JPH04115513A - Method for constituting semiconductor manufacturing line - Google Patents
Method for constituting semiconductor manufacturing lineInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は繰返し作業のある微細加工職場を対象とする量
産ラインの構成方法にかかり、特に、短納期(Quic
k Turn Around Time:QTAT)生
産を可能にすることのできる半導体製造ラインの構成方
法に関す
〔従来の技術〕
半導体製造の量産ラインの構成については、これまで、
例えば“ウェハ自動搬送システム″ (ファクトリ・オ
ートメーション”86.2)の第2図に記載のように、
同一処理を行う設備をまとめて配置するいわゆるジョブ
ショップ方式が採られているが、この方式の場合、設備
稼動率は高いが、製作期間が長くなるという傾向があっ
た。また、“半導体層LSI工場FA化への挑戦パ(月
刊Sem1conductor World 1986
.6)の第2図に記載のように、自動化のすすんだIM
DRAM等を製造するラインにおいても、同様に、ジョ
ブショップ方式が採用されていた。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for configuring a mass production line for microfabrication workplaces with repetitive work, and in particular, to
Concerning a method for configuring a semiconductor manufacturing line that can enable production of semiconductors with a high turn around time (QTAT) [Conventional technology] Until now, regarding the configuration of a mass production line for semiconductor manufacturing,
For example, as shown in Fig. 2 of “Wafer Automatic Transfer System” (Factory Automation” 86.2),
A so-called job shop method is used in which equipment that performs the same process is placed together, but although this method has a high equipment utilization rate, it tends to take a long time to produce. Also, “Challenge to FA in Semiconductor Layer LSI Factory” (Monthly Sem1conductor World 1986)
.. 6) As shown in Figure 2, IM with advanced automation
Similarly, the job shop method was also used on lines for manufacturing DRAMs and the like.
しかしながら、ジョブショップ方式の場合には、上記し
たように、製作期間が長くなるという傾向を有すると同
時に、設備稼動率を優先した管理方式が採られているた
め、例えば短納期の要請があった場合に即応した対応が
できず、長網期化する傾向にあった。However, in the case of the job shop method, as mentioned above, the production period tends to be longer, and at the same time, a management method is adopted that prioritizes equipment utilization rate, so for example, there is a demand for short delivery times. It was not possible to respond immediately to the situation, and there was a tendency to rely on Fourdrinier.
本発明の目的は、上記従来技術の有していた課題を解決
しで、短納期生産を可能にすることのできる半導体製造
ラインの構成方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for configuring a semiconductor manufacturing line that can solve the problems of the above-mentioned prior art and enable short-term production.
上記目的は、製品処理の基本的な流れに沿って、処理内
容の異なる種類の設備をメカニカルハンドリング等の手
段によって結合した一貫した流れを有するモジュールを
構成し、生産規模に応じて該モジュールを必要な数だけ
設置して、擬似フローショップ化した半導体製造ライン
の構成とすることによって達成することができる。The above purpose is to construct a module with a consistent flow that combines equipment of different types of processing contents by means such as mechanical handling, in accordance with the basic flow of product processing, and to configure the module according to the production scale. This can be achieved by installing as many as possible and configuring a semiconductor manufacturing line as a pseudo-flow shop.
上記のようにして擬似フローショップ化した半導体製造
ライン構成とすることによって、生産規模に応じて必要
数のモジュールで量産ラインを構成することができるの
で、ジョブショップ方式に比べて大幅な工程短縮が可能
となり、短納期生産を達成することができる。By configuring the semiconductor manufacturing line as a pseudo-flow shop as described above, it is possible to configure the mass production line with the required number of modules depending on the production scale, resulting in a significant process reduction compared to the job shop method. This makes it possible to achieve short lead time production.
以下、本発明半導体製造ラインの構成方法について実施
例によって具体的に説明する。Hereinafter, a method for configuring a semiconductor manufacturing line according to the present invention will be specifically explained using examples.
