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JPH039813A - Infiltration method and its device for varnish - Google Patents

Infiltration method and its device for varnish

Info

Publication number
JPH039813A
JPH039813A JP14379289A JP14379289A JPH039813A JP H039813 A JPH039813 A JP H039813A JP 14379289 A JP14379289 A JP 14379289A JP 14379289 A JP14379289 A JP 14379289A JP H039813 A JPH039813 A JP H039813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base material
varnish
low viscosity
viscosity liquid
processing chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14379289A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masakazu Taguchi
雅一 田口
Mitsuaki Harada
原田 光章
Tadaaki Kishida
岸田 忠昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takuma Co Ltd
Takuma Research and Development Co Ltd
Original Assignee
Takuma Co Ltd
Takuma Research and Development Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takuma Co Ltd, Takuma Research and Development Co Ltd filed Critical Takuma Co Ltd
Priority to JP14379289A priority Critical patent/JPH039813A/en
Publication of JPH039813A publication Critical patent/JPH039813A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform uniformly and sufficiently infiltration of varnish into a base material by making removal of air before varnish infiltration perfect, by a method wherein the base material is opened physically with injection energy or nuclear boiling energy of a low viscosity solution in a steaming atmosphere of the low viscosity solution. CONSTITUTION:When a base material 1 is run at a fixed speed under a state where the inside of a base material treatment chamber 3 is held at an atmosphere of vapor of low viscosity solution and the same arrives at a sphere for an injection action, the low viscosity solution 12 is injected uniformly on both the surfaces of the same through a nozzle group 16. In this instance, since the base material is opened physically injection energy of the low viscosity solution 12, air in the base material 1 is replaced wholly with the low viscosity solution 12 for removal. Then the base material 1 brought to a sphere 6a for a heating action is heated to at least the boiling point of the low viscosity solution 12 with a heating roll 19 and the low viscosity solution 12 infiltrated into the base material 1 is evaporated for removal. Then the same is brought into varnish 8 of a varnish storage tank 2 from a base material outlet part 11 by passing through a base material discharge sphere 7a. In this instance, a space from the heating roll 19 extending to a liquid surface of the varnish on the inside of the outlet part 11 of the base material is held at a complete atmosphere of the vapor of the low viscosity solution.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば電気絶縁板、化粧板等の積層板の製造
に使用される紙、布等の繊維質材からなるシート状の基
材にワニスを含浸させるための方法及び装置に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a sheet-like base material made of a fibrous material such as paper or cloth used for manufacturing laminates such as electrical insulating boards and decorative boards. The present invention relates to a method and apparatus for impregnating water with varnish.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、繊維質材からなるシート状の基材にワニスを含
浸させる場合、ワニスが基材の繊維内部にまで含浸され
、各部のワニス量分布がむらなく均一であることが重要
であり、且つ基材中に残存する気泡を可及的に少なくす
ることが望ましい。
Generally, when impregnating a sheet-like base material made of fibrous material with varnish, it is important that the varnish is impregnated into the inside of the fibers of the base material and that the amount of varnish is evenly distributed in each part. It is desirable to reduce the number of air bubbles remaining in the material as much as possible.

しかし、基材をワニスに浸漬させるのみでは、基材の内
部にまでワニスを均−且つ充分に含浸させることが困難
であり、ワニスを含浸させるに長時間を要する。しかも
、基材中に残存する気泡を充分に少なくすることが困難
である。かかる問題は、特に高粘度のワニスを使用した
場合に顕著となる。
However, simply by dipping the base material in the varnish, it is difficult to uniformly and sufficiently impregnate the inside of the base material with the varnish, and it takes a long time to impregnate the base material with the varnish. Furthermore, it is difficult to sufficiently reduce the number of bubbles remaining in the base material. This problem becomes particularly noticeable when a high viscosity varnish is used.

そこで、近時、溶剤等の低粘性液を貯溜した予備含浸槽
とワニスを貯溜したワニス含浸槽とを並置して、基材を
ガイドロールにより予備含浸槽及びワニス含浸槽を順次
通過せしめるようにすることが行われている。
Therefore, recently, a preliminary impregnation tank storing a low-viscosity liquid such as a solvent and a varnish impregnation tank storing varnish are placed side by side, and the substrate is made to pass through the preliminary impregnation tank and the varnish impregnation tank sequentially using guide rolls. things are being done.

かかる含浸方法によれば、基材が低粘性液中を通過せし
められる間に、基材中の空気が低粘性液と置換されて排
除されるから、基材を、これに含浸された低粘性液を蒸
発させつつワニス中にもたらすと、ワニスを効率良く含
浸させ得ると共に。
According to this impregnation method, while the base material is passed through the low viscosity liquid, the air in the base material is replaced with the low viscosity liquid and removed, so that the base material can be passed through the low viscosity liquid impregnated with the low viscosity liquid. By bringing the liquid into the varnish while evaporating it, the varnish can be efficiently impregnated.

気泡の減少を図ることができる。It is possible to reduce air bubbles.

゛〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、かかる方法にあっては、低粘性液による
空気の置換排除を毛細管浸透力により行なうため、空気
の排除には自ずから限界があり、基材中の空気を完全に
排除し難い。特に、予備含浸槽内の低粘性液が不純物の
混入等により劣化すると、毛細管浸透力による空気排除
作用が大幅に低下する。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in such a method, air is replaced and eliminated by a low-viscosity liquid using capillary osmotic force, so there is a natural limit to the elimination of air. is difficult to completely eliminate. In particular, when the low viscosity liquid in the preliminary impregnation tank deteriorates due to contamination with impurities, the air removal effect due to capillary osmotic force is significantly reduced.

したがって、従来方法では、基材を空気を完全に排除し
た状態でワニス中にもたらすことが困難であり、ボイド
レスの高品質なプリプレグを得ることができないでいる
のが実情である。
Therefore, in the conventional method, it is difficult to introduce the base material into the varnish in a state in which air is completely excluded, and the reality is that it is not possible to obtain a void-free, high-quality prepreg.

本発明は、かかる実情に鑑みてなされたもので。The present invention was made in view of these circumstances.

基材におけるワニス含浸性、ボイドレス効果を大幅に向
上させ得るワニス含浸方法とこれを好適に実施しうるワ
ニス含浸装置とを提供することを目的とするものである
The object of the present invention is to provide a varnish impregnation method that can significantly improve the varnish impregnation properties and void-free effect in a base material, and a varnish impregnation apparatus that can suitably carry out the method.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この課題を解決した本発明のワニス含浸方法は、繊維質
材からなるシート状の基材を低粘性液蒸気雰囲気中を通
過させた上、引き続きワニス中を通過させるようにし、
特に、低粘性液蒸気雰囲気中を通過する間において、基
材を物理的に開繊させることにより基材中の空気を排除
するようにしたものである。
The varnish impregnation method of the present invention solves this problem by passing a sheet-like base material made of a fibrous material through a low-viscosity liquid vapor atmosphere and then passing it through a varnish.
In particular, air in the base material is removed by physically opening the base material while passing through a low-viscosity liquid vapor atmosphere.

かかる基材の開繊は1次の2通りの手法の何れかによっ
て行なわれる。
The opening of such a base material is carried out by either of two primary methods.

