JPH0416713A - Optical linear encoder - Google Patents
Optical linear encoderInfo
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- JPH0416713A JPH0416713A JP12169590A JP12169590A JPH0416713A JP H0416713 A JPH0416713 A JP H0416713A JP 12169590 A JP12169590 A JP 12169590A JP 12169590 A JP12169590 A JP 12169590A JP H0416713 A JPH0416713 A JP H0416713A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、固定回折格子に、スリット位置を回折格子の
相対移動方向に所定距離づつずらして配置した複数列の
測定用スリットと、その測定用スリットの中の基準スリ
ットと同一位相で、かつ回折格子の相対移動方向と直角
方向にその基準スリットから所定距離離して配置した位
相補正用スリットとを設け、基準スリットからの信号と
位相補正用スリットからの信号との位相差を測定し、そ
の測定した位相差に基づいて測定用スリットからの信号
の位相を補正するものである。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention provides a fixed diffraction grating with a plurality of rows of measurement slits arranged with the slit positions shifted by a predetermined distance in the direction of relative movement of the diffraction grating, and A phase correction slit is provided which has the same phase as the reference slit in the center and is placed a predetermined distance from the reference slit in a direction perpendicular to the direction of relative movement of the diffraction grating. The phase difference with the signal is measured, and the phase of the signal from the measurement slit is corrected based on the measured phase difference.
これにより、変位測定の為の信号から回折格子間の面内
回転による位相ずれを除去できるので、変位測定の測定
精度をより向上させることができる。This makes it possible to remove the phase shift caused by the in-plane rotation between the diffraction gratings from the signal for displacement measurement, thereby further improving the measurement accuracy of displacement measurement.
〔産業上の利用分野]
本発明は、対向配置された回折格子を透過する光を検出
して、可動回折格子と固定回折格子の相対変位を測定す
る光学式リニアエンコーダに関する。[Industrial Application Field] The present invention relates to an optical linear encoder that measures relative displacement between a movable diffraction grating and a fixed diffraction grating by detecting light transmitted through diffraction gratings arranged opposite to each other.
従来、可動回折格子に対向配置した固定回折格子に位相
をずらした2列のスリットを設け、これらのスリットを
透過する光の強さの変化から、可動回折格子の変位を測
定する光学式リニアエンコーダが知られている。Conventionally, optical linear encoders have two rows of phase-shifted slits in a fixed diffraction grating placed opposite to a movable diffraction grating, and measure the displacement of the movable diffraction grating from changes in the intensity of light passing through these slits. It has been known.
第7図は、このような従来の光学式リニアエンコーダの
構造を示す図である。同図において、光源11から放射
される光はコリメータレンズ12により平行光に変換さ
れ、可動回折格子13とその可動回折格子13に近接し
て配置されている固定回折格子14に入射する。この可
動回折格子13には、第8図(a)に示すようにピッチ
Pで複数のスリットが設けられている。また、固定回折
格子14には、第8図(ハ)に示すように上下2列に1
/4PピツチずらしてピッチPで複数のスリットが設け
られている。さらに、可動回折格子13及び固定回折格
子14を挟んで光源11と対向する位置には、固定回折
格子14の上段のスリットを透過した光を検出して電気
信号に変換する光検出器15と、下段のスリットを透過
した光を検出して電気信号に変換する光検出器16とが
配置されている。FIG. 7 is a diagram showing the structure of such a conventional optical linear encoder. In the figure, light emitted from a light source 11 is converted into parallel light by a collimator lens 12, and enters a movable diffraction grating 13 and a fixed diffraction grating 14 disposed close to the movable diffraction grating 13. This movable diffraction grating 13 is provided with a plurality of slits at a pitch P, as shown in FIG. 8(a). In addition, the fixed diffraction grating 14 is provided with one
A plurality of slits are provided at a pitch P shifted by /4P pitch. Furthermore, at a position facing the light source 11 with the movable diffraction grating 13 and the fixed diffraction grating 14 in between, there is a photodetector 15 that detects the light transmitted through the upper slit of the fixed diffraction grating 14 and converts it into an electrical signal. A photodetector 16 is arranged to detect the light transmitted through the lower slit and convert it into an electrical signal.
