JPH04129091A - Non-volatile semiconductor memory device - Google Patents
Non-volatile semiconductor memory deviceInfo
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- JPH04129091A JPH04129091A JP2250486A JP25048690A JPH04129091A JP H04129091 A JPH04129091 A JP H04129091A JP 2250486 A JP2250486 A JP 2250486A JP 25048690 A JP25048690 A JP 25048690A JP H04129091 A JPH04129091 A JP H04129091A
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- transistor
- bit line
- transistors
- line
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野〕
この発明は、不揮発性半導体記憶装置、特に電気的に消
去が可能なEEPROMに関するものである、
〔従来の技術1
第4図は、従来の不揮発性半導体記憶装置の基本構成を
示す回路図である。1個のメモリセルは1個のトランジ
スタと1個のメモリトランジスタで構成される。図にお
いて、(1)はトランジスタ、(2)はメモリトランジ
スタ、(3)は行方向のワード磯、(4)は列方向のビ
ット線、(5)はコントロールゲート線、(6)は丁1
0f+Il、(7)は電流センスアンプ、(8)はYゲ
ート線である。トランジスタ(1)Qlのドレインはビ
ット線(4) B L I K接続され、ゲートはワー
ド線(3) W Lに接続され、ノースはメモリトラン
ジ7り(23M1のドレインに接続される。トランジス
タ(1)Q2のドレインはビット線(4) B L 2
に接続され、ゲートはワード線(3) W Lに接続さ
れ、ノースはメモリトランジスタ(21M 2のドレイ
ンに接続される。メモリトランジスタ(2)Ml、v2
のコントロールゲートは共通にコントロールケ−1−M
(5)CGLK接続され、ソースは共通にトランジH(
1) Q 3のドレインに接続される。トランジスタ(
1)Q3のゲートはノース線選択信号BLK接続されノ
ースは接地される。トランジスタ(11Q 4 C)
1’レインハ■10線(6)に接続され、ゲー)qYゲ
−)線(8)Y 1に接続され、ソースはビット線(4
) B L 1に接続される。 トランジスタ<1)Q
5のドレインはIlo M (6]に接続され、ゲート
はYゲート線(8) Y 2に接続され、ソースはピッ
)m(41BL2に接続される。、T/○i$ (6)
は電流センスアンプ(7)に接続される5を流センスア
ンプ(7)は、読み出し時のデイヌタープ(フローティ
ングゲートに蓄積された電子がビット線(4)の電位に
よりわずかながら抜けていくこと)を抑えるためにビッ
トM(4)の電位をIVないし1.5vに保ち、ビット
線(4)、I10線(6)に電流が流れるか否かを検出
するっ
次に動作について説明する、
まず書き込みについて説明する。メモリトランジスタ(
2) M 1に′1″を書き込み、メモリトランジスタ
に)M2に“0”を書き込む場合について考える口書き
込みには消去とプログラムがある。まず、消去が行なわ
れる。消去では、ソース線選択信号SLは′R”になり
メモリトランジスタ(2) M 1、V2のノースは接
地される。ワード線(3)WLとコントロールゲート線
(5) CG Lは高電圧になり、ビット線(4)BL
I、BL2は++ L ++になる。それによってメモ
リトランジスタ(2)Ml、M2の70−ティングゲー
トに電子が注入されてしきい値は高くなる。この状態が
、′1”に対応する。[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field] The present invention relates to a non-volatile semiconductor memory device, particularly an electrically erasable EEPROM. 1 is a circuit diagram showing the basic configuration of a semiconductor memory device. One memory cell is composed of one transistor and one memory transistor. In the figure, (1) is a transistor, (2) is a memory transistor, (3) is a word line in the row direction, (4) is a bit line in the column direction, (5) is a control gate line, and (6) is a diode line.
0f+Il, (7) is a current sense amplifier, and (8) is a Y gate line. The drain of transistor (1) Ql is connected to the bit line (4) BLIK, the gate is connected to the word line (3) WL, and the north is connected to the drain of memory transistor 7 (23M1).Transistor ( 1) The drain of Q2 is the bit line (4) B L 2
The gate is connected to the word line (3) WL, and the north is connected to the drain of the memory transistor (21M2).
