JPH04153977A - semiconductor memory - Google Patents
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- JPH04153977A JPH04153977A JP2276293A JP27629390A JPH04153977A JP H04153977 A JPH04153977 A JP H04153977A JP 2276293 A JP2276293 A JP 2276293A JP 27629390 A JP27629390 A JP 27629390A JP H04153977 A JPH04153977 A JP H04153977A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体メモリに係り、特に高S/Nでかつ高集
積化に適した半導体メモリに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory, and particularly to a semiconductor memory that has a high S/N ratio and is suitable for high integration.
近年半導体メモリの高集積化がますます推し進められて
おり、特に1トランジスタ1キヤパシタメモリセルから
なる半導体メモリではメモリセルを構成する素子数が少
ないため高い集積度が得られている。この高集積半導体
メモリのメモリアレー構成には、アイ・イー・イー、プ
ロシーディング パート アイ、第130巻、3 (1
983年6月)第127頁から第135頁(IEE P
roceedings Part I。In recent years, semiconductor memories have been increasingly integrated, and in particular semiconductor memories consisting of one transistor and one capacitor memory cell have a high degree of integration because the number of elements constituting a memory cell is small. The memory array configuration of this highly integrated semiconductor memory is described in IE, Proceedings Part I, Vol. 130, 3 (1
June 1983) pages 127 to 135 (IEEE P
roceedings Part I.
vol、130. no、3. pp、127−135
(June 1983))に記載されているように、
大きく分けて2つの構成がある。1つは、折返し型デー
タ線(folded dataline)方式で、もう
1つは開放型データ線(opendata 1ine)
方式である。折返し型データ線方式は、対となるデータ
線、すなわちメモリセルから信号が読出されるデータ線
と参照信号が読出されるデータ線とが、近接して配置さ
れるため、同一のワード線からの雑音を対となるデータ
線で相殺することができ、メモリセルからの微小な信号
を高S/Nで読出せ、安定な動作が可能となる。一方開
放型データ線方式では、対となるデータ線が増幅器(セ
ンスアンプ)を挾んで別なメモリアレーに属するため、
メモリアレーで発生する雑音を対となるデータ線で相殺
することが難しく、S/Nの点で上記折返し型データ線
方式より劣る。しかし開放型データ線方式では、メモリ
セルをデータ線とワード線の交点に必ず配置する、いわ
ゆる1交点装置が可能であり、メモリセルの高密度化が
はかれる。例えば、1986年アイ・イー・イー・イー
インターナショナル ソリッド ステート サーキソツ
カンファレンス、ダイジェスト オブテクニカル ペ
ーパーズ、第268頁から第269頁(1986IEE
E l5SCCDig−est of Technic
al Papers。vol, 130. no, 3. pp, 127-135
(June 1983)),
There are two main configurations. One is a folded data line method, and the other is an open data line method.
It is a method. In the folded data line method, paired data lines, that is, a data line from which a signal is read from a memory cell and a data line from which a reference signal is read, are placed close to each other. Noise can be canceled by the paired data lines, minute signals from memory cells can be read out with a high S/N ratio, and stable operation is possible. On the other hand, in the open data line method, the paired data lines sandwich the amplifier (sense amplifier) and belong to different memory arrays.
It is difficult to cancel the noise generated in the memory array using the paired data lines, and this method is inferior to the above-mentioned folded data line method in terms of S/N ratio. However, in the open data line system, a so-called one-intersection device in which memory cells are always arranged at the intersections of data lines and word lines is possible, and the density of memory cells can be increased. For example, 1986 IEE International Solid State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pp. 268-269 (1986 IEE
E l5SCCDig-est of Technic
al Papers.
pp、268−269)などに記載されているようなメ
モリセルは、ワード線とデータ線の交点に溝状にメモリ
セルが構成されているため高密度化が可能である。A memory cell such as the one described in JP, pp. 268-269) can be made to have a high density because the memory cell is arranged in a groove shape at the intersection of a word line and a data line.
このように折返し型データ線方式では、S/Nの点で優
れるが、ワード線とデータ対線の交点のいずれか一方に
しかメモリセルを配置できないため、メモリセルの高密
度化という点で劣る。一方開放型データ線方式では、1
交点配置が可能であるが、S/Nの点で劣る。これ、ら
の問題を解決したものとして、特公昭5g −1871
5があるが、1トランジスタ1キヤパシタメモリセルを
用いての実現は不可能であった。In this way, the folded data line method is superior in terms of S/N, but it is inferior in terms of high memory cell density because memory cells can only be placed at one of the intersections of the word line and the data pair line. . On the other hand, in the open data line system, 1
Although intersection point arrangement is possible, it is inferior in terms of S/N. As a solution to these problems, the special public Sho 5g-1871
5, but it was impossible to realize it using a one-transistor, one-capacitor memory cell.
本発明は従来のこのような問題点を解決するためになさ
れたものである。すなわち本発明の目的は、1トランジ
スタ1キヤパシタメモリセルを用いて、メモリセルの高
密度化がはかれる1交点配置が可能で、しかも折返し型
データ線方式と同等の高S/Nを可能とするメモリアレ
ーの構成方法を提供することにある。The present invention has been made to solve these conventional problems. In other words, an object of the present invention is to use a 1-transistor, 1-capacitor memory cell to enable a single intersection arrangement that increases the density of memory cells, and to achieve a high S/N equivalent to that of the folded data line system. An object of the present invention is to provide a method for configuring a memory array.
上記目的は、複数のワード線と、これらに交差するごと
く配置された複数のデータ線と、該複数のワード線と該
複数のデータ線の任意の交点に設けられた複数のメモリ
セルと、参照信号を発生するための複数のダミーセルが
接続されたダミーデータ線を上記複数のデータ線に共通
に設け、上記ダミーセルは上記メモリセルと同一の信号
の印加されるワード線に接続し、さらに各データ線及び
ダミーデータ線には信号変換手段を設け、各データ線に
設けた差動信号検出手段に上記信号変換手段の出力と共
通に設けられたダミーデータ線の信号変換手段の出力を
入力、検出することにより達成される。The above purpose is to provide a plurality of word lines, a plurality of data lines arranged to intersect with these, a plurality of memory cells provided at arbitrary intersections of the plurality of word lines and the plurality of data lines, and A dummy data line to which a plurality of dummy cells for generating signals are connected is provided in common to the plurality of data lines, the dummy cell is connected to a word line to which the same signal as the memory cell is applied, and each data A signal conversion means is provided on the line and the dummy data line, and the output of the signal conversion means and the output of the signal conversion means of the dummy data line provided in common are input to the differential signal detection means provided on each data line and detected. This is achieved by
選択された1本のワード線に接続された複数のメモリセ
ルから同時に各データ線に信号を読出すとともに、ダミ
ーセルからダミーデータ線に参照信号を読出す。各デー
タ線に読出された信号は各データ線に設けられた信号変
換手段に入力され、データ線に読出された信号に対応し
た出力信号が得られる。同様にダミーデータ線に読出さ
れた参照信号はダミーデータ線に設けられた信号変換手
段に入力され、ダミーデータ線に読出された参照信号に
対応した出力信号が得られる。その後、各データ線毎に
得られた信号変換手段の出力信号は各データ線に設けら
れた差動信号検出手段に入力され、またダミーデータ線
に接続された信号変換手段の出力信号は各データ線に設
けられた差動信号検出手段に共通に入力される。モして
差動信号検出手段によりメモリセルからの信号を共通に
入力された参照信号を用いて検出する。このようにする
ことにより、データ線に読出されるメモリセルからの信
号を、複数のデータ線に共通に設けたダミーデータ線に
読出した参照信号を用いて検出することができる。すな
わち、従来各データ線毎に設けていた対となるデータ線
、すなわち参照信号が読出されるデータ線を複数のデー
タ線に共通に設けることができる。したがってメモリセ
ルをワード線とデータ線の各交点に配置、すなわち1交
点配置とすることができ、メモリセルの高密度化がはか
れる。また共通に設けられたダミーデータ線に接続され
るダミーセルをメモリセルと同一の信号の印加されるワ
ード線に接続することにより、データ線とダミーデータ
線への雑音を相殺することが可能となり、折返し型デー
タ線方式と同等の高S/Nを実現することができる。し
たがって高S/Nでかつ高集積な半導体メモリを実現す
ることができる。Signals are simultaneously read from a plurality of memory cells connected to one selected word line onto each data line, and reference signals are read from dummy cells onto the dummy data line. The signal read out onto each data line is input to a signal conversion means provided on each data line, and an output signal corresponding to the signal read out onto the data line is obtained. Similarly, the reference signal read onto the dummy data line is input to a signal conversion means provided on the dummy data line, and an output signal corresponding to the reference signal read onto the dummy data line is obtained. Thereafter, the output signal of the signal conversion means obtained for each data line is input to the differential signal detection means provided on each data line, and the output signal of the signal conversion means connected to the dummy data line is input to the differential signal detection means provided for each data line. It is commonly input to the differential signal detection means provided on the line. Then, the differential signal detection means detects the signals from the memory cells using a commonly input reference signal. By doing so, it is possible to detect the signal from the memory cell read out onto the data line using the reference signal read out onto the dummy data line provided in common to a plurality of data lines. That is, a pair of data lines, that is, a data line from which a reference signal is read, which was conventionally provided for each data line, can be provided in common for a plurality of data lines. Therefore, memory cells can be arranged at each intersection of a word line and a data line, that is, a single intersection arrangement, and the density of memory cells can be increased. Furthermore, by connecting a dummy cell connected to a commonly provided dummy data line to a word line to which the same signal as the memory cell is applied, it becomes possible to cancel out noise on the data line and the dummy data line. A high S/N ratio equivalent to that of the folded data line system can be achieved. Therefore, a highly integrated semiconductor memory with a high S/N ratio can be realized.
