JPH0414042A - 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 - Google Patents
感光材料処理装置及びその装置の加水方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
の濃度を一定に保持するための感光材料処理装置及びそ
の装置の加水方法に関する。
、漂白槽、定着槽、水洗槽及び安定槽の各種が設けられ
、それぞれ現像液、漂白液、定着液、水洗水及び安定液
が貯留されている(以下総称して処理液という)。焼付
処理された感光材料は、順次各処理槽へ浸漬され、現像
処理がなされた後、乾燥装置へと至り乾燥されて取り出
される。
、相当量が廃液として、オーバフローし排出される。ま
た、感光材料の搬送によって処理液は持ち出され、この
感光材料が持ち出す量は、感光材料の処理量から演算に
よって容易に演算することができる。一方、蒸発による
処理液の減量は、処理液中の水分のみが滅るた約、処理
液の濃度が変化することになる。このため、補充液とは
別に蒸発された分の水を加える必要がある。しがし、蒸
発量は、周囲の環境、すなわち、温度や湿度によって異
なり、また、装置が稼働中が休止中かによっても異なる
ため、演算によって一義的に定めることはできない。
を取付け、この濃度センサからの検出値に基づいて加水
することが提案されている(−例として特開平1−28
1446号公報参照)。これによれば、濃度センサで処
理液の濃度変化が認識でき、適量の加水を行うことがで
きる。
により誤検出する場合があり、適正は加水を行えないこ
とがある。これは、フロート等の液面センサについても
言えることであり、かつこれらの濃度センサ、液面セン
サはコストが高く、実用性に乏しい。このため、実際の
処理槽とは別にモニタ用の処理槽を設け、この処理槽の
蒸発度合いに基づいて実際の処理槽へ加水することが提
案されている(特開平1−254959号、特開平1−
254960号公報参照)。
ができるので、信頼性が向上する。
処理槽とは別にモニタ用の処理槽が必要であるたt、装
置が大型化され部品点数も増加するこという問題点があ
る。また、実際の処理槽と同等の条件とするための管理
やメンテナンスが煩雑となるという問題点もある。
めの装備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得ること
ができ、かつ管理、メンテナンス性を向上することがで
きる感光材料処理装置及びその装置の加水方法を得るこ
とが目的である。
液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の
処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オーバ
フロー槽に配設され補充液の補充又は加水時にオーバフ
ロー槽へ案内される処理液の有無を検知するオーバフロ
ーセンサと、を有している。
明において、前記オーバフローセンサが自己発熱型温度
センサであることを特徴としている。
に記載の発明において、前記オーバフローセンサで処理
槽への補充液補充又は加水を実行していないときに処理
液が検知された場合に報知する報知手段を備えているこ
とを特徴としている。
液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の
処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オーバ
フロー槽に配設されオーバフロー槽へ案内される処理液
の有無を検知するオーバフローセンサと、を有する感光
材料処理装置に用いられ感光材料を処理する処理液が貯
留された処理槽からの蒸発分を加水して処理液の濃度を
一定に保持するための感光材料処理装置の加水方法であ
って、予め定められた一定の補充液の補充量を分割して
所定量ずつ間欠補充し、その所定量の間欠補充毎にオー
バフローの有無を検知し、定の補充量の補充が終了した
ときの実補充量を求め、この実補充量から蒸発水量を得
て加水することを特徴としている。
液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の
処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オーバ
フロー槽に配設されオーバフロー槽へ案内される処理液
の有無を検知するオーバフローセンサと、を有する感光
材料処理装置に用いられ感光材料を処理する処理液が貯
留された処理槽からの蒸発分を加水して処理液の濃度を
一定に保持するための感光材料処理装置の加水方法であ
って、前記蒸発分に相当する加水量を分割して所定量ず
つ間欠加水し、その所定量の間欠加水毎にオーバフロー
の有無を検知し、オーバフローが検知された時点で加水
を停止することを特徴としている。
処理液の余剰分はオーバフロー槽へ排出される。オーバ
フロー槽にはオーバフローセンサが設けられているので
、オーバフロー槽への処理液の流出の有無を検知するこ