The control gates are commonly control gates 1-M.
(5) CGLK is connected, and the sources are commonly connected to transistor H (
1) Connected to the drain of Q3. Transistor (
1) The gate of Q3 is connected to the north line selection signal BLK, and the north terminal is grounded. Transistor (11Q 4C)
1' line is connected to the 10 line (6), connected to the 1' line (6), connected to the 1' line (8), and the source is connected to the bit line (4).
) Connected to BL1. Transistor <1) Q
The drain of 5 is connected to Ilo M (6), the gate is connected to Y gate line (8) Y 2, and the source is connected to Pi)m(41BL2., T/○i$ (6)
5 is connected to the current sense amplifier (7). The current sense amplifier (7) detects the Deinutarp (electrons accumulated in the floating gate are slightly removed due to the potential of the bit line (4)) during readout. To suppress this, the potential of bit M (4) is kept at IV or 1.5V, and it is detected whether or not current flows through the bit line (4) and I10 line (6).The operation will be explained first. I will explain about it. Memory transistor (
2) Consider the case of writing '1' to M1 and writing '0' to M2 (in the memory transistor) There are two types of writing: erasing and programming. First, erasing is performed. In erasing, the source line selection signal SL is becomes 'R' and the north of memory transistor (2) M1, V2 is grounded. Word line (3) WL and control gate line (5) CG L become high voltage, bit line (4) BL
I, BL2 becomes ++ L ++. As a result, electrons are injected into the 70-channel gates of memory transistors (2) M1 and M2, and the threshold voltage increases. This state corresponds to '1'.
次にプログラムが行なわれる。プログラムではソース線
選択信号SLは”L”になりメモリトランジスタ(2)
Ml、M2のソースはフローティングにされる。ワード
線(:3) W Lとビット線(4) B I、 2は
高電圧になり、コントロールゲート線(5) CG L
とビット線(4) B x、 1 ?i″L″になる。Next, the program is performed. In the program, the source line selection signal SL becomes "L" and the memory transistor (2)
The sources of M1 and M2 are left floating. Word line (:3) W L and bit line (4) B I, 2 become high voltage, control gate line (5) CG L
and bit line (4) B x, 1 ? becomes i″L″.
それによって、メモリトランジスタ(2) M 2のフ
ローティングゲートから電子が引き抜かれてしきい値は
低くなる。As a result, electrons are extracted from the floating gate of the memory transistor (2) M2, and the threshold value is lowered.
この状態が、”0”に対応する。This state corresponds to "0".
次に読み出しについて説明する。メモリトランジスタ(
2) M 1から読み出しを行なう場合について考える
。読み出しでは、ソース線選択信号SLは1H′になり
メモリトランジスタ(2)Ml、M2のブースは接地さ
れる。Yゲート線(8)Y 1はH″になり、Yゲート
線(8)Y 2はs L 11になる。ワード線(3)
WLは”H”になり、コントロールゲート線(5)CG
Lはメモリトランジスタ(2)に書き込まれたデ゛−タ
が”1”と°O°の場合のしきい値の中間の電位になる
。メモリトランジスタ(2)Mlに”1”が書き込まれ
ていると、オフのままでありビット線(4)BLII1
0線(6)には電流が流れない。メモリトランジスタ(
2)Mlに”0”が書き込まれていると、オンしてビッ
ト線(4) B L 1、I10線(6)には電流が流
れる。Next, reading will be explained. Memory transistor (
2) Consider the case of reading from M1. In reading, the source line selection signal SL becomes 1H', and the booths of the memory transistors (2) M1 and M2 are grounded. Y gate line (8) Y 1 becomes H'', Y gate line (8) Y 2 becomes s L 11. Word line (3)
WL becomes “H” and control gate line (5) CG
L is a potential intermediate between the threshold value when the data written in the memory transistor (2) is "1" and 0°. If "1" is written in the memory transistor (2) Ml, it remains off and the bit line (4) BLII1
No current flows through the 0 wire (6). Memory transistor (
2) When "0" is written in Ml, it turns on and current flows through the bit line (4) and the B L 1 and I10 lines (6).
