JPH04128279A - 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 - Google Patents
三重結合含有グリシジルエーテル化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
木見皿■公団
本発明は、同一分子内に三重結合およびグリシジルエー
テル基を併有する化合物または樹脂に関する。このよう
な化合物または樹脂はこれらの官能基に適した異なる反
応機構番こよって硬化させることができる樹脂組成物原
料として有用である。
テル基を併有する化合物または樹脂に関する。このよう
な化合物または樹脂はこれらの官能基に適した異なる反
応機構番こよって硬化させることができる樹脂組成物原
料として有用である。
豆晟茨仇
エチニル基やプロパルギル基のような三重結合を有する
化合物は、三重結合の開裂によって共役系を有するポリ
マーへ重合し得ることが知られている。そのような化合
物はその重合メカニズムおよび生成するポリマーの特異
な物理的、電気的性質のため塗料、電気電子機器等の分
野で非揮散性自己硬化性樹脂として最近注目されている
。
化合物は、三重結合の開裂によって共役系を有するポリ
マーへ重合し得ることが知られている。そのような化合
物はその重合メカニズムおよび生成するポリマーの特異
な物理的、電気的性質のため塗料、電気電子機器等の分
野で非揮散性自己硬化性樹脂として最近注目されている
。
特開昭56−5472には、式
%式%
で表わされる二価フェノールのジ(ヒドロキシ脂肪族)
エーテルのジグリシジルエーテルが記載されている。こ
の化合物の硬化メカニズムは通常のエポキシ樹脂と同様
に、ポリアミンまたは酸無水物による硬化またはイオン
重合によって硬化し得ると記載されている。
エーテルのジグリシジルエーテルが記載されている。こ
の化合物の硬化メカニズムは通常のエポキシ樹脂と同様
に、ポリアミンまたは酸無水物による硬化またはイオン
重合によって硬化し得ると記載されている。
本発明は、このようなグリシジル基を有する化合物に三
重結合を有する基を導入し、二つの異なる硬化メカニズ
ムによって硬化し得る非揮散性樹脂原料を捷供すること
を目的とする。
重結合を有する基を導入し、二つの異なる硬化メカニズ
ムによって硬化し得る非揮散性樹脂原料を捷供すること
を目的とする。
木見皿皇M丞
本発明は、−数式
〔式中R;1)炭素数1〜20のアルキレン基。
フェニレン基、またはナフチレン基(
置換又は非置換);
2)1個もしくは、2個の炭素−炭素
結合、エーテル酸素原子、硫黄原子、
スルホニル基、スルホキシド基、カル
ボニル基または、炭素数1〜5のアル
キレン基で結合された2個もしくは3
個のフェニレン基からなる基を表し、
未置換もしくは、各々炭素原子数1〜
401個もしくは2個のアルキル基ま
たは、C1原子、Br原子の1個もし
くは、2個によって1個の環もしくは
複数の環が置換されていてもよい。
または、
3 ) −(CHtCHx−0)p−CHz−CIx−
−(Clh−C1h−CHg−CHg−0) r−CT
o−CHg−CHg−CHg−R言 ;独立に水素かまたは三重合を 持たない炭化水素基; n、p、Q+ r;0〜20の整数〕で示されている
三重結合含有グリシジルエーテル化合物に関する。
−(Clh−C1h−CHg−CHg−0) r−CT
o−CHg−CHg−CHg−R言 ;独立に水素かまたは三重合を 持たない炭化水素基; n、p、Q+ r;0〜20の整数〕で示されている
三重結合含有グリシジルエーテル化合物に関する。
また本発明は、分子内に少なくとも1個のグリシジル基
を有する化合物に、式 R1 (式中、R1およびRzは独立に水素か、またしよ三重
結合を持たない炭化水素基を意味する。)のアルコール
を反応させてグリシジJしを開環し、式%式% ジプロピル基に変換し、次に式(It)の基の2級アル
コール性水酸基を3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル
エーテル化した後脱塩酸し、式の特性基に変換すること
を特徴とする前記した三重結合含有グリシジルエーテル
化合物の製造法に関する。
を有する化合物に、式 R1 (式中、R1およびRzは独立に水素か、またしよ三重
結合を持たない炭化水素基を意味する。)のアルコール
を反応させてグリシジJしを開環し、式%式% ジプロピル基に変換し、次に式(It)の基の2級アル
コール性水酸基を3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル
エーテル化した後脱塩酸し、式の特性基に変換すること
を特徴とする前記した三重結合含有グリシジルエーテル
化合物の製造法に関する。
■縦星犠孟
分子内に少なくとも1個のグリシジル基を有する化合物
の典型例はビスフェノールのジグリシジルエーテルであ
る。式(1)のアルコールの典型例はプロパルギルアル
コール(R’ =R” =H)である、これらの化合物
を使って本発明の化合物の合成経路を特性基の反応によ
って示すと以下のとおりである。
の典型例はビスフェノールのジグリシジルエーテルであ
る。式(1)のアルコールの典型例はプロパルギルアル
コール(R’ =R” =H)である、これらの化合物