上記の構成の光学式リニアエンコーダにおいて、可動回
折格子13がX方向に移動したとすると、光検出器15
で検出される光信号強度は、可動回折格子13のスリッ
トと固定回折格子14のスリットが一致したとき最大と
なり、両者のスリット位置が180°ずれたとき最小と
なる。ここで、固定回折格子14の上段のスリットと下
段のスリットとはP/4位相がずらして配置されている
ので、光検出器15.16の検出信号は、第9図(a)
、(′b)に示すような90°位相差を持った波形とな
る。そして、それらの検出信号を2値化した信号波形は
、第9図(C)、(5)に示すような波形となる。さら
に両者の2値化信号波形の工・ンジを検出した信号波形
は、第8図(e)に示す波形となる。このエツジ検出信
号はP/4間隔で発生する信号となるので、エツジ検出
信号のパルス数を計数することにより、可動回折格子1
3の変位ΔXを、ΔX=P/4 X (パルス数)とし
て求めることができる。In the optical linear encoder with the above configuration, if the movable diffraction grating 13 moves in the X direction, the photodetector 15
The intensity of the optical signal detected is maximum when the slits of the movable diffraction grating 13 and the slits of the fixed diffraction grating 14 coincide, and is minimum when the slit positions of both are deviated by 180°. Here, since the upper slit and the lower slit of the fixed diffraction grating 14 are arranged with a P/4 phase shift, the detection signals of the photodetectors 15 and 16 are as shown in FIG. 9(a).
, the waveform has a 90° phase difference as shown in ('b). The signal waveforms obtained by binarizing these detection signals have waveforms as shown in FIGS. 9(C) and (5). Further, the signal waveform obtained by detecting the difference between the two binarized signal waveforms becomes the waveform shown in FIG. 8(e). This edge detection signal is a signal generated at P/4 intervals, so by counting the number of pulses of the edge detection signal, the movable diffraction grating 1
The displacement ΔX of 3 can be obtained as ΔX=P/4 X (number of pulses).
上述したように光検出器15、I6で検出した信号のエ
ツジ検出信号から変位ΔXが算出でき為には、可動回折
格子13と固定回折格子14とのスリットが平行になっ
ていることが前提となる。As described above, in order to be able to calculate the displacement ΔX from the edge detection signals of the signals detected by the photodetectors 15 and I6, it is assumed that the slits of the movable diffraction grating 13 and the fixed diffraction grating 14 are parallel. Become.
しかしながら、2つの回折格子のスリットを完全に平行
に配置することは困難であり、実際には何らかの角度ず
れを持って配置されている。この両者の角度ずれを面内
回転角と呼んでいる。面内回転角が零でないと、固定回
折格子14の上段のスリットを通過した光と、下段のス
リットを通過した光の位相差が正確にP/4とならず、
例えば第10図に示すようにエツジ検出信号の位相が面
内回転角分だけずれて、変位測定の誤差が生じてしまう
という問題点があった。However, it is difficult to arrange the slits of the two diffraction gratings completely parallel, and in reality they are arranged with some kind of angular deviation. This angular deviation between the two is called the in-plane rotation angle. If the in-plane rotation angle is not zero, the phase difference between the light passing through the upper slit of the fixed diffraction grating 14 and the light passing through the lower slit will not be exactly P/4.
For example, as shown in FIG. 10, there is a problem in that the phase of the edge detection signal is shifted by the in-plane rotation angle, resulting in an error in displacement measurement.
そこで、従来は可動回折格子13と固定回折格子14と
を配置する際に、面内回転を抑える為の調整機構を設け
ていた。Therefore, conventionally, when arranging the movable diffraction grating 13 and the fixed diffraction grating 14, an adjustment mechanism was provided to suppress in-plane rotation.
本発明の課題は、可動回折格子と固定回折格子間の面内
回転による位相ずれを電気的に補正できるようにするこ
とである。An object of the present invention is to enable electrical correction of a phase shift due to in-plane rotation between a movable diffraction grating and a fixed diffraction grating.
〔課題を解決するための手段) 第1図(a)、(b)は、本発明の原理説明図である。[Means to solve the problem] FIGS. 1(a) and 1(b) are diagrams explaining the principle of the present invention.