とができる。このオーバフローが検知されたときは、処
理槽内の処理液が規定量満たされたときであるので、処
理槽内の処理液の液面レベルを判断することができる。
理液の液面を検出する必要がなくなり、液面レベル検知
の精度の向上を図ることができる。
ルが足りない場合は、この不足分が蒸発水量であるので
、オーバフローされるまで加水すればよい。この場合に
おいてもオーバフローセンサで処理槽から溢れ出た処理
液を検知すれば、過不足なく加水を行うことができる。
自己発熱型温度センサを用いている。この自己発熱型温
度センサは通常は所定の温度に保持されており、処理液
により冷却されるとその温度変化により処理液の有無を
検知することができる。
度センサで、オーバフローする処理液の温度差を検知す
るよりも、自己発熱しているため、処理液のオーバフロ
ーによって冷却されると温度差が大きく、感度が極めて
向上するため、誤動作がなくなり、確実に検出できる。
度変化を検知することができ、確実に処理液の有無を検
知することができる。
知られているが、オーバフローに付けられたセンサは、
常に次から次へと流れ出てくるオーバフロー液によって
洗い流されるため、析出しにくい。自己発熱型温度セン
サは、析出においても感度が高く、処理液の有無を確実
に検知できる。
られた自己発熱型温度センサによる処理液の有無を補充
液の補充時又は加水時以外で作動させておく。このよう
なときは、正常であればオーフロー槽へは処理液は流出
されないが、地震等装置の振動で処理液がオーバフロー
槽へ流出されると、処理槽内の処理液量が不足すること
になる。
以外で処理液を検知した場合は、報知手段により報知し
て、処理液の不足分を補正するようにする。これにより
、処理槽内の処理液量を一定に保持することができる。
の混入)を知ることができ、コントロールネガの処理等
によって確認でき、処理不良を防止することができる。
予約窓められた一定量の補充液の補充量を所定量に分割
する。この分割された補充量を間欠的に処理槽へ補充す
る。この所定量ずつの補充毎にオーバフローの有無を検
知する。これを繰り返し、一定量の補充液の補充量の補
充が終了した時点で何回目の間欠補充からオーバフロー
を検知したかによって、実際に処理槽へ貯留された補充
液の補充量を求める。この実貯留量から蒸発水量を得て
加水する。このように予め定められた一定量の補充液の
補充量ではなく、実際に処理槽へ貯留された量に基づい
て蒸発水量を得るようにしたので、正確な加水量を得る
ことができる。
量を所定量ずつに分割する。この分割された所定量を間
欠的に加水する。ここで、オーバフローセンサによって
オーバフローが検知された時点で予め定めた加水すべき
量に達していなくても、加水を中止する。これにより、
過剰に加水されることがなく、過剰加水による濃度低下
を防止することができる。
現像機が示されている。この自動現像機では現像槽12
、漂白槽14、漂白定着槽16、定着槽18、水洗槽2
2.24、安定槽26が直列に設置され各々現像液、漂
白液、漂白定着液、水洗水、安定液の各処理液が所定量
充填されており、感光材料Fは図示しない搬送系により
これらの処理槽へ順次搬送されるようになっている(以
下総称する場合に処理槽10という)。この搬送系は制
御装置78によって制御されている。この制御装置78
には、現像槽12の入口に設けられ、感光材料Fの通過
を検出するセンサ76の信号線が接続され、制御装置7
8で感光材料Fの有無を認識することができるようにな
っている。
36が配設されている。この水タンク36は配管34を
介して漂白槽14と連通されている。配管34の中間部
には制御装置78によって駆動制御されるポンプ32が
介在されており、このポンプ32の駆動によって漂白槽
14へ水が供給される構成となっている。また、水タン
ク36に隣接して、補充液タンク44が配設されており
、配管42を介して漂白槽14と連通されている。
御されるポンプ38が介在され、前記水供給と同様に、
ポンプ38の駆動によって漂白補充液が漂白槽14へ補
充される構成となっている。
32の上流側で分岐配管35が設けられている。この分
岐配管35は現像槽12へ延設されている。分岐配管3
5の中間部には制御装置78によって駆動制御されるポ
ンプ33が介在されポンプ33の駆動によって現像槽1
2へ水が供給されるようになっている。
18、安定槽26には、それぞれ補充処理液を供給する
ための配管56.58.62が設けられている。また水
洗槽24へは水供給管64が配置され水洗水補充用とな
っている。水洗槽24からはオーバーフロー66によっ
て水洗水が水洗槽22へと送られ、また定着槽18から
はオーバーフロー67によって漂白定着槽16へと定着
液が送られるようになっている。水洗槽22の水洗水は
ポンプ72及び配管73によって定着槽18へと送られ
る構成である。なお、これらのポンプの駆動においても
、前記制御装置78によって制御されている。
槽46が隣接して設けられている。オーバフロー槽46
と処理槽10との間には立壁48が立設され、処理槽1
0とオーバフロー槽46とが仕切られている。立壁48