すなわち、第1の手法では、基材に低粘性液を噴射させ
て、その噴射エネルギにより基材を開繊させ、基材中の
空気を低粘性液と置換させる。基材に含浸された低粘性
液は、低粘性液蒸気雰囲気中において加熱蒸発させる。
That is, in the first method, a low viscosity liquid is injected onto the base material, the base material is opened by the energy of the jet, and air in the base material is replaced with the low viscosity liquid. The low viscosity liquid impregnated into the base material is heated and evaporated in a low viscosity liquid vapor atmosphere.

また、第2の手法では、基材に、これを低粘性液の沸点
以上に加熱させた状態で、低粘性液又はその蒸気を噴射
させる。これによって、基材に核沸騰を生ぜしめて、そ
の核沸騰エネルギーにより基材を開繊させ、基材中の空
気を低粘性液蒸気と置換させる。
In the second method, a low viscosity liquid or its vapor is injected onto the base material while the base material is heated above the boiling point of the low viscosity liquid. This causes nucleate boiling in the base material, causes the base material to open with the nucleate boiling energy, and replaces the air in the base material with low viscosity liquid vapor.

一方、かかる方法を実施するための本発明のワニス含浸
装置は、ワニスを貯溜したりニス貯溜槽と、基材入口部
とワニス貯溜槽のワニス中に開口させた基材出口部とを
備えた基材処理室と、 in維質材からなるシート状の
基材を基材入口部、基材処理室内、基材出口部、ワニス
貯溜槽内を順次走行させるべくガイドする走行ガイド機
構と、基材処理室内を低粘性液蒸気雰囲気に保持する蒸
気雰囲気保持機構と、を具備するものであり、特に、前
記第1の手法を採用する方法の実施装置では、更に低粘
性液噴射機構及び低粘性液蒸発機構を具備し、前記第2
の手法を採用する方法の実施装置では、更に基材加熱機
構及び核沸騰発生機構を具備する。
On the other hand, the varnish impregnation device of the present invention for carrying out such a method includes a varnish reservoir for storing varnish, a base material inlet portion, and a base material outlet portion opened into the varnish of the varnish reservoir. a base material processing chamber; a traveling guide mechanism that guides a sheet-like base material made of in-fibrous material to travel sequentially through a base material inlet, a base material processing chamber, a base material outlet, and a varnish storage tank; A vapor atmosphere holding mechanism that maintains a low viscosity liquid vapor atmosphere in the material processing chamber. Particularly, in an apparatus for implementing the method that adopts the first method, a low viscosity liquid injection mechanism and a low viscosity liquid vapor atmosphere are further provided. a liquid evaporation mechanism;
The apparatus for implementing the method employing the method further includes a base material heating mechanism and a nucleate boiling generation mechanism.

そして、低粘性液噴射機構は、基材処理室内において基
材に低粘性液を噴射するものであり、低粘性液蒸発機構
は、低粘性液噴射機構による噴射作用領域より基材出口
部側の加熱作用領域において基材を低粘性液の沸点以上
に加熱するものである。
The low viscosity liquid injection mechanism injects the low viscosity liquid onto the substrate in the substrate processing chamber, and the low viscosity liquid evaporation mechanism is located at the side of the substrate exit section from the injection action area of the low viscosity liquid injection mechanism. The base material is heated to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid in the heating action area.

また、基材加熱機構は、基材処理室内において基材を低
粘性液の沸点以上に加熱するものであり。
Further, the base material heating mechanism heats the base material to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid in the base material processing chamber.

核沸騰発生機構は、基材加熱機構による加熱作用領域に
おいて基材に低粘性液又はその蒸気を噴射させて核沸騰
を生せしめるものである。
The nucleate boiling generation mechanism causes nucleate boiling to occur by injecting a low viscosity liquid or its vapor onto the base material in a heating action area of the base material heating mechanism.

〔作用〕[Effect]

基材は、走行ガイド機構により所定の経路を走行せしめ
られ、基材入口部から基材処理室内にもたらされる。
The base material is caused to travel along a predetermined path by a travel guide mechanism and brought into the base material processing chamber from the base material inlet.

基材処理室内にもたされた基材は、低粘性液噴射機構又
は基材加熱機構及び核沸騰発生機構により開繊され、含
有空気が排除される。
The base material brought into the base material processing chamber is opened by a low viscosity liquid injection mechanism, a base material heating mechanism, and a nucleate boiling generation mechanism, and air contained therein is removed.

すなわち、低粘性液噴射機構により基材に低粘性液が噴
射されると、その噴射エネルギにより基材が物理的に開
繊される。これによって、基材中の空気は低粘性液と置
換されて、完全に排除される。そして、この噴射作用領
域を経過した基材は低粘性液蒸発機構により低粘性液の
沸点以上に加熱される。その結果、基材に含浸された低
粘性液は蒸発分離され、基材処理室内が蒸気雰囲気保持
機構により低粘性液蒸気雰囲気に保持されていることと
相俟って、基材は低粘性液蒸気のみを含む状態で基材出
口部へともたらされる。
That is, when the low viscosity liquid is injected onto the base material by the low viscosity liquid jetting mechanism, the base material is physically opened by the energy of the ejection. As a result, the air in the substrate is replaced with a low viscosity liquid and completely eliminated. The base material that has passed through this injection action area is heated to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid by the low viscosity liquid evaporation mechanism. As a result, the low viscosity liquid impregnated into the base material is evaporated and separated, and in combination with the fact that the base material processing chamber is maintained in a low viscosity liquid vapor atmosphere by the steam atmosphere retention mechanism, the base material becomes a low viscosity liquid. It is delivered to the substrate outlet in a state containing only steam.

また、基材加熱機構及び核沸騰発生機構によれば、基材
には、これが基材、加熱機構により低粘性液の沸点以上
に加熱された状態で、核沸騰発生機構により低粘性液又
はその蒸気が噴射される。その結果、基材においては急
激な核沸騰が発生し、その核沸騰エネルギにより基材が
物理的に開繊せしめられ、基材中の空気は低粘性液蒸気
と置換されて、完全に排除される。爾後、基材処理室内
が低粘性液蒸気雰囲気に保持されていることと相俟って
、基材は低粘性液蒸気のみを含む状態で基材出口部へと
もたらされる。
Further, according to the base material heating mechanism and the nucleate boiling generation mechanism, the base material is heated to the boiling point or higher of the low viscosity liquid by the base material and the heating mechanism, and the nucleate boiling generation mechanism generates the low viscosity liquid or the like. Steam is injected. As a result, rapid nucleate boiling occurs in the base material, and the nucleate boiling energy physically opens the base material, replacing the air in the base material with low-viscosity liquid vapor and completely eliminating it. Ru. Thereafter, since the interior of the substrate processing chamber is maintained in a low-viscosity liquid-vapor atmosphere, the substrate is brought to the substrate outlet section in a state containing only low-viscosity liquid-vapor.

このようにして空気を排除された基材は、基材出口部か
ら直接ワニス貯溜槽のワニス中にもたらされ、ワニス中
を通過する間においてワニスを均−且つ充分に含浸され
る。
The substrate from which air has been excluded in this way is brought directly from the substrate outlet into the varnish in the varnish reservoir and is uniformly and thoroughly impregnated with the varnish during passage through the varnish.

〔実施例〕〔Example〕

以下1本発明の構成を第1図〜第8図に示す各実施例に
基づいて具体的に説明する。
Hereinafter, the structure of the present invention will be specifically explained based on the embodiments shown in FIGS. 1 to 8.