これらを、電流センスアンプ(7)によりセンスするこ
とによって読み出しが行なわれる。Reading is performed by sensing these with a current sense amplifier (7).
「発明が解決しようとする課題〕
従来の不揮発性半導体記憶装置は以上のように構成され
ているので、高集積化が進むにつれてセル電流が少なく
なると、電流センスアンプを用いて込るため読み出しに
時間がかかつてしまう。また、上記電流センスアンプは
、電源電圧マージンが3vないし77程度であり、低電
圧動作(例えば1.5V)を行なうことが困難であると
いう問題点があった。′\ンドベルト機器への搭載を考
えると1.5v動作が必要である。"Problems to be Solved by the Invention" Conventional non-volatile semiconductor memory devices are configured as described above, so when cell current decreases as the degree of integration increases, a current sense amplifier is used to increase the cell current, resulting in readout. In addition, the current sense amplifier has a power supply voltage margin of about 3V to 77V, making it difficult to perform low voltage operation (for example, 1.5V).'\ Considering installation in a belt device, 1.5V operation is required.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、1.5”91’バツテリーの電圧)で動作し
、かつ高速の読み出しを行なうことができる不揮発性半
導体記憶装置を得ることを目的とする。This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and provides a non-volatile semiconductor memory device that operates at 1.5"(91' battery voltage) and can perform high-speed reading. With the goal.
〔課題を解決するための手段J
この発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、ビット線を
対にして、それらの両端にセンスアンプを設けた。[Means for Solving the Problems J] In the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, bit lines are paired and sense amplifiers are provided at both ends of the bit lines.
[作用]
この発明における不揮発性半導体記憶装置は、ビット線
対の一方のビット線の電位をリファレンスレベルとして
差動センスを行なう。[Operation] The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention performs differential sensing using the potential of one bit line of a bit line pair as a reference level.
(実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は不揮発性半導体記憶装置の基本構成を示す回路図、
第2図および第3図は第1図の不揮発性半導体記憶装置
の読み出しにおける各部の信号波形を示すタイミングダ
イアグツムである。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be explained with reference to the drawings.
The figure is a circuit diagram showing the basic configuration of a nonvolatile semiconductor memory device.
2 and 3 are timing diagrams showing signal waveforms at various parts during reading of the nonvolatile semiconductor memory device of FIG. 1. FIG.
1個のメモリセルは、従来技術と同様、1個のトランジ
スタと1個のメモリトランジスタで構成すれる。図にお
いて、(1)〜(5)は第4図の従来例に示したものと
同等であるので説明を省略する。(9)はセンスノード
である、トランジスタ(1) Q 1 ノ)−Vインは
ビット線(4) B L 1に接続され、ゲートはワー
ド線(3) W Lに接続され、ノースはメモリトラン
ジスタ(2)Mlのドレインに接続される。トランジス
タ(1)Q2のドレインはビット線(4) B L 2
に接続され、ゲートはワード線(3’l W Lに接続
され、ノースはメモリトランジスタ(2) M 2のド
レインに接続される、メモリトランジスタ(2’l M
1、M2のコントロールゲートは共通にコントロール
ケートJ11!(5)CGLに接続され、シースは共通
にトランジスタ(1) Q、 3のドレインに接続され
る。トランジスタ(1)Q3のゲートはソース線選択信
号SLに接続されソースは接地される。トランジスタ(
1) Q、 6のドレインはセンスノード(9) S
N11に接続され、ゲートはビット線選択信号BLT
11に接続され。One memory cell is composed of one transistor and one memory transistor, as in the prior art. In the figure, (1) to (5) are the same as those shown in the conventional example of FIG. 4, and therefore their explanation will be omitted. (9) is the sense node, the transistor (1) Q 1 -V in is connected to the bit line (4) B L 1, the gate is connected to the word line (3) W L, and the north is the memory transistor (2) Connected to the drain of Ml. The drain of transistor (1) Q2 is bit line (4) B L 2
The memory transistor (2'l M
1. The control gate of M2 is common control gate J11! (5) connected to CGL, and the sheaths are commonly connected to the drains of transistors (1) Q and 3; The gate of transistor (1) Q3 is connected to source line selection signal SL, and the source is grounded. Transistor (
1) The drain of Q, 6 is the sense node (9) S
N11, the gate is connected to bit line selection signal BLT
Connected to 11.
