JPH0389548A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPH0389548A JPH0389548A JP22586689A JP22586689A JPH0389548A JP H0389548 A JPH0389548 A JP H0389548A JP 22586689 A JP22586689 A JP 22586689A JP 22586689 A JP22586689 A JP 22586689A JP H0389548 A JPH0389548 A JP H0389548A
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
インダクタ素子を形成する半導体集積回路に関し、
小型化を達成しつつ所望のインダクタンスが得られて寄
生容量も小さくて高周波でも性能のよいインダクタ素子
となる半導体集積回路を提供することを目的とし、 半導体基板上に、所定幅を有する複数の配線を互いに逆
方向に巻回するとともに、これらの配線を巻回方向に対
して多層状に配置し、かつ各配線同士の接続はスパイラ
ルの中心で行い、さらに各配線はその上下層を互い違い
に配置し、該上下層の電流方向が同一となるインダクタ
素子を形成するように構成する。
生容量も小さくて高周波でも性能のよいインダクタ素子
となる半導体集積回路を提供することを目的とし、 半導体基板上に、所定幅を有する複数の配線を互いに逆
方向に巻回するとともに、これらの配線を巻回方向に対
して多層状に配置し、かつ各配線同士の接続はスパイラ
ルの中心で行い、さらに各配線はその上下層を互い違い
に配置し、該上下層の電流方向が同一となるインダクタ
素子を形成するように構成する。
本発明は、半導体集積回路に係り、詳しくは、スパイラ
ルコイルを内蔵したモノリシック集積回路に関する。
ルコイルを内蔵したモノリシック集積回路に関する。
モノリシックICとは、シリコンの単結晶からなる一体
の石からできているICを指し、超小型回路の主流にな
っている。また、一般にICとはモノリシックICをい
うことが多い。
の石からできているICを指し、超小型回路の主流にな
っている。また、一般にICとはモノリシックICをい
うことが多い。
近年、各種高周波回路のIC化および小型化の要求に伴
いモノリシックIC内にスパイラルコイルを形成する必
要が出ている。
いモノリシックIC内にスパイラルコイルを形成する必
要が出ている。
従来の半導体集積回路、特に高周波回路においてインダ
クタンス素子(コイル)は基板(例えば、プリント基板
若しくはハイブリッドIC基板)上に個別部品として取
り付けられるか、あるいは基板上にマイクロストリップ
ラインやスパイラルコイルを形成するという方法で作ら
れている。
クタンス素子(コイル)は基板(例えば、プリント基板
若しくはハイブリッドIC基板)上に個別部品として取
り付けられるか、あるいは基板上にマイクロストリップ
ラインやスパイラルコイルを形成するという方法で作ら
れている。
後者の例としては、例えば特開昭61−294850号
公報に記載のものがある。このものは、半導体基板上に
設けられた上層配線と下層配線との間に配線層を介して
強磁性体層を設けてトランス結合による部品を作るもの
であるが、強磁性体層に接した配線のどちらか一方を用
いることで、インダクタンスを有するコイルにも使用で
きるとしている。
公報に記載のものがある。このものは、半導体基板上に
設けられた上層配線と下層配線との間に配線層を介して
強磁性体層を設けてトランス結合による部品を作るもの
であるが、強磁性体層に接した配線のどちらか一方を用
いることで、インダクタンスを有するコイルにも使用で
きるとしている。
しかしながら、このような従来の半導体集積回路にあっ
ては、前者の場合は、インダクタ素子の形成が上記構成
によるため、ICを使用する各種高周波回路機器の小型
化に障害となるという不具合がある。
ては、前者の場合は、インダクタ素子の形成が上記構成
によるため、ICを使用する各種高周波回路機器の小型
化に障害となるという不具合がある。
一方、後者の場合はかかる不具合は解消されるものの、
IC内にスパイラルコイルを形成する際にコイルの半径
が極めて小さくなることから、前者のように個別部品と
して作る場合に比ベインダクタンスが非常に小さく、約
1 /1000程度となって所望のインダクタンスが得
られず、所望の値を得るためには結局、大型化する必要
があり、例えば高周波部品として適するような極超小型
のコイルがIC内に実際上はできないという問題点があ
った。
IC内にスパイラルコイルを形成する際にコイルの半径
が極めて小さくなることから、前者のように個別部品と
して作る場合に比ベインダクタンスが非常に小さく、約
1 /1000程度となって所望のインダクタンスが得
られず、所望の値を得るためには結局、大型化する必要
があり、例えば高周波部品として適するような極超小型
のコイルがIC内に実際上はできないという問題点があ
った。
具体的には、第5図に示すようにスパイラルコイル1が
、 ストリップ幅:W コイル内径:d、[mm) コイル外形:do(a+s) の条件で形成されているとき、インダクタンスLは次式
■で決定される。