対向配置された第1回折格子1と第2回折格子2とを経
て入射する光源3からの光を検出して、第1回折格子1
と第2回折格子2との相対変位を測定する光学式リニア
エンコーダにおいて、第2回折格子2は、同一ピッチで
、かつスリット位置を回折格子の相対移動方向に所定距
離づつずらして配置された複数列の測定用スリット31
,32・・・と、その複数列のスリットの中の基準スリ
ッ)Sz と同一位相で、かつ回折格子の相対移動方向
と直角方向にその基準スリットs+から所定距離熱れて
配置された位相補正用スリットSnとを有している。こ
の第2回折格子2は、例えば固定回折格子であり、第1
回折格子1は可動回折格子である。Detecting the light from the light source 3 which is incident through the first diffraction grating 1 and the second diffraction grating 2 which are arranged oppositely, the first diffraction grating 1
In the optical linear encoder that measures the relative displacement between the second diffraction grating 2 and the second diffraction grating 2, the second diffraction grating 2 has a plurality of slits arranged at the same pitch and with the slit positions shifted by a predetermined distance in the relative movement direction of the diffraction grating. Column measurement slit 31
, 32..., and a phase correction which is in the same phase as the reference slit (Sz) in the plurality of rows of slits, and which is heated and placed at a predetermined distance from the reference slit s+ in a direction perpendicular to the direction of relative movement of the diffraction grating. slit Sn. This second diffraction grating 2 is, for example, a fixed diffraction grating, and the first
Diffraction grating 1 is a movable diffraction grating.
第1図(b)に示した第2回折格子2は、n個のスリッ
ト列で構成されているが、特にn個である必要はなく、
少なくとも位相補正の為の基準スリットと補正用スリッ
トと1個以上の変位測定用スリットとがあればよい。The second diffraction grating 2 shown in FIG. 1(b) is composed of n slit rows, but there is no particular need for n slit rows.
It is sufficient to have at least a reference slit for phase correction, a correction slit, and one or more displacement measurement slits.
光検出器4は、上記第1回折格子1と第2回折格子2と
を経て入射する光を検出して電気信号に変換するもので
ある。The photodetector 4 detects the light incident through the first diffraction grating 1 and the second diffraction grating 2 and converts it into an electrical signal.
位相差測定部5は、基準スリットSIからの信号と、位
相補正用スリットSnからの信号との位相差を測定する
回路である。The phase difference measurement unit 5 is a circuit that measures the phase difference between the signal from the reference slit SI and the signal from the phase correction slit Sn.
また、位相補正部6は、上記位相差測定部5で測定され
る位相差に基づいて、複数列の測定用スリン)S+ 、
Sz ・・・を経て入射し、光検出器4で検出される
信号の位相を補正する。Further, the phase correction section 6 calculates a plurality of columns of measurement sulins) S+, based on the phase difference measured by the phase difference measurement section 5.
Sz... and corrects the phase of the signal detected by the photodetector 4.
上記のように基準スリットSlと位相補正用スリット位
置とが配置されているので、2つの回折格子間の面内回
転角が零のときには、位相差測定部5で測定される両ス
リットからの信号の位相差は零となり、2つの回折格子
間の面内回転角が零でないときには、その面内回転角に
よる生じる位相ずれが、両スリットからの信号の位相差
として位相差測定部5で測定される。すなわち、基準ス
リットSLと位相補正用スリットSaとの位相差を測定
することで、2つの回折格子間の面内回転による位相ず
れ量を求めることができる。Since the reference slit Sl and the phase correction slit position are arranged as described above, when the in-plane rotation angle between the two diffraction gratings is zero, the signals from both slits measured by the phase difference measuring section 5 The phase difference between the two diffraction gratings becomes zero, and when the in-plane rotation angle between the two diffraction gratings is not zero, the phase shift caused by the in-plane rotation angle is measured by the phase difference measurement unit 5 as the phase difference between the signals from both slits. Ru. That is, by measuring the phase difference between the reference slit SL and the phase correction slit Sa, the amount of phase shift due to in-plane rotation between the two diffraction gratings can be determined.
従って、回折格子間の相対変位を測定する為の測定用ス
リン) (S+ 、Szなど)からの信号位相を、位相
測定部5で測定された位相差から計算される各信号の位
相差相当分だけ補正することにより、測定信号から面内
回転による位相ずれ分を取り除き、測定精度をより向上
させることができる。Therefore, the signal phase from the measuring ring (S+, Sz, etc.) for measuring the relative displacement between the diffraction gratings is calculated from the phase difference of each signal calculated from the phase difference measured by the phase measuring section 5. By correcting this, the phase shift due to in-plane rotation can be removed from the measurement signal, and measurement accuracy can be further improved.