の高さは、処理槽10の側壁50よりも低(設定されて
おり、この立壁48を超えて処理槽10内の処理液がオ
ーバフロー槽46へと流出する構成となっている。
2が配設されている。自己発熱型温度センサ52は周囲
がテフロン系樹脂で被覆されて棒状とされており、オー
バフロー槽46での処理液の流れに沿って配設されてお
り、その長手方向中間部にセンサ部54が配置されてい
る。センサ部54はガラス管によって被覆されたサーミ
スタチップで構成されている。
によってセンサ部54が常時150°0〜200°Cに
自己発熱されており、棒状部分を滴り落ちてくる処理液
により、センサ部54の発熱温度が変化して、処理液の
有無を検知する構成となっている。この自己発熱型温度
センサ52としては、ホットサーミスタ(商品名、正補
電子製)が適用可能である。なお、自己発熱温度センサ
52は、制御装置78へ接続されている。
ュータ80を含んで構成されている。マイクロコンピュ
ータ80は、CPU82、RAM84、ROM86、人
出力ポート88及びこれらを接続するデータバスやコン
トロールバス等のバス90で構成されている。入出力ポ
ート88へは、前記ポンプ32.33.38.46.7
2がそれぞれドライバ32A、33A、38A、46A
172Aを介して接続されている、また、この人出力ポ
ート88へはセンサ76及び自己発熱型温度センサ52
が接続されている。さらに、この入出力ポート88には
、搬送系への信号線92も接続されている。
示されるような補充液の実補充量と必要加水量との関係
を示すマツプが記憶されている。
された量であり、送り込まれる一定量(例えば150m
1)の補充液を所定量(例えば10m1)毎に間欠補充
し、それぞれインタバルの間にオーバフローの有無を検
知し、オーバフローしたことが検知された以前に補充さ
れた量である。
3図に示される補充液補充プログラム及び加水制御プロ
グラムが記憶されている。
い説明する。
槽16へと案内されて現像、漂白等の処理が行われ、安
定槽26から引出された後に乾燥される。
ば朝の稼働開始時等、加水時期であると判断された場合
は、ステップ1(12へ移行して制御装置78のRAM
84に記憶されている加水量Wを読み出す。この加水量
Wは補充液の補充量から設定されるものであり、後述す
る。
104へ移行して、所定のポンプを作動させ所定の処理
槽10への加水制御が行われた後、ステップ106へ移
行する。また、ステップ100にふいて加水時期ではな
いと判断された場合は、ステップ102及びステップ1
04は飛び越してステップ106へ移行する。
れる。これは、例えば、感光材料Fの処理量がネガフィ
ルム50本分になると、補充液の処理時期であると判断
される。ここで、否定判定の場合はステップ100へ移
行する。
判定されると、ステップ108へ移行して予めさだめら
られた全補充量を続出、次いでステップ110でこの全
補充量を分割して補充する間欠補充量を読み出す。本実
施例では全補充量は150m1であり、間欠補充量は1
0m1である。次のステップ112では、間欠補充回数
Aが設定れ、次いでステップ114で1回分のポンプ作
動時間tが設定された後ステップ116へ移行する。
充量分補充し、ステップ118へ移行する。
Cをインクリメントし、次いでステップ120へ移行し
て所定時間経過したか否かが判断される。この処理時間
は、ポンプ作動開始時からオーバフローされる場合に処
理槽10内の処理液が実際にオーバフローされるまでの
時間である。
ステップ122へ移行して自己発熱型温度センサ52に
よりオーバフローが検知されたか否かが判断され、肯定
判定の場合は検知回数Bをインクリメントしてステップ
124へ移行し、否定判定の場合は、直接ステップ12
4へ移行する。
したか否かが判断され、否定判定の場合はステップ11
6へ移行し、上記肯定を繰り返す。
プ126へ移行して、設定補充回数Aからオーバフロー
検知回数Bを差し引いた補充回数りが演算される。次い
でステップ128では、この補充回数りの補充量、すな
わち、実際に処理槽10へ貯留された補充量に基づいて
、第4図のマツプから加水量Wが演算され、ステップ1
30でこの加水量WがRAM84ヘメモリされた後、ス
テップ132へ移行する。ステップ132では、補充回
数等の値A、B、C,Lがクリアされ、ステップ100
へ移行する。
熱型温度センサ52を用いたので、フロート等機械的の
動きによって判断する場合に生じる誤動作はない。また
、自己発熱しているので、単に熱電対等の温度センサを
用いた場合のように外気の温度や析出等、他の温度変化
を与える要因による誤動作が防止でき、正確かつ確実に
オーバフローの有無を検知することができる。
バフロー槽の実際に処理液が流れる部分に露出させて設
けたが、第5図に示される如く、立壁48へ略V字型の
切欠部60を設け、処理液の流れを集中させるようにし
、この切欠部60の下方へ自己発熱型温度センサ52の
外形とほぼ一致する溝部68を設け、この溝部68へ自
己発熱型温度センサ52を埋め込んでもよい。溝部68
は蓋70によって密閉してもよい。
