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JPH039579B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH039579B2
JPH039579B2 JP27124284A JP27124284A JPH039579B2 JP H039579 B2 JPH039579 B2 JP H039579B2 JP 27124284 A JP27124284 A JP 27124284A JP 27124284 A JP27124284 A JP 27124284A JP H039579 B2 JPH039579 B2 JP H039579B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recess
electron
electron beam
grid
screen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP27124284A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61147445A (en
Inventor
Eiso Nosaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP27124284A priority Critical patent/JPS61147445A/en
Publication of JPS61147445A publication Critical patent/JPS61147445A/en
Publication of JPH039579B2 publication Critical patent/JPH039579B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/50Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube
    • H01J29/503Three or more guns, the axes of which lay in a common plane

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、インライン型カラー陰極線管用電
子銃に係り、特に、そのプリフオーカスレンズ電
極を新規な構造とし、電子ビームの偏向歪を軽減
させ、デイスプレー画面全域のフオーカス均一性
を改善した電子銃に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an in-line color cathode ray tube electron gun, and in particular, the prefocus lens electrode thereof has a novel structure to reduce deflection distortion of the electron beam. , relates to an electron gun with improved focus uniformity across the entire display screen.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

最近のカラーデイスプレー管は、高密度表示が
要求され、しかも、デイスプレー用カラー陰極線
管がシヤープコーナの角形となり、フエースもよ
り一層平担化されつつある。したがつて、デイス
プレー画面コーナ部の電子ビームフオーカス性能
を従来以上に改善する必要がある。
Recent color display tubes are required to display high-density display, and color cathode ray tubes for displays are rectangular with sharp corners, and faces are becoming even more flat. Therefore, it is necessary to improve the electron beam focusing performance at the corners of the display screen more than ever before.

インラインカラー陰極線管の内部構造の概略を
説明すると、第2図に示すように、インラインカ
ラー陰極線管1のネツクガラス部3には、3本の
電子ビームを放射するインライン型電子銃4が封
入されている。インライン型電子銃4から、赤
色、緑色および青色蛍光物質が塗られた画面2に
向かつて3本の電子ビーム6R,6G,6Bが放
射される。また、ネツクガラス部には、3本の電
子ビームを偏向する偏向ヨーク5が配設されてい
る。
To explain the outline of the internal structure of an inline color cathode ray tube, as shown in FIG. There is. Three electron beams 6R, 6G, and 6B are emitted from the in-line electron gun 4 toward the screen 2 coated with red, green, and blue fluorescent substances. Further, a deflection yoke 5 for deflecting the three electron beams is provided in the neck glass section.

ところで、インライン3本の電子ビームを偏向
する偏向ヨーク5の磁界は、インライン配列にお
けるサイドの2本のビーム6R,6Bを画面上で
自己集中させるため、水平偏向磁界は、ピンクツ
シヨン形の非斉−磁界とし、垂直偏向磁界は、バ
レル形の非斉−磁界分布が採用されている。した
がつて、第4図に示すように、電子ビーム6が偏
向され、画面2上に形成される電子ビームスポツ
ト形状は斉−磁界に比べ、著しく偏向歪を受け、
ビームスポツト形状が歪んでしまい、画面周辺部
のフオーカス性能を悪くする。
By the way, the magnetic field of the deflection yoke 5 that deflects the three in-line electron beams self-concentrates the two side beams 6R and 6B in the in-line array on the screen, so the horizontal deflection magnetic field is asymmetrical in the form of a pink tension. The vertical deflection magnetic field has a barrel-shaped asymmetric magnetic field distribution. Therefore, as shown in FIG. 4, when the electron beam 6 is deflected, the shape of the electron beam spot formed on the screen 2 is significantly deflected and distorted compared to the uniform magnetic field.
The shape of the beam spot becomes distorted and the focus performance at the periphery of the screen deteriorates.

第4図で示したように、インライン配列の両サ
イドビーム6R,6Bとセンタービーム6Gとで
は偏向歪の受け方が異なり、サイドビーム6R,
6Bのコーナ部でのビームスポツト7の変形歪は
著しく、ビームスポツト7の周辺に過集束された
非点収差(ハローと称する)が発生し、より一層
フオーカス品位を悪くする。一方、センタービー
ム6Gは偏向磁界分布の中央部を走るため、偏向
歪を受ける割合は少なく、サイドビーム6R,6
Bに比べ、コーナ部のビームスポツト9の形状も
良く、ハローも小さい。
As shown in FIG. 4, the side beams 6R and 6B in an inline arrangement and the center beam 6G receive deflection distortion differently, and the side beams 6R and 6B receive deflection distortion differently.
The deformation distortion of the beam spot 7 at the corner portion of the lens 6B is significant, and over-focused astigmatism (referred to as a halo) occurs around the beam spot 7, further deteriorating the focus quality. On the other hand, since the center beam 6G runs in the center of the deflection magnetic field distribution, it receives less deflection distortion, and the side beams 6R, 6
Compared to B, the beam spot 9 at the corner has a better shape and the halo is smaller.