、 ストリップ幅:W コイル内径:d、[mm) コイル外形:do(a+s) の条件で形成されているとき、インダクタンスLは次式
■で決定される。
n:ターン数(n=5程度)
ここで、d、、d、の単位をICに合わせて(μ鴎〕に
すると、Lは上述のように1 /1000程度となる。
すると、Lは上述のように1 /1000程度となる。
また、ICの配線はプリント基板やハイブリッド基板の
配線に比べて非常に抵抗が高く(材質と薄膜のため〉、
インダクタ素子として所望のインダクタンスが得難く、
そのため寄生容量も大きくて性能が悪いという問題点が
あった。例えば、インダクタンスを大きくしようとする
と、コイル配線が長くなり、電流経路も長くなって効率
が悪い。
配線に比べて非常に抵抗が高く(材質と薄膜のため〉、
インダクタ素子として所望のインダクタンスが得難く、
そのため寄生容量も大きくて性能が悪いという問題点が
あった。例えば、インダクタンスを大きくしようとする
と、コイル配線が長くなり、電流経路も長くなって効率
が悪い。
又、一般にl GHz程度以上の高周波で使用されるコ
イルはほとんど空芯である事からしても、磁性体をコイ
ル内に設けた場合、使用する周波数が高いほど高周波損
失が大きくなり、その結果としてQ特性が悪くなる為高
周波コイルとしてはあまり適さないといった問題がある
。
イルはほとんど空芯である事からしても、磁性体をコイ
ル内に設けた場合、使用する周波数が高いほど高周波損
失が大きくなり、その結果としてQ特性が悪くなる為高
周波コイルとしてはあまり適さないといった問題がある
。
そこで本発明は、小型化を達成しつつ、所望のインダク
タ素子が得られて寄生容量も小さくて高周波でも性能の
よいインダクタンス素子となる半導体集積回路を提供す
ることを目的としている。
タ素子が得られて寄生容量も小さくて高周波でも性能の
よいインダクタンス素子となる半導体集積回路を提供す
ることを目的としている。
[課題を解決するための手段]
本発明による半導体集積回路は上記目的達成のため、半
導体基板上に、所定幅を有する複数の配線を互・いに逆
方向に巻回するとともに、これらの配線を巻回方向に対
して多層状に配置し、かつ各配線同士の接続はスパイラ
ルの中心で行い、さらに各配線はその上下層を互い違い
に配置し、該上下層の電流方向が同一となるインダクタ
素子を形成している′。
導体基板上に、所定幅を有する複数の配線を互・いに逆
方向に巻回するとともに、これらの配線を巻回方向に対
して多層状に配置し、かつ各配線同士の接続はスパイラ
ルの中心で行い、さらに各配線はその上下層を互い違い
に配置し、該上下層の電流方向が同一となるインダクタ
素子を形成している′。
本発明では、各多層配線の上下層間の電流方向が同一と
なり、これにより、その上下層間に自己誘導作用が生じ
て高インダクタンスが得られ、また、各上下層が互い違
いに配線されることで、配線の重なりが小さくなって寄
生容量が低減する。
なり、これにより、その上下層間に自己誘導作用が生じ
て高インダクタンスが得られ、また、各上下層が互い違
いに配線されることで、配線の重なりが小さくなって寄
生容量が低減する。
したがって、IC基板上で小型化を達成しつつ、従来の
IC製造技術のみを使って高周波で性能の良いインダク
タ素子が形成できる。
IC製造技術のみを使って高周波で性能の良いインダク
タ素子が形成できる。
第1.2図は本発明の詳細な説明する図である。
第1図において、11は半導体基板で、例えばP形ある
いはN形の基板が用いられ、これはICを形成するとき
と同じものである。12は導電性の物質からなる第1の
配線、13は同じく第2の配線であり、例えば幅が1〔
μ−〕である。第1の配線12および第2の配線13は
互いに逆方向にスパイラル状に巻回され、この例では第
1の配線12は右回りに、第2の配線13は左回りに巻
回される。
いはN形の基板が用いられ、これはICを形成するとき
と同じものである。12は導電性の物質からなる第1の
配線、13は同じく第2の配線であり、例えば幅が1〔
μ−〕である。第1の配線12および第2の配線13は
互いに逆方向にスパイラル状に巻回され、この例では第
1の配線12は右回りに、第2の配線13は左回りに巻
回される。
第1の配線12および第2の配線13はその断面を第2
図に示すように、巻回方向に対して多層状に(この例で
は2層状に)配置され、その間には絶縁層(例えば、S
i Ox ) 14が形成されて絶縁を保っている。
図に示すように、巻回方向に対して多層状に(この例で
は2層状に)配置され、その間には絶縁層(例えば、S
i Ox ) 14が形成されて絶縁を保っている。
また、第1の配線12および第2の配線13同士の接続
はスパイラルの中心部で行われ、この部分がコンタクト
部15になっている。さらに、第1の配線12および第
2の配線13はその上下方向の重なりが互い違いになる
ように配置され、所定の距離が保たれている。第1の配
線12および第2の配線13の各端部は電流が供給され
る電極12a。
はスパイラルの中心部で行われ、この部分がコンタクト
部15になっている。さらに、第1の配線12および第
2の配線13はその上下方向の重なりが互い違いになる
ように配置され、所定の距離が保たれている。第1の配
線12および第2の配線13の各端部は電流が供給され