を求め、加水量をRAM84に記憶されたマツプから求
めたが、この自己発熱型温度センサ52を用いて、加水
時にオーバフローの有無を検知し、無駄な加水を防止す
るようにしてもよい。
時又は加水時以外でも作動させておき、通常の稼働時や
休止中にオーバフローがあったか否かを判断させるよう
にしてもよい。これにより、稼働時又は休止時に地震等
で装置の振動で液がオーバフロー槽46へ溢れたことを
判別でき、その後の補充液の補充量や加水量を補正する
ことができる。
の装置の加水方法は、装置自体に蒸発量を得るための装
備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得ることができ
、かつ管理、メンテナンス性を向上することができると
いう優れた効果を有する。
図で、第2図はオーバフロー槽周辺の拡大図、第3図は
加水制御ルーチンを示すフローチャート、第4図は実補
充量と加水量との関係を示すマツプ、第5図は自己発熱
型温度センサの取付位置の変形例を示す分解斜視図であ
る。 F・・・感光材料、 10・・・処理槽、 12・・・現像槽、 14・・・漂白槽、 16・・・漂白定着槽、 18・・・定着槽、 32.38.46・・・ポンプ、 36・・・水タンク、 44・・・補充液タンク、 46・・・オーバフロー槽、 52・・・自己発熱型温度センサ、 78・・・制御装置。 第 図 実子帛光量
Claims (5)
- (1)感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を排出さ
せるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設され補充
液の補充又は加水時にオーバフロー槽へ案内される処理
液の有無を検知するオーバフローセンサと、を有する感
光材料処理装置。 - (2)前記オーバフローセンサが自己発熱型温度センサ
であることを特徴とする請求項(1)記載の感光材料処
理装置。 - (3)前記オーバフローセンサで処理槽への補充液補充
又は加水を実行していないときに処理液が検知された場
合に報知する報知手段を備えていることを特徴とする請
求項(1)又は(2)記載の感光材料処理装置。 - (4)感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を排出さ
せるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設されオー
バフロー槽へ案内される処理液の有無を検知するオーバ
フローセンサと、を有する感光材料処理装置に用いられ
感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽からの蒸
発分を加水して処理液の濃度を一定に保持するための感
光材料処理装置の加水方法であって、予め定められた一
定の補充液の補充量を分割して所定量ずつ間欠補充し、
その所定量の間欠補充毎にオーバフローの有無を検知し
、一定の補充量の補充が終了したときの実補充量を求め
、この実補充量から蒸発水量を得て加水する感光材料処
理装置の加水方法。 - (5)感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を排出さ
せるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設されオー
バフロー槽へ案内される処理液の有無を検知するオーバ
フローセンサと、を有する感光材料処理装置に用いられ
感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽からの蒸
発分を加水して処理液の濃度を一定に保持するための感
光材料処理装置の加水方法であって、前記蒸発分に相当
する加水量を分割して所定量ずつ間欠加水し、その所定
量の間欠加水毎にオーバフローの有無を検知し、オーバ
フローが検知された時点で加水を停止する感光材料処理
装置の加水方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143051A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光材料の現像処理方法及びその装置 |
JPH0268548A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
JPH049055A (ja) * | 1990-04-26 | 1992-01-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143051A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光材料の現像処理方法及びその装置 |
JPH0268548A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
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