以下1本発明を実施例により説明する。 The present invention will be explained below with reference to examples.
第1図は本発明の第1の実施例で、本発明による半導体
メモリのメモリアレー構成を示す、メモリセルMC(M
C工、〜MC,,)はワード線W1〜W、とデータ線d
工〜d、の交点にマトリックス状に配置されている。ま
たメモリセルが接続されたデータ線とは別にダミーセル
(DC1〜DC,)だけが接続されたデータ線、すなわ
ちダミーデータ@ddを複数のデータに共通に設けてい
る。ダミーセルはメモリセルと同一のワード線に接続さ
れる。ここで、ダミーデータ線は、後述するように、デ
ータ線に読出されたメモリセルからの信号を検出する際
の参照信号を読出すためのものであり、読出し動作時の
雑音を相殺するために、寄生容量値などの電気的特性が
データ線とバランスするように構成する必要がある。ま
たダミーセルは、メモリセルに蓄えられたTl I I
t 910 j+の情報がメモリセルから読出された
場合のデータ線上の両電圧のほぼ中間レベルをダミーデ
ータ線に出力するようなものを用いる。このダミーデー
タ線とダミーセルの具体的構成例については後で述べる
。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention, and shows a memory array configuration of a semiconductor memory according to the present invention.
C,~MC,,) are word lines W1~W and data line d.
They are arranged in a matrix at the intersections of d and d. Further, apart from the data line to which memory cells are connected, a data line to which only dummy cells (DC1 to DC,) are connected, that is, dummy data @dd, is provided in common for a plurality of data. The dummy cell is connected to the same word line as the memory cell. Here, the dummy data line is for reading a reference signal when detecting the signal from the memory cell read to the data line, as will be described later, and is used to cancel noise during the read operation. , it is necessary to configure the electrical characteristics such as parasitic capacitance value to be balanced with the data line. In addition, the dummy cell is Tl I I stored in the memory cell.
A device is used that outputs to the dummy data line approximately the intermediate level of both voltages on the data line when the information at t 910 j+ is read from the memory cell. A specific example of the configuration of the dummy data line and dummy cell will be described later.
TR(TR,〜TRn、TRd)が信号変換手段で。TR (TR, ~TRn, TRd) is a signal conversion means.
各データ線及びダミーデータ線に設けられている。It is provided for each data line and dummy data line.
信号変換手段TR(TR,〜TR,TR,)は、電圧電
流変換回路SW2 (SV40−8W2..5W2d)
及び電流電圧変換回路LD(LD、〜LDn、LD、)
で構成した例を示す。電圧電流変換回路SW2は2つの
MOSトランジスタを直列に接続して構成した例を示し
ており、1つのMOSトランジスタのゲートには電圧電
流変換回路5112の制御信号RGが印加される。もう
1つのMOSトランジスタのゲートにはデータ線あるい
はダミーデータ線が接続される。電流電圧変換回路LD
は、電圧電流変換回路SW2の出力である電流信号を電
圧信号に変換する機能を持ち、抵抗や後述するようにM
OSトランジスタで構成することができる。この信号変
換手段によってデータ線あるいはダミーデータ線部の寄
生容量と次に説明する差動信号検出手段部の寄生容量を
分離することができ、1トランジスタ1キヤパシタメモ
リのキャパシタ容量を小さくしても高いS/Nが得られ
る1)SA (SAよ〜S A、)は差動信号検出手段
で、データ線d、〜d、のそれぞわに設けられ、差動信
号の入力端子の一方は各データ線毎に設けた信号変換手
段TR(TR1〜TR,、)の出力端子に接続される。The signal conversion means TR (TR, ~TR, TR,) is a voltage-current conversion circuit SW2 (SV40-8W2..5W2d)
and current-voltage conversion circuit LD (LD, ~LDn, LD,)
Here is an example configured with: The voltage-current conversion circuit SW2 shows an example in which two MOS transistors are connected in series, and the control signal RG of the voltage-current conversion circuit 5112 is applied to the gate of one MOS transistor. A data line or a dummy data line is connected to the gate of the other MOS transistor. Current voltage conversion circuit LD
has the function of converting the current signal that is the output of the voltage-current conversion circuit SW2 into a voltage signal, and has the function of converting the current signal that is the output of the voltage-current conversion circuit SW2 into a voltage signal, and has the function of converting the current signal, which is the output of the voltage-current conversion circuit SW2, into a voltage signal.
It can be configured with an OS transistor. This signal conversion means can separate the parasitic capacitance of the data line or dummy data line from the parasitic capacitance of the differential signal detection means, which will be explained next, even if the capacitance of the one-transistor, one-capacitor memory is reduced. High S/N ratio can be obtained 1) SA (SA, ~SA,) is a differential signal detection means, which is provided on each of the data lines d, ~d, and one of the input terminals of the differential signal is It is connected to the output terminal of the signal conversion means TR (TR1 to TR, . . . ) provided for each data line.
もう一方の入力端子は共通参照信号線Crを介してダミ
ーデータ線ddに設けた信号変換手段T Raの出力端
子に接続される。sww (sn1〜SWW、)は差動
信号検出手段SAの検出結果を用いてメモリセルに情報
を再書込みするための信号伝達手段で、データ線d工〜
dnのそれぞれに設けられ、制御信号WGにより制御さ
れる。ここでダミーデータ線ddに設けられた信号伝達
手段S W W aはダミーデータ線とデータ線の電気
的特性をバランスさせるために設けたものである。The other input terminal is connected to the output terminal of the signal conversion means TRa provided on the dummy data line dd via the common reference signal line Cr. sww (sn1 to SWW,) is a signal transmission means for rewriting information to the memory cell using the detection result of the differential signal detection means SA;
dn, and is controlled by a control signal WG. Here, the signal transmission means S W W a provided on the dummy data line dd is provided to balance the electrical characteristics of the dummy data line and the data line.
本実施例における読出し動作を第2図を参照しながら以
下説明する。まず各データ線d、〜dn及びダミーデー
タ線ddを予めある電位Vpにプリチャージしておく。The read operation in this embodiment will be explained below with reference to FIG. First, each data line d, -dn and dummy data line dd are precharged to a certain potential Vp.
プリチャージの方法は後述する。次に1本のワード線、
例えばWlが選択され、これによりこのワード線に接続
されるメモリセルから各データ@d工〜dnに読出し信
号が同時に現われる。同時にこのワード線に接続される
ダミーセルからダミーデータ線ddに参照信号が読出さ
れる。この参照信号はメモリセルに蓄えられたIt l
71 、 41 Q Itの情報がメモリセルから読
出された場合のデータ線上の両電圧のほぼ中間レベルに
設定される。このように各データ線及びダミーデータ線
に読出された信号及び参照信号は、各信号変換手段T
R(T R,〜T Rn、T RJに入力される。その
後各電圧電流変換回gsW2の制御信号RGを高電位に
すると、電圧電流変換回路SW2が動作する。これによ
り、データ線あるいはダミーデータ線上に読出されたメ
モリセルからの信号あるいは参照信号に応じて、各電流
電圧変換回路LD(LD1〜LDo、LDd)から電圧
電流変換回路5W2(SW21〜5W2n、5W2d)
を介して接地電位に信号電流i8あるいは参照信号電流
lrが流れる。ここで信号電流isあるいは参照信号電
流1.は、データ線あるいはダミーデータ線上に読出さ
れた電圧信号に応じて電流値が決まるため、電圧信号が
電流信号に変換されたことになる。このように電流信号
に変換されたメモリセルからの信号及び参照信号は、各
電流電圧変換回路LD (LD、〜LDn、LD、)に
より再び電圧信号に変換され、各差動信号検出手段5A
(SA1〜SA、)に入力される。このとき、各データ
線毎に得られる電圧信号v5は各差動信号検出手段SA
の入力端子の一方に入力される。またダミーデータ線に
設けられた電流電圧変換回路LDdの出力、すなわち参
照電圧信号V、は共通参照信号1i c rを介して差
動信号検出手段SA (SA工〜5An)のもう一方の
入力端子に共通に入力される。各差動信号検出手段SA
(SA1〜5An)は、このように共通に入力された
参照電圧信号Vr を用いて、各データ線から得られた
電圧信号を弁別、検出する。The precharging method will be described later. Then one word line,
For example, Wl is selected, so that read signals simultaneously appear on each of the data @d~dn from the memory cells connected to this word line. At the same time, a reference signal is read from a dummy cell connected to this word line to a dummy data line dd. This reference signal is stored in the memory cell.
71 and 41 Q It is set to approximately the intermediate level between the two voltages on the data line when the information is read from the memory cell. The signals and reference signals read out to each data line and dummy data line in this way are transferred to each signal conversion means T.
R(T R, - T Rn, T RJ. Then, when the control signal RG of each voltage-current conversion circuit gsW2 is set to a high potential, the voltage-current conversion circuit SW2 is operated. As a result, the data line or dummy data According to the signal from the memory cell read out on the line or the reference signal, each current-voltage conversion circuit LD (LD1-LDo, LDd) to voltage-current conversion circuit 5W2 (SW21-5W2n, 5W2d)
A signal current i8 or a reference signal current lr flows to the ground potential via. Here, signal current is or reference signal current 1. Since the current value is determined according to the voltage signal read onto the data line or dummy data line, the voltage signal is converted into a current signal. The signals from the memory cells and the reference signals converted into current signals in this way are converted into voltage signals again by each current-voltage conversion circuit LD (LD, ~LDn, LD,), and each differential signal detection means 5A
(SA1 to SA,) are input. At this time, the voltage signal v5 obtained for each data line is
is input to one of the input terminals. Further, the output of the current-voltage conversion circuit LDd provided on the dummy data line, that is, the reference voltage signal V, is connected to the other input terminal of the differential signal detection means SA (SA~5An) via the common reference signal 1icr. are commonly input. Each differential signal detection means SA
(SA1 to SA5An) use the commonly input reference voltage signal Vr in this way to discriminate and detect the voltage signals obtained from each data line.