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第2図は、本発明の実施例の光学式リニアエンコーダの
構成図である。同図において、光源である半導体レーザ
11から放射される光は、コリメータレンズ12により
平行光に変換され、可動回折格子13及び固定回折格子
17に照射される。FIG. 2 is a configuration diagram of an optical linear encoder according to an embodiment of the present invention. In the figure, light emitted from a semiconductor laser 11 serving as a light source is converted into parallel light by a collimator lens 12, and is irradiated onto a movable diffraction grating 13 and a fixed diffraction grating 17.
これら可動回折格子13及び固定回折格子17を通過し
た光は、拡大レンズ18を経て複数の光検出器からなる
ディテクタアレイ19に入射して電気信号に変換される
。The light that has passed through the movable diffraction grating 13 and the fixed diffraction grating 17 passes through a magnifying lens 18, enters a detector array 19 consisting of a plurality of photodetectors, and is converted into an electrical signal.
可動回折格子13は、第3図(a)に示すように一定の
ピッチPで配置された複数個のスリット13aからなり
、X方向に移動可能となっている。また、固定回折格子
17は、第3図(b)に示すように同一ピッチPのn個
のスリット列S1〜Snで構成されており、各スリット
列は、それぞれスリット位置を可動回折格子13の移動
方向Xに所定距離(例えば、P/n )づつずらして配
置されており、n番目のスリットSn(位相補正用スリ
ット)は1番目のスリットS、(基準スリット)と同位
相となっている。なお、本実施例で固定回折格子17に
n個のスリット列を設はスリットに位相差を持たせて配
置しているのは、変位測定の際の位置検出分解能を高め
る為であり、スリット列の数及び配置はこれに限らず、
測定に必要な位置検出分解能、ピッチP等により適宜配
置すればよい。The movable diffraction grating 13 consists of a plurality of slits 13a arranged at a constant pitch P, as shown in FIG. 3(a), and is movable in the X direction. Further, the fixed diffraction grating 17 is composed of n slit rows S1 to Sn with the same pitch P, as shown in FIG. They are arranged to be shifted by a predetermined distance (for example, P/n) in the moving direction X, and the nth slit Sn (phase correction slit) is in the same phase as the first slit S (reference slit). . In this embodiment, the fixed diffraction grating 17 is provided with n slit rows, and the slits are arranged with a phase difference in order to increase the position detection resolution during displacement measurement. The number and arrangement of
They may be arranged as appropriate depending on the position detection resolution, pitch P, etc. required for measurement.
ディテクタアレイ19は、スリット51〜S、。The detector array 19 includes slits 51 to 51S.
のそれぞれの透過光を検出するn個の光検出器からなり
、それぞれの光検出器の検出信号を後述する信号選択部
20及び位相差測定部21に出力する。It consists of n photodetectors that detect the transmitted light of each of them, and outputs the detection signal of each photodetector to a signal selection section 20 and a phase difference measurement section 21, which will be described later.
次に、可動回折格子13を移動させたときの変位測定動
作を、第4図の変位測定部の回路構成図及び第5図の信
号波形図を参照しながら説明する。Next, the displacement measuring operation when moving the movable diffraction grating 13 will be explained with reference to the circuit configuration diagram of the displacement measuring section in FIG. 4 and the signal waveform diagram in FIG. 5.
第4図の変位測定部は、ディテクタアレイ19で検出さ
れる変位測定信号から、回折格子の面内回転による生じ
る位相ずれ量を取り除いて、可動回折格子13の変位を
測定する回路である。同図において、信号選択部20は
、エンコーダ制御部22の制御の基に、ディレクタアレ
イ19で検出されるn個の検出信号(モアレ信号)を順
次選択して位相差補正部23に出力する回路である。The displacement measurement section in FIG. 4 is a circuit that measures the displacement of the movable diffraction grating 13 by removing the amount of phase shift caused by in-plane rotation of the diffraction grating from the displacement measurement signal detected by the detector array 19. In the same figure, the signal selection section 20 is a circuit that sequentially selects n detection signals (moiré signals) detected by the director array 19 under the control of the encoder control section 22 and outputs them to the phase difference correction section 23. It is.