シースはビット線(4) B L 1に接続される。ト
ランジスタ<1) Q、 7のドレインはセンスノード
(9)SN12に接続され、ゲートはビット線選択信号
BLT12に接続され、ソースはビット線(4) B
L 2に接続されるウセンスノード(9) S N 1
1は、トランジスタ(1)Q8、Q9のドレインに共通
に接続されるとともにトランジスタ(1) Q、 10
、Qllのゲートに共通に接続きれる。センスノード(
9) S N 12は、トランジスタ(1) 010、
Qllのドレインに共通に接続されるとともにトランジ
スタ(1)Q8、Q9のゲートに共通に接続される。ト
ランジスタ(1)Q8QIOのシースはトランジスタ(
1) Q 12のドレインに接続され、トランジスタ(
1) Q 12のゲートはセンスアンプ活性化信号口に
接続され、シースは電源電圧に接続される。トランジス
タ(11Q、 9Q14(7)ノーヌハトランジヌタ(
1) Q、 13のドレインに接続され、トランジスタ
(1)Q、 13のゲートはセンスアンプ活性化信号S
1に接続され、シースは接地される。トランジスタ(1
)Q8ないしQ13はセンスアンプを構成する。また、
センスノード(9’l S N 11はトランジスタ(
1) Q 14、Q16の1−ヌトトランジスタ(1)
Q、 17のドレインに接続され、センスノード(9
) S N 12はトランジスタ(1)Q15のソース
トトランジスタ(1) Q 16のドレインに接続され
る。トランジスタ(11Q 14ないしQ16のゲート
は共通にイコライズ信号B L E Q、 1に接続さ
れ、トランジスタ(1) Q 14、Q15のドレイン
は電源電圧に接続される。トランジスタ(1>Q17の
ゲートはプリチャージ信号PRIに接続され、シースは
電源電圧に接続される− トランジスタ(1)Q18の
ドレインはセンスノード(9) S N 21に接続さ
れ、ゲートはビット線選択信号BLT21に接続され、
シースはビット線(4) B L 1に接続される、ト
ランジスタ(1)Q 19のドレインはセンスノード(
9) 8 N 22に接続され、ゲートはビット線選択
信号BLT22に接続され、シースはビット線(4)B
L 2に接続される、センスノード(9) S N
21は、トランジスタ(1) Q 20、Q21のドレ
インに共通に接続されるとともにトランジスタ(1)
Q 22Q23のゲートに共通に接続される。センスノ
ード(9)S N 22は、トランジスタ(1) Q
22、Q、23のドレインに共通に接続されるとともに
トランジスタ(1) Q、 20、Q21のゲートに共
通に接続されるっ トランジスタ(1)Q、 20、Q
22のソースはトランジスタ(1) Q 24のドレイ
ンに接続され、トランジスタ(1) Q 24のゲート
はセンスアンプ活性化信号S2に接続され、′l−スは
電源電圧に接続されるっ トランジスタ(11Q 21
、Q23のソースはトランジスタ(1) Q 25のド
レインに接続され、トランジスタ(1) Q 25のゲ
ートハセンスアンプ活性化信号S2に接続され、ソース
は接地される。トランジスタ(1)Q 20ないしQ、
25はセンスアンプを構成する、また、センスノード
(9)S N 21 ハトランジヌタ(1)Q26、Q
28のノースニ接続されセンスノード(9) S N
22はトランジスタ(1)Q27のシースとトランジス
タ(1) Q 28、Q29のドレインに接続される。The sheath is connected to bit line (4) BL1. The drain of transistor <1) Q, 7 is connected to the sense node (9) SN12, the gate is connected to the bit line selection signal BLT12, and the source is connected to the bit line (4) B
Usense node (9) connected to L2 S N 1
1 is commonly connected to the drains of transistors (1) Q8 and Q9, and transistors (1) Q, 10
, can be commonly connected to the gates of Qll. Sense node (
9) SN 12 is a transistor (1) 010,
It is commonly connected to the drain of transistors Qll, and also commonly connected to the gates of transistors (1) Q8 and Q9. The sheath of transistor (1) Q8QIO is the transistor (
1) Connected to the drain of Q12 and connected to the transistor (
1) The gate of Q12 is connected to the sense amplifier activation signal port, and the sheath is connected to the power supply voltage. Transistors (11Q, 9Q14 (7)
1) Connected to the drain of transistor (1) Q, 13, and the gate of transistor (1) Q, 13 is connected to the sense amplifier activation signal S.