第1図は本発明に係るワニス含浸装置の第1実施倒を示
したもので、この装置において、1は基材、2はワニス
貯溜槽、3は基材処理室、4は走行ガイド機構、5は低
粘性液噴射機構、6は低粘性液蒸発機構、7は蒸気雰囲
気保持機構である。
FIG. 1 shows the first implementation of the varnish impregnation apparatus according to the present invention, in which 1 is a base material, 2 is a varnish storage tank, 3 is a base material processing chamber, 4 is a traveling guide mechanism, 5 is a low viscosity liquid injection mechanism, 6 is a low viscosity liquid evaporation mechanism, and 7 is a steam atmosphere holding mechanism.

基材1は繊維質材からなるシート状のもので。The base material 1 is a sheet-like material made of a fibrous material.

合成、天然の有機、無機繊維からなる織布、不織布、例
えば紙、ガラス繊維布、ガラス繊維不織布。
Woven and non-woven fabrics consisting of synthetic, natural, organic and inorganic fibers, such as paper, glass fiber cloth, glass fiber non-woven fabrics.

カーボン繊維布、カーボン繊維不織布、アラミド繊維布
、アラミド繊維不織布等が使用される。
Carbon fiber cloth, carbon fiber nonwoven fabric, aramid fiber cloth, aramid fiber nonwoven fabric, etc. are used.

ワニス貯溜槽2は、所定量のワニス8を貯溜した上面開
放状のものである。ワニス8としては、一般に熱硬化性
樹脂ワニスが使用されるが、その他、熱可塑性樹脂、天
然樹脂等のワニスや無溶剤の液状合成樹脂、液状天然樹
脂等も使用される。
The varnish storage tank 2 has an open top and stores a predetermined amount of varnish 8. As the varnish 8, a thermosetting resin varnish is generally used, but varnishes of thermoplastic resins, natural resins, etc., solvent-free liquid synthetic resins, liquid natural resins, etc. can also be used.

なお、ワニス8は図示しない温度制御装置により所定温
度に保持されている。
Note that the varnish 8 is maintained at a predetermined temperature by a temperature control device (not shown).

基材処理室3は、傾斜状の本体部9とその下端部に立設
された基材入口部10と本体部9の上端部に垂設され且
つワニス貯溜槽2のワニス8中に開口された基材出口部
11とからなるN字形状の筒体に構成されている。本体
部9の下端部には、所定量の低粘性液12を貯溜する低
粘性液貯溜槽13が連設されている。低粘性液12とし
ては、基材1に対して充分な濡れ性を有するものが使用
される。具体的には、ワニス8より低粘度であり且つ1
00cP以下の粘度の溶剤等を使用するが、含浸させよ
うとするワニスに配合された溶剤と同質のものを使用し
ておくことが好ましい。なお、低粘性液貯溜槽13の周
壁を含む処理室周壁は。
The substrate processing chamber 3 includes an inclined main body 9 , a substrate inlet 10 erected at the lower end thereof, and a vertically disposed upper end of the main body 9 and opened into the varnish 8 of the varnish storage tank 2 . The base material outlet part 11 is formed into an N-shaped cylinder. A low viscosity liquid storage tank 13 that stores a predetermined amount of low viscosity liquid 12 is connected to the lower end of the main body 9 . As the low viscosity liquid 12, one having sufficient wettability to the base material 1 is used. Specifically, the varnish has a lower viscosity than varnish 8 and varnish 1
A solvent having a viscosity of 00 cP or less is used, but it is preferable to use a solvent of the same quality as the solvent blended into the varnish to be impregnated. Note that the peripheral wall of the processing chamber including the peripheral wall of the low-viscosity liquid storage tank 13 is as follows.

断熱壁3aで構成されている。It is composed of a heat insulating wall 3a.

走行ガイド機構4は、少なくとも、処理室本体部9の下
端部に配設せるガイドロール14とワニス貯溜槽2のワ
ニス8中に配設せる複数のガイドロール15・・・と処
理室本体部9の上端部に配設せる後述の加熱ロール19
とからなり、基材1が基材入口部10から基材処理室3
内に至り、ノ、を材処理室3内ではその形状に沿うN字
状経路を辿り、基材出口部11からワニス貯溜槽2に至
り、ワニス8中を通過せしめられるようにガイドするも
のである。なお、ガイドロール15・・・のうち少なく
とも−のロール15は、基材1にその幅方向への伸展力
を付与しうるエキスバンド式ロールに構成されている。
The traveling guide mechanism 4 includes at least a guide roll 14 disposed at the lower end of the processing chamber main body 9, a plurality of guide rolls 15 disposed in the varnish 8 of the varnish storage tank 2, and the processing chamber main body 9. A heating roll 19 (described later) disposed at the upper end of the
The base material 1 is transferred from the base material inlet section 10 to the base material processing chamber 3.
Inside the material processing chamber 3, the material follows an N-shaped path that follows its shape, reaches the varnish storage tank 2 from the base material outlet section 11, and is guided so that it can pass through the varnish 8. be. Note that at least the negative roll 15 among the guide rolls 15 is configured as an expanded roll that can apply stretching force to the base material 1 in its width direction.

低粘性液噴射機構5は、処理室本体部9の下端部側の噴
射作用領域5aに配設されたノズル群16・・・とこれ
に低粘性液貯溜槽13から導いた低粘性液供給管17と
これに介設されたポンプ18とを具備してなる。ノズル
群16・・・は基材1の両面に対向配置されていて、ポ
ンプ18を作動させることにより低粘性液貯溜槽13の
低粘性液12を基材1の両面に均一に噴射する。
The low viscosity liquid injection mechanism 5 includes a nozzle group 16 disposed in the injection action area 5a on the lower end side of the processing chamber main body 9 and a low viscosity liquid supply pipe led to the nozzle group 16 from the low viscosity liquid storage tank 13. 17 and a pump 18 interposed therebetween. The nozzle groups 16 are arranged to face each other on both sides of the base material 1, and by operating the pump 18, the low viscosity liquid 12 from the low viscosity liquid storage tank 13 is uniformly sprayed onto both sides of the base material 1.

低粘性液蒸発機構6は、処理室本体部9の上端部側の加
熱作用領域6aに加熱ロール19を基材1の回行に追従
すべく回転自在に設けてなる。この加熱ロール19は、
基材1を低粘性液12の沸点以上に加熱して、これに含
浸された低粘性液12を蒸発させるものである。ところ
で、加熱ロール19による基材加熱温度は図示しない温
度制御装置により制御されようになっているが、その蒸
発能力は、基材1に含浸されて加熱作用領域6aに持込
まれる最大量の低粘性液を蒸発させ得るに充分なものと
されている。なお、加熱ロール19は基材1の通過方向
に回転駆動させるようにしておいてもよい。この場合、
ロール周速を基材1の走行速度に一致させておくことは
いうまでもない、蒸気雰囲気保持機構7は、主として基
材処理室3内で低粘性液蒸気12aを発生させる蒸気発
生手段から構成されるが、この実施例では、更に。
The low-viscosity liquid evaporation mechanism 6 includes a heating roll 19 rotatably provided in a heating area 6a on the upper end side of the processing chamber main body 9 to follow the rotation of the substrate 1. This heating roll 19 is
The base material 1 is heated to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid 12 to evaporate the low viscosity liquid 12 impregnated therein. Incidentally, the base material heating temperature by the heating roll 19 is controlled by a temperature control device (not shown), and its evaporation ability is determined by the maximum amount of low viscosity impregnated into the base material 1 and brought into the heating action area 6a. It is said to be sufficient to evaporate the liquid. Note that the heating roll 19 may be driven to rotate in the direction in which the base material 1 passes. in this case,
It goes without saying that the circumferential speed of the roll is made to match the traveling speed of the substrate 1. The steam atmosphere holding mechanism 7 mainly consists of a steam generating means that generates a low-viscosity liquid vapor 12a within the substrate processing chamber 3. However, in this example, further.