第1図は半導体製造の基本的な流れに沿って構成しメカ
ニカルシングルモジュール構成の例を示した図で、被加
工物投入ユニット1.処理設備(A)2、処理設備(B
)3.処理設備(C) 4 、処理設備(D)5、各処
理設備間を連結するメカニカルハンドリングユニット6
および被加工物払出ユニット7からなることを示す。こ
こで、上記処理設備(A)、 (B)(C)、 (D)
としては、例えば、それぞれ酸化・拡散処理設備、ホト
レジスト処理設備、エツチングおよび/あるいはレジス
ト除去処理設備、イオン打ち込みおよび/あるいはオゾ
ン除去処理設備などを挙げることができる。被加工物の
投入は被加工物投入ユニット1から行い、該ユニットが
内蔵するメカニカルハンドリングユニットおよびストッ
カによりバッファリングし、要求に応じて被加工物を処
理段@(A)に送る。処理を終った被加工物はメカニカ
ルハンドリングユニット6を介して次の処理設備(B)
に送られる。同様にして、被加工物はさらに処理設備(
C)、(D)で処理され、最後に被加工物払出ユニット
から、必要があればバッファリングして、次のモジュー
ルに移送される。FIG. 1 is a diagram showing an example of a mechanical single module configuration constructed in accordance with the basic flow of semiconductor manufacturing. Processing equipment (A) 2, processing equipment (B)
)3. Processing equipment (C) 4, processing equipment (D) 5, mechanical handling unit 6 that connects each processing equipment
and a workpiece delivery unit 7. Here, the above processing equipment (A), (B) (C), (D)
Examples thereof include oxidation/diffusion treatment equipment, photoresist treatment equipment, etching and/or resist removal treatment equipment, ion implantation and/or ozone removal treatment equipment, and the like. Workpieces are input from a workpiece input unit 1, buffered by a mechanical handling unit and a stocker built in this unit, and sent to a processing stage @(A) according to a request. The processed workpiece is transferred to the next processing equipment (B) via the mechanical handling unit 6.
sent to. Similarly, the workpiece is further processed with processing equipment (
It is processed in steps C) and (D), and is finally transferred from the workpiece delivery unit to the next module, buffered if necessary.
このような構成の場合、処理設備の処理枚数や処理速度
の相違によって、各処理設備間の能力バランスが維持で
きなくなる可能性がある。その場合、各処理設備間に多
少のバッファを持たせるとか、処理速度をモジュールを
構成する処理設備の内の最も遅い設備の処理速度に合わ
せることになり、同一規模の生産においてはジョブショ
ップ方式に比較して設備台数を多くしなければならない
ことになる。また、モジュールを構成する設備の内−台
でもトラブルが発生するとモジュール全体が停止してし
まう可能性がある。これに対処する方法として、同種設
備を2台並列で構成することによってモジュール全体の
停止を少なくするという方法もある。In the case of such a configuration, there is a possibility that the capacity balance among the processing equipment cannot be maintained due to differences in the number of sheets processed and the processing speed of the processing equipment. In that case, it is necessary to provide some buffer between each processing equipment, or to match the processing speed to the processing speed of the slowest equipment of the processing equipment that makes up the module. In comparison, the number of equipment would have to be increased. Further, if trouble occurs in the equipment that makes up the module, the entire module may stop. One way to deal with this is to configure two pieces of equipment of the same type in parallel to reduce the need for the entire module to stop.
第2図はメカニカルダブルモジュール構成を示した図で
ある。この場合は、処理設備が複数台あるだめに、ダブ
ルモジュール投入ユニット8.ダブルモジュール用メカ
ニカルハンドリングユニット9.ダブルモジュール用払
出ユニット10は前後の処理設備の状況を判断して、被
加工物をバッファリングしたり移送させたりすることが
肝要である。FIG. 2 is a diagram showing a mechanical double module configuration. In this case, since there are multiple processing equipment, double module input unit 8. Mechanical handling unit for double module9. It is important for the double module dispensing unit 10 to buffer or transfer the workpiece by determining the status of the processing equipment before and after it.