を使って本発明の化合物の合成経路を特性基の反応によ
って示すと以下のとおりである。
工丘人
(IV)
(以下余白)
ユJJ
(V)
ユfifl
HCI
(V) −→−0−CHg−CI−CHx−0−CH
z−CミC8以下これら工程を追って合成法を説明する
。
z−CミC8以下これら工程を追って合成法を説明する
。
工程A:
分子内に少なくとも1個のグリシジル基を有する化合物
の典型例は、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビ
スフェノールF、それらの核ハロゲン置換体等ビスフェ
ノール類のジグリシジルエーテルである。ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、水添
ヒスフェノールA等のグリコール類のジグリシジルエー
テル;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノール
とアルキレンオキサイドとの付加物のポリエーテルグリ
コール類のジグリシジルエーテルも使用し得る。
の典型例は、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビ
スフェノールF、それらの核ハロゲン置換体等ビスフェ
ノール類のジグリシジルエーテルである。ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、水添
ヒスフェノールA等のグリコール類のジグリシジルエー
テル;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノール
とアルキレンオキサイドとの付加物のポリエーテルグリ
コール類のジグリシジルエーテルも使用し得る。
他の原料エポキシ化合物としては、
(ポリ)グリシジルエステル化合物としてシュウ酸、コ
ハク酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、4−メチ
ルへキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタ
ル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸から誘導される
グリシジルエステル化合物が挙げられる。
ハク酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、4−メチ
ルへキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタ
ル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸から誘導される
グリシジルエステル化合物が挙げられる。
(ポリ)N−グリシジル化合物としては、アニリン、n
−ブチルアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、
ビス(4−アミノフェニル)スルホンから誘導されるN
−11換グリシジル化合物が挙げられる。
−ブチルアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、
ビス(4−アミノフェニル)スルホンから誘導されるN
−11換グリシジル化合物が挙げられる。
環式およびアクリル系エポキシ化合物として、ビニルシ
クロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンオキシ
ドなどが挙げられる。
クロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンオキシ
ドなどが挙げられる。
モノグリシジルエーテル化合物、例えばフェノ−ル、ア
ルキルフェノール、C4C20アルカノール等のモノグ
リシジルエーテルも使用し得る。
ルキルフェノール、C4C20アルカノール等のモノグ
リシジルエーテルも使用し得る。
式(I)のアルコールの典型例はプロパルギルアルコー
ルである。さらにそのα位の炭素原子に1個または2個
の置換基(R’ 、R” )が置換した誘導体を使用す
ることもできる。そのような置換基は、CI CI
(+アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アラルキル等の三重結合を持たない炭化水素基である
。
ルである。さらにそのα位の炭素原子に1個または2個
の置換基(R’ 、R” )が置換した誘導体を使用す
ることもできる。そのような置換基は、CI CI
(+アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アラルキル等の三重結合を持たない炭化水素基である
。
グリシジル化合物と式(1)のアルコールとの反応は、
3級アミン、4級アンモニウム塩、アルカリ金属水酸化
物のような塩基性触媒の存在下、溶媒中または無溶媒で
80℃〜180°Cの範囲内の温度に加熱することによ
って行うことができる。
3級アミン、4級アンモニウム塩、アルカリ金属水酸化
物のような塩基性触媒の存在下、溶媒中または無溶媒で
80℃〜180°Cの範囲内の温度に加熱することによ
って行うことができる。
