重複するよ
うに2つの孤立電極(31a) 、 (31b)か夫々
形成されている。
In addition, in the active matrix liquid crystal display device (1) of this example, each pixel electrode (19) and each pixel electrode (
19) Two signal electrodes (15a) installed adjacent to
, (15b) and two isolated electrodes (31a) and (31b) are respectively formed so as to overlap with the insulating layer (23).

このようにして成る第1の電極基板(11)上には、液
晶組成物(61)を所定の方向に配向させるための低温
キュア型のポリイミド樹脂が所定方向にラビング処理さ
れて配向膜(35)として設置されている。
On the thus formed first electrode substrate (11), a low-temperature cure type polyimide resin for aligning the liquid crystal composition (61) in a predetermined direction is rubbed in a predetermined direction, and an alignment film (35 ).

また、第2の電極基板(51)は、第1の電極基板(1
1)と同様の絶縁性ガラス基板(53)上に1.T。
Further, the second electrode substrate (51) is connected to the first electrode substrate (1
1. on an insulating glass substrate (53) similar to 1). T.

0、 (Indium Tin 0xide)が共通電
極(55)として設置され、この共通電極(55)上に
はアルミニウムがマトリックス状に形成されて成る遮光
層(57)が設置されている。この遮光層(57)は、
第1の電極基板(11)に形成されている薄膜トランジ
スタ(21)に光が照射されることに起因して誤動作す
ることを防止する目的で設けられている。
0.0 (Indium Tin Oxide) is installed as a common electrode (55), and a light shielding layer (57) made of aluminum formed in a matrix is installed on this common electrode (55). This light shielding layer (57) is
This is provided for the purpose of preventing malfunction due to irradiation of light to the thin film transistor (21) formed on the first electrode substrate (11).

このようにして成る第2の電極基板(51)上にも液晶
組成物(61)を所定の方向に配向させるための低温キ
ュア型のポリイミド樹脂が所定方向にラビング処理され
て配向膜(58)として設置されている。
Also on the thus formed second electrode substrate (51), a low-temperature cure type polyimide resin for aligning the liquid crystal composition (61) in a predetermined direction is rubbed in a predetermined direction to form an alignment film (58). It is set up as.

そして、このような第1の電極基板(11)と第2の電
極基板(55)とによって液晶組成物(61)が所定の
間隔で挟持されている。
A liquid crystal composition (61) is sandwiched between the first electrode substrate (11) and the second electrode substrate (55) at a predetermined interval.

更に、第1の電極基板(11)と第2の電極基板(51
)の外側面には、偏向板(39) 、 (59)が夫々
位置合わせされて設置され、本実施例のアクティブマト
リックス型液晶表示装置(1)は構成されている。
Furthermore, a first electrode substrate (11) and a second electrode substrate (51)
), polarizing plates (39) and (59) are installed in alignment with each other, thereby configuring the active matrix type liquid crystal display device (1) of this embodiment.

本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示装置(1
)は上述したような構成であることから、等価回路的に
各画素は第3図に示すようになる。
Active matrix liquid crystal display device (1) of this example
) has the above-described configuration, so each pixel has an equivalent circuit as shown in FIG.

即ち、一画素電極(19)に隣接する一方の信号電極(
15a)と画素電極(19)との間には、信号電極(1
5a)−絶縁層(23)−第1の孤立電極(31a)に
よって形成される第1の蓄積容量C1(101)と、第
1の孤立電極(31a)−絶縁層(23)一画素電極(
19)とによって形成される第2の蓄積容量C2(10
2)とが直列に接続されたものとなる。
That is, one signal electrode (19) adjacent to one pixel electrode (19)
There is a signal electrode (15a) between the pixel electrode (19) and the pixel electrode (19).
5a) - Insulating layer (23) - First storage capacitor C1 (101) formed by first isolated electrode (31a), first isolated electrode (31a) - Insulating layer (23) one pixel electrode (
19) and the second storage capacitor C2(10
2) are connected in series.

また、他方の信号電極(15b)と画素電極(19)と
の間にも、信号電極(15b)−絶縁層(23)−第2
の孤立電極(31b)によって形成される第3の蓄積容
量C3(103)と、第2の孤立電極(31b)−絶縁
層(23)一画素電極(19)とによって形成される第
4の蓄積容量C4(104)とが直列に接続されている
こととなる。
Also, between the other signal electrode (15b) and the pixel electrode (19), the signal electrode (15b) - the insulating layer (23) - the second
A third storage capacitor C3 (103) formed by the isolated electrode (31b), and a fourth storage capacitor C3 (103) formed by the second isolated electrode (31b)-insulating layer (23) one pixel electrode (19) This means that the capacitor C4 (104) is connected in series.