第3図はメカニカルハンドリング等の手段を搬送系に応
用したシングルモジュールの構成の例を示した図で、処
理設備3,4.5等、および、被加工物の受入れやバッ
ファリングの機能のほかに要求に応じて被加工物を送り
出す機能を有する受払ユニットII、搬送系12.中間
バッファユニット13からなっていることを示す。この
構成においては、受払ユニットIIから送り出された被
加工物は直線式の搬送系12によって処理順序に従って
各処理設備に搬送される。また、それぞれの処理を終っ
た段階では、各処理設備の処理枚数や処理速度のバラン
スをとり、さらに搬送系を効率良く活用するために、中
間バッファユニット13を利用する。Figure 3 is a diagram showing an example of the configuration of a single module that applies means such as mechanical handling to the conveyance system, and includes processing equipment 3, 4.5, etc., as well as workpiece receiving and buffering functions. A receiving/paying unit II having a function of sending out workpieces according to requests, and a conveyance system 12. It shows that it consists of an intermediate buffer unit 13. In this configuration, the workpieces sent out from the receiving and paying unit II are transported by the linear transport system 12 to each processing facility in accordance with the processing order. Furthermore, at the stage where each process is completed, the intermediate buffer unit 13 is used in order to balance the number of sheets to be processed and the processing speed of each processing facility, and to utilize the transport system efficiently.
全ての処理を終了した段階で、被加工物を再び受払ユニ
ット11に戻し、次のモジュールに移送する。When all the processing is completed, the workpiece is returned to the receiving/paying unit 11 and transferred to the next module.
第4図は搬送系を応用したダブルモジュール構成を示し
た図で、同種の処理設備を対で配置し又あり、各処理設
備間をループ式搬送系14を用いて連結した構成からな
ることを示す。FIG. 4 is a diagram showing a double module configuration using a transport system, in which similar processing equipment is arranged in pairs, and each processing equipment is connected using a loop-type transport system 14. show.
第5図は搬送系応用ダブルモジュールを利用した量産ラ
イン構成の一例を示した図で、この場合、複数の搬送系
応用ダブルモジュールと、被加工物をラインに投入する
被加工物投入ユニット15、被加工物を工程順序に従っ
て各モジュールまで搬送するモジュール間搬送系16、
処理完了被加工物をラインの外に送出する被加工物払出
ユニット17とから構成されていることを示す。ここで
、各モジュール内では後戻りしない一方向の流れが確保
されるが、モジュール間については、モジュールの配置
によって、戻り発生の回数を少なくすることができる。FIG. 5 is a diagram showing an example of a mass production line configuration using a transport system application double module. In this case, a plurality of transport system application double modules, a workpiece input unit 15 that inputs workpieces into the line, an inter-module transport system 16 that transports the workpiece to each module in accordance with the process order;
It is shown that the machine is comprised of a workpiece delivery unit 17 that sends processed workpieces out of the line. Here, a unidirectional flow without backtracking is ensured within each module, but between modules, the number of times that flowback occurs can be reduced depending on the arrangement of the modules.
このようにしてモジュール内、モジュール間の擬似フロ
ーショップ化を図ることによって大幅な工程短縮が可能
となる。By creating a pseudo flow shop within and between modules in this way, it is possible to significantly shorten the process.
なお、このモジュールを有効に運用するためには、被加
工物のリアルタイムの追尾が可能であり、また処理設備
・搬送系の状態を監視しながら物の流れを確保すること
ができるような管理方式を採ることが有効である。In order to operate this module effectively, a management system that can track workpieces in real time and ensure the flow of materials while monitoring the status of processing equipment and transportation systems is required. It is effective to take the following.