1 and the sheath is grounded. Transistor (1
) Q8 to Q13 constitute a sense amplifier. Also,
Sense node (9'l S N 11 is a transistor (
1) Q14, Q16 1-nut transistor (1)
Q, connected to the drain of 17, sense node (9
) S N 12 is connected to the source of transistor (1) Q15 and the drain of transistor (1) Q 16. The gates of transistors (11Q 14 to Q16 are commonly connected to the equalize signal BLEQ, 1, and the drains of transistors (1) Q14 and Q15 are connected to the power supply voltage. The gates of transistors (1>Q17 are connected to the charge signal PRI, the sheath is connected to the power supply voltage - the drain of the transistor (1) Q18 is connected to the sense node (9) SN21, the gate is connected to the bit line selection signal BLT21,
The sheath is connected to the bit line (4) B L 1, the drain of the transistor (1) Q 19 is connected to the sense node (
9) 8 N 22, the gate is connected to the bit line selection signal BLT22, and the sheath is connected to the bit line (4) B
Sense node (9) connected to L2
21 is a transistor (1) commonly connected to the drains of Q20 and Q21, and a transistor (1)
Commonly connected to the gates of Q22 and Q23. Sense node (9) S N 22 is transistor (1) Q
It is commonly connected to the drains of transistors 22, Q, and 23, and also commonly connected to the gates of transistors (1) Q, 20, and Q21.
The source of transistor (1) Q22 is connected to the drain of transistor (1) Q24, the gate of transistor (1) Q24 is connected to sense amplifier activation signal S2, and the source of transistor (11Q) is connected to the power supply voltage. 21
, Q23 are connected to the drain of the transistor (1) Q25, the gate of the transistor (1) Q25 is connected to the sense amplifier activation signal S2, and the source is grounded. Transistor (1) Q 20 to Q,
25 constitutes a sense amplifier, and sense node (9) S N 21 Hatransinuta (1) Q26, Q
28 connected sense nodes (9) S N
22 is connected to the sheath of transistor (1) Q27 and the drains of transistors (1) Q28 and Q29.
トランジスタ(1) Q、 26 ナイLQ28のゲー
トは共通にイコライズ信号BLEQ2に接続され、トラ
ンジスタ(1) Q、 26、Q、 27のドレインは
電源電圧に接続される。トランジスタ(1) Q 29
のゲートはプリチャージ信号PR2に接続され、ノース
は電源電圧に接続される。The gates of the transistors (1) Q, 26 LQ28 are commonly connected to the equalization signal BLEQ2, and the drains of the transistors (1) Q, 26, Q, and 27 are connected to the power supply voltage. Transistor (1) Q 29
The gate of is connected to the precharge signal PR2, and the north thereof is connected to the power supply voltage.
次に動作について説明するっ書き込みについては、第4
図の従来例に示したものと同様であるので説明を省略す
るう
以下、第2図を参照して説明するっメモリトランジスタ
(21M 1から読み呂しを行なう場合について考える
。メモリトランジスタ(2) !il 1のデータはト
ランジスタ(1)Q8ないしQ13で構成される上側の
センスアンプにより読み出される。読み出しでは、ソー
ス線選択信号SL¥i“H”になりメモリトランジスタ
(2)Ml、N2のブースは接地される。Next, I will explain the operation.For writing, see the 4th section.