従来このような偏向磁界により電子ビームの歪
を少なくするため、電子銃側で偏向磁界内での電
子ビーム6の太さを細くするための改良がなされ
てきた。第5図は従来の3本配列インライン電子
銃のうち、単電子銃の略断面図を示したものであ
る。第5図はバイポテンシヤル形電子銃を示した
ものであり、電子ビームを放出する陰極45から
電子ビーム6が放出され、第1グリツド41およ
び第2グリツド42部で電子ビーム量の制御およ
び電子ビーム6の加速が行なわれ、第3グリツド
43と第4グリツド44とで構成される主電子レ
ンズL1部で電子ビーム6が細く絞られ、画面2
に到達する。ところで、電子ビームの偏向歪を軽
減するためには、主電子レンズL1に入射する電
子ビーム6の発散角θを、画面上での電子ビーム
径を余り太くしない範囲で、できる限り小さくす
る必要がある。
Conventionally, in order to reduce distortion of the electron beam due to such a deflection magnetic field, improvements have been made to reduce the thickness of the electron beam 6 within the deflection magnetic field on the electron gun side. FIG. 5 shows a schematic cross-sectional view of a single electron gun among the conventional three-line inline electron guns. FIG. 5 shows a bipotential electron gun, in which an electron beam 6 is emitted from a cathode 45 that emits an electron beam, and the first grid 41 and second grid 42 control the amount of the electron beam and control the electron beam. 6 is accelerated, and the electron beam 6 is focused narrowly by the main electron lens L1 consisting of the third grid 43 and the fourth grid 44, and the electron beam 6 is focused on the screen 2.
reach. By the way, in order to reduce the deflection distortion of the electron beam, it is necessary to make the divergence angle θ of the electron beam 6 incident on the main electron lens L 1 as small as possible without making the electron beam diameter on the screen too large. There is.

このため、第2グリツド42と第3グリツド4
3との対向部に形成されるプリフオーカスレンズ
L2を最適条件に設定することが実施されてきた。
具体的には、第2グリツド42と第3グリツド4
3との電極間隔、後述する第2グリツド42の電
子ビーム通過孔12の板厚Tを厚くして最適値に
設定している。たとえば、特開昭54−145472号公
報に具体例が提示されている。第6図aはインラ
イン型電子銃4に使用している第2グリツド42
のx−y面の形状を示したものである。画面2の
H軸方向に対応するx軸方向に、等間隔にインラ
イン状に3個の電子ビーム通過孔12があり、そ
の周囲にはおのおの電極形状を補強するための補
強リング13が設けてある。
For this reason, the second grid 42 and the third grid 4
Pre-focus lens formed in the part facing 3
Setting L 2 to an optimal condition has been carried out.
Specifically, the second grid 42 and the third grid 4
3 and the plate thickness T of the electron beam passage hole 12 of the second grid 42, which will be described later, are set to optimal values. For example, a specific example is presented in Japanese Patent Application Laid-open No. 145472/1983. Figure 6a shows the second grid 42 used in the in-line electron gun 4.
This figure shows the shape of the x-y plane. There are three electron beam passing holes 12 arranged in line at equal intervals in the x-axis direction corresponding to the H-axis direction of the screen 2, and a reinforcing ring 13 for reinforcing the shape of each electrode is provided around each hole. .

第6図bのy軸断面図は電子ビーム通過孔12
の形状を示したものであり、電子ビーム通過孔の
径dφとその部分の板厚Tの関係は主電子レンズ
L1との関係で実験的に決定されている。たとえ
ば、主電子レンズL1がバイポテンシヤル形の場
合、T=(0.4〜1.0)dに設定すると良い結果が
得られる。
The y-axis sectional view in FIG. 6b shows the electron beam passage hole 12.
The relationship between the diameter dφ of the electron beam passage hole and the plate thickness T at that part is the shape of the main electron lens.
It has been determined experimentally in relation to L 1 . For example, when the main electron lens L1 is of bipotential type, good results can be obtained by setting T=(0.4 to 1.0)d.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

以上のように、画面周辺のフオーカス性能を改
善するため、第2グリツド42の孔部板厚Tを厚
くすること、および第2グリツド42と第3グリ
ツド43との電極間隔を最適にすることがなされ
てきたが、画面2上で電子ビームをフオーカスし
た時の画面周辺での電子ビームスポツト形状が垂
直方向では改善されるが、水平方向では逆に、太
くなりすぎるという欠点があつた。
As described above, in order to improve the focus performance around the screen, it is possible to increase the hole plate thickness T of the second grid 42 and to optimize the electrode spacing between the second grid 42 and the third grid 43. However, when the electron beam is focused on the screen 2, the shape of the electron beam spot around the screen is improved in the vertical direction, but it has the disadvantage that it becomes too thick in the horizontal direction.