加熱作用領域6a及び該領域6aから基材出口部11端
に至る基材排出領域7aを低粘性液蒸気12aの凝縮温
度以上に保持する凝縮防止手段と、基材処理室3内で発
生する低粘性液蒸気12aを凝縮回収する低粘性液回収
手段とを具備する。
Condensation prevention means that maintains the heating action area 6a and the substrate discharge area 7a extending from the area 6a to the end of the substrate outlet section 11 at a temperature higher than the condensation temperature of the low viscosity liquid vapor 12a, and and low viscosity liquid recovery means for condensing and recovering the viscous liquid vapor 12a.

蒸気発生手段は、基材出口部11に配設されたノズル群
22・・・と、加熱器23aを備えた蒸気発生槽23と
、蒸気発生槽23からノズル群22・・・に導かれた蒸
気供給管24とを具備する。加熱器23aにより蒸気発
生槽23の低粘性液12を加熱蒸発させ2′二  その
低粘性液蒸気12aが蒸気供給管24を介してノズル群
22・・・から基材処理室3に供給される。また、前記
低粘性液蒸発機構6は、基材処理室3内において低粘性
液蒸気12aを発生させるものであり、蒸気発生手段の
一部を構成する。したがって、ノズル群22・・・から
の供給蒸気及び低粘性液蒸発機構6による発生蒸気によ
って、基材処理室3内は低粘性液蒸気12aで充満せし
められる。なお、蒸気発生槽23には、ポンプ25aを
介設した低粘性液補給管25により、低粘性液貯溜槽1
3の低粘性液12が適宜補給されるようになっている。
The steam generating means includes a nozzle group 22 disposed at the base material outlet section 11, a steam generating tank 23 equipped with a heater 23a, and a steam generating tank 23 guided from the steam generating tank 23 to the nozzle group 22... A steam supply pipe 24 is provided. The low viscosity liquid 12 in the steam generation tank 23 is heated and evaporated by the heater 23a, and the low viscosity liquid vapor 12a is supplied to the substrate processing chamber 3 from the nozzle group 22 through the steam supply pipe 24. . Further, the low-viscosity liquid evaporation mechanism 6 generates a low-viscosity liquid vapor 12a within the substrate processing chamber 3, and constitutes a part of the vapor generation means. Therefore, the inside of the substrate processing chamber 3 is filled with the low-viscosity liquid vapor 12a by the vapor supplied from the nozzle group 22 and the vapor generated by the low-viscosity liquid evaporation mechanism 6. Note that the steam generation tank 23 is connected to the low viscosity liquid storage tank 1 by a low viscosity liquid supply pipe 25 with a pump 25a interposed therein.
The low viscosity liquid 12 of No. 3 is replenished as appropriate.

凝縮防止手段は、処理室本体部9の上端側部分及び基材
出口部11の周壁を内壁たる伝熱壁20aと外壁である
断熱壁20bとからなる二重壁構造に形成して、その内
部に適宜の加熱媒体を供給。
The condensation prevention means is formed by forming the upper end portion of the processing chamber main body portion 9 and the peripheral wall of the substrate outlet portion 11 into a double wall structure consisting of a heat transfer wall 20a serving as an inner wall and a heat insulating wall 20b serving as an outer wall. Supply appropriate heating medium to.

流動させることにより、加熱作用領域6a及び基材排出
領域7aを低粘性液蒸気12aの凝縮温度以上に加熱、
保温するように構成されている。特に、基材出口部11
の開口端部分11aはノズル形状に構成されていて、該
部分11aにおける基材通路を基材lが円滑に通過しう
る範囲内において可及的に狭くしである。なお、この開
口端部分11a内におけるワニス液面部分は伝熱壁20
aにより低粘性液12の沸点以上に加熱されるようにし
である。ところで、基材出口部11の端部は。
By causing the fluid to flow, the heating action area 6a and the base material discharge area 7a are heated to a temperature higher than the condensation temperature of the low viscosity liquid vapor 12a,
Constructed to retain heat. In particular, the base material outlet section 11
The open end portion 11a of the opening end portion 11a is configured in a nozzle shape, and is made as narrow as possible within a range through which the substrate l can smoothly pass through the substrate passage in the portion 11a. Note that the varnish liquid level within this open end portion 11a is located at the heat transfer wall 20.
The low viscosity liquid 12 is heated to a temperature higher than its boiling point by a. By the way, the end of the base material outlet section 11.

第2図に示す如く、熱媒体の流動孔21a・・・を有す
る金属製のノズル形状体21で構成して、開口端部分1
1a内におけるワニス液面部分を低粘性液12の沸点以
上に加熱するようにしておいてもよい、この場合、ノズ
ル形状体21の外面には、その周囲のワニス8を加熱し
ないように、断熱材21bを設けておくことが望ましい
5 低粘性液回収手段は、前記低粘性液貯溜槽13と該貯溜
槽13及び基材入口部10に配設された冷却器26.2
7とを具備してなる。冷却器26゜27による冷却能力
は1両冷却器26.27による基材入口部10側での蒸
気凝縮量と前記蒸気発生手段による発生蒸気量とが平衡
状態となるように設定されていて、基材処理室3内の蒸
気圧力を一定範囲に保持しつるように工夫されている。
As shown in FIG. 2, the opening end portion 1 is composed of a metal nozzle-shaped body 21 having heat medium flow holes 21a...
The varnish liquid level in 1a may be heated above the boiling point of the low viscosity liquid 12. In this case, the outer surface of the nozzle shaped body 21 is provided with heat insulation to prevent the varnish 8 around it from being heated. The low viscosity liquid recovery means preferably includes the low viscosity liquid storage tank 13 and the cooler 26.2 disposed in the storage tank 13 and the base material inlet section 10.
7. The cooling capacity of the coolers 26 and 27 is set so that the amount of steam condensed on the base material inlet portion 10 side by the single cooler 26 and 27 and the amount of steam generated by the steam generating means are in equilibrium, It is devised to maintain the steam pressure within the substrate processing chamber 3 within a certain range.

また、冷却器26により低粘性液貯溜槽13の低粘性液
12の蒸発が防止され、冷却器27により基材入口部1
0からの蒸気漏れが防止される。この蒸気漏れの防止は
、基材1の進行作用と相俟ってより良好に行なわれるも
ので、基材入口部10における基材通路を基材1の通過
を妨げない範囲内で可及的に狭くしておくことで略完壁
に行わしめうる。なお、この低粘性液回収手段は必要に
応じて設けておくものであり、使用する低粘性液12の
性状等の条件次第では必ずしも必要とされない。
Further, the cooler 26 prevents evaporation of the low viscosity liquid 12 in the low viscosity liquid storage tank 13, and the cooler 27 prevents the low viscosity liquid 12 from evaporating at the base material inlet portion 1.
Steam leakage from 0 is prevented. This prevention of steam leakage is better achieved in conjunction with the advancing action of the base material 1, and the base material passage in the base material inlet portion 10 is closed as much as possible within a range that does not obstruct the passage of the base material 1. By keeping it narrow, it can be done almost perfectly. Note that this low-viscosity liquid recovery means is provided as necessary, and is not necessarily required depending on conditions such as the properties of the low-viscosity liquid 12 used.