Since it is the same as that shown in the conventional example in the figure, the explanation will be omitted.Hereinafter, it will be explained with reference to FIG. The data of !il 1 is read by the upper sense amplifier composed of transistors (1) Q8 to Q13.When reading, the source line selection signal SL\i becomes “H” and the booth of memory transistors (2) Ml and N2 is read out. is grounded.
まず、イコライズ信号B L E Q、 1とビット線
選択信号BLT 11、BLT 12はH”になり、ビ
ット線(4)BLl、BL2は(Vcc −Vth
にイコライズされる。次に、イコライズ信号BLEQI
(!ニブリチャージ信号筒]は”L”になり、ビット線
(41B L lはVQCに1リチヤージされる。それ
によって、センスノード(9)S N 11の電位はV
ccになり、センスノード(9) S N 12の電位
ば(Vcc −Vth)になる。次に、プリチャージ信
号口]は。First, the equalize signal BLEQ, 1 and the bit line selection signals BLT 11, BLT 12 become H", and the bit lines (4) BLl, BL2 become (Vcc - Vth
is equalized. Next, equalize signal BLEQI
(! Nib recharge signal cylinder) becomes "L", and the bit line (41B L l is recharged by 1 to VQC. As a result, the potential of the sense node (9) S N 11 becomes V
cc, and the potential of the sense node (9) S N 12 becomes (Vcc - Vth). Next is the precharge signal port].
B″になり、ビット線選択信号BLT12は”L″にな
る。ワード線(3I W Lは”H”になり、コントロ
ールゲート線<5) CG Lはメモリトランジスタ(
2)に書き込まれたデータが”1”と”0°の場合のし
きい1直の中間の電位になるウメモリトランジスタ(2
) Mlに”1″か書き込まれていると、オフのままで
ありセンスノード(9)S el 11の電位は’QC
Cのままである。メモリトランジスタ(2) M lに
”0゛が書き込まれていると、オンしてビット線(4)
B L 1に蓄積されていた電荷が放電され、センス
ノード(9) S N1]の電位に下がり(Vcc −
Vth )よりも低くなるっその後、ビット線選択信号
BLTIIとセンスアンプ活性化信号「TばL”になり
、センスアンプが活性化する。それによって、読み出し
が行なわれる。ここで、ビット線選択信号BLT 11
を°1”にすることにより、センスフンツブ活性化時の
センスノード(9) S N 11.3N12の容量は
均一になり、安定に読み出しを行なうことができる。B", and the bit line selection signal BLT12 becomes "L". Word line (3I W L becomes "H", control gate line <5) CG L is a memory transistor (
2) The memory transistor (2) has an intermediate potential between threshold 1 when the data written in is “1” and “0°”.
) If "1" is written in Ml, it remains off and the potential of the sense node (9) S el 11 is 'QC
It remains C. If “0” is written in the memory transistor (2) Ml, it turns on and the bit line (4)
The charge accumulated in B L1 is discharged, and the potential of the sense node (9) S N1 falls to (Vcc -
After becoming lower than Vth), the bit line selection signal BLTII and the sense amplifier activation signal "T" become low, and the sense amplifier is activated. Reading is thereby performed. Here, bit line selection signal BLT11
By setting the value to 1", the capacitance of the sense node (9) S N 11.3N12 becomes uniform when the sense block is activated, and stable reading can be performed.
また、同様に、メモリトランジスタ(2) M 2 G
D y’ −タはトランジスタ(1) Q、 20ない
しQ25で構成される下側のセンスアンプにより読み出
されるっ以上はトランジスタ(1) Q、 17をブリ
チャージトリンジスタとして用いた例について説明した
が、負荷トランジスタとして用いることもできる。その
場合のタイミングダイアグラムは第3図に示すようにな
るっ
以下、第3図を参照して説明する。メモリトランジスタ
(2)vlから読み出しを行なう場合について考える。Similarly, memory transistor (2) M 2 G
The D y'-ta is read out by the lower sense amplifier composed of transistors (1) Q, 20 to Q25. Above, we have explained an example in which transistors (1) Q, 17 are used as a precharge transistor. , it can also be used as a load transistor. The timing diagram in that case will be as shown in FIG. 3. Hereinafter, explanation will be given with reference to FIG. 3. Consider the case where reading is performed from memory transistor (2) vl.