溶媒の代わりに式(1)のアルコールを過剰に使用し、
反応後留去してもよい。
反応後留去してもよい。
工程Bおよび工程C:
これらの工程は二段法で別々に、または−段法で同時に
実施することができる。
実施することができる。
二段法においては、A工程の生成物をルイス酸触媒(例
えば三フッ化ホウ素またはその錯体、塩化第二スズなど
)の存在下エピクロルヒドリンまたはグリセロール−1
,3−ジクロルヒドリンと反応させ、A工程の生成物の
式(n)の基中の2級アルコール性水酸基を3−クロロ
−2−ヒドロキシプロピルエーテル化し、次いで該エー
テルをアルカリで処理してオキシラン環へ閉環させる。
えば三フッ化ホウ素またはその錯体、塩化第二スズなど
)の存在下エピクロルヒドリンまたはグリセロール−1
,3−ジクロルヒドリンと反応させ、A工程の生成物の
式(n)の基中の2級アルコール性水酸基を3−クロロ
−2−ヒドロキシプロピルエーテル化し、次いで該エー
テルをアルカリで処理してオキシラン環へ閉環させる。
アルカリとしては水酸化ナトリウムが普通であるが、水
酸化バリウム、炭酸ナトリウム等の他のアルカリも使用
し得る。エピクロルヒドリンは過剰、例えば1,5ない
しlO当量使用するのが好ましい。
酸化バリウム、炭酸ナトリウム等の他のアルカリも使用
し得る。エピクロルヒドリンは過剰、例えば1,5ない
しlO当量使用するのが好ましい。
−段法は、工程Aの生成物と過剰のエピクロルヒドリン
とを、アルカリ(典型的には水酸化ナトリウム)及び相
間移動触媒(典型的にはメチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、メチルトリデシルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムクロライド等)または3
級アミンまたは4級アンモニウム塩基(例えばベンジル
トリメチルアンモニウムヒドロキシド)の存在下反応さ
せる。その際過剰のエピクロルヒドリンの一部はグリシ
ジルエーテルへ閉環する際に発生する塩化水素を吸収し
、グリセロール−1,3−ジクロルヒドリンとなる。
とを、アルカリ(典型的には水酸化ナトリウム)及び相
間移動触媒(典型的にはメチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、メチルトリデシルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムクロライド等)または3
級アミンまたは4級アンモニウム塩基(例えばベンジル
トリメチルアンモニウムヒドロキシド)の存在下反応さ
せる。その際過剰のエピクロルヒドリンの一部はグリシ
ジルエーテルへ閉環する際に発生する塩化水素を吸収し
、グリセロール−1,3−ジクロルヒドリンとなる。
両方法において、反応は炭化水素、エーテルまたはケト
ンのような溶媒中で実施することができる。−段法にお
いては、前記塩化水素吸収剤および溶媒として2.5な
いし10モル過剰のエピクロルヒドリンを使用するのが
好ましい。反応温度は一般に40°Cないし溶媒の沸点
までの温度で実施し得る。
ンのような溶媒中で実施することができる。−段法にお
いては、前記塩化水素吸収剤および溶媒として2.5な
いし10モル過剰のエピクロルヒドリンを使用するのが
好ましい。反応温度は一般に40°Cないし溶媒の沸点
までの温度で実施し得る。
生成物は常法によって精製することができるが、工程C
において完全に閉環しないクロルヒドリンエーテルや、
開環後加水分解された副生成物を含む不純物のまま樹脂
原料として用いることもできる。
において完全に閉環しないクロルヒドリンエーテルや、
開環後加水分解された副生成物を含む不純物のまま樹脂
原料として用いることもできる。
本発明の化合物は、エポキシ樹脂の硬化荊またはイオン
重合触媒を用いて硬化させることもできるし、また各種
金属触媒、開始剤、光、γ線、電子線照射などによって
重合させることもできる。
重合触媒を用いて硬化させることもできるし、また各種
金属触媒、開始剤、光、γ線、電子線照射などによって
重合させることもできる。
そのため塗料用、電気電子材料用、構造材用、非線形光
学材料用などの非揮散型樹脂原料として有用である。
学材料用などの非揮散型樹脂原料として有用である。
以下に本発明の実施例のいくつかを示す。
実施例1
攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)プロパン170.0g、プロパルギルアルコール2
24.0g、ベンジル−ジメチルアミン1.0gを加え
、115℃に昇温し、反応させた。塩酸−ジオキサン法
によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ基が消失す
るまで反応させた。そのあと過剰のプロパルギルアルコ
ールを真空ポンプを用いて完全に留去した。その後、エ
ピクロルヒドリン740.0g、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド4.0gを加え、50℃に昇温し、50
%水酸化ナトリウム水溶液86.0g(1,0モル)を
2時間かけて滴下し、減圧下、水をエビクロルヒドリン