すなわち、プリフオーカスレンズL2を強くす
ると、ビーム発散角θが小さくなり、画面周辺で
のビームスポツト周辺に発生するハローを除去す
ることはできるが、逆に、プリフオーカスレンズ
L2が強くなつたため、主レンズL1から見た時の
仮想物点径が大きくなり、画面でフオーカスされ
たビームスポツト径を大きくしてしまう傾向があ
つた。
In other words, if the prefocus lens L2 is made stronger, the beam divergence angle θ becomes smaller and the halo that occurs around the beam spot around the screen can be removed, but conversely, the prefocus lens
As L 2 became stronger, the diameter of the virtual object point when viewed from the main lens L 1 became larger, which tended to increase the diameter of the beam spot focused on the screen.

したがつて、この本発明は主レンズL1に入射
する電子ビーム6の発散角θを垂直、水平方向で
異ならせ、しかもインライン8本の電子ビーム6
に最適の垂直方向の発散角θyをもたせ、3本の
インライン型電子ビーム6を全画面で最良にフオ
ーカスさせ得るプリフオーカスレンズL2を提案
するものである。
Therefore, in the present invention, the divergence angle θ of the electron beam 6 incident on the main lens L1 is made different in the vertical and horizontal directions, and eight in-line electron beams 6 are used.
The present invention proposes a prefocus lens L 2 that has an optimal vertical divergence angle θy and can optimally focus the three in-line electron beams 6 over the entire screen.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明においては、プリフオーカスレンズを
構成するグリツド電極、すなわた上記第2グリツ
ド42に設けられたセンタービーム6Gおよびサ
イドビーム6R,6B通過孔12の、プリフオー
カスレンズ側の周囲に、インライン配列方向に長
い形状の凹み14,15を設け、かつ、この凹み
14,15のインライン配列方向に直角な方向の
幅D1,D2は、センタービーム6Gに対する凹み
の幅D1が、サイドビーム6R,6Bに対する凹
みの幅D2より大となるようにしている。
In this invention, around the grid electrode constituting the prefocus lens, that is, the center beam 6G and side beams 6R, 6B passage hole 12 provided in the second grid 42, on the prefocus lens side. Recesses 14 and 15 having a long shape in the inline arrangement direction are provided, and the widths D 1 and D 2 of the recesses 14 and 15 in the direction perpendicular to the inline arrangement direction are such that the width D 1 of the recesses with respect to the center beam 6G is the side It is made to be larger than the width D 2 of the recess for the beams 6R and 6B.

〔作用〕[Effect]