次に1トランジスタ1キヤパシタメモリセルでは記憶情
報の読出しが破壊的であり、再書込みする必要がある。Next, in a one-transistor, one-capacitor memory cell, reading out stored information is destructive and requires rewriting.
そこで、差動信号検出手段SAの検出結果をもとにメモ
リセルへ再書込みする。すなわち信号伝達手段sww
(SWW、 〜5WWn)を制御信号WGにより導通状
態にし、各データ線に再書込み情報を伝達する。その結
果メモリセルに再書込み情報が書込まれ、ワード線を非
選択状態にすることにより各メモリセルへの再書込みを
完了する。Therefore, the memory cells are rewritten based on the detection results of the differential signal detection means SA. In other words, the signal transmission means sww
(SWW, ~5WWn) are rendered conductive by control signal WG, and rewrite information is transmitted to each data line. As a result, rewrite information is written into the memory cells, and the word line is brought into a non-selected state, thereby completing the rewrite to each memory cell.
以上述べたように、本実施例によれば、データ線に読出
されるメモリセルからの信号を、複数のデータ線に共通
に設けたダミーデータ線に読出した参照信号を用いて検
出することができる。すなわち、従来各データ線毎に設
けていた対となるデータ線、すなわち参照信号が読出さ
れるデータ線を複数のデータ線に共通に設けることがで
きる。As described above, according to this embodiment, a signal from a memory cell read out to a data line can be detected using a reference signal read out to a dummy data line provided in common to a plurality of data lines. can. That is, a pair of data lines, that is, a data line from which a reference signal is read, which was conventionally provided for each data line, can be provided in common for a plurality of data lines.
したがってメモリセルをワード線とデータ線の各交点に
配置、すなわち1交点配置とすることができ、メモリセ
ルの高密度化がはかれる。またデータ線及びダミーデー
タ線と差動信号検出手段との接続を信号変換手段を介し
て行うことにより、データ線あるいはダミーデータ線部
の寄生容量と、差動信号検出手段部の寄生容量を分離す
ることが可能となり、メモリセルのキャパシタ容量を小
さくしても高S/Nが得られるので、さらにメモリセル
の高密度化がはかれる。また、信号変換手段によって上
記寄生容量を分離したため、ダミーデータ線を複数のデ
ータ線に共通に設けても、データ線とダミーデータ線の
寄生容量等の電気的特性のバランスを保つことができる
。これに加えて、共通に設けられたダミーデータ線に接
続されるダミーセルをメモリセルと同一の信号の印加さ
れるワード線に接続することにより、データ線とダミー
データ線への雑音を相殺することが可能となる。Therefore, memory cells can be arranged at each intersection of a word line and a data line, that is, a single intersection arrangement, and the density of memory cells can be increased. In addition, by connecting the data line and dummy data line to the differential signal detection means through a signal conversion means, the parasitic capacitance of the data line or dummy data line and the parasitic capacitance of the differential signal detection means are separated. This makes it possible to obtain a high signal-to-noise ratio even if the capacitor capacity of the memory cell is reduced, thereby further increasing the density of the memory cell. Further, since the parasitic capacitance is separated by the signal conversion means, even if the dummy data line is provided in common to a plurality of data lines, the electrical characteristics such as the parasitic capacitance of the data line and the dummy data line can be maintained in balance. In addition, noise on the data line and dummy data line can be canceled by connecting a dummy cell connected to a commonly provided dummy data line to a word line to which the same signal as the memory cell is applied. becomes possible.
したがって折返し型データ線方式と同等の高S/Nな続
出し動作を実現することができる。以上のことから本実
施例により高S/Nでかつ高集積な半導体メモリを実現
することができる。Therefore, it is possible to realize a continuous output operation with a high S/N ratio equivalent to that of the folded data line system. From the above, this embodiment makes it possible to realize a high S/N and highly integrated semiconductor memory.
第3図は本発明の第2の実施例で、第1図に示したメモ
リアレー構成の内、メモリセルMC、ダミーセルDC、
データ線d、ダミーデータ線dd、電圧電流変換回路S
W2及び信号伝達手段SWWで構成される部分をブロッ
クBLKとし、複数のブロックに共通に差動信号検出手
段SA及び電流電圧変換回路LDを設けた例である。同
図では2個のブロック(BLK−BLKr)に共通に設
けた場合を示している。1つのブロックBLKは、メモ
リセルMC、データ線d、電圧電流変換回路SW2及び
信号伝達手段SWWで構成される複数のメモリセルブロ
ックMCA (MCA1,1〜MCA、、nなど)と、
ダミーセルDC、ダミーデータ線dd、電圧電流変換回
路5W2d及び信号伝達手段5WWaで構成されるダミ
ーセルブロックDCAとで構成される。FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention, in which memory cells MC, dummy cells DC,
Data line d, dummy data line dd, voltage-current conversion circuit S
This is an example in which a block BLK is formed by W2 and the signal transmission means SWW, and a differential signal detection means SA and a current-voltage conversion circuit LD are provided in common to a plurality of blocks. The figure shows a case in which it is provided in common to two blocks (BLK-BLKr). One block BLK includes a plurality of memory cell blocks MCA (MCA1, 1 to MCA, , n, etc.) including memory cells MC, data lines d, voltage-current conversion circuit SW2, and signal transmission means SWW;
The dummy cell block DCA includes a dummy cell DC, a dummy data line dd, a voltage-current conversion circuit 5W2d, and a signal transmission means 5Wa.
第3図に示した実施例の読出し動作は以下の通りである
。まず複数本あるワード線の内の1本。The read operation of the embodiment shown in FIG. 3 is as follows. First, one of the multiple word lines.
例えばメモリセルブロックMCA、、、〜MCAn内の
ワード線W工が選択され、これによりこのワード線に接
続されるメモリセルからメモリセルブロックMCA□、
□〜MCA□、n内の各データ線(d、zなど)に同時
に読出し信号が現われる。同時にこのワード線に接続さ
れるダミーセルからダミーセルブロックDCA□内のダ
ミーデータ線dd□に参照信号が読出される。このよう
に各データ線及びダミーデータ線に読出された信号及び
参照信号は、各メモリセルブロックあるいはダミーセル
ブロック内の電圧電流変換回路SW2あるいは5W2d
に入力される。その後電圧電流変換回路SW2及びS
V/ 2 mの制御信号RG、を高電位にすると、デー
タ線上に読出されたメモリセルからの信号あるいはダミ
ーデータ線上に読出された参照信号に応じて、各電流電
圧変換回路LD(LD1〜LDn、LD4)から、共通
データ線cd (cd、〜cd−)と電圧電流変換回路
SW2あるいは共通ダミーデータ線cddと電圧電流変
換回路S W 2 m、を介して接地電位に信号電流m
sあるいは参照信号電流i r が流れる。これらの電
流は、各電流電圧変換回路LD (LD□〜LDn。For example, a word line W in memory cell blocks MCA, .
A read signal appears simultaneously on each data line (d, z, etc.) in □ to MCA□, n. At the same time, a reference signal is read from the dummy cell connected to this word line to the dummy data line dd□ in the dummy cell block DCA□. The signals and reference signals read to each data line and dummy data line in this way are transmitted to the voltage-current conversion circuit SW2 or 5W2d in each memory cell block or dummy cell block.
is input. After that, voltage-current conversion circuits SW2 and S
When the control signal RG of V/2 m is set to a high potential, each current-voltage conversion circuit LD (LD1 to LDn , LD4) to the ground potential via the common data line cd (cd, ~cd-) and the voltage-current conversion circuit SW2 or the common dummy data line cdd and the voltage-current conversion circuit SW2m.
s or reference signal current i r flows. These currents flow through each current-voltage conversion circuit LD (LD□ to LDn).
LDa)により再び電圧信号に変換され、各差動信号検
出手段SA (SA工〜S A、)に入力される。LDa) converts the signal into a voltage signal again and inputs it to each differential signal detection means SA (SA~SA,).
このとき、第1図で説明したのと同様に、各データ線毎
に得られる電圧信号v5は各差動信号検出手段SAの入
力端子の一方に入力され、ダミーデータ線から得られる
参照電圧信号V、は共通参照信号線Crを介して差動信
号検出手段、5A(SA1〜SAI、)のもう一方の入
力端子に共通に入力され、信号の検出を行う。次に差動
信号検出手段SAの検出結果をもとにメモリセルへ再書
込みする。このとき、電圧電流変換回路SW2及び各電
流電圧変換回路LD (LD、〜L Dn、 L Da
)は非動作状態である。差動信号検出手段SAより出力
された再書込み情報は、書き込み用信号伝達手段5WD
(SWD、〜5WDn)を動作させることにより共通デ
ータ線cd (cd1〜cdn)に伝達され、さらにメ
モリセルブロック内の信号伝達手段SWWに伝達される
。信号伝達手段SWWは制御信号WG工により導通状態
にされ、各データ線に再書込み情報を伝達する。その結
果メモリセルに再書込み情報が書込まれ、ワード線を非
選択状態にすることにより各メモリセルへの再書込みを
完了する。At this time, as explained in FIG. 1, the voltage signal v5 obtained for each data line is inputted to one of the input terminals of each differential signal detection means SA, and the reference voltage signal obtained from the dummy data line V, is commonly input to the other input terminal of the differential signal detection means 5A (SA1 to SAI,) via the common reference signal line Cr, and detects the signal. Next, the memory cells are rewritten based on the detection results of the differential signal detection means SA. At this time, the voltage-current conversion circuit SW2 and each current-voltage conversion circuit LD (LD, ~LDn, LDa
) is inactive. The rewrite information output from the differential signal detection means SA is sent to the write signal transmission means 5WD.