例えば、低粘性液蒸気12aを基材入口部10から排出
させるようにしたり、低粘性液貯溜槽13を基材処理室
3と分離して設置することも可能である。
For example, it is also possible to discharge the low-viscosity liquid vapor 12a from the substrate inlet portion 10, or to install the low-viscosity liquid storage tank 13 separately from the substrate processing chamber 3.

以上のように構成されたワニス含浸装置によれば、本発
明に係るワニス含浸方法が次のように実施される。
According to the varnish impregnation apparatus configured as above, the varnish impregnation method according to the present invention is carried out as follows.

すなわち、基材処理室3内を低粘性液蒸気雰囲気に保持
させた状態で基材1を所定速度で走行させる。
That is, the base material 1 is run at a predetermined speed while the inside of the base material processing chamber 3 is maintained in a low viscosity liquid vapor atmosphere.

そして、基材1が基材入口部10から基材処理室3内に
もたらされて噴射作用領域5aに至ると。
Then, the base material 1 is brought into the base material processing chamber 3 from the base material inlet portion 10 and reaches the injection action area 5a.

その両面にはノズル群16・・・から低粘性液12が均
一に噴射される。
The low viscosity liquid 12 is uniformly sprayed onto both surfaces from the nozzle group 16.

このとき、基材1は低粘性液12の噴射エネルギにより
物理的に開繊されることになる。このため、基材1中の
空気はすべて低粘性液12と置換されて排除されること
になる。
At this time, the base material 1 is physically opened by the injection energy of the low-viscosity liquid 12. Therefore, all the air in the base material 1 is replaced with the low viscosity liquid 12 and eliminated.

次いで、加熱作用領域6aにもたらされた基材1は、加
熱ロール19により低粘性液12の沸点以上に加熱され
、基材1に含浸されている低粘性液12は蒸発除去され
る。
Next, the base material 1 brought to the heating action area 6a is heated by a heating roll 19 to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid 12, and the low viscosity liquid 12 impregnated in the base material 1 is evaporated and removed.

含浸液を蒸発された基材1は、加熱作用領域6aから基
材排出領域7aを経過して、基材出口部11からワニス
貯溜槽2のワニス8中にもたらされる。
The substrate 1 from which the impregnating liquid has been evaporated passes from the heating action area 6a to the substrate discharge area 7a, and is brought into the varnish 8 of the varnish storage tank 2 from the substrate outlet section 11.

このとき、加熱作用領域6a及び基材排出領域7aは低
粘性液蒸気12aの凝縮温度以上に保温されているから
、ノズル群22・・・からの低粘性液蒸気12aの供給
等と相俟って、加熱ロール19から基材出口部11内の
ワニス液面に至る間は完全な低粘性液蒸気雰囲気に保持
される。このため、基材1に空気が再侵入したり低粘性
液蒸気12aが凝縮付着したりすることがなく、基材1
は、微量の低粘性液蒸気12aのみを含有する状態で基
材出口部11から直接ワニス8中ににもたらされること
になる。
At this time, since the heating action area 6a and the base material discharge area 7a are kept warm at a temperature higher than the condensation temperature of the low viscosity liquid vapor 12a, this is combined with the supply of the low viscosity liquid vapor 12a from the nozzle group 22, etc. Thus, a complete low-viscosity liquid-vapor atmosphere is maintained from the heating roll 19 to the varnish liquid level in the substrate outlet section 11. Therefore, air does not re-enter the base material 1 and the low viscosity liquid vapor 12a does not condense and adhere to the base material 1.
is brought directly into the varnish 8 from the base material outlet section 11 in a state containing only a trace amount of low viscosity liquid vapor 12a.

したがって、爾後ワニス8中を通過する間において、基
材1にはワニス8が均−且つ充分に含浸せしめられるこ
とになる。このワニス8の含浸は、ワニス8中において
基材1がエキスパンダ式ガイドロール15による作用を
受けることによってより効果的に行なわれる。その結果
、ボイドレスの極めて高品質のプリプレグが得られる。
Therefore, while the substrate 1 passes through the varnish 8 thereafter, the varnish 8 is evenly and sufficiently impregnated into the substrate 1. This impregnation with the varnish 8 is carried out more effectively when the base material 1 is subjected to the action of the expander type guide roll 15 in the varnish 8. As a result, a void-free prepreg of extremely high quality is obtained.

ところで、ワニス8の温度は一般に低粘性液12の飽和
蒸気温度より低いため、基材1がワニス8中に進入する
際、これに含まれている低粘性液蒸気12aが凝縮され
ることになる。しかし、基材出口部11内におけるワニ
ス8の液面部分は伝外壁20a(又はノズル形状体21
)により低粘性液12の沸点以上に加熱されることから
、かかる基材1の進入に伴う凝縮液は再蒸発されること
になる。したがって、基材1に含まれる蒸気量が極微量
であることとも相俟って、低粘性液12が基材1の進入
に伴ってワニス8中に侵入することは殆どなく、ワニス
8が稀釈化されるようなことがない。また、上記した伝
熱壁20a(又はノズル形状体21)による加熱によっ
てワニス8中の溶剤等が蒸発し、これが基材処理室3内
に進入する虞れがあるが、かかる虞れは、基材出口部1
1の開口端部分11aを基材1が通過しうる程度に狭く
して、基材排出領域7aとワニス8との境界面積を極小
としておくことで、基材1が狭い開口端部分11aをワ
ニ入方向に進行することと相俟って、確実に回避できる
By the way, the temperature of the varnish 8 is generally lower than the saturated vapor temperature of the low viscosity liquid 12, so when the base material 1 enters the varnish 8, the low viscosity liquid vapor 12a contained therein will be condensed. . However, the liquid level part of the varnish 8 in the base material outlet part 11 is
) is heated to a temperature higher than the boiling point of the low-viscosity liquid 12, so that the condensed liquid accompanying the entry of the base material 1 will be re-evaporated. Therefore, together with the fact that the amount of vapor contained in the base material 1 is extremely small, the low viscosity liquid 12 hardly enters into the varnish 8 as the base material 1 enters, and the varnish 8 is diluted. There is no possibility of becoming Furthermore, there is a risk that the solvent etc. in the varnish 8 will evaporate due to the heating by the heat transfer wall 20a (or the nozzle shaped body 21) and enter the substrate processing chamber 3; Material outlet part 1
By making the opening end portion 11a of the substrate 1 narrow enough to allow the substrate 1 to pass through, and by minimizing the boundary area between the substrate discharge area 7a and the varnish 8, the substrate 1 can pass through the narrow opening end portion 11a. Combined with moving in the incoming direction, you can definitely avoid it.