上記構成の作用について、第3図の電子光学モ
デル図に従つて述べると、陰極45から放射され
た電子ビーム6は、この発明のプリフオーカスレ
ンズL2でプリフオーカスされるが、この時、上
記インライン配列方向に長い形状の凹みの存在に
より、水平方向(x軸)と垂直方向(y軸)と
で、電子ビームの発散角度が異なる。すなわち、
θx>θyとなる。したがつて、主レンズL1に向か
う電子ビーム61,62は主レンズL1面で異な
る屈折力を受け、画面2へ向かう収束角は水平方
向に比べ、垂直方向が小さくなり、偏向磁界歪を
余り受けることなく、画面2周辺では、水平方向
の偏向磁界の収束力を受け、垂直方向に電子ビー
ムが過集束されることなくフオーカスすることに
なる。第4図で前述したように、各電子ビーム6
G,6R,6Bが偏向磁界から受ける偏向向磁界
歪は異なるため、上記センタービーム6Gに対す
る凹みの幅D1が、サイドビーム6R,6Bに対
する凹みの幅D2より大とすることにより、セン
タービーム6Gとサイドビーム6R,6Bとの間
で、θx>θyの状態を保ちながら、θx−θyの関係
を異ならせると、偏向磁界歪に対する各インライ
ン型電子ビームの最適補正が実施でき、コーナ部
のフオーカス性能を改善することができる。
The operation of the above configuration will be described according to the electron optical model diagram in FIG. 3. The electron beam 6 emitted from the cathode 45 is prefocused by the prefocus lens L2 of the present invention, Due to the presence of the elongated recesses in the inline arrangement direction, the divergence angle of the electron beam differs between the horizontal direction (x-axis) and the vertical direction (y-axis). That is,
θx>θy. Therefore, the electron beams 61 and 62 heading toward the main lens L1 receive different refractive powers on the main lens L1 surface, and the convergence angle toward the screen 2 is smaller in the vertical direction than in the horizontal direction, which reduces deflection magnetic field distortion. At the periphery of the screen 2, the electron beam receives the convergence force of the deflection magnetic field in the horizontal direction, and the electron beam is focused in the vertical direction without being over-focused. As described above in FIG. 4, each electron beam 6
Since the deflection magnetic field distortions that G, 6R, and 6B receive from the deflection magnetic field are different, by making the width D 1 of the recess for the center beam 6G larger than the width D 2 of the recess for the side beams 6R and 6B, the center beam By varying the relationship of θx - θy between 6G and side beams 6R and 6B while maintaining the state of θx > θy, optimal correction of each in-line type electron beam for deflection magnetic field distortion can be performed, and corner portions can be corrected optimally. Focus performance can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図に基づいて説明
する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は、この発明のプリフオーカスレンズ
L2を構成する第2グリツド42を示したもので、
aは正面図、bはx軸拡大断面図、cはy軸拡大
断面図である。従来の第2グリツド42と同様
に、x軸インライン方向に、等間隔に3つの電子
ビーム通過孔12があり、電子ビーム通過孔12
のプリフオーカスレンズ側の回りはx軸方向に長
い長方形の凹み14,15が設けられている。拡
大された孔12部を第1図bのx軸拡大断面図と
第1図cのy軸拡大断面図に示したように、第3
グリツド43に対向している凹み14,15の形
状が異なつている。すなわち、水平偏向方向に
は、電子ビームの収束力を強めるように、凹み長
さEを長くし、垂直偏向方向には、ビーム発散角
度を小さくするため、凹み幅D1,D2を上記凹み
長さEより狭くしている。たとえばdφ=0.4mmφ
の場合、D2=0.5mm、E≧3D2、A=0.1〜0.15mm
にするとよい。
Figure 1 shows the pre-focus lens of this invention.
This shows the second grid 42 that constitutes L2 .
A is a front view, b is an enlarged x-axis sectional view, and c is an enlarged y-axis sectional view. Similar to the conventional second grid 42, there are three electron beam passing holes 12 at equal intervals in the x-axis inline direction.
Rectangular recesses 14 and 15 long in the x-axis direction are provided around the prefocus lens side. As shown in the enlarged x-axis sectional view of FIG. 1b and the y-axis enlarged sectional view of FIG.
The shapes of the recesses 14, 15 facing the grid 43 are different. That is, in the horizontal deflection direction, the recess length E is increased to strengthen the convergence force of the electron beam, and in the vertical deflection direction, the recess widths D 1 and D 2 are changed to the above-mentioned recess in order to reduce the beam divergence angle. It is narrower than the length E. For example, dφ=0.4mmφ
In the case of D 2 = 0.5mm, E≧3D 2 , A = 0.1~0.15mm
It is better to make it .