との共沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさ
らに4時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧
留去し、反応物にトルエンを加え、反応により生成した
塩化ナトリウムを水/トルエンにより分液除去した。そ
の後、トルエンを減圧留去し、エポキシ当量290(理
論値283)の目的物を得た。収率90.0%I R(
C11−’) : CH=C−(3300,2100) CHs (2900) −Ph−(1600,1500) H−NMR(ppm): C且s (1,62) C且EC−(2,44) / \ CH,−CH− (2,6〜2.8) / \ CHI −CH− (3,20) 二CCHt (4,19) ph−且(6,80〜7.13 ) 実施例2 ン 撹はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)メタン155.0g、プロパルギルアルコール22
4.0g、テトラメチルアンモニウムクロライド1.0
gを加え、115°Cに昇温し、反応させた。塩酸−ジ
オキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ
基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパル
ギルアルコールを真空ポンプを用いて完全に留去した。
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)プロパン170.0g、プロパルギルアルコール2
24.0g、ベンジル−ジメチルアミン1.0gを加え
、115℃に昇温し、反応させた。塩酸−ジオキサン法
によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ基が消失す
るまで反応させた。そのあと過剰のプロパルギルアルコ
ールを真空ポンプを用いて完全に留去した。その後、エ
ピクロルヒドリン740.0g、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド4.0gを加え、50℃に昇温し、50
%水酸化ナトリウム水溶液86.0g(1,0モル)を
2時間かけて滴下し、減圧下、水をエビクロルヒドリン
との共沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさ
らに4時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧
留去し、反応物にトルエンを加え、反応により生成した
塩化ナトリウムを水/トルエンにより分液除去した。そ
の後、トルエンを減圧留去し、エポキシ当量290(理
論値283)の目的物を得た。収率90.0%I R(
C11−’) : CH=C−(3300,2100) CHs (2900) −Ph−(1600,1500) H−NMR(ppm): C且s (1,62) C且EC−(2,44) / \ CH,−CH− (2,6〜2.8) / \ CHI −CH− (3,20) 二CCHt (4,19) ph−且(6,80〜7.13 ) 実施例2 ン 撹はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)メタン155.0g、プロパルギルアルコール22
4.0g、テトラメチルアンモニウムクロライド1.0
gを加え、115°Cに昇温し、反応させた。塩酸−ジ
オキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ
基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパル
ギルアルコールを真空ポンプを用いて完全に留去した。
その後、80℃に昇温し、BFsO(CtHs)x 0
.5 gを加え、エビクロロヒドリン103.0 gを
滴下した。
.5 gを加え、エビクロロヒドリン103.0 gを
滴下した。
エポキシ基が消失するまで反応させたあと、室温まで冷
却し、50%水酸化ナトリウム水溶液160.0gを加
え、30℃で6hr反応させた。反応終了後、過剰の水
酸化ナトリウムを中和し、イオン交換水で内容物を繰り
返し洗浄し、生成した塩化ナトリウムを除去し、乾燥し
た。
却し、50%水酸化ナトリウム水溶液160.0gを加
え、30℃で6hr反応させた。反応終了後、過剰の水
酸化ナトリウムを中和し、イオン交換水で内容物を繰り
返し洗浄し、生成した塩化ナトリウムを除去し、乾燥し
た。
収率80.0%、エポキシ当量280゜I R(cm−
’) : CH:C−(3300,2100) −Ph−(1600,1510) H−NMR(ppm): C且=C−(2,46) CHt −CH−(2,6〜2.8)CHg−C且−
(3,21) \ 1 ==CCHz (4,19) Ph−H(6,81〜7.15 ) 実施例3 ビス −3−ロバルギルオキシー シジルオキシプロビルオキシ フェニル−グ スル 主Z 攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)スルホン1B0.0g、プロパルギルアルコール2
24.0g、テトラメチルアンモニウムクロライド1.