(SWD, ~5WDn) is transmitted to the common data line cd (cd1 to cdn), and further transmitted to the signal transmission means SWW in the memory cell block. The signal transmission means SWW is rendered conductive by the control signal WG, and transmits rewrite information to each data line. As a result, rewrite information is written into the memory cells, and the word line is brought into a non-selected state, thereby completing the rewrite to each memory cell.
本実施例では、第1図で述べた効果に加え、複数のメモ
リセルブロックで差動信号検出手段及び電流電圧変換回
路を共用できるため、これらの相対的な占有面積を小さ
くすることができる。また本実施例では、データ線と共
通データ線との接続が電圧電流変換回路を介して行われ
るため、これらの寄生容量を信号の読出し時には完全に
分離できる。すなわち差動信号検出手段及び電流電圧変
換回路を共用するために共通データ線を設けても、デー
タ線上に読出されるメモリセルからの信号電圧は共通デ
ータ線の寄生容量に影響されず、高S/Nな読出しが可
能となる。なお共通データ線を設けたことにより、共通
データ線とデータ線との間の結合容量による雑音が心配
されるが、読出し動作時の共通データ線の電圧変動は小
さいため、特に問題とはならない。In this embodiment, in addition to the effects described in FIG. 1, since the differential signal detection means and the current-voltage conversion circuit can be shared by a plurality of memory cell blocks, the relative area occupied by these can be reduced. Further, in this embodiment, since the data line and the common data line are connected through the voltage-current conversion circuit, these parasitic capacitances can be completely separated when reading signals. In other words, even if a common data line is provided to share the differential signal detection means and the current-voltage conversion circuit, the signal voltage read from the memory cell on the data line is not affected by the parasitic capacitance of the common data line, and the high S /N reading is possible. Since the common data line is provided, there is a concern about noise due to coupling capacitance between the common data line and the data line, but this does not pose a particular problem since the voltage fluctuation of the common data line during the read operation is small.
第4図は本発明の第3の実施例で、複数のメモリセルブ
ロックMCAに共通に設けられたダミーセルブロックO
CAを、複数のメモリセルブロックの間に配置した例を
示す。このように構成することにより、共通ダミーデー
タ線cddに接続された電流電圧変換回路L D mか
ら、端に配置された差動信号検出手段SA(同図ではS
Aiあるいは5An)までの距離を短くでき、その間の
共通参照信号#Ierの長さを第3図で示した実施例に
比べ半分にできる。したがって電流電圧変換回路LDd
から差動信号検出手段SAまでの寄生抵抗及び寄生容量
を半分にでき、電流電圧変換回路LDiから出力された
参照信号が差動信号検出手段SAに入力されるまでの時
間を低減することができる。すなわち読出し動作の高速
化がはかれる。FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention, in which a dummy cell block O provided in common to a plurality of memory cell blocks MCA is shown.
An example in which CA is arranged between a plurality of memory cell blocks is shown. With this configuration, the current-voltage conversion circuit L D m connected to the common dummy data line cdd is connected to the differential signal detection means SA (in the figure S
Ai or 5An), and the length of the common reference signal #Ier between them can be halved compared to the embodiment shown in FIG. Therefore, current-voltage conversion circuit LDd
The parasitic resistance and parasitic capacitance from to the differential signal detection means SA can be halved, and the time required for the reference signal output from the current-voltage conversion circuit LDi to be input to the differential signal detection means SA can be reduced. . In other words, the speed of the read operation can be increased.
動作は第3図に示した実施例と同様に行うことができる
。The operation can be performed in the same manner as the embodiment shown in FIG.
第5図は本発明の第4の実施例で、差動信号検出手段S
Aを共通データ線cdの両端に交互に配置し、差動信号
検出手段SAのレイアウトピッチを緩和した例を示す。FIG. 5 shows a fourth embodiment of the present invention, in which the differential signal detection means S
An example is shown in which A is arranged alternately at both ends of the common data line cd, and the layout pitch of the differential signal detection means SA is relaxed.
差動信号検出手段SAを共通データ線cdの両端に配置
したため、共通に設けたダミーセルブロックDCA (
DCA1〜OCA 、 )からの参照信号を両端に出力
する必要がある。そこで本実施例では、共通ダミーデー
タ線cddの両端に電流電圧変換回路LDd□、LDa
2を設け、ダミーセルブロックDCA内で変換された参
照信号電流1rを電流電圧変換回路L D d i、
LDd2の両方に均等に分配し、両端に設けた共通参照
信号線cr1)Cr2に参照電圧信号V、を出力するよ
うにした。このため電流電圧変換回路LDd□、LDd
2は、参照信号電流irの半分の電流値すなわちir/
2から参照電圧信号V、を出力するように、共通データ
線cdに接続されている電流電圧変換回路LD (LD
工〜LDn)に比べ、電流値から電圧値への変換係数が
2倍になるように設定する。これは、例えば、電流電圧
変換回路を抵抗で構成した場合、その抵抗値を2倍にす
ることで可能である。また電流電圧変換回路をMOS)
−ランジスタで構成した場合、そのチャネル幅を172
にすることで可能である。本実施例によれば、差動信号
検出手段及び電流電圧変換回路のレイアウトピッチが緩
和できるため、これらのレイアウトが容易となる。Since the differential signal detection means SA is arranged at both ends of the common data line cd, the dummy cell block DCA (
It is necessary to output reference signals from DCA1 to OCA, ) to both ends. Therefore, in this embodiment, current-voltage conversion circuits LDd□ and LDa are connected to both ends of the common dummy data line cdd.
2 is provided, and the reference signal current 1r converted in the dummy cell block DCA is connected to a current-voltage conversion circuit L D di,
The reference voltage signal V is distributed equally to both of the LDd2 and outputted to common reference signal lines cr1) and Cr2 provided at both ends. For this reason, current-voltage conversion circuits LDd□, LDd
2 is a current value half of the reference signal current ir, that is, ir/
A current-voltage conversion circuit LD (LD
The conversion coefficient from a current value to a voltage value is set to be twice as compared to LDn). For example, if the current-voltage conversion circuit is configured with a resistor, this can be done by doubling the resistance value. Also, the current voltage conversion circuit is MOS)
- When configured with transistors, the channel width is 172
This is possible by making According to this embodiment, the layout pitch of the differential signal detection means and the current-voltage conversion circuit can be relaxed, so that the layout thereof can be facilitated.
第6図は本発明の第5の実施例で、第3図に示した実施
例と同様に複数のメモリセルブロックMCA (あるい
はダミーセルブロック0CA)に共通に差動信号検出手
段SA及び電流電圧変換回路LDを設け、さらに各メモ
リセルブロック阿CAにおいて複数のデータ線d(第6
図では4本のデータ線dα〜dδ)に共通に1個の電圧
電流変換回路SW2及び信号伝達手段SWWを設けた例
である。このために、各データ線と電圧電流変換回路S
W2及び信号伝達手段SWWとの接続をスイッチ手段S
Wを介して行うようにした。同様にダミーセルブロック
DCAにおいても、複数のダーミーデータ線dd(dd
α〜ddδ)に共通に電圧電流変換回路SW2.及び信
号伝達手段5WWiを設け、各ダーミーデータ線ddと
電圧電流変換回路5W2d及び信号伝達手段5WWaと
の接続をスイッチ手段SWa を介して行う。このよう
にダミーセルブロックDCAの構成をメモリセルブロッ
クMCAと同じにすることでこれらの電気的特性のバラ
ンスをとることができる。FIG. 6 shows a fifth embodiment of the present invention, in which, like the embodiment shown in FIG. A circuit LD is provided, and a plurality of data lines d (sixth
In the figure, one voltage-current conversion circuit SW2 and one signal transmission means SWW are provided in common for four data lines dα to dδ. For this purpose, each data line and voltage-current conversion circuit S
Switch means S connects W2 and signal transmission means SWW.
This is done via W. Similarly, in the dummy cell block DCA, a plurality of dummy data lines dd (dd
α to ddδ) have a common voltage-current conversion circuit SW2. and a signal transmission means 5WWi, and each dummy data line dd is connected to the voltage-current conversion circuit 5W2d and the signal transmission means 5WWa via a switch means SWa. In this way, by making the configuration of the dummy cell block DCA the same as that of the memory cell block MCA, these electrical characteristics can be balanced.
また第6図に示した実施例では、これまでの実施例で具
体的に示していなかった差動信号検出手段SA及び電流
電圧変換回路LDについて、CMO5で構成した一例を
示した。Furthermore, in the embodiment shown in FIG. 6, an example is shown in which the differential signal detection means SA and the current-voltage conversion circuit LD, which were not specifically shown in the previous embodiments, are constructed from CMO5.