ところで、センタービームとサイドビームとで
は偏向歪の受け方が異なるため、センタービーム
に対する凹み15の幅D1とサイドビームに対す
る凹み14の幅D2とを異ならせる必要がある。
すなわち、D1>D2の関係を保つことが重要であ
る。(D1−D2)の値は偏向ヨークの方式、主レン
ズの方式により選定する必要がある。たとえば、
dφ=0.4mmφの場合、D1−D2=0.1〜0.2mmにする
と良い結果が得られる。
By the way, since the center beam and the side beams receive deflection distortion differently, it is necessary to make the width D 1 of the recess 15 for the center beam different from the width D 2 of the recess 14 for the side beam.
That is, it is important to maintain the relationship D 1 >D 2 . The value of (D 1 −D 2 ) must be selected depending on the deflection yoke method and main lens method. for example,
When dφ=0.4mmφ, good results can be obtained by setting D 1 −D 2 =0.1 to 0.2mm.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、プリフオーカスレンズを構成す
る第2グリツドの孔部周辺に、x軸方向に長い凹
みを設けることにより、水平方向に関しては、収
束性能を向上させ、垂直方向に関しては偏向歪を
補正することができるようになつた。しかも、凹
みの幅を、センタービームとサイドビームとで異
ならせ、センタービームに対する凹み幅の方を大
きくすることにより、各インライン型電子ビーム
に対して最適の偏向歪補正ができるようになつ
た。したがつて、この本発明の第2グリツドを採
用することにより、デイスプレー用インライン方
式カラー陰極線管に対するフオーカスの画面均一
性が改善でき、従来以上に、水平方向の解像度を
向上させることができる。
As described above, by providing a long recess in the x-axis direction around the hole of the second grid that constitutes the pre-focus lens, convergence performance in the horizontal direction is improved and deflection distortion is reduced in the vertical direction. I am now able to correct it. Furthermore, by making the width of the recess different for the center beam and the side beam, and making the width of the recess larger for the center beam, it has become possible to perform optimal deflection distortion correction for each in-line electron beam. Therefore, by employing the second grid of the present invention, it is possible to improve the screen uniformity of the focus for an in-line type color cathode ray tube for a display, and it is possible to improve the resolution in the horizontal direction more than before.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明に係る電子銃に用いる第2グ
リツド電極の一実施例を示すものであり、aは正
面図、bはx軸拡大断面図、cはy軸拡大断面
図、第2図は一般のインライン型カラー陰極線管
の概略を示す側面図、第3図は基本電子光学系を
示す説明図、第4図は従来のインライン型カラー
陰極線管における画面周辺でのビームスポツト形
状を示すものであり、aはサイドビームに対する
説明図、bはセンタービームに対する説明図、第
5図は従来のバイポテンシヤル形電子銃の略断面
図、第6図は従来のインライン型電子銃の第2グ
リツドを示すものであり、aは正面図、bはy軸
拡大断面図である。 1……インライン型カラー陰極線管、4……電
子銃、6……電子ビーム、6B,6G……サイド
ビーム、6R……センタービーム、12……通過
孔、14,15……凹み、42……第2グリツド
電極、D……凹み線、E……凹み長さ、L2……
プリフオーカスレンズ。なお、図中、同一符号は
同一または相当部分を示す。
FIG. 1 shows an embodiment of the second grid electrode used in the electron gun according to the present invention, in which a is a front view, b is an enlarged sectional view on the x-axis, and c is an enlarged sectional view on the y-axis. is a side view schematically showing a general in-line color cathode ray tube, Figure 3 is an explanatory diagram showing the basic electron optical system, and Figure 4 is a diagram showing the beam spot shape around the screen in a conventional in-line color cathode ray tube. , a is an explanatory diagram of the side beam, b is an explanatory diagram of the center beam, FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a conventional bipotential electron gun, and FIG. 6 is a diagram of the second grid of a conventional in-line electron gun. 2, in which a is a front view and b is an enlarged y-axis sectional view. 1... In-line color cathode ray tube, 4... Electron gun, 6... Electron beam, 6B, 6G... Side beam, 6R... Center beam, 12... Passing hole, 14, 15... Recess, 42... ...Second grid electrode, D...Concave line, E...Concave length, L 2 ...
pre-focus lens. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 インライン型カラー陰極線管の電子銃におい
て、プリフオーカスレンズを構成するグリツド電
極に設けられたセンタービームおよびサイドビー
ム通過孔のプリフオーカスレンズ側の周囲に、イ
ンライン配列方向に長い形状の凹みを設け、か
つ、この凹みのインライン配列方向に直角な方向
の幅は、センタービーム通過孔の周囲の凹みの幅
がサイドビーム通過孔の周囲の凹みの幅よりも大
きいことを特徴とする電子銃。 2 上記凹みの形状が、長方形状である特許請求
の範囲第1項記載の電子銃。
[Scope of Claims] 1. In an in-line color cathode ray tube electron gun, an in-line arrangement direction is provided around the pre-focus lens side of the center beam and side beam passage holes provided in the grid electrode constituting the pre-focus lens. A long-shaped recess is provided in the recess, and the width of this recess in the direction perpendicular to the inline arrangement direction is such that the width of the recess around the center beam passage hole is larger than the width of the recess around the side beam passage hole. Characteristic electron gun. 2. The electron gun according to claim 1, wherein the shape of the recess is rectangular.
JP27124284A 1984-12-20 1984-12-20 Electron gun Granted JPS61147445A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27124284A JPS61147445A (en) 1984-12-20 1984-12-20 Electron gun

Applications Claiming Priority (1)

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JP27124284A JPS61147445A (en) 1984-12-20 1984-12-20 Electron gun

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JPS61147445A JPS61147445A (en) 1986-07-05
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102564536A (en) * 2012-02-03 2012-07-11 中国石油化工股份有限公司 Correction system and correction method for oil tank loading table

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