次に、モジュールを構成する各処理設備間のつなぎとモ
ジュ・−ル管理システムとについて第6図〜第10図に
よって説明する。Next, the connections between the processing equipment constituting the module and the module management system will be explained with reference to FIGS. 6 to 10.
第6図は、処理設備2と処理設備3とのつなぎに伸縮ア
ーム式ユニット18を用いた場合の例を示した図である
。該伸縮アーム式ユニツ[・18は、同図(b)に示す
ように、回転可能な専用ロボット19を中心に、屈折式
アーム20.真空吸着チャック21を設けたもので、必
要に応じて屈折式アーム20を伸縮しながら真空チャッ
ク21を処理設備の所定の位置に移動させて、被加工物
(ウェハ)22を把持して次工程設備に供給する。この
場合、各処理設備毎に伸縮式アーム18を設けることも
できる。FIG. 6 is a diagram showing an example in which a telescopic arm type unit 18 is used to connect the processing equipment 2 and the processing equipment 3. The telescoping arm unit [18] is a retractable arm 20 . It is equipped with a vacuum suction chuck 21, and the retractable arm 20 is extended and contracted as necessary to move the vacuum chuck 21 to a predetermined position in the processing equipment, grip the workpiece (wafer) 22, and move it to the next process. Supply equipment. In this case, a telescoping arm 18 may be provided for each processing facility.
第7図は、処理設備間のつなぎに回転アーム式ユニット
23を用いた場合の例を示した図である。FIG. 7 is a diagram showing an example in which a rotary arm type unit 23 is used to connect processing equipment.
この場合は、同図(b)に示すように゛、例えば処理設
備3に設けたウェハ移動ユニット・24によってウェハ
22を所定の位置まで移動させた後、専用ロボット19
上に設けたメカニカルチャック付きアーム25によって
ウェハ22を把持、回転して次の所定の位置、例えば処
理設備2、に移動させる。In this case, as shown in FIG. 2B, after the wafer 22 is moved to a predetermined position by the wafer moving unit 24 provided in the processing equipment 3, the dedicated robot 19
The wafer 22 is gripped and rotated by an arm 25 with a mechanical chuck provided above and moved to the next predetermined position, for example, the processing equipment 2 .
第8図は、処理設備間のつなぎをループ式搬送系ハンド
リングで構成した場合の例を示した図である。この場合
は、同図(a)に示すように、処理設備2,3の間にル
ープ式搬送路26を設け、該搬送路26を移動できるル
ープ搬送ユニット27を用いてウェハを所定の位置に移
動させる。すなわち、同図(b)(拡大図)に示すよう
に、ループ搬送ユニット27が所定の位置に達したとこ
ろで、伸縮アーム式ユニット18によりウェハを把持、
回転してユニット27の台上に載せ、搬送路26上を移
動し、次の所定位置に達したところで、伸縮式アームに
より台上からウェハを取り上げ次の処理設備に供給する
。FIG. 8 is a diagram illustrating an example in which the connection between processing equipment is configured by loop-type conveyance system handling. In this case, as shown in FIG. 2(a), a loop conveyance path 26 is provided between the processing equipment 2 and 3, and a loop conveyance unit 27 that can move along the conveyance path 26 is used to move the wafer to a predetermined position. move it. That is, as shown in FIG. 3B (enlarged view), when the loop transport unit 27 reaches a predetermined position, the wafer is gripped by the telescoping arm unit 18,
The wafer is rotated and placed on the table of the unit 27, moved on the conveyance path 26, and when it reaches the next predetermined position, the telescopic arm picks up the wafer from the table and supplies it to the next processing equipment.