0gを加え、115°Cに昇温し、反応させた。塩酸−
ジオキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキ
シ基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパ
ルギルアルコールを減圧留去した。その後、エピクロル
ヒドリン740.0g、 テトラメチルアンモニウムク
ロライド4.0gを加え、50℃に昇温し、50%水酸
化ナトリウム水溶液86.0g(1,0モル)を2時間
かけて滴下し、減圧下、水をエピクロルヒドリンとの共
沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさらに4
時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧留去し
、反応物にトルエンを加え、反応により生成した塩化ナ
トリウムを水/トルエンにより分液除去した。その後、
トルエンを減圧留去し、エポキシ当量300の目的物を
得た。収率92.0% l R(cl’) : CHECH−(3300,2100) −Ph−(1600,1500) H−NMR(ppm): CHECH−(2,44) CH2CI−(3,20) \ 1 =CCH2(4,19) Ph−H(6,80〜7.14 > 以下実施例1と同様な反応装置、 以下の化合物を得た。
’) : CH:C−(3300,2100) −Ph−(1600,1510) H−NMR(ppm): C且=C−(2,46) CHt −CH−(2,6〜2.8)CHg−C且−
(3,21) \ 1 ==CCHz (4,19) Ph−H(6,81〜7.15 ) 実施例3 ビス −3−ロバルギルオキシー シジルオキシプロビルオキシ フェニル−グ スル 主Z 攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス(4−グリシジルオキシフェニ
ル)スルホン1B0.0g、プロパルギルアルコール2
24.0g、テトラメチルアンモニウムクロライド1.
0gを加え、115°Cに昇温し、反応させた。塩酸−
ジオキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキ
シ基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパ
ルギルアルコールを減圧留去した。その後、エピクロル
ヒドリン740.0g、 テトラメチルアンモニウムク
ロライド4.0gを加え、50℃に昇温し、50%水酸
化ナトリウム水溶液86.0g(1,0モル)を2時間
かけて滴下し、減圧下、水をエピクロルヒドリンとの共
沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさらに4
時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧留去し
、反応物にトルエンを加え、反応により生成した塩化ナ
トリウムを水/トルエンにより分液除去した。その後、
トルエンを減圧留去し、エポキシ当量300の目的物を
得た。収率92.0% l R(cl’) : CHECH−(3300,2100) −Ph−(1600,1500) H−NMR(ppm): CHECH−(2,44) CH2CI−(3,20) \ 1 =CCH2(4,19) Ph−H(6,80〜7.14 > 以下実施例1と同様な反応装置、 以下の化合物を得た。
実施例4
方法により、
ノニ乙
エポキシ当量278.収率92.4%
IR(cm−′):
CHEC−(3300,2100)
Ph−(1600,1500)
H−NMR(ppm) :
CHEC−(2,45)
Ph−且(6,6〜7.8)
実施例5
エポキシ当量266、収率86.5%
J R(cm−’) :
CHEC−(3300,2100)
−ph−(1600,1500)
H−NMR(Ppm):
C且=C−(2,45)
CH,−CI−(2,6〜2.8)
ph−且(6,6〜7.8)
実施例6
エボキシ当量312.収率88.3%
IR(cm−’) :
CHEC−(3300,2100)
−Ph−(1600,1500)
CH,−CH−(900)
\ 1
H−NMR(ppm)ニ
=C且s(1,70)
CHEC−(2,44)
CH,−CH−(2,6〜2.9)
Ph−H(6,6〜7.8)
実施例7
エボキシ当量450.収率88.1%
I R(cr’) :
CHEC−(3300,2100)
H−NMR(PPm):
CHEC−(2,44)
CH,−CH−(2,6〜2.8)
Ph−且(6,6〜7.8)
実施例8
エポキシ当量165.収率77.2%
I R(C11−’) :
CH三C−(3300,2100)
−CH,−(2850)
H−NMR(ppm)ニ
ーCH2−(1,62)
CHEC−(2,44)
実施例9
エポキシ当量186.収率80.0%
I R(cm−’) :
CH:C−(3300,2100)
−CHz−(2850)
H−NMR(ppm)ニ
ーCHオ − (1,62)
CH−:C−(2,44)
実施例1
エポキシ当量345゜
収率91.0%
IR(cm−’) :
CHEC−(3300゜
−PH−(1600゜
H−NMR(ppm):
CH=C−
(2,44)
Ph−且(6,6〜7.8)
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R;1)炭素数1〜20のアルキレン基、フェニ