また、第3図は第2実施例を示したもので、この実施例
においては、特に、低粘性液蒸発機構6を、基材処理室
3の周壁からの輻射伝熱により基材1を加熱するように
構成しである。すなわち、噴射作用領域5aの近傍から
基材出口部11端に至る加熱作用領域6a及び基材排出
領域7aの周壁を、内壁たる伝熱壁20’ aと外壁た
る断熱壁20′bとからなる二重壁構造に構成して、そ
の内部に前記二重壁20a、20bにおけるより高温の
加熱媒体を供給、流動させることによって、噴射作用領
域5aを経過した基材1を伝熱壁20′aからの輻射伝
熱により低粘性液12の沸点以上に加熱するようにしで
ある。この場合、加熱ロール19は必要とされないから
、基材処理室3の屈曲部分にはガイドロール28を配設
しておく。勿論。
FIG. 3 shows a second embodiment. In this embodiment, the low viscosity liquid evaporation mechanism 6 is used to heat the substrate 1 by radiant heat transfer from the peripheral wall of the substrate processing chamber 3. It is configured to do so. That is, the peripheral walls of the heating action area 6a and the base material discharge area 7a extending from the vicinity of the injection action area 5a to the end of the base material outlet section 11 are made up of a heat transfer wall 20'a, which is an inner wall, and a heat insulating wall 20'b, which is an outer wall. By configuring the double wall structure and supplying and flowing a heating medium higher in temperature than the double walls 20a and 20b, the base material 1 that has passed through the injection action area 5a is heated to the heat transfer wall 20'a. The low viscosity liquid 12 is heated to the boiling point or higher by radiant heat transfer from the liquid 12. In this case, since the heating roll 19 is not required, a guide roll 28 is provided at the bent portion of the substrate processing chamber 3. Of course.

このガイドロール28として加熱ロールを使用してもよ
いが、その場合には熱容量の小さなものでよい。なお、
上記した以外の構成2作用については第1実施例と同様
である。
A heating roll may be used as the guide roll 28, but in that case, a roll having a small heat capacity may be used. In addition,
The functions of Structure 2 other than those described above are the same as those of the first embodiment.

また、第4図及び第5図は第3実施例を示したもので、
この実施例においては、特に、低粘性液噴射機構5を、
基材処理室3内における基材入口部10側の屈曲部分に
ガイドロール兼用の噴射ロール29を配設して、この噴
射ロール29がら基材1に低粘性液12を噴射させるよ
うに構成しである。すなわち、この噴射ロール29は多
孔質焼結金属等からなる多孔質ロールで、低粘性液供給
管17を接続した中空軸30に外嵌保持されている。而
して、ポンプ18を作動させて、低粘性液貯溜槽13の
低粘性液12を低粘性液供給管17から中空軸30に供
給させると、低粘性液12は中空軸30の連通孔群30
a・・・から噴射ロール29を通過して、基材1に均一
に噴射される。この低粘性液噴射によって基材1の開繊
が行なわれ。
In addition, FIGS. 4 and 5 show the third embodiment,
In this embodiment, in particular, the low viscosity liquid injection mechanism 5 is
A spray roll 29 which also serves as a guide roll is disposed at a bent portion of the substrate processing chamber 3 on the side of the substrate entrance 10, and the spray roll 29 is configured to spray the low viscosity liquid 12 onto the substrate 1. It is. That is, the injection roll 29 is a porous roll made of porous sintered metal or the like, and is fitted onto a hollow shaft 30 to which the low-viscosity liquid supply pipe 17 is connected. When the pump 18 is operated to supply the low viscosity liquid 12 from the low viscosity liquid storage tank 13 to the hollow shaft 30 from the low viscosity liquid supply pipe 17, the low viscosity liquid 12 flows through the communication hole group of the hollow shaft 30. 30
a... passes through the spray roll 29 and is uniformly sprayed onto the base material 1. The base material 1 is opened by this low viscosity liquid jet.

基材1中の空気が低粘性液12と置換される。このとき
、基材1と噴射ロール29との間には低粘性液12によ
る流体1漠が形成され、両者1,29を非接触の状態に
保持する。したがって、噴射ロール29の支持構造は回
転、非回転の何れであっても、基材1を良好にガイドし
うる。なお、上記した以外の構成2作用については、第
2実施例と同様である。
The air in the substrate 1 is replaced with a low viscosity liquid 12. At this time, a fluid 1 of the low-viscosity liquid 12 is formed between the base material 1 and the spray roll 29, and both 1 and 29 are maintained in a non-contact state. Therefore, the support structure of the spray roll 29 can guide the base material 1 well whether it is rotating or non-rotating. Note that the effects of configuration 2 other than those described above are the same as those of the second embodiment.

さらに、上記各実施例では低粘性液12の噴射エネルギ
により基材1を開繊させるようにしたが、第6図に示す
第4実施例では、核沸騰エネルギにより基材1を開繊さ
せるようにしている。
Further, in each of the above embodiments, the base material 1 is opened by the injection energy of the low viscosity liquid 12, but in the fourth embodiment shown in FIG. 6, the base material 1 is opened by the nucleate boiling energy. I have to.

すなわち、この実施例では、ワニス含浸装置が、ワニス
貯溜槽2と基材処理室3と走行ガイド機構4と蒸気雰囲
気保持機構7と基材加熱機構31と核沸騰発生機構32
とを具備してなる。なお、基材加熱機構31及び核沸騰
発生機構32以外の構成2作用については、第1実施例
と同様であるから、その詳細な説明は省略する。
That is, in this embodiment, the varnish impregnation apparatus includes a varnish storage tank 2, a substrate processing chamber 3, a traveling guide mechanism 4, a steam atmosphere holding mechanism 7, a substrate heating mechanism 31, and a nucleate boiling generation mechanism 32.
It is equipped with the following. Note that the functions of configuration 2 other than the base material heating mechanism 31 and the nucleate boiling generation mechanism 32 are the same as those in the first embodiment, so detailed explanation thereof will be omitted.

基材加熱機構31は、基材処理室3の基材出口部11側
の加熱作用領域31aに加熱ロール33を配設してなる
。この加熱ロール33は前記加熱ロール19と同様のも
ので、基材1を低粘性液12の沸点以上に加熱する。
The substrate heating mechanism 31 includes a heating roll 33 disposed in a heating area 31a on the substrate outlet section 11 side of the substrate processing chamber 3. This heating roll 33 is similar to the heating roll 19 described above, and heats the base material 1 to a temperature higher than the boiling point of the low-viscosity liquid 12.

核沸騰発生機構32は、基材1が接触する加熱ロール3
3部分に面対向せしめて基材処理室3の周壁に配設され
たノズル群34・・・を具備する。なお、ノズル群34
・・・は基材1の幅方向に並列配置されている。ノズル
群34・・・には低粘性液貯溜槽13から導かれた低粘
性液供給管17が接続されていて、ポンプ18を作動さ
せることにより、ノズル群34・・・から加熱作用領域
31aにおける基材1部分に低粘性液12が均一に噴射
されるようになっている。
The nucleate boiling generation mechanism 32 includes a heating roll 3 that the base material 1 contacts.
A nozzle group 34 is provided on the peripheral wall of the substrate processing chamber 3 so as to face each other in three parts. Note that the nozzle group 34
... are arranged in parallel in the width direction of the base material 1. A low viscosity liquid supply pipe 17 led from the low viscosity liquid storage tank 13 is connected to the nozzle group 34..., and by operating the pump 18, water is supplied from the nozzle group 34... to the heating action area 31a. The low viscosity liquid 12 is sprayed uniformly onto a portion of the base material 1.