第6図に示した実施例では、1本のワード線の選択動作
でメモリセルブロック内の複数のデータ線に同時に読出
される複数のメモリセル信号を、スイッチ手段SWを選
択することで1時系列に電圧電流変換回路SW2に入力
し、さらにその出力を差動信号検出手段に入力し、メモ
リセル信号を時系列に検出しようとする例である0本実
施例の動作を第7図を用いて説明する。ここでは、各メ
モリセルに高電位が蓄積されている場合を例に説明する
。まず信号PCDよ及び信号GC1α〜QC工δを高電
位にし、スイッチ手段SW−SWtを介してプリチャー
ジ回路PDにより、データ線dα〜dδ及びダミーデー
タ線ddα〜ddδをある電位Vp(ここではV c
c / 2とした。In the embodiment shown in FIG. 6, a plurality of memory cell signals read out simultaneously to a plurality of data lines in a memory cell block by a selection operation of one word line can be read at one time by selecting a switch means SW. The operation of this embodiment will be described using FIG. 7, which is an example in which a memory cell signal is inputted to the voltage-current conversion circuit SW2 in series, and its output is inputted to the differential signal detection means to detect the memory cell signal in time series. I will explain. Here, an example will be described in which a high potential is stored in each memory cell. First, signals PCD and signals GC1α to QC δ are set to a high potential, and data lines dα to dδ and dummy data lines ddα to ddδ are set to a certain potential Vp (here, V c.
c/2.
Vccは電源電圧)に予めプリチャージしておく。Vcc is the power supply voltage).
また信号FLを高電位にし、共通データ線cd及び共通
ダミーデータ線cddを予め電流電圧変換回路LD=L
D4によって決まる一定の電圧にしておく。さらに信号
PCIを低電位1こし、差動信号検出手段SA内のノー
ドa、bを予めVccにプリチャージしておく。このよ
うに共通データ線cd、共通ダミーデータli c d
dを予め一定の電圧にしておくことで、メモリセル信
号及びダミーセル信号の読出しが一定の電圧にしないと
きよりも高速に行うことができる。このような状態で、
1本のワード線、例えばW工を選択すると、それに接続
されたメモリセルMCから各データ線dα〜dδにメモ
リセル信号が、ダミーセルDCから各ダミーデータ線d
dα〜ddδに参照信号が読出される。このときスイッ
チ手段SW(あるいは5Wd)を制御する信号GC工α
〜GC工δの内。In addition, the signal FL is set to a high potential, and the common data line cd and the common dummy data line cdd are set in advance to the current-voltage conversion circuit LD=L.
Keep it at a constant voltage determined by D4. Furthermore, the signal PCI is set to a low potential, and the nodes a and b in the differential signal detection means SA are precharged to Vcc. In this way, common data line cd, common dummy data li c d
By setting d to a constant voltage in advance, the memory cell signal and the dummy cell signal can be read out faster than when the voltage is not set to a constant voltage. In this situation,
When one word line, for example, W, is selected, a memory cell signal is transmitted from the memory cell MC connected to it to each data line dα to dδ, and from a dummy cell DC to each dummy data line d.
Reference signals are read out from dα to ddδ. At this time, the signal GC device α that controls the switch means SW (or 5Wd)
~GC engineering δ.
一つだけ(同図ではGC□α)高電位にしておき、残り
の信号を予め低電位にしておくと、データ線に読出され
たメモリセル信号の内、データ線dαに読出された信号
だけ電圧電流変換回路SW2に伝達される。残りのデー
タ線上に読出されたメモリセル信号はデータ線上に保持
される。同様にダミーデータ線に読出された参照信号の
内、ダミーデータ線ddαに読出された参照信号だけ電
圧電流変換回路SW2.に伝達され、残りのダミーデ−
タ線上の参照信号はダミーデータ線上に保持される。次
に、信号RG工を高電位にすると、電圧電流変換回路S
W2が動作し、電流電圧変換回路LDから電圧電流変換
回路SW2を介して接地電位に電流が流れる。この電流
は、電圧電流変換回路SW2を構成するMOSトランジ
スタのゲートに印加される電圧値、すなわち、電圧電流
変換回路SW2に入力されたメモリセル信号に応じた電
流値となる。またこの電流は電流電圧変換回路LDを構
成するMOSトランジスタを介して流れるため、そのソ
ース電位、すなわち共通データ線cdの電位が流れる電
流値に応じて変化し、電圧信号として差動信号検出手段
SAに入力される。If only one signal (GC□α in the figure) is set to a high potential and the remaining signals are set to a low potential in advance, only the signal read to the data line dα out of the memory cell signals read to the data line will be The signal is transmitted to the voltage-current conversion circuit SW2. Memory cell signals read onto the remaining data lines are held on the data lines. Similarly, among the reference signals read out to the dummy data line, only the reference signal read out to the dummy data line ddα goes to the voltage-current conversion circuit SW2. and the remaining dummy data
The reference signal on the data line is held on the dummy data line. Next, when the signal RG circuit is set to a high potential, the voltage-current conversion circuit S
W2 operates, and a current flows from the current-voltage conversion circuit LD to the ground potential via the voltage-current conversion circuit SW2. This current has a voltage value applied to the gate of the MOS transistor constituting the voltage-current conversion circuit SW2, that is, a current value corresponding to the memory cell signal input to the voltage-current conversion circuit SW2. Furthermore, since this current flows through the MOS transistors constituting the current-voltage conversion circuit LD, its source potential, that is, the potential of the common data line cd, changes in accordance with the flowing current value, and is converted into a voltage signal by the differential signal detection means SA. is input.
このように、データ線dαに読出されたメモリセル信号
は、電圧電流変換回路SW2で電流信号に、さらにこの
電流信号は電流電圧変換回路LDで電圧信号に変換され
、差動信号検出手段SAに入力される。同様に、ダミー
データ線ddαに読出された参照信号は、電圧電流変換
回路5w2iで電流信号に変換され、さらに電流電圧変
換回路LD−で電圧信号に変換され、差動信号検出手段
SAに入力される。その後、信号RDを高電位にすると
、差動信号検出手段SAに入力されたメモリセルからの
信号と参照信号との差に応じ、差動信号検出手段SA内
のノードa、bの電位に電位差を生じる。そして信号R
Dを低電位に、信号C3Nを高電位にすると、その電位
差は増幅され、メモリセルからの信号を検出することが
できる。In this way, the memory cell signal read to the data line dα is converted into a current signal by the voltage-current conversion circuit SW2, and this current signal is further converted into a voltage signal by the current-voltage conversion circuit LD, and then sent to the differential signal detection means SA. is input. Similarly, the reference signal read to the dummy data line ddα is converted into a current signal by the voltage-current conversion circuit 5w2i, further converted into a voltage signal by the current-voltage conversion circuit LD-, and inputted to the differential signal detection means SA. Ru. Thereafter, when the signal RD is set to a high potential, the potential difference between the potentials of the nodes a and b in the differential signal detecting means SA is determined according to the difference between the signal from the memory cell input to the differential signal detecting means SA and the reference signal. occurs. and signal R
When D is set to a low potential and signal C3N is set to a high potential, the potential difference is amplified and the signal from the memory cell can be detected.
このとき、メモリセルに高電位が蓄積されていると、ノ
ードaは高電位に、ノードbは低電位になる。At this time, if a high potential is stored in the memory cell, the node a becomes a high potential and the node b becomes a low potential.
次に、差動信号検出手段SAで検出した結果を用いてデ
ータ線に再書込み情報を書き込む。まず、信号RG、及
び信号FLを予め低電位にしておき、共通データ線cd
に再書込み情報を伝達したときに、不要な電流が流れな
いようにしておく。そして信号WDを高電位にし、ノー
ドbの増幅信号をインバータを介して共通データ線cd
に伝達する。Next, rewrite information is written to the data line using the result detected by the differential signal detection means SA. First, the signal RG and the signal FL are set to low potential in advance, and the common data line cd
Prevent unnecessary current from flowing when rewriting information is transmitted to the device. Then, the signal WD is set to a high potential, and the amplified signal at node b is transferred to the common data line c through the inverter.
to communicate.
さらに信号WG工を高電位にし、信号伝達手段SWW及
びスイッチ手段SWを介してデータ線dαに再書込み情
報を書き込む。そして信号GC1α を低電位にすると
、再書込み情報はデータ線dαに保持される。Further, the signal WG is set to a high potential, and rewrite information is written to the data line dα via the signal transmission means SWW and the switch means SW. Then, when the signal GC1α is set to a low potential, the rewritten information is held in the data line dα.
以上のように、データ線dαに読出されたメモリセル信
号を検出し、再書込み情報をデータ線dαに書き込んだ
後、次に別なデータ線上のメモリセル信号を検出する。As described above, after detecting the memory cell signal read onto the data line dα and writing rewrite information onto the data line dα, a memory cell signal on another data line is then detected.
その方法は、データ線dα上の信号と同様にして行う。The method is similar to the signal on the data line dα.
すなわち、信号GC1β を高電位にし、データ、ma
dβ上のメモリセル信号を電圧電流変換回路SW2に入
力し、同時にダミーデータ線ddp上の参照信号を電圧
電流変換回路S W 2 mに入力する。以下、データ
線dα上の信号を検出したときと同様の動作を行い、デ
ータ線dβ上の信号の検出とデータ線dβに再書込み情
報を書き込む。このような動作を繰返し、データ線dα
〜dδ上の全ての信号を検出し、再書込み情報をデータ
線に書き込む。そして最後にワード線を非選択状態にす
ることで、各メモリセルに再書込み情報が格納され、読
出し動作が完了する。That is, the signal GC1β is set to a high potential, and the data, ma
The memory cell signal on dβ is input to the voltage-current conversion circuit SW2, and at the same time, the reference signal on the dummy data line ddp is input to the voltage-current conversion circuit SW2m. Thereafter, the same operation as when detecting the signal on the data line dα is performed to detect the signal on the data line dβ and write rewrite information to the data line dβ. By repeating this operation, the data line dα
Detect all signals on ~dδ and write rewrite information to the data line. Finally, by setting the word line to a non-selected state, rewrite information is stored in each memory cell, and the read operation is completed.