る電極12a。
13aとなっている。
以上の構成において、電極123.13aの間に電圧を
供給すると、第1の配線12および第2の配線13の何
れも第1図中手面方向の電流経路は同一方向となる。こ
のため、いわゆる上下層間に自己誘導作用を生じて高い
インダクタンスが得られ、所望のインダクタンスを得る
のが容易となる。また、第1の配線12および第2の配
線13が互い違いに配置されて重なりがないため、寄生
容量も格段と低減する。したがって、従来例に比して短
い電流経路で効率がよく、かつ超小型の性能のよいスパ
イラルコイルを実現することができる。
供給すると、第1の配線12および第2の配線13の何
れも第1図中手面方向の電流経路は同一方向となる。こ
のため、いわゆる上下層間に自己誘導作用を生じて高い
インダクタンスが得られ、所望のインダクタンスを得る
のが容易となる。また、第1の配線12および第2の配
線13が互い違いに配置されて重なりがないため、寄生
容量も格段と低減する。したがって、従来例に比して短
い電流経路で効率がよく、かつ超小型の性能のよいスパ
イラルコイルを実現することができる。
次に、上記原理に基づく本発明の一実施例について第3
.4図を参照して説明する。第3図はスパイラルコイル
20の平面図であり、この図において、21は第1の配
線、22は第2の配線、23はコンタクト部、21a、
22aは電極である。第1の配線21および第2の配線
22は図示は略しているが、IC基板上に互いに逆方向
に方形状に巻回されて多層(この場合は2層)に形成さ
れ、相互の重なりが少なくなるように配置されている。
.4図を参照して説明する。第3図はスパイラルコイル
20の平面図であり、この図において、21は第1の配
線、22は第2の配線、23はコンタクト部、21a、
22aは電極である。第1の配線21および第2の配線
22は図示は略しているが、IC基板上に互いに逆方向
に方形状に巻回されて多層(この場合は2層)に形成さ
れ、相互の重なりが少なくなるように配置されている。
また、方形にループ(スパイラル)された各配線21.
22の四角は完全な直角ではなく、角を取るような形状
に形成されている。なお、スパイラルコイル20の大き
さは図示のようにi+ =200 am 、 1*
=300μ−程度であり、IC基板上において十分に集
積化できるものである。
22の四角は完全な直角ではなく、角を取るような形状
に形成されている。なお、スパイラルコイル20の大き
さは図示のようにi+ =200 am 、 1*
=300μ−程度であり、IC基板上において十分に集
積化できるものである。
以上の構成によるスパイラルコイル20について、その
作動特性を調べた結果、測定周波数500 Mn2にお
いて約10OnHのインダクタンス(Q特性は約3)を
得た。このように、このスパイラルコイル20は多層に
よる自己誘導作用と、かつ互い違いに配線したことによ
る寄生容量の低減により、超小型でありながら約100
nHという大きなインダクタンスを得ており、さらに
、自己共振周波数も0.8GH2と高く、高周波にも使
用できるものとなっている。また、このスパイラルコイ
ル20では四角に90”の直角のコーナ(エルボ)を避
けて45°の処理を行うことで、この部分の電流集中を
極力減らしてQ特性が向上している。なお、45°の処
理に限らず、例えば曲線や鈍角を用いてもよい。
作動特性を調べた結果、測定周波数500 Mn2にお
いて約10OnHのインダクタンス(Q特性は約3)を
得た。このように、このスパイラルコイル20は多層に
よる自己誘導作用と、かつ互い違いに配線したことによ
る寄生容量の低減により、超小型でありながら約100
nHという大きなインダクタンスを得ており、さらに
、自己共振周波数も0.8GH2と高く、高周波にも使
用できるものとなっている。また、このスパイラルコイ
ル20では四角に90”の直角のコーナ(エルボ)を避
けて45°の処理を行うことで、この部分の電流集中を
極力減らしてQ特性が向上している。なお、45°の処
理に限らず、例えば曲線や鈍角を用いてもよい。
第4図は第3図の構成によるスパイラルコイル20を通
用した高周波回路の一例を示す図である。
用した高周波回路の一例を示す図である。
図中20a〜20cにスパイラルコイルが使用され、こ
れらは高周波信号の伝達を抑える素子としての機能を有
している。また、C,、C,はコンデンサ、T1は高周
波増幅を行うトランジスタである。
れらは高周波信号の伝達を抑える素子としての機能を有
している。また、C,、C,はコンデンサ、T1は高周
波増幅を行うトランジスタである。
この例においてもモノリシ・ンクICに内蔵し、増幅回
路の小型化に大きく寄与している。
路の小型化に大きく寄与している。
なお、上述の実施例では本発明を高周波増幅回路に使用
しているが、すべての集積回路内に形威し、使用するこ
とが可能である。
しているが、すべての集積回路内に形威し、使用するこ
とが可能である。
また、2層配線だけでなく、3層、4層等の多層でも同
一形状でスパイラルコイルを形成できる。
一形状でスパイラルコイルを形成できる。
本発明によれば、小型化を遠戚しつつ、所望のインダク
タンスが得られて寄生容量も小さくて高周波で性能の良
いインダクタ素子を実現することができる。