なお、基材加熱機構31及び核沸騰発生機構32は、基
材処理室3内において低粘性液蒸気12aを発生させる
ものでもあり、蒸気雰囲気保持機構7の一部を構成して
いる。
Note that the base material heating mechanism 31 and the nucleate boiling generation mechanism 32 also generate the low viscosity liquid vapor 12a in the base material processing chamber 3, and constitute a part of the steam atmosphere holding mechanism 7.

以上のように構成されたワニス含浸装置によれば1本発
明に係るワニス含浸方法が次のように実施される。
According to the varnish impregnating apparatus configured as above, the varnish impregnating method according to the present invention is carried out as follows.

すなわち、基材1が加熱作用領域31aに至ると、加熱
ロール33により低粘性液12の沸点以上に加熱された
基材1にノズル群34・・・から低粘性液12が噴射さ
れることにより、基材1においては急激な核沸騰が発生
する。そして、かかる核沸騰エネルギにより、基材1は
物理的に開繊される。その結果、基材1中の空気は完全
に排除される。
That is, when the base material 1 reaches the heating action area 31a, the low viscosity liquid 12 is injected from the nozzle group 34 onto the base material 1 which has been heated by the heating roll 33 to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid 12. , rapid nucleate boiling occurs in the base material 1. Then, the base material 1 is physically opened by this nucleate boiling energy. As a result, air in the base material 1 is completely eliminated.

爾後、第1実施例におけると同様に、基材1は低粘性液
蒸気12aのみを含有した状態でワニス8中へともたら
されて、基材1にはワニス8が均−且つ充分に含浸され
ることになる。
Thereafter, as in the first embodiment, the base material 1 is introduced into the varnish 8 in a state containing only the low viscosity liquid vapor 12a, so that the base material 1 is evenly and sufficiently impregnated with the varnish 8. That will happen.

また、第7図は第5実施例を示したもので、この実施例
では、基材加熱機構31が、基材処理室3の周壁からの
輻射伝熱を利用するものに構成されている。すなわち、
基材入口部10側を除く処理室周壁部分を、第2実施例
と同様の二重壁構造20’a、20’bに構成して、そ
の内部に適宜の加熱媒体を供給、流動させることにより
、ガイドロール14を経過した基材1を伝熱壁20′a
からの輻射伝熱により低粘性液12の沸点以上に加熱す
る。また、核沸騰発生機構32が、二重構造壁20’a
、20’bによる加熱作用領域31aにおいて基材1に
低粘性液蒸気12aを噴射させるように構成されている
。すなわち、加熱作用領域31aにガイドロール兼用の
噴射ロール35を配設しである。この噴射ロール35は
第3実施例における噴射ロール29と同様構造のもので
あり、蒸気供給管24から中空軸36に供給された低粘
性液蒸気12aが、中空軸36の連通孔群(図示せず)
から多孔質ロール35を通過して、加熱された基材1に
均一に噴射される。その結果、第4実施例におけると同
様に核沸騰が生じて、基材1が開繊される。基材1と噴
射ロール35との間には低粘性液蒸気12aによる流体
膜が形成され、両者1゜34は非接触の状態に保持され
る。
Further, FIG. 7 shows a fifth embodiment, in which the substrate heating mechanism 31 is configured to utilize radiant heat transfer from the peripheral wall of the substrate processing chamber 3. That is,
The peripheral wall portion of the processing chamber excluding the substrate entrance portion 10 side is configured to have a double wall structure 20'a, 20'b similar to the second embodiment, and an appropriate heating medium is supplied and made to flow therein. , the base material 1 that has passed through the guide roll 14 is placed on the heat transfer wall 20'a.
The low viscosity liquid 12 is heated to the boiling point or higher by radiant heat transfer from the low viscosity liquid 12. In addition, the nucleate boiling generation mechanism 32 includes the double structure wall 20'a
, 20'b, the low viscosity liquid vapor 12a is injected onto the base material 1 in the heating action area 31a. That is, an injection roll 35 which also serves as a guide roll is disposed in the heating action area 31a. This injection roll 35 has the same structure as the injection roll 29 in the third embodiment, and the low viscosity liquid vapor 12a supplied from the steam supply pipe 24 to the hollow shaft 36 is connected to the communication hole group (not shown) of the hollow shaft 36. figure)
The liquid then passes through a porous roll 35 and is uniformly sprayed onto the heated substrate 1 . As a result, nucleate boiling occurs as in the fourth embodiment, and the base material 1 is opened. A fluid film of low viscosity liquid vapor 12a is formed between the base material 1 and the spray roll 35, and the two 1° 34 are kept in a non-contact state.

さらに、この実施例では、基材出口部11をノズル形状
部分つまり前記実施例における開口端部分11aに相当
する部分のみで構威し、加熱作用領域3’l aから基
材出口部11端までの距離を極小としである。したがっ
て、低粘性液蒸気12aを供給するノズル群22・・・
は特に必要とならず、廃しである。すなわち、この実施
例では、蒸気雰囲気保持機構7の蒸気発生手段及び凝縮
防止手段として格別の構成を必要とせず、これらの手段
を基材加熱機構31及び核沸騰発生機構32で代用させ
ている。このように構成しておくことは、前記実施例に
おいても同様に可能である。
Furthermore, in this embodiment, the base material outlet section 11 is configured with only a nozzle-shaped portion, that is, a portion corresponding to the open end portion 11a in the above embodiment, and from the heating action area 3'l a to the end of the base material outlet section 11. Let the distance be minimal. Therefore, the nozzle group 22 that supplies the low viscosity liquid vapor 12a...
is not particularly necessary and is obsolete. That is, in this embodiment, no special configuration is required as the steam generation means and condensation prevention means of the steam atmosphere holding mechanism 7, and these means are replaced by the base material heating mechanism 31 and the nucleate boiling generation mechanism 32. This configuration is also possible in the embodiments described above.

なお、上記した以外の構成2作用については、第4実施
例と同様である。
Note that the effects of configuration 2 other than those described above are the same as those of the fourth embodiment.

また、第8図は第6実施例を示したもので、この実施例
では、特に、核沸騰発生機構32が、加熱作用領域31
aにノズル群37・・・を配設して。
Further, FIG. 8 shows a sixth embodiment, in which the nucleate boiling generation mechanism 32 is connected to the heating action area 31.
A nozzle group 37... is arranged at a.

このノズル群37・・・から加熱作用領域31aにおい
て低粘性液12の沸点以上に加熱された基材1の両面に
低粘性液蒸気12aを均一に噴射させ、基材1において
核沸騰を生ぜしめるように構成されている。これ以外の
構成9作用については、噴射ロール35に代えてガイド
ロール38を設けた点を除いて、第5実施例と同様であ
る。
The low viscosity liquid vapor 12a is uniformly injected from the nozzle group 37 onto both sides of the base material 1 heated above the boiling point of the low viscosity liquid 12 in the heating action area 31a, thereby causing nucleate boiling in the base material 1. It is configured as follows. The other functions of the configuration 9 are the same as those of the fifth embodiment except that a guide roll 38 is provided in place of the injection roll 35.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から容易に理解されるように、本発明の方法
によれば、低粘性液蒸気雰囲気中において基材を低粘性
液の噴射エネルギ又は核沸騰エネルギにより物理的に開
繊させようにしたから、ワニス含浸前における空気排除
を完壁に行なうことができ、基材を低粘性液蒸気のみを
含有する状態でワニス中にもたらしうる。したがって、
基材へのワニス含浸が均−且つ充分に行なわれて、ボイ
ドレスの極めて高品質プリプレグを得ることができる。
As can be easily understood from the above explanation, according to the method of the present invention, the base material is physically opened by injection energy or nucleate boiling energy of a low viscosity liquid in a low viscosity liquid vapor atmosphere. Therefore, air removal before varnish impregnation can be completely carried out, and the substrate can be brought into the varnish in a state containing only low viscosity liquid vapor. therefore,
The base material is uniformly and thoroughly impregnated with varnish, and a void-free prepreg of extremely high quality can be obtained.