また各メモリセルから読みだされる情報をチップ外部に
取り呂すには、その情報が差動信号検出手段SAにより
検出された時に取り出す。その方法として1例えば第6
図の実施例に示すように、差動信号検出手段SA内のノ
ードa、bを、デコーダ(図示せず)の出力信号Y (
Ynなと)によりオン、オフが制御されるスイッチYG
(YGイなと)を介して、入出力対線I10.I10
に接続することにより行うことができる。差動信号検出
手段SA内のノードa、bに伝達されたメモリセルから
の信号が十分に増幅された後、デコーダの出力信号Yイ
を高電位にし、スイッチYGnをオンさせ5人出力対線
I10.I10に情報を伝達する。その情報は出力回路
を介してチップ外部に読みだされる。一方、チップ外部
からの書き込みは入出力対線I10.I10に伝達した
書き込み情報を、スイッチYG、を介して差動信号検出
手段SA内のノードa、bに書き込むことにより行える
。Further, in order to transfer the information read from each memory cell to the outside of the chip, the information is extracted when the information is detected by the differential signal detection means SA. As a method, 1, for example, the 6th
As shown in the illustrated embodiment, the nodes a and b in the differential signal detection means SA are connected to the output signal Y (
Switch YG whose on/off is controlled by
(YG Inato), the input/output pair I10. I10
This can be done by connecting to. After the signal from the memory cell transmitted to nodes a and b in the differential signal detection means SA is sufficiently amplified, the output signal Y of the decoder is set to a high potential, and the switch YGn is turned on to connect the five output pairs. I10. The information is transmitted to I10. The information is read out of the chip via the output circuit. On the other hand, writing from outside the chip is performed on the input/output pair I10. This can be done by writing the write information transmitted to I10 to nodes a and b in differential signal detection means SA via switch YG.
なお第6図では、1列分のメモリセルブロックしか示し
ていないが、第3図と同様に複数列のメモリセルブロッ
クが設けられる。そしてそれらのメモリセルブロック内
のデータ線にも同時にメモリセル信号が読出され、複数
列のメモリセルブロックに共通に設けられたダミーセル
ブロックOCAからの参照信号を用いて検出される。Although FIG. 6 only shows one column of memory cell blocks, a plurality of columns of memory cell blocks are provided as in FIG. 3. Memory cell signals are simultaneously read out to the data lines in these memory cell blocks, and detected using a reference signal from a dummy cell block OCA provided in common to the memory cell blocks of the plurality of columns.
さてこれまでダミーデータ線及びダミーセルの構成方法
について具体的に述べなかったが、ここで本実施例に好
適なダミーデータ線及びダミーセルの構成方法について
説明する。第1図で述べたように、ダミーデータ線は、
寄生容量値などの電気的特性がデータ線とバランスする
ように構成する必要がある。またダミーセルとして、メ
モリセルに蓄えられたllj+ 、tlQT″の情報が
メモリセルから読出された場合のデータ線上の両型圧の
ほぼ中間レベルをダミーデータ線に出力するようなもの
が必要となる。これを実現する一つの方法として、ダミ
ーセルにメモリセルと同じものを用い、ダミーセル内の
端子には、メモリセル内のKL I IIIt OII
の情報に対する電圧の中間値の電圧を蓄えておく方法が
ある。この方法について第6図を用いてもう少し詳しく
説明する。Now, although the method of configuring the dummy data lines and dummy cells has not been specifically described so far, a method of configuring the dummy data lines and dummy cells suitable for this embodiment will now be described. As mentioned in Figure 1, the dummy data line is
It is necessary to configure the electrical characteristics such as parasitic capacitance value to be balanced with the data line. Further, a dummy cell is required that outputs to the dummy data line approximately the intermediate level between the two types of voltages on the data line when the information of llj+ and tlQT'' stored in the memory cell is read out from the memory cell. One way to achieve this is to use the same dummy cell as the memory cell, and connect the terminals in the dummy cell to KL I IIIt OII in the memory cell.
There is a method of storing a voltage that is an intermediate value for the information. This method will be explained in more detail using FIG. 6.
第6図においてダミーセルDCをメモリセルMCと同じ
もので構成する。そして予めダミーセル内の端子に、情
報IL l u tL O1″の中間の電圧、すな
わちメモリセル内の高電位をVcc、低電位をOvとす
るとV c c / 2を蓄えておく (この方法につ
いては後述する)。この状態でワード線を選択すると、
データ線には情報″1” 71 Q nに対応した電圧
がメモリセル信号として、ダミーデータ線にはそのほぼ
中間の電圧が参照信号として出力される。その後前述し
たように読出し動作を行う。まず1本のデータ線dα上
の信号を検出し、その結果を再書込み情報としてデータ
vAdαに書き込む。その時、同時にMOSトランジス
タQ1により共通ダミーデータ線cdd、信号伝達手段
5WWdを介してダミーデータ線ddαに参照信号用の
電圧Vr (=Vcc/2)を書き込む。同様に他のデ
ータ線に再書込み情報を書き込む時に、同時にダミーデ
ータ線に参照信号用の電圧を書き込んでいく。全てのデ
ータ線についてこの動作を繰返した後、ワード線を非選
択状態にすると、メモリセルには情報″1”、O”に対
応した電圧が、ダミーセルにはV c c / 2が格
納されることになる。In FIG. 6, the dummy cell DC is constructed of the same cell as the memory cell MC. Then, in advance, store in the terminal in the dummy cell an intermediate voltage of the information IL lu tL O1'', that is, Vcc / 2, where the high potential in the memory cell is Vcc and the low potential is Ov. (For this method, (described later).If you select a word line in this state,
A voltage corresponding to the information "1" 71 Q n is outputted to the data line as a memory cell signal, and a voltage approximately in the middle thereof is outputted to the dummy data line as a reference signal. Thereafter, a read operation is performed as described above. First, a signal on one data line dα is detected, and the result is written to data vAdα as rewrite information. At this time, the reference signal voltage Vr (=Vcc/2) is simultaneously written to the dummy data line ddα by the MOS transistor Q1 via the common dummy data line cdd and the signal transmission means 5WWd. Similarly, when writing rewrite information to other data lines, a reference signal voltage is written to the dummy data line at the same time. After repeating this operation for all data lines, when the word line is made unselected, voltages corresponding to the information "1" and "O" are stored in the memory cells, and Vcc/2 is stored in the dummy cells. It turns out.
このように、ダミーセルとしてメモリセルと同じものを
用いると、ダミーデータ線はデータ線と同じ構造となり
、電気的特性をデータ線とバランスさせることができる
。また、ダミーセル内の端子には情報“1”071の中
間の電圧が蓄えられているので、ワード線を選択すると
ダミーデータ線には、データ線に出力される情報tz
I F+110 IIの電圧の中間レベルを出力するこ
とができる。さらにこの方法では、ダミーセルに蓄えら
れた中間電圧は、メモリセルへの情報の書込みと同時に
行われた後は、次の選択時まで放置される。In this way, if the same dummy cell as the memory cell is used, the dummy data line has the same structure as the data line, and the electrical characteristics can be balanced with the data line. In addition, since the intermediate voltage of information "1" 071 is stored in the terminal in the dummy cell, when the word line is selected, the information tz output to the data line is stored in the dummy data line.
It is possible to output an intermediate level of the voltage of IF+110 II. Furthermore, in this method, after the intermediate voltage stored in the dummy cell is written at the same time as information is written into the memory cell, it is left as it is until the next selection.
すなわちメモリセル内に蓄えられた高電位側の情報と同
様にリーク電流により時間とともに減衰していく。その
ため、メモリセル内の高電位側の情報とダミーセル内の
情報の電位の相対的な上下関係は、従来のダミーセルの
構成法、例えば1980年アイ・イー・イー・イー、イ
ンターナショナルソリッド ステート サーキッツ カ
ンファレンス、ダイジェスト オブ テクニカル ペー
パーズ、第234頁から第235頁(1980IEEE
ISSCCDigest of Technical
Paper S、 pp、234−235)に記載さ
れているような、ダミーセルにダミーセル内の端子を所
望の電位に設定する回路を付加し、プリチャージの期間
その電位に固定しておく方法などに比べ、長時間保持さ
れる。すなわち、高電位側の情報が減衰し低電位側の情
報として誤判定されるまでの時間、つまりデータ保持時
間を長くすることができる。このことは、メモリセルを
リフレッシュする時間間隔を長くできることであり、シ
ステムにとって半導体メモリがリフレッシュ動作を行っ
ている時間を短く、逆に言うと半導体メモリを使用でき
る時間を長くできる。またこのことにより、リフレッシ
ュに要する消費電力を小さくできるため、半導体メモリ
をバッテリーでバックアップするときにバッテリーの持
続時間を長くできるなどの利点がある。That is, like the high-potential information stored in the memory cell, the information attenuates over time due to leakage current. Therefore, the relative vertical relationship between the information on the high potential side in the memory cell and the information in the dummy cell is determined by conventional dummy cell construction methods, such as the 1980 International Solid State Circuits Conference, International Solid State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pages 234-235 (1980 IEEE
ISSCCDigest of Technical
Compared to the method described in Paper S, pp. 234-235, in which a circuit is added to the dummy cell to set the terminal within the dummy cell to a desired potential, and the potential is fixed at that potential during the precharge period, etc. , retained for a long time. In other words, it is possible to lengthen the time until information on the high potential side is attenuated and erroneously determined as information on the low potential side, that is, the data retention time. This means that the time interval at which memory cells are refreshed can be lengthened, and the time that the semiconductor memory is performing refresh operations can be shortened for the system, and conversely, the time that the semiconductor memory can be used can be lengthened. This also reduces the power consumption required for refreshing, which has the advantage of extending the battery life when backing up the semiconductor memory with a battery.