第9丙は、処理設備間のつなぎを2段屈折アーム式ユニ
ット28で構成した場合の例を示した図である。ここで
、該アームユニット28は、同図(b)に示すように、
全体を支えるユニット支柱31を中心に回転しながら所
定の処理設備間をつなぐ方式であり、さらに詳しくは、
同図(C)(拡大図)に示すように、搬送用エア排出口
29から搬送用エア吸引1コ30に向けて気流が形成さ
れており、ウェハ22はその気流上をアームには非接触
の状態で移送される。9th C is a diagram illustrating an example in which a two-stage bending arm type unit 28 is used to connect processing equipment. Here, the arm unit 28, as shown in FIG.
It is a method that connects predetermined processing equipment while rotating around a unit support 31 that supports the whole.
As shown in Figure (C) (enlarged view), an air current is formed from the transport air outlet 29 toward the transport air suction unit 30, and the wafer 22 flows on the air flow without contacting the arm. will be transported in this condition.
以上第6図から第8図までの構成は処理設備が各1台の
場合でも複数台の場合でも適用することができ、また、
伸縮アーム式ユニット189回転アーム式ユニ・ン)−
23,ルーフ搬送ユニッl−27.2段屈折アーム式ユ
ニット28等は複数で構成することもできる。The configurations shown in Figures 6 to 8 above can be applied whether there is one or more processing equipment, and
Telescopic arm type unit 189 rotating arm type unit)
23. Roof conveyance unit 1-27. A plurality of two-stage bending arm type units 28 and the like can be constructed.
また、搬送対象物は原則的にばウェハであるが、ウェハ
を収納したカートリッジmWに搬送することもできる。Further, although the object to be transported is basically a wafer, it can also be transported to a cartridge mW containing a wafer.
また、物量が多い場合の搬送にはコンベア等の連続搬送
システムを用いることもできる。さらに、第8図のルー
プ搬送ユニット27と伸縮アーム式ユニット18を一体
化した自走式ロボットをループ式搬送路26上を移動さ
せる方法もあり、固定したループ式搬送路26上を光学
式あるいは磁気式の自動ガイドウェイビークル(Aut
omaticGuideway Vehicle:AG
V)を走行させることもできる。Furthermore, a continuous conveyance system such as a conveyor can also be used to convey a large quantity of goods. Furthermore, there is also a method in which a self-propelled robot that integrates the loop transport unit 27 and the telescopic arm unit 18 shown in FIG. 8 is moved on the loop transport path 26. Magnetic automatic guideway vehicle (Aut
omaticGuideway Vehicle:AG
V) can also be run.
第1O図はモジュール構成した製造ラインの管理システ
ムを示した図で、特に、モジュールを構成する設備管理
とモジュール内搬送管理についてはリアルタイムのタイ
ミング制御が重要となる。FIG. 1O is a diagram showing a management system for a manufacturing line configured as a module. In particular, real-time timing control is important for equipment management and intra-module transport management that configure modules.
以上述べてきたように、半導体製造ラインの構成方法を
本発明の構成方法とすることによって、従来技術の有し
ていた課題を解決して、工程短縮。As described above, by using the method of configuring a semiconductor manufacturing line according to the present invention, the problems of the prior art can be solved and the process can be shortened.
短納期生産を可能にすることのできる半導体製造ライン
の構成方法を提供することができた。It was possible to provide a method for configuring a semiconductor manufacturing line that enables short-term production.
また、工程短縮が実現できることによって製品品質への
フィードバックが速くなるので、歩留向上を期待するこ
とができる。In addition, by shortening the process, feedback on product quality becomes faster, so an improvement in yield can be expected.