従って、単に信号電極(15a) 、 (L5b)と孤
立電極(31a)、 (31b)との間の絶縁層(23
)にピンホール等が発生しても、孤立電極(31a) 
、 (31b)−絶縁層(23)一画素電極(19)と
により蓄積容量C2(102) 。
Therefore, simply the insulating layer (23) between the signal electrodes (15a), (L5b) and the isolated electrodes (31a), (31b)
) Even if a pinhole etc. occurs in the isolated electrode (31a)
, (31b) - Storage capacitance C2 (102) formed by the insulating layer (23) and one pixel electrode (19).

C4(104)が形成されているため、画素電極(19
)に信号電圧が印加されるといったことがない。
Since C4 (104) is formed, the pixel electrode (19
) is never applied with a signal voltage.

このことは、孤立電極(31a) 、 (31b)と画
素電極(19)との間の絶縁層(23)にピンホール等
が発生しても同様であり、絶縁層(23)のピンホール
等に起因する表示不良を大幅に低減することができ、製
造歩留まりを向上させることができる。
This also applies when pinholes etc. occur in the insulating layer (23) between the isolated electrodes (31a), (31b) and the pixel electrode (19), and pinholes etc. in the insulating layer (23) occur. Display defects caused by this can be significantly reduced, and manufacturing yield can be improved.

更に、本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示装
置(1)では、蓄積容量CI(101) 、  C2(
102) 、  C3(103) 、  C4(104
)を形成することにより、ゲート電極(121a)とソ
ース電極(121c)との間に形成される寄生容量Cg
sにより、走査電極(107)に印加される電圧がON
からOFFに切り替わる時に生じるレベルシフトを軽減
させることができる。これにより、高品位な表示が可能
なアクティブマトリックス型液晶表示装置(1)とする
ことができた。
Furthermore, in the active matrix liquid crystal display device (1) of this embodiment, the storage capacitances CI (101) and C2 (
102), C3 (103), C4 (104
), the parasitic capacitance Cg formed between the gate electrode (121a) and the source electrode (121c) is reduced.
s turns the voltage applied to the scanning electrode (107) ON.
It is possible to reduce the level shift that occurs when switching from to OFF. As a result, an active matrix liquid crystal display device (1) capable of high-quality display could be obtained.

また、本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示装
置(1)では、上述したように一画素電極(19)に隣
接する一方の信号電極(15a)および画素電極(19
)と絶縁層(23)を介して重複するように設けられた
第1の孤立電極(31a)の他に、一画素電極(19)
に隣接する他方の信号電極(15b)および画素電極(
19)と絶縁層(23)を介し重複するように第2の孤
立電極(31,b)を設けた構成とした。そして、この
ような構成と組合わせて、隣接する信号電極(15a)
 、 (15b)に印加される信号電圧の極性を例えば
1ライン毎に反転させて駆動することにより、特に蓄積
容量C1(101) 、  C2(102) 。
In addition, in the active matrix liquid crystal display device (1) of this embodiment, one signal electrode (15a) adjacent to one pixel electrode (19) and one pixel electrode (19) are arranged as described above.
) and the first isolated electrode (31a) provided so as to overlap with each other via the insulating layer (23), one pixel electrode (19)
The other signal electrode (15b) and pixel electrode (15b) adjacent to
The second isolated electrode (31, b) was provided so as to overlap with the second isolated electrode (31, b) via the insulating layer (23). In combination with such a configuration, adjacent signal electrodes (15a)
, (15b) by inverting the polarity of the signal voltage applied to each line, for example, to drive the storage capacitors C1 (101) and C2 (102).

C3(103) 、  C4(104)が信号電極(1
5a) 、 (15b)の極性に影響されて表示に悪影
響を与えることを防止することができた。
C3 (103) and C4 (104) are signal electrodes (1
It was possible to prevent the display from being adversely affected by the polarity of 5a) and (15b).

更に、本実施例のアクティブマトリックス型液晶表示装
置(1)の構造によれば、例えば薄膜トランジスタ(2
1)のゲート電極(21a)の形成と同一の工程で蓄積
容量C1(101) 、 C2(102) 、  C3
(103) 、  C4(104)を構成する孤立電極
(31a)。
Furthermore, according to the structure of the active matrix liquid crystal display device (1) of this embodiment, for example, thin film transistors (2
Storage capacitors C1 (101), C2 (102), C3 are formed in the same process as forming the gate electrode (21a) in 1).
(103), an isolated electrode (31a) forming C4 (104).

(31b)を製造する他は、従来と同様の工程でアクテ
ィブマトリックス型液晶表示装M(1)を製造すること
が可能である。このため、本実施例のアクティブマトリ
ックス型液晶表示装置(1)は複数の蓄積容量電極およ
び絶縁層を積層して蓄積容量を直列に接続するものに比
べて製造工程を大幅に低減できる。
The active matrix type liquid crystal display device M(1) can be manufactured by the same steps as the conventional method except for manufacturing (31b). Therefore, the active matrix liquid crystal display device (1) of this embodiment can significantly reduce the manufacturing process compared to a device in which a plurality of storage capacitor electrodes and insulating layers are stacked and storage capacitors are connected in series.