なおダミーデータ線及びダミーセルの構成方裡はこの方
法以外にも種々考えられる。例えば本祷施例で述べた、
データ線をV c c / 2にプリチャージする方式
では、プリチャージ電圧を参照信号として用いることが
できる。そこでダミーセルとしてメモリセルと同じ形状
のものを用いるが、タミーセルのトランジスタはワード
線が選択されてもオン状態にならないようにすればよい
。これは例えばダミーセルのトランジスタのチャネル部
にイオンを打込む、あるいはトランジスタのゲート酸化
膜厚を部分的に厚くするなどにより、トランジスタのし
きい値電圧を高くすることで実現できる。この方法でも
、ダミーデータ線とデータ線の電気的特性をバランスさ
せることができる。またこの方法では、プロセス工程が
複雑になるが、前述した方法のようにダミーセル内の端
子を中間電圧に設定する必要がないので、動作の制御が
簡単になる。Note that various ways of configuring the dummy data lines and dummy cells can be considered in addition to this method. For example, as mentioned in the main prayer example,
In the method of precharging the data line to Vcc/2, the precharge voltage can be used as a reference signal. Therefore, a dummy cell having the same shape as a memory cell is used, but the transistor of the tummy cell may be configured not to be turned on even when a word line is selected. This can be achieved by increasing the threshold voltage of the transistor, for example, by implanting ions into the channel portion of the transistor of the dummy cell, or by partially increasing the thickness of the gate oxide film of the transistor. This method also allows the electrical characteristics of the dummy data line and the data line to be balanced. Further, although this method complicates the process steps, it is not necessary to set the terminals in the dummy cell to an intermediate voltage as in the method described above, so the operation can be easily controlled.
さて第6図で示した実施例では、データ線への再書込み
は、データ線に読出された信号が差動信号検出手段で検
出される毎に、その結果を用いてデータ線に再書込み情
報を書込むことで説明した。Now, in the embodiment shown in FIG. 6, rewriting to the data line is performed by using the result to rewrite information to the data line every time the signal read to the data line is detected by the differential signal detection means. This was explained by writing.
しかしデータ線のピッチが小さくなってくると、データ
線間の結合容量による雑音に注意する必要がある。例え
ば第6図において、データ線dα上の信号を検出し、デ
ータ線dαに再書込み情報を書込むとする。その時デー
タ線dβにはまだ増幅されていない信号があるとすると
、データ線dαに再書込み情報を書込む時にデータ線d
α、66間の結合容量によりデータ線dβに大きな雑音
を誘起することになり、その結果データ線dβ上の信号
を差動信号検出手段により検出するとき誤って検出する
場合がある。However, as the pitch of the data lines becomes smaller, it is necessary to pay attention to noise caused by coupling capacitance between the data lines. For example, in FIG. 6, it is assumed that a signal on the data line dα is detected and rewrite information is written to the data line dα. At that time, if there is a signal on the data line dβ that has not been amplified yet, when rewriting information is written on the data line dα, the data line d
The coupling capacitance between α and 66 induces large noise on the data line dβ, and as a result, when the signal on the data line dβ is detected by the differential signal detection means, it may be detected incorrectly.
しかしこの問題は、例えばアイ・イー・イー・イー ト
ランザクション オン エレクトロンデバイシズ、第3
7巻、 3 (1990年3月)第737頁から第74
3頁(IEEE、■rans、 on Electr
on Devices。However, this problem can be solved by, for example, IE Transactions on Electron Devices,
Volume 7, 3 (March 1990), pages 737 to 74
Page 3 (IEEE, ■rans, on Electr
on Devices.
VOl、37. on、3(March1990)pp
、737−743)に記載されているような、データ線
間を別の導電層でシールドすることによるデータ線間の
結合容量を小さくしたようなメモリセルを用いることに
より回避することができる。VOl, 37. on, 3 (March1990)pp
This problem can be avoided by using a memory cell in which the coupling capacitance between the data lines is reduced by shielding the data lines with another conductive layer, as described in Japanese Patent No. 737-743).
またこのようなデータ線間をシールドされたメモリセル
を用いると、データ線にメモリセルから信号を読出す時
においても、データ線間の結合容量による雑音を低減す
ることができる。この読出し時の雑音については、これ
まで述べてきた実施例についても上記メモリセルを用い
ることにより雑音の低減がはかれる。Further, by using such a memory cell in which the data lines are shielded, noise due to coupling capacitance between the data lines can be reduced even when a signal is read from the memory cell to the data line. Regarding the noise during reading, the noise can be reduced by using the above-mentioned memory cells in the embodiments described so far.
以上述べたように、第6図に示した実施例ではダミーデ
ータ線を複数のデータ線で共用する構成となっており、
そのためメモリセルの配置を1交点配置にでき、しかも
読みだし動作ではデータ線折り返し形構成と同様に同一
のワード線がデータ線とダミーデータ線に交差している
ので、高密度化と高S/N化が可能となる。しかも複数
のデータ線で、電圧電流変換回路SW2)信号伝達手段
SWW、電流電圧変換回路LD、差動信号検出手段S−
Aを共用しているため、これらの回路のレイアウトピッ
チを緩和することができ、高密度なメモリセルレイアウ
トとの整合性をとりやすい。As described above, the embodiment shown in FIG. 6 has a configuration in which the dummy data line is shared by a plurality of data lines.
Therefore, the memory cells can be arranged in a single-crossing arrangement, and in the read operation, the same word line intersects the data line and the dummy data line, similar to the data line folded configuration, resulting in high density and high S/S/ It becomes possible to convert into N. Furthermore, multiple data lines are used to connect the voltage-current conversion circuit SW2) signal transmission means SWW, current-voltage conversion circuit LD, differential signal detection means S-
Since A is shared, the layout pitch of these circuits can be relaxed, and consistency with a high-density memory cell layout can be easily achieved.
なお第6図では、複数のデータ線に共通にプリチャージ
回路PDを設け、これによりスイッチ手段SWを介して
各データ線をプリチャージしたが、各データ線にプリチ
ャージ回路を設けてもよい。In FIG. 6, a precharge circuit PD is provided in common for a plurality of data lines, and each data line is thereby precharged via a switch means SW, but a precharge circuit may be provided for each data line.
この場合スイッチ手段SWを介する必要がないので、信
号GC1α〜GC1δの制御が簡単になる。In this case, since there is no need to use the switch means SW, control of the signals GC1α to GC1δ becomes simple.
以上本発明をいくつかの実施例を示しながら説明してき
たが、本発明は発明の趣旨を逸脱しないかぎりここで述
べた実施例に限定されるものではない。例えば第6図で
は差動信号検出手段SAの具体的−例としてCMO8で
構成された回路を示したが、これを別な回路構成にして
もよい。本発明の趣旨は、複数のデータ線に共通に設け
たダミーデータ線からの参照信号を、複数のデータ線に
読出された信号の検出に共通に用いることである。Although the present invention has been described above with reference to several embodiments, the present invention is not limited to the embodiments described herein unless it deviates from the spirit of the invention. For example, although FIG. 6 shows a circuit constituted by a CMO 8 as a specific example of the differential signal detection means SA, this may have a different circuit configuration. The gist of the present invention is to commonly use a reference signal from a dummy data line provided commonly to a plurality of data lines to detect signals read out to a plurality of data lines.
すなわち差動信号検出手段に入力される参照信号は、複
数の差動信号検出手段で共通に用いられる。That is, the reference signal input to the differential signal detection means is used in common by the plurality of differential signal detection means.
したがって、差動信号検出手段として、少なくとも差動
信号検出手段SAに入力された参照信号が、個々の差動
信号検出手段での信号検出時に変化しないような差動信
号検出手段であればよい。また。Therefore, the differential signal detecting means may be any differential signal detecting means such that at least the reference signal input to the differential signal detecting means SA does not change when the individual differential signal detecting means detects the signal. Also.
第6図では、CMO8で構成した回路を示したが、バイ
ポーラあるいはバイポーラと0MO3で構成した回路と
してもよい。一般にこれらで構成された回路はCMO8
だけで構成した回路に比べその占有面積が大きくなる傾
向にあるが、バイポーラの特性を活かし、高感度な差動
信号検出が可能になる。Although FIG. 6 shows a circuit made up of CMO8, it may also be a bipolar circuit or a bipolar and 0MO3 circuit. Generally, the circuit composed of these is CMO8
Although it tends to occupy a larger area than a circuit constructed solely of the above, it makes use of the bipolar characteristics to enable highly sensitive differential signal detection.
本発明によればメモリセルの高密度化がはかれるととも
に、高S/Hな読出し動作が可能となる。According to the present invention, the density of memory cells can be increased, and a read operation with a high S/H can be performed.
したがって高S/Nでかつ高集積な半導体メモリを実現
することができる。Therefore, a highly integrated semiconductor memory with a high S/N ratio can be realized.