第1図はメカニカルシングルモジュール構成の例を示し
た図、第2図はメカニカルダブルモジュール構成の例を
示した図、第3図は搬送系応用シングルモジュール構成
の例を示した図、第4図は搬送系ダブルモジュール構成
の例を示した図、第5図は搬送系応用ダブルモジュール
を用いた量産ライン構成の例を示した図、第6図は伸縮
アーム式ハンドリング構成の例を示す図、第7図は固定
アーム式ハンドリング構成の例を示す図、第8図はルー
プ式搬送系ハンドリング構成の例を示す図、第9図は2
段屈折アーム式ハンドリング構成の例を示す図、第10
図はモジュール構成した製造ラインの管理システムを示
す図である。
l・・・被加工物投入ユニット
2.2′・・・処理設備(A)
3.3′・・・処理設備(B)
4.4′・・・処理設備(C)
5.5′・・・処理設備(D)
6・・・メカニカルハイドリングユニット7・・・被加
工物払出ユニット
8・・・ダブルモジュール投入ユニット9・・・ダブル
モジュール用メカニカルユニット10・・・ダブルモジ
ュール払出ユニット11・・・受払ユニット 12・
・・直線式搬送系13・・・中間バッファユニット
14・・・ループ式搬送系 15・・・ライン投入ユニ
ット16・・・モジュール間搬送系
17・・・ライン払出ユニット
18・・・伸縮アーム式ユニット
19・・・専用ロボット 20・・・屈折式アーム2
1・・・真空吸着チャック
22・・・ウェハ
23・・・回転アーム式ユニット
24・・・ウェハ移動ユニット
25・・・メカニカルチャック式アーム26・・・ルー
プ式搬送路 27・・・ループ搬送ユニット28・・・
2段屈折アーム式ユニット
29・・・搬送用エア排出口
30・・・搬送用エア吸引口
η1図
ff12図
閉4図
凭j図
幣5図
寵6図
(α)
(I))
第6図
(Q−)
(b)
凭7図
(α)
(b)
凭○図
(b)
(C)Figure 1 shows an example of a mechanical single module configuration, Figure 2 shows an example of a mechanical double module configuration, Figure 3 shows an example of a single module configuration for transport system applications, and Figure 4 is a diagram showing an example of a transport system double module configuration, FIG. 5 is a diagram showing an example of a mass production line configuration using a transport system application double module, and FIG. 6 is a diagram showing an example of a telescoping arm type handling configuration. Fig. 7 is a diagram showing an example of a fixed arm type handling configuration, Fig. 8 is a diagram showing an example of a loop type transfer system handling configuration, and Fig. 9 is a diagram showing an example of a fixed arm type handling configuration.
FIG. 10 shows an example of a stepped folding arm type handling configuration.
The figure shows a modular production line management system. l... Workpiece input unit 2.2'... Processing equipment (A) 3.3'... Processing equipment (B) 4.4'... Processing equipment (C) 5.5'. ...Processing equipment (D) 6...Mechanical hydration unit 7...Workpiece delivery unit 8...Double module input unit 9...Double module mechanical unit 10...Double module delivery unit 11・・・Receipt/Payment Unit 12・
...Linear transport system 13...Intermediate buffer unit 14...Loop type transport system 15...Line input unit 16...Inter-module transport system 17...Line output unit 18...Extendable arm type Unit 19... Dedicated robot 20... Refraction arm 2
1... Vacuum suction chuck 22... Wafer 23... Rotating arm type unit 24... Wafer moving unit 25... Mechanical chuck type arm 26... Loop type transfer path 27... Loop transfer unit 28...
Two-stage bending arm type unit 29...Transporting air outlet 30...Transporting air suction port (Q-) (b) No. 7 diagram (α) (b) No. 7 diagram (b) (C)
Claims (1)
インの構成方法で、製品処理の基本的な流れに沿って、
処理内容の異なる種類の設備をメカニカルハンドリング
等の手段により結合した一貫した流れを有するモジュー
ルを構成し、生産規模に応じて該モジュールを必要な数
だけ設置して、擬似フローショップ化することによつて
短納期(Quick Turn Around Tim
e:QTAT)生産を可能にしたことを特徴とする半導
体製造ラインの構成方法。1. A method of configuring a mass production line for micro-processing workplaces with repetitive work, following the basic flow of product processing.