また、孤立電極(31a) 、 (31b)をに1. 
T、 O。
In addition, the isolated electrodes (31a) and (31b) are connected to 1.
T.O.

等により形成することを考えても、複数の蓄積容量電極
および絶縁層を積層する必要がな(、生産性を大幅に低
下させることはない。
Even if it is considered that a plurality of storage capacitor electrodes and insulating layers are formed, it is not necessary to laminate a plurality of storage capacitor electrodes and insulating layers (and the productivity will not be significantly reduced).

[発明の効果] 以上詳述したように、本発明の液晶表示装置によれば、
信号電極および画素電極と絶縁層を介してオラーバーラ
ップするように設置される孤立電極を設けることにより
、少なくとも1つの絶縁層により複数の蓄積容量が直列
接続により形成されることとなる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the liquid crystal display device of the present invention,
By providing isolated electrodes that overlap the signal electrode and the pixel electrode via the insulating layer, a plurality of storage capacitors are formed by series connection using at least one insulating layer.

このため、製造工程を大幅に増加させることなく複数の
蓄積容量が直列接続される構成とすることができる。
Therefore, a configuration in which a plurality of storage capacitors are connected in series can be achieved without significantly increasing the manufacturing process.

また、複数の蓄積容量を直列接続とすることにより、一
方の蓄積容量を形成する絶縁層にピンホール等が発生し
ても表示不良となることがない。
Furthermore, by connecting a plurality of storage capacitors in series, display defects will not occur even if pinholes or the like occur in the insulating layer forming one of the storage capacitors.

このため、製造歩留まりを向上させ、長期間にわたり画
素欠陥の発生を防止することができる。
Therefore, manufacturing yield can be improved and pixel defects can be prevented for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例のアクティブマトリックス型
液晶表示装置の概略正面図、第2図は第1図におけるア
クティブマトリックス型液晶表示装置をA−A’線に沿
って切断した概略断面図、第3図は第1図におけるアク
ティブマトリックス型液晶表示装置の一表示画素の等価
回路図を示すものである。 (1)≧アクティブマトリックス型液晶表示装置(15
)・・・信号電極    (17)・・・走査電極(1
9)・・・画素電極 (21)・・・薄膜トランジスタ (23)・・・絶縁層 (31a)、(31b) ・・・孤立電極(61)・・
・液晶組成物 (101) 、 (102) 、 (103) 、 (
104)・・・蓄積容量代理人 弁理士 則 近 憲 
佑 同    竹 花 喜久男 fl 77ライブマ円・7又1走虐、1駄1第1図 1            [ 第3図
FIG. 1 is a schematic front view of an active matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view of the active matrix type liquid crystal display device in FIG. 1 taken along line AA'. , FIG. 3 shows an equivalent circuit diagram of one display pixel of the active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. (1) ≧ Active matrix liquid crystal display device (15
)...Signal electrode (17)...Scanning electrode (1
9)...Pixel electrode (21)...Thin film transistor (23)...Insulating layer (31a), (31b)...Isolated electrode (61)...
・Liquid crystal composition (101), (102), (103), (
104)...Storage Capacity Agent Patent Attorney Nori Chika
Yudo Takehana Kikuo fl 77 live maen, 7 prongs 1 run, 1 da 1 1st figure 1 [ 3rd figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】  複数本の信号電極と走査電極とがマトリックス状に配
置され、前記信号電極と前記走査電極との交差部に画素
電極に接続された薄膜トランジスタを備えた第1の電極
基板と、前記画素電極に対向する対向電極を備えた第2
の電極基板と、前記第1の電極基板と前記第2の電極基
板とによって挟持される液晶層とを備えたアクティブマ
トリックス型液晶表示装置において、 前記信号電極および前記画素電極と絶縁層を介して蓄積
容量が形成されるように設置された孤立電極とを具備し
たことを特徴としたアクティブマトリックス型液晶表示
装置。
[Scope of Claims] A first electrode substrate including a plurality of signal electrodes and scanning electrodes arranged in a matrix, and a thin film transistor connected to a pixel electrode at an intersection of the signal electrode and the scanning electrode; , a second electrode comprising a counter electrode facing the pixel electrode.
an active matrix liquid crystal display device comprising: an electrode substrate; and a liquid crystal layer sandwiched between the first electrode substrate and the second electrode substrate; 1. An active matrix liquid crystal display device comprising isolated electrodes arranged so as to form a storage capacitor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007310351A (en) * 2006-05-18 2007-11-29 Lg Phillips Lcd Co Ltd Array substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0815670A (en) * 1994-06-28 1996-01-19 Nec Corp Active matrix liquid crystal display device
JP2007310351A (en) * 2006-05-18 2007-11-29 Lg Phillips Lcd Co Ltd Array substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof
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