第1図は本発明による半導体メモリのメモリアレー構成
図、第2図は第1図の動作を説明するための動作タイミ
ング図、第3図から第6図は本発明による他の実施例を
示す図、第7図は第6図の動作を説明するための動作タ
イミング図である。
M C! M Cx 、t M Cm n ・・・メモ
リセル、DC。
DC□、DC,・・・ダミーセル、Wl、W、・・ワー
ド線、dl、 dn・・・データ線、dd・・・ダミー
データ線、T R□、 T Rn、 T Rd−信号変
換手段、SW2□。
SW2□、5W2d・・電圧電流変換手段、LDl。
L Dn、 L Dd”・電流電圧変換手段、SWW、
。
sww、、sww、t=・=信号伝達手段、SA1.S
A、。
S A a・・・差動信号検出手段、CdlHCdn・
・・共通データ線、cdd・・・共通ダミーデータ線。
−m−・く代理人 弁理士 小川勝男V、・・
第1図
第2図
dd
V。
第3図
第4図
第5図
RG+
G
第7図
m3で丁−]”mTFIG. 1 is a memory array configuration diagram of a semiconductor memory according to the present invention, FIG. 2 is an operation timing diagram for explaining the operation of FIG. 1, and FIGS. 3 to 6 show other embodiments according to the present invention. 7 are operation timing charts for explaining the operation of FIG. 6. MC! MCx, tMCmn...Memory cell, DC. DC□, DC,... dummy cell, Wl, W,... word line, dl, dn... data line, dd... dummy data line, T R□, T Rn, T Rd-signal conversion means, SW2□. SW2□, 5W2d...voltage-current conversion means, LDl. L Dn, L Dd”/current voltage conversion means, SWW,
. sww, sww, t=·=signal transmission means, SA1. S
A. S A a... Differential signal detection means, CdlHCdn.
...Common data line, cdd...Common dummy data line. -m-・ku agent patent attorney Katsuo Ogawa V... Figure 1 Figure 2 dd V. Fig. 3 Fig. 4 Fig. 5 RG+ G Fig. 7 m3 ding-]”mT
Claims (1)
れた複数のデータ線と、上記複数のワード線と上記複数
のデータ線の任意の交点に設けられた1つのトランジス
タと1つのキャパシタのみからなるメモリセルと、上記
複数のデータ線に共通に設けられたダミーデータ線と、
上記複数のワード線とダミーデータ線の任意の交点に設
けられた、参照信号を発生するための複数のダミーセル
と、上記複数のデータ線及びダミーデータ線にそれぞれ
電気的に接続された信号変換手段と、上記複数のデータ
線のそれぞれに設けられた差動信号検出手段とを有し、
上記各データ線に設けられた差動信号検出手段には上記
各データ線に設けられた信号変換手段の出力と上記ダミ
ーデータ線に設けられた信号変換手段の出力が入力され
ることを特徴とする半導体メモリ。 2)特許請求の範囲第1項記載の半導体メモリにおいて
、上記ダミーデータ線は上記データ線の間に配置される
ことを特徴とする半導体メモリ。 3)特許請求の範囲第1項乃至第2項のいずれかに記載
の半導体メモリにおいて、上記信号変換手段及び上記差
動信号検出手段は、任意の隣あう上記データ線の両端に
交互に配置されることを特徴とする半導体メモリ。 4)特許請求の範囲第3項記載の半導体メモリにおいて
、上記ダミーデータ線に設けられた信号変換手段は上記
ダミーデータ線の両端に配置されることを特徴とする半
導体メモリ。 5)特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれかに記載
の半導体メモリにおいて、上記信号変換手段は電圧電流
変換回路と電流電圧変換回路からなることを特徴とする
半導体メモリ。 6)複数のワード線と、これらに交差するごとく配置さ
れた複数のデータ線と、上記複数のワード線と上記複数
のデータ線の任意の交点に設けられた1つのトランジス
タと1つのキャパシタのみからなるメモリセルと、上記
複数のデータ線に共通に設けられたダミーデータ線と、
上記複数のワード線とダミーデータ線の任意の交点に設
けられた参照信号を発生するためのダミーセルと、上記
複数のデータ線及びダミーデータ線にそれぞれ接続され
た電圧電流変換回路とを有するブロックと、上記ブロッ
クを複数個有し、さらにそれぞれ対応する電圧電流変換
回路を接続するための複数の共通データ線及び共通ダミ
ーデータ線と、上記複数の共通データ線及び共通ダミー
データ線にそれぞれ接続された電流電圧変換回路と、上
記複数の共通データ線のそれぞれに設けられた差動信号
検出手段とを有し、上記各共通データ線に設けられた差
動信号検出手段には上記各共通データ線に設けられた電
流電圧変換回路の出力と上記共通ダミーデータ線に設け
られた電流電圧変換回路の出力が入力されることを特徴
とする半導体メモリ。 7)特許請求の範囲第6項記載の半導体メモリにおいて
、上記電圧電流変換回路は複数のデータ線あるいは複数
のダミーデータ線に共通に設けられ、上記電圧電流変換
回路と上記複数のデータ線あるいは複数のダミーデータ
線の各々と接続するためのスイッチ手段を有することを
特徴とする半導体メモリ。 8)特許請求の範囲第6項乃至第7項のいずれかに記載
の半導体メモリにおいて、上記共通ダミーデータ線は上
記共通データ線の間に配置されることを特徴とする半導
体メモリ。 9)特許請求の範囲第6項乃至第8項のいずれかに記載
の半導体メモリにおいて、上記電流電圧変換回路及び上
記差動信号検出手段は、任意の隣あう上記共通データ線
の両端に交互に配置されることを特徴とする半導体メモ
リ。 10)特許請求の範囲第9項記載の半導体メモリにおい
て、上記共通ダミーデータ線に設けられた電流電圧変換
回路は上記共通ダミーデータ線の両端に配置されること
を特徴とする半導体メモリ。 11)特許請求の範囲第1項乃至第10項のいずれかに
記載の半導体メモリにおいて、メモリセルのトランジス
タの一方の不純物添加領域に接する電極が上記トランジ
スタ及びデータ線の上まで延びており、上記不純物添加
領域に接する電極がその上に設けられた絶縁膜及びさら
にその上に設けられた導電性電極とともにメモリセルの
キャパシタを形成することを特徴とする半導体メモリ。[Claims] 1) A plurality of word lines, a plurality of data lines arranged to intersect with these, and one transistor provided at any intersection of the plurality of word lines and the plurality of data lines. a memory cell consisting of only one capacitor; a dummy data line provided in common to the plurality of data lines;
A plurality of dummy cells for generating reference signals provided at arbitrary intersections of the plurality of word lines and the dummy data lines, and a signal conversion means electrically connected to the plurality of data lines and the dummy data line, respectively. and differential signal detection means provided on each of the plurality of data lines,
The output of the signal conversion means provided on each of the data lines and the output of the signal conversion means provided on the dummy data line are input to the differential signal detection means provided on each of the data lines. semiconductor memory. 2) The semiconductor memory according to claim 1, wherein the dummy data line is arranged between the data lines. 3) In the semiconductor memory according to any one of claims 1 to 2, the signal conversion means and the differential signal detection means are arranged alternately at both ends of any adjacent data lines. A semiconductor memory characterized by: 4) A semiconductor memory according to claim 3, wherein the signal conversion means provided on the dummy data line are arranged at both ends of the dummy data line. 5) A semiconductor memory according to any one of claims 1 to 4, wherein the signal conversion means includes a voltage-current conversion circuit and a current-voltage conversion circuit. 6) From only a plurality of word lines, a plurality of data lines arranged to intersect with these, one transistor and one capacitor provided at any intersection of the plurality of word lines and the plurality of data lines. a dummy data line provided in common to the plurality of data lines,
A block including a dummy cell for generating a reference signal provided at an arbitrary intersection of the plurality of word lines and the dummy data line, and a voltage-current conversion circuit connected to each of the plurality of data lines and the dummy data line. , which has a plurality of the above blocks, and further has a plurality of common data lines and common dummy data lines for connecting the respective corresponding voltage-current conversion circuits, and is connected to the plurality of common data lines and common dummy data lines, respectively. It has a current-voltage conversion circuit and a differential signal detection means provided on each of the plurality of common data lines, and the differential signal detection means provided on each of the common data lines has a current-voltage conversion circuit and a differential signal detection means provided on each of the plurality of common data lines. A semiconductor memory characterized in that an output of a current-voltage conversion circuit provided and an output of a current-voltage conversion circuit provided on the common dummy data line are input. 7) In the semiconductor memory according to claim 6, the voltage-current conversion circuit is provided in common to the plurality of data lines or the plurality of dummy data lines, and the voltage-current conversion circuit and the plurality of data lines or the plurality of dummy data lines are connected to each other. A semiconductor memory comprising switch means for connecting to each of the dummy data lines. 8) A semiconductor memory according to any one of claims 6 to 7, wherein the common dummy data line is arranged between the common data lines. 9) In the semiconductor memory according to any one of claims 6 to 8, the current-voltage conversion circuit and the differential signal detection means are arranged alternately at both ends of any adjacent common data line. A semiconductor memory characterized by being arranged. 10) The semiconductor memory according to claim 9, wherein the current-voltage conversion circuit provided on the common dummy data line is arranged at both ends of the common dummy data line. 11) In the semiconductor memory according to any one of claims 1 to 10, an electrode in contact with one impurity doped region of the transistor of the memory cell extends above the transistor and the data line, and A semiconductor memory characterized in that an electrode in contact with an impurity-doped region forms a capacitor of a memory cell together with an insulating film provided thereon and a conductive electrode further provided thereon.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2276293A JPH04153977A (en) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | semiconductor memory |
US07/775,001 US5299165A (en) | 1990-10-17 | 1991-10-11 | Semiconductor memory having one-transistor/one-capacitor memory cells and having both improved noise ratio and high density integration |
KR1019910018009A KR100218082B1 (en) | 1990-10-17 | 1991-10-14 | Semiconductor memory with dummy data lines |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2276293A JPH04153977A (en) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | semiconductor memory |
Publications (1)
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Family Applications (1)
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JP2276293A Pending JPH04153977A (en) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | semiconductor memory |
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