By constructing a module with a consistent flow that combines equipment with different processing contents by means such as mechanical handling, and installing the required number of modules according to the production scale to create a pseudo flow shop. Quick Turn Around Tim
A method for configuring a semiconductor manufacturing line, which is characterized by making it possible to produce e:QTAT).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23324190A JPH04115513A (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Method for constituting semiconductor manufacturing line |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23324190A JPH04115513A (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Method for constituting semiconductor manufacturing line |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04115513A true JPH04115513A (en) | 1992-04-16 |
Family
ID=16951983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23324190A Pending JPH04115513A (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Method for constituting semiconductor manufacturing line |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04115513A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5820679A (en) * | 1993-07-15 | 1998-10-13 | Hitachi, Ltd. | Fabrication system and method having inter-apparatus transporter |
US5846328A (en) * | 1995-03-30 | 1998-12-08 | Anelva Corporation | In-line film deposition system |
US6251232B1 (en) | 1999-03-26 | 2001-06-26 | Anelva Corporation | Method of removing accumulated films from the surface of substrate holders in film deposition apparatus, and film deposition apparatus |
US6264748B1 (en) | 1997-08-15 | 2001-07-24 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
WO2001075965A1 (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-11 | Tokyo Electron Limited | Treating device |
JP2005197500A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Trecenti Technologies Inc | Semiconductor manufacturing system, manufacturing method of semiconductor device, work manufacturing system, and manufacturing method of work |
CN100411098C (en) * | 2003-04-03 | 2008-08-13 | 精工爱普生株式会社 | Manufacturing device and manufacturing method |
JP2009283980A (en) * | 2009-08-27 | 2009-12-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processor |
-
1990
- 1990-09-05 JP JP23324190A patent/JPH04115513A/en active Pending
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7392106B2 (en) | 1993-07-15 | 2008-06-24 | Renesas Technology Corp. | Fabrication system and fabrication method |
US7062344B2 (en) | 1993-07-15 | 2006-06-13 | Renesas Technology Corp. | Fabrication system and fabrication method |
US5858863A (en) * | 1993-07-15 | 1999-01-12 | Hitachi, Ltd. | Fabrication system and method having inter-apparatus transporter |
US7603194B2 (en) | 1993-07-15 | 2009-10-13 | Renesas Technology Corp. | Fabrication system and fabrication method |
US6099598A (en) * | 1993-07-15 | 2000-08-08 | Hitachi, Ltd. | Fabrication system and fabrication method |
US5820679A (en) * | 1993-07-15 | 1998-10-13 | Hitachi, Ltd. | Fabrication system and method having inter-apparatus transporter |
US7310563B2 (en) | 1993-07-15 | 2007-12-18 | Renesas Technology Corp. | Fabrication system and fabrication method |
US5846328A (en) * | 1995-03-30 | 1998-12-08 | Anelva Corporation | In-line film deposition system |
US6027618A (en) * | 1995-03-30 | 2000-02-22 | Anelva Corporation | Compact in-line film deposition system |
US6264748B1 (en) | 1997-08-15 | 2001-07-24 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
KR100575320B1 (en) * | 1997-08-15 | 2006-08-18 | 동경 엘렉트론 주식회사 | Substrate Processing Equipment |
US6251232B1 (en) | 1999-03-26 | 2001-06-26 | Anelva Corporation | Method of removing accumulated films from the surface of substrate holders in film deposition apparatus, and film deposition apparatus |
WO2001075965A1 (en) * | 2000-04-05 | 2001-10-11 | Tokyo Electron Limited | Treating device |
CN100411098C (en) * | 2003-04-03 | 2008-08-13 | 精工爱普生株式会社 | Manufacturing device and manufacturing method |
JP2005197500A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Trecenti Technologies Inc | Semiconductor manufacturing system, manufacturing method of semiconductor device, work manufacturing system, and manufacturing method of work |
JP2009283980A (en) * | 2009-08-27 | 2009-12-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate processor |
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