位相差測定部21は、固定回折格子17の1番目のスリ
ットSt とn番目のスリットS、lとの(立相差を測
定する回路である。The phase difference measurement unit 21 is a circuit that measures the phase difference between the first slit St and the n-th slits S and l of the fixed diffraction grating 17.
本実施例では、スリットS1とスリットS1は同位相と
なるように配置しであるので、これら2つのスリットを
透過した光をディテクタアレイ19で検出したときには
、それらの検出信号の位相差は零となるはずである。と
ころが、実際には2つの回折格子が一定の面内回転を持
っているので、両スリットからの検出信号は、面内回転
により生じる位相ずれ分だけ位相がずれる。従って、両
スリットからの信号の位相差を測定することで、2つの
回折格子の面内回転により生じる位相ずれ量を求めるこ
とができる。In this embodiment, the slit S1 and the slit S1 are arranged so that they have the same phase, so when the detector array 19 detects the light that has passed through these two slits, the phase difference between the detection signals is zero. It should be. However, since the two diffraction gratings actually have a certain in-plane rotation, the detection signals from both slits are out of phase by the phase shift caused by the in-plane rotation. Therefore, by measuring the phase difference between the signals from both slits, it is possible to determine the amount of phase shift caused by the in-plane rotation of the two diffraction gratings.
位相差測定部21では、例えば第5図に示すように、デ
ィテクタアレイ19で検出される基準信号yI (基準
スリットStからの信号)が、予め定めた信号強度■と
なったとき、位相補正用スリットSnからの信号y2を
取り込み、両者の信号強度差の絶対値ΔIを算出してい
る。ここで、信号の強度差Δ■と位相差Φとの間には、
第6図に示すような関係があるので、強度差ΔIが求め
られれば両信号の位相差Φを算出することができる。In the phase difference measuring section 21, for example, as shown in FIG. The signal y2 from the slit Sn is taken in, and the absolute value ΔI of the difference in signal strength between the two is calculated. Here, between the signal strength difference Δ■ and the phase difference Φ,
Since there is a relationship as shown in FIG. 6, if the intensity difference ΔI is determined, the phase difference Φ between both signals can be calculated.
位相差補正部23は、位相差測定部21で測定される位
相差に基づいて、信号選択部20から出力される信号の
位相を補正する回路であり、補正した信号をエンコード
信号として出力する。The phase difference correction section 23 is a circuit that corrects the phase of the signal output from the signal selection section 20 based on the phase difference measured by the phase difference measurement section 21, and outputs the corrected signal as an encoded signal.
今、位相差測定部21で測定されたスリットS1からの
信号とスリットSnからの信号との位相差をΦとすると
、k番目のスリットS、の信号の面内回転による位相ず
れ量は、Φh = ((k−1)/ (n−1) )×
Φで表せる。Now, if the phase difference between the signal from the slit S1 and the signal from the slit Sn measured by the phase difference measurement unit 21 is Φ, the amount of phase shift due to in-plane rotation of the signal of the k-th slit S is Φh = ((k-1)/(n-1))×
It can be expressed as Φ.
従って、そのときの位相ずれが正か、あるいは負かを判
断して、その位相ずれ量Φkをに番目のスリットSkか
らの信号に減算、あるいは加算することにより、測定さ
れた信号から回折格子の面内回転による位相ずれの影響
を取り除くことができる。これにより、回折格子の面内
回転を調整する為の機械的調整機構が不要となる。また
、位相ずれの補正を電気的に行っているので経時変化が
なく、機械的振動等により回折格子間のずれが大きくな
って位相ずれが大きくなることもない。Therefore, by determining whether the phase shift at that time is positive or negative, and subtracting or adding the amount of phase shift Φk to the signal from the second slit Sk, the measured signal can be calculated from the diffraction grating. The influence of phase shift due to in-plane rotation can be removed. This eliminates the need for a mechanical adjustment mechanism for adjusting the in-plane rotation of the diffraction grating. Further, since the phase shift is corrected electrically, there is no change over time, and the phase shift does not increase due to the shift between the diffraction gratings due to mechanical vibration or the like.