タンスが得られて寄生容量も小さくて高周波で性能の良
いインダクタ素子を実現することができる。
第1.2図は本発明の詳細な説明する図であり、第1図
はそのスパイラルコイルの構成を示す図、第2図はその
スパイラルコイルの断面を示す図、第3.4図は本発明
に係る半導体集積回路の一実施例を示す図であり、 第3図はそのスパイラルコイルの構成を示す図、第4図
はそのスパイラルコイルを適用した高周波増幅回路の回
路図、 第5図は従来のスパイラルコイルの構成を示す図である
。 11・・・・・・半導体基板、 12.21・・・・・・第1の配線、 13.22・・・・・・第2の配線、 12a、13a、21a、22a・・・・・・電極、1
4・・・・・・絶縁層、 15.23・・・・・・コンタクト部、20.20a〜
20c・・・・・・スパイラルコイル。 本発明の詳細な説明するスパイラルコイルの構成を示す
図第 図 本発明の詳細な説明するスパイラルコイルの断面を示す
図第 図 一実施例のスパイラルコイルを適用した高周波増幅回路
の回路間第 図 従来のスパイラルコイルの構成を示す間第 図
はそのスパイラルコイルの構成を示す図、第2図はその
スパイラルコイルの断面を示す図、第3.4図は本発明
に係る半導体集積回路の一実施例を示す図であり、 第3図はそのスパイラルコイルの構成を示す図、第4図
はそのスパイラルコイルを適用した高周波増幅回路の回
路図、 第5図は従来のスパイラルコイルの構成を示す図である
。 11・・・・・・半導体基板、 12.21・・・・・・第1の配線、 13.22・・・・・・第2の配線、 12a、13a、21a、22a・・・・・・電極、1
4・・・・・・絶縁層、 15.23・・・・・・コンタクト部、20.20a〜
20c・・・・・・スパイラルコイル。 本発明の詳細な説明するスパイラルコイルの構成を示す
図第 図 本発明の詳細な説明するスパイラルコイルの断面を示す
図第 図 一実施例のスパイラルコイルを適用した高周波増幅回路
の回路間第 図 従来のスパイラルコイルの構成を示す間第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体基板上に、所定幅を有する複数の配線を互いに逆
方向に巻回するとともに、 これらの配線を巻回方向に対して多層状に配置し、 かつ各配線同士の接続はスパイラルの中心で行い、 さらに各配線はその上下層を互い違いに配置し、該上下
層の電流方向が同一となるインダクタ素子を形成したこ
とを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22586689A JPH0389548A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22586689A JPH0389548A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0389548A true JPH0389548A (ja) | 1991-04-15 |
Family
ID=16836077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22586689A Pending JPH0389548A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0389548A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FR2839582A1 (fr) * | 2002-05-13 | 2003-11-14 | St Microelectronics Sa | Inductance a point milieu |
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WO2008016089A1 (en) | 2006-08-01 | 2008-02-07 | Nec Corporation | Inductor element, inductor element manufacturing method, and semiconductor device with inductor element mounted thereon |
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JP2012521089A (ja) * | 2009-03-18 | 2012-09-10 | アギア システムズ インコーポレーテッド | 磁気結合が低減された集積回路インダクタ |
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WO2018008573A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 株式会社村田製作所 | 電子機器 |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP22586689A patent/JPH0389548A/ja active Pending
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