また、本発明の装置によれば、上記方法を好適に実施す
ることができ、ワニスの基材への含浸を効率良く行なう
ことができる。
Moreover, according to the apparatus of the present invention, the above method can be carried out suitably, and the base material can be efficiently impregnated with varnish.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るワニス含浸装置の第1実施例を示
す断面図、第2図はその変形例を示す要部の拡大断面図
であり、第3図は第2実施例を示す断面図であり、第4
図は第3実施例を示す要部の断面図、第5図は第4図の
v−■線に沿う半裁の拡大断面図であり、第6図は第4
実施例を示す断面図であり、第7図は第5実施例を示す
断面図であり、第8図は第6実施例を示す要部の断面図
である。 気雰囲気保持機構、8・・・ワニス、1o・・・基材入
口部、11・・・基材出口部、12・・・低粘性液、1
2a・・・低粘性液蒸気、31・・・基材加熱機構、3
1a・・・基材加熱機構による加熱作用領域、32・・
・核沸騰発生機構。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the varnish impregnating device according to the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part showing a modification thereof, and FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment. Figure 4.
The figure is a cross-sectional view of the main part showing the third embodiment, FIG.
FIG. 7 is a sectional view showing the fifth embodiment, and FIG. 8 is a sectional view showing the main parts of the sixth embodiment. Air atmosphere holding mechanism, 8... Varnish, 1o... Base material inlet part, 11... Base material outlet part, 12... Low viscosity liquid, 1
2a...Low viscosity liquid vapor, 31...Base material heating mechanism, 3
1a... Heating action area by base material heating mechanism, 32...
- Nucleate boiling generation mechanism.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)繊維質材からなるシート状の基材を低粘性液蒸気
雰囲気中を通過させた上、引き続きワニス中を通過させ
るようにし、低粘性液蒸気雰囲気中を通過する間におい
て、基材に低粘性液を噴射させて、その噴射エネルギに
より基材を開繊させると共に基材中の空気を低粘性液と
置換させた上、基材に含浸された低粘性液を加熱蒸発さ
せるようにしたことを特徴とするワニス含浸方法。
(1) A sheet-like base material made of a fibrous material is passed through a low viscosity liquid vapor atmosphere and then passed through a varnish. A low viscosity liquid is jetted, and the jet energy opens the base material, replaces the air in the base material with the low viscosity liquid, and heats and evaporates the low viscosity liquid impregnated into the base material. A varnish impregnation method characterized by:
(2)繊維質材からなるシート状の基材を低粘性液蒸気
雰囲気中を通過させた上、引き続きワニス中を通過させ
るようにし、低粘性液蒸気雰囲気中を通過する間におい
て、基材に、これを低粘性液の沸点以上に加熱させた状
態で、低粘性液又はその蒸気を噴射させて核沸騰を生ぜ
しめ、その核沸騰エネルギーにより基材を開繊させると
共に、基材中の空気を低粘性液蒸気と置換させるように
したことを特徴とするワニス含浸方法。
(2) A sheet-like base material made of a fibrous material is passed through a low viscosity liquid vapor atmosphere and then passed through a varnish. This is heated above the boiling point of the low viscosity liquid, and the low viscosity liquid or its vapor is injected to cause nucleate boiling, and the nucleate boiling energy opens the base material and removes the air in the base material. A varnish impregnation method characterized in that varnish is replaced with low viscosity liquid vapor.
(3)ワニスを貯溜したワニス貯溜槽と、基材入口部と
ワニス貯溜槽のワニス中に開口させた基材出口部とを備
えた基材処理室と、繊維質材からなるシート状の基材を
基材入口部、基材処理室内、基材出口部、ワニス貯溜槽
内を順次走行させるべくガイドする走行ガイド機構と、
基材処理室内を低粘性液蒸気雰囲気に保持する蒸気雰囲
気保持機構と、基材処理室内において基材に低粘性液を
噴射する低粘性液噴射機構と、低粘性液噴射機構による
噴射作用領域より基材出口部側の加熱作用領域において
基材を低粘性液の沸点以上に加熱する低粘性液蒸発機構
と、を具備することを特徴とするワニス含浸装置。
(3) A varnish storage tank that stores varnish, a base material processing chamber that includes a base material inlet and a base material outlet that opens into the varnish in the varnish reservoir, and a sheet-like base made of a fibrous material. a travel guide mechanism that guides the material to travel sequentially through the base material inlet, the base material processing chamber, the base material outlet, and the varnish storage tank;
A steam atmosphere holding mechanism that maintains a low-viscosity liquid vapor atmosphere in the substrate processing chamber, a low-viscosity liquid injection mechanism that injects a low-viscosity liquid onto the substrate in the substrate processing chamber, and an injection action area by the low-viscosity liquid injection mechanism. A varnish impregnation device comprising: a low viscosity liquid evaporation mechanism that heats the base material to a temperature higher than the boiling point of the low viscosity liquid in a heating action area on the base material outlet side.
(4)ワニスを貯溜したワニス貯溜槽と、基材入口部と
ワニス貯溜槽のワニス中に開口させた基材出口部とを備
えた基材処理室と、繊維質材からなるシート状の基材を
基材入口部、基材処理室内、基材出口部、ワニス貯溜槽
内を順次走行させるべくガイドする走行ガイド機構と、
基材処理室内を低粘性液蒸気雰囲気に保持する蒸気雰囲
気保持機構と、基材処理室内において基材を低粘性液の
沸点以上に加熱する基材加熱機構と、基材加熱機構によ
る加熱作用領域において基材に低粘性液又はその蒸気を
噴射させて核沸騰を生ぜしめる核沸騰発生機構と、を具
備することを特徴とするワニス含浸装置。
(4) A varnish storage tank that stores varnish, a base material processing chamber that includes a base material inlet and a base material outlet that opens into the varnish in the varnish reservoir, and a sheet-like base made of a fibrous material. a travel guide mechanism that guides the material to travel sequentially through the base material inlet, the base material processing chamber, the base material outlet, and the varnish storage tank;
A vapor atmosphere holding mechanism that maintains a low viscosity liquid vapor atmosphere in the substrate processing chamber, a substrate heating mechanism that heats the substrate to a temperature above the boiling point of the low viscosity liquid in the substrate processing chamber, and a heating action area by the substrate heating mechanism. 1. A varnish impregnating device comprising: a nucleate boiling generating mechanism that injects a low viscosity liquid or its vapor onto a base material to cause nucleate boiling.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008149299A (en) * 2006-12-20 2008-07-03 Amatei Inc Color coating apparatus for nail

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