レン基、またはナフチレン基( 置換又は非置換); 2)1個もしくは、2個の炭素−炭素 結合、エーテル酸素原子、硫黄原子、 スルホニル基、スルホキシド基、カル ボニル基または、炭素数1〜5のアル キレン基で結合された2個もしくは3 個のフェニレン基からなる基を表し、 未置換もしくは、各々炭素原子数1〜 4の1個もしくは2個のアルキル基ま たは、Cl原子、Br原子の1個もし くは、2個によって1個の環もしくは 複数の環が置換されていてもよい。 または、 3)−(CH_2CH_2−O)_pCH_2−CH_
2−▲数式、化学式、表等があります▼ −(CH_2−CH_2−CH_2−CH_2−O)_
r−CH_2−CH_2−CH_2−CH_2−R_1
、R_2;独立に水素かまたは三重合を持たない炭化水
素基; B;−O−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数
式、化学式、表等があります▼(R_3:−CH_3ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼ n、p、q、r;0〜20の整数) で示されている三重結合含有グリシジルエーテル化合物
。 - (2)分子内に少なくとも1個のグリシジル基を有する
化合物に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1およびR^2は独立に水素か、または三
重結合を持たない炭化水素基を意味する。)のアルコー
ルを反応させてグリシジル基を開環し、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) の3−(2−プロピニルオキシ)−2−ヒドロキシプロ
ピル基に変換し、次に式(II)の基の2級アルコール性
水酸基を3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルエーテル
化した後脱塩酸して生成する、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) の特性基に変換することを特徴とする第1項の三重結合
含有グリシジルエーテル化合物の製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25092490A JPH04128279A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 |
EP91108266A EP0458296B1 (en) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modified epoxy resins having acetylenically unsaturated functions |
DE69117581T DE69117581T2 (de) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modifizierte Epoxydharze, die acetylenisch ungesättigte Endgruppen enthalten |
US07/704,154 US5242996A (en) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modified epoxy resins having acetylenically unsaturated functions |
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JP (1) | JPH04128279A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07228580A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-08-29 | Yuka Shell Epoxy Kk | 変性多価エポキシ化合物、同化合物の製造方法及びエポキシ樹脂組成物 |
JP2001261775A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-26 | Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd | 新規なオリゴマー体含有ポリグリシジルエーテル化合物、およびそれを用いた硬化性樹脂組成物 |
JP2002128772A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 2−グリシジルオキシエチル(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2003002880A (ja) * | 2001-04-19 | 2003-01-08 | Yokkaichi Chem Co Ltd | 多価アルコールポリグリシジルエーテルの製造方法 |
WO2020171154A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | 株式会社カネカ | 炭素-炭素三重結合を有する有機重合体の製造方法 |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP25092490A patent/JPH04128279A/ja active Pending
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