本発明によれば、第2回折格子に設けた位相補正用スリ
ット等からの信号の位相差から、回折格子の面内回転に
よる生じる位相ずれ量を補正することができるので、機
械的な調整機構を不要とし、変位測定の測定精度を向上
させることができる。According to the present invention, the amount of phase shift caused by in-plane rotation of the diffraction grating can be corrected from the phase difference of the signal from the phase correction slit etc. provided in the second diffraction grating. This makes it possible to improve the accuracy of displacement measurement.
第1図は、本発明の原理説明図、
第2図は、本発明の実施例の光学式リニアエンコーダの
構成図、
第3図は、回折格子の構造図、
第4図は、変位測定部の回路構成図、
第5図は、光検出器の検出信号波形を示す図、第6図は
、検出信号強度と位相差との関係の説明図、
第7図は、従来の光学式リニアエンコーダの構成図、
第8図は、第7図の回折格子の構造図、第9図は、光検
出信号波形図、
第10図は、面内回転による位相ずれの説明図である。
■・・・第1回折格子、
2・・・第2回折格子、
3・・・光源、
4・・・光検出器、
5・・・位相差測定部、
6・・・位相補正部。Figure 1 is a diagram explaining the principle of the present invention. Figure 2 is a configuration diagram of an optical linear encoder according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a structural diagram of a diffraction grating. Figure 4 is a displacement measuring section. 5 is a diagram showing the detection signal waveform of the photodetector, FIG. 6 is an explanatory diagram of the relationship between the detection signal strength and the phase difference, and FIG. 7 is a conventional optical linear encoder. 8 is a structural diagram of the diffraction grating of FIG. 7, FIG. 9 is a waveform diagram of a photodetection signal, and FIG. 10 is an explanatory diagram of phase shift due to in-plane rotation. ■...First diffraction grating, 2...Second diffraction grating, 3...Light source, 4...Photodetector, 5...Phase difference measurement section, 6...Phase correction section.
Claims (1)
射する光源からの光を検出して、第1回折格子と第2回
折格子との相対変位を測定する光学式リニアエンコーダ
において、 同一ピッチで、スリット位置を回折格子の相対移動方向
に所定距離づつずらして配置した複数列の測定用スリッ
トと、前記複数列のスリットの中の基準スリットと同一
位相で、かつ回折格子の相対移動方向と直角方向に基準
スリットから所定距離離して配置した位相補正用スリッ
トとからなる第2回折格子と、 前記第1回折格子と第2回折格子とを経て入射する光を
検出する光検出器と、 前記基準スリットを経て入射し光検出器で検出された信
号と、位相補正用スリットとを経て入射し光検出器にお
いて検出された信号との位相差を測定する位相差測定部
と、 前記第2回折格子の複数列の測定用スリットを経て入射
し光検出器において検出された信号の位相を、前記位相
差測定部で測定される位相差に基づいて補正する位相補
正部とを備えることを特徴とする光学式リニアエンコー
ダ。[Scope of Claims] An optical system that detects light from a light source that enters through a first diffraction grating and a second diffraction grating that are arranged opposite each other to measure the relative displacement between the first diffraction grating and the second diffraction grating. In a linear encoder, a plurality of rows of measurement slits are arranged at the same pitch and the slit positions are shifted by a predetermined distance in the direction of relative movement of the diffraction grating, and a reference slit among the plurality of rows of slits is in the same phase, and a second diffraction grating comprising a phase correction slit arranged at a predetermined distance from a reference slit in a direction perpendicular to the direction of relative movement of the diffraction grating, and detecting light incident through the first diffraction grating and the second diffraction grating. phase difference measurement that measures the phase difference between a signal that enters through the reference slit and is detected by the photodetector, and a signal that enters through the phase correction slit and is detected by the photodetector. and a phase correction section that corrects the phase of the signal that is incident through the plurality of rows of measurement slits of the second diffraction grating and detected by the photodetector, based on the phase difference measured by the phase difference measurement section. An optical linear encoder comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12169590A JPH0416713A (en) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | Optical linear encoder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12169590A JPH0416713A (en) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | Optical linear encoder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0416713A true JPH0416713A (en) | 1992-01-21 |
Family
ID=14817594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12169590A Pending JPH0416713A (en) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | Optical linear encoder |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0416713A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017191103A (en) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 信得 曾 | Positive direction focus scan-type light-guiding encoder |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP12169590A patent/JPH0416713A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017191103A (en) * | 2016-04-15 | 2017-10-19 | 信得 曾 | Positive direction focus scan-type light-guiding encoder |
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