メモリトランジスタ(2) M 1のデータはトランジ
スタ(1)Q 8ないしQ13で構成される上側のセン
スアンプにより読み出される。読み出しでは、ソース線
選択信号SLは”H“になりメモリトランジスタ(2)
It! 1、w12のノースは接地される。The data of the memory transistor (2) M1 is read by the upper sense amplifier composed of transistors (1) Q8 to Q13. In reading, the source line selection signal SL becomes "H" and the memory transistor (2)
It! 1, the north of w12 is grounded.
まス、イコライズ信号B L FJQ、 1とピッへ線
選択信号ELTII、BLT 12は”H”になり、ビ
ット線(4) B L 1、BL2は(Vcc −Vt
h )にイコライズされる。それによって、センスノー
ド(9) S N11.5N12の電位は(Vcc −
Vtn )になる。Then, the equalize signal B L FJQ, 1 and the pin line selection signal ELTII, BLT 12 become "H", and the bit lines (4) B L 1, BL2 become (Vcc - Vt
h). As a result, the potential of the sense node (9) S N11.5N12 becomes (Vcc -
Vtn).
次に、イコライズ信号B L E Q、 1とプリチャ
ージ信号[「1とビット線選択信号BLT12は”L”
になる。ワード線(3) W Lは”H”になり、コン
トロールゲート線f5) CG Lはメモリトランジス
タ(2)に書き込まれたデータが”l”と”O″の場合
のしきい値の中間の電位になるウメモリトランジスタ(
2)Vlに”1“が書き込まれていると、オフのままで
ありセンスノード(9) S N 11の電位はトラン
ジスタ(1) Q 17によってVCCに充電さハる。Next, the equalize signal BLEQ, 1 and the precharge signal ["1 and the bit line selection signal BLT12 are "L"]
become. The word line (3) WL becomes "H", and the control gate line f5) CGL is the potential between the thresholds when the data written in the memory transistor (2) is "L" and "O". memory transistor (
2) When "1" is written in Vl, it remains off and the potential of the sense node (9) S N 11 is charged to VCC by the transistor (1) Q 17.
トランジスタ(2) M 1に0″が書き込まれている
と、オンしてビットM(4)BLIに電流が流れ、セン
スノード(9)SN11の電位は下がり(Vcc −V
th )よりも低くなるつその後、ビット線選択信号B
LTIIとセンスアンプ活性化信号口は”L”になり、
センスアンプが活性化する、それによって、読み出しが
行なわれるつここで5ビット1a選択信号BLTllを
”L”にすることにより、センスアンプ活性化時ノセン
スノード(9) S N 11.5N12の容量は均一
になり、安定に読み出しを行なうことができる。また、
同様に、メモリトランジスタ(2) M 2のデータは
トランジスタ(1) Q 20ないしQ、 25で構成
される下側のセンスアンプにより読み出されるっ
〔発明の効果]
以上のように、この発明によれば、ビット線を対にして
、それらの両端にセンスアンプを設けたことにより、同
一ワード線に接続されるメモリセルから同時に読み出し
を行なうことができ、読み出されたデータに対しては出
力バッファに転送するだけでよく、高速の読み出しが可
能になる、また、読み出されたデータを順次出力バッフ
ァに転送することによってシリアルアクセスが可能にな
るっまた、ビット線とセンスアンプが1対1に対応して
いるので、書き込みデータを一時ラッチするためのコラ
ムラッチとして共用できる。、また、1.5v動作であ
るので、ビット線電位をIVないし1.5vに保つため
の回路が不要になり5回路構成が簡単になる。さらに、
1.5v動作であるので、低消費電力のものが得られる
という効果がある、When 0'' is written in transistor (2) M1, it turns on and current flows to bit M(4) BLI, and the potential of sense node (9) SN11 decreases (Vcc - V
th ), then the bit line selection signal B
LTII and sense amplifier activation signal port become “L”,
When the sense amplifier is activated, reading is performed.By setting the 5-bit 1a selection signal BLTll to "L", the capacitance of the sense node (9) S N 11.5N12 is reduced when the sense amplifier is activated. becomes uniform, and stable reading can be performed. Also,
Similarly, the data of the memory transistor (2) M2 is read out by the lower sense amplifier composed of the transistors (1) Q20 to Q25. For example, by pairing bit lines and providing sense amplifiers at both ends, it is possible to simultaneously read from memory cells connected to the same word line, and the output buffer is used for the read data. By simply transferring the data to the output buffer, high-speed reading is possible.In addition, serial access is possible by sequentially transferring the read data to the output buffer.Also, the bit line and sense amplifier are one-to-one. Since it is compatible, it can be shared as a column latch for temporarily latching write data. Also, since it operates at 1.5V, there is no need for a circuit to maintain the bit line potential at IV or 1.5V, which simplifies the five-circuit configuration. moreover,
Since it operates at 1.5V, it has the effect of providing low power consumption.
第1図は、この発明の一実施例である不揮発性半導体記
憶装置の基本構成を示す回路図、第2図および第3図は
、第1図の不揮発性半導体記憶装置の読み出しにおける
各部の信号波形を示すタイミング図、第4図は、従来の
不揮発性半導体記憶装置の基本構成を示す回路図である
。
図において、(1)はトランジヌタ、(2)はメモリト
ランジスタ、(3)はワード線、(4)はビット線、(
5)はコントロールゲート線、(9)はセンヌノードで
ある。
なお1図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。FIG. 1 is a circuit diagram showing the basic configuration of a nonvolatile semiconductor memory device that is an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 show signals of various parts in reading of the nonvolatile semiconductor memory device of FIG. FIG. 4, a timing diagram showing waveforms, is a circuit diagram showing the basic configuration of a conventional nonvolatile semiconductor memory device. In the figure, (1) is a transistor, (2) is a memory transistor, (3) is a word line, (4) is a bit line, (
5) is a control gate line, and (9) is a Senne node. In addition, in FIG. 1, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.
Claims (1)
ワード線方向およびビット線方向に沿つて複数個配置し
た不揮発性半導体記憶装置において上記ビット線を対に
し、上記ビット線対の両端にセンスアンプが接続された
構成であつて、上記ビット線対を第1の電位にイコライ
ズする手段と、上記ビット線対の各々に第2の電位にプ
リチャージする手段とを有することを特徴とする不揮発
性半導体記憶装置。In a non-volatile semiconductor memory device in which a plurality of memory transistors each having a floating gate are arranged along a word line direction and a bit line direction, the bit lines are paired and a sense amplifier is connected to both ends of the bit line pair. A nonvolatile semiconductor memory device comprising: means for equalizing the bit line pair to a first potential; and means for precharging each of the bit line pairs to a second potential.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2250486A JPH04129091A (en) | 1990-09-18 | 1990-09-18 | Non-volatile semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2250486A JPH04129091A (en) | 1990-09-18 | 1990-09-18 | Non-volatile semiconductor memory device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04129091A true JPH04129091A (en) | 1992-04-30 |
Family
ID=17208579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2250486A Pending JPH04129091A (en) | 1990-09-18 | 1990-09-18 | Non-volatile semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04129091A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6466482B2 (en) | 2000-03-09 | 2002-10-15 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
| US6528839B2 (en) | 1999-02-01 | 2003-03-04 | Shoji Shukuri | Semiconductor integrated circuit and nonvolatile memory element |
-
1990
- 1990-09-18 JP JP2250486A patent/JPH04129091A/en active Pending
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| US7405971B2 (en) | 2000-03-09 | 2008-07-29 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device |
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