JPH0377319A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JPH0377319A JPH0377319A JP21309089A JP21309089A JPH0377319A JP H0377319 A JPH0377319 A JP H0377319A JP 21309089 A JP21309089 A JP 21309089A JP 21309089 A JP21309089 A JP 21309089A JP H0377319 A JPH0377319 A JP H0377319A
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- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 title claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 61
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被洗浄物を連続的に、超音波を用いて洗浄す
る超音波洗浄装置に関するものである。
る超音波洗浄装置に関するものである。
一般に行われている超音波洗浄は、従来、洗浄液を満た
した洗浄槽に、超音波発振子を取り付けて上記洗浄槽内
に超音波を送り込み、被洗浄物を槽内に浸漬して洗浄す
るものであった。したがつて、上記洗浄工程を自動化す
る場合における被洗浄物の搬送は、水平方向への移動と
上下方向への浸漬との２種類の異なった操作が必要であ
る。すなわち、洗浄工程は間欠的（いわゆるバッチ処理
）にせざるを得なかった。
した洗浄槽に、超音波発振子を取り付けて上記洗浄槽内
に超音波を送り込み、被洗浄物を槽内に浸漬して洗浄す
るものであった。したがつて、上記洗浄工程を自動化す
る場合における被洗浄物の搬送は、水平方向への移動と
上下方向への浸漬との２種類の異なった操作が必要であ
る。すなわち、洗浄工程は間欠的（いわゆるバッチ処理
）にせざるを得なかった。
従来技術によって、コンベアにより被洗浄物を連続的に
移動させながら超音波洗浄を行うためには、昇り降りす
るような経路を備えたコンベアが必要であって、機構的
に複雑な構成になってしまうという欠点があった。また
、自動洗浄装置としては、一般に複数の洗浄槽を並置し
て、洗浄、すすぎ、洗浄、すすぎの工程を繰り返すのが
普通であって、このため、昇り降りを何度も繰り返すよ
うな構成が必要になるから、ますます複雑な機構が要求
されるようになる。
移動させながら超音波洗浄を行うためには、昇り降りす
るような経路を備えたコンベアが必要であって、機構的
に複雑な構成になってしまうという欠点があった。また
、自動洗浄装置としては、一般に複数の洗浄槽を並置し
て、洗浄、すすぎ、洗浄、すすぎの工程を繰り返すのが
普通であって、このため、昇り降りを何度も繰り返すよ
うな構成が必要になるから、ますます複雑な機構が要求
されるようになる。
本発明は、水平移動する被洗浄物に、超音波エネルギー
を洗浄液とともに効果的に照射して洗浄する、超音波洗
浄装置を得・ることを目的とする。
を洗浄液とともに効果的に照射して洗浄する、超音波洗
浄装置を得・ることを目的とする。
」ユ記目的は、底部に超音波発振子を設置した洗浄槽の
内部に、超音波進行方向に先細１ノした集音筒を取り付
け、上記集音筒の内部から上記開口部に向けて洗浄液を
流し、上記開口部−上端から盛り七がって逸流する洗浄
液に、被洗浄物を浸漬することにより達成される。
内部に、超音波進行方向に先細１ノした集音筒を取り付
け、上記集音筒の内部から上記開口部に向けて洗浄液を
流し、上記開口部−上端から盛り七がって逸流する洗浄
液に、被洗浄物を浸漬することにより達成される。
本発明の洗浄槽は底部に超音波発振子を設置し、内部に
は超音波の進行方向に先細りした集音筒が取り付けられ
、上記集音筒の内部に引き込まれた洗浄液は上記集音筒
内を超音波とともに進行し、先端開口部の上端から盛り
上がって逸流する。
は超音波の進行方向に先細りした集音筒が取り付けられ
、上記集音筒の内部に引き込まれた洗浄液は上記集音筒
内を超音波とともに進行し、先端開口部の上端から盛り
上がって逸流する。
方、洗浄槽の底部から導かれた超音波は集音筒内でエネ
ルギーを集約して、上記洗浄水の盛りにがり部に強く照
射する。したが−〕で、被洗浄物を−に記集音筒の先端
開口部に位置させることにより、集約された超音波エネ
ルギーと逸流する洗浄液とによって、効果的に超音波洗
浄を行うことができる。なお、上記逸流した洗浄液およ
び洗浄後の洗浄液は、Ｌ記集音筒の外壁に沿りて落ドし
回収される。
ルギーを集約して、上記洗浄水の盛りにがり部に強く照
射する。したが−〕で、被洗浄物を−に記集音筒の先端
開口部に位置させることにより、集約された超音波エネ
ルギーと逸流する洗浄液とによって、効果的に超音波洗
浄を行うことができる。なお、上記逸流した洗浄液およ
び洗浄後の洗浄液は、Ｌ記集音筒の外壁に沿りて落ドし
回収される。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第１図は本発明による超音波洗浄装置の一実施例を示す
構成図、第２図は上記実施例の洗浄槽の上面図、第３図
は本洗浄槽をカスケード洗浄装置に用いた場合の実施例
を示す図である。第五図に示すように、矩形断面を有す
る洗（ｌＰ槽槽内内、第２図に示すような長方形の開口
部２を有し７、基部が洗浄槽１内−杯に拡がった集音筒
３を取り付け、上記洗浄４ｔ９１の底面には超音波発振
子・１を設置している。上記洗浄槽ｌのＦ部から上記集
音筒３の内部に、循環ポンプ５によりフィルタ６を介し
て、貯槽８内の洗浄液７を送り込んでいる。」二記洗浄
液７は集音筒３の開［］部２Ｉ：に盛り上がって逸流し
、周囲から上記集音筒３の外壁にＩＯって流れ落ち、排
水管９を経て貯槽８に戻り循環する。
構成図、第２図は上記実施例の洗浄槽の上面図、第３図
は本洗浄槽をカスケード洗浄装置に用いた場合の実施例
を示す図である。第五図に示すように、矩形断面を有す
る洗（ｌＰ槽槽内内、第２図に示すような長方形の開口
部２を有し７、基部が洗浄槽１内−杯に拡がった集音筒
３を取り付け、上記洗浄４ｔ９１の底面には超音波発振
子・１を設置している。上記洗浄槽ｌのＦ部から上記集
音筒３の内部に、循環ポンプ５によりフィルタ６を介し
て、貯槽８内の洗浄液７を送り込んでいる。」二記洗浄
液７は集音筒３の開［］部２Ｉ：に盛り上がって逸流し
、周囲から上記集音筒３の外壁にＩＯって流れ落ち、排
水管９を経て貯槽８に戻り循環する。
上記超音波発振子４によって洗浄槽１内に発生した超音
波は、−に記集音筒３により集められて開「１部２に導
かれる。したがって、被洗浄物１０を上記開口部２上に
盛り上がった洗浄液に浸漬しながら通過させることによ
って、効率よく超音波洗浄を行うことができる。第１図
の洗浄槽１内の実線矢印は洗浄水の流れを示し、破線矢
印は超音波の導波を示している。
波は、−に記集音筒３により集められて開「１部２に導
かれる。したがって、被洗浄物１０を上記開口部２上に
盛り上がった洗浄液に浸漬しながら通過させることによ
って、効率よく超音波洗浄を行うことができる。第１図
の洗浄槽１内の実線矢印は洗浄水の流れを示し、破線矢
印は超音波の導波を示している。
なお、−上記実施例は、洗浄槽１の断面を矩形とし、集
音筒３の開「コ部２の形状を長方形としたが、本発明が
上記実施例に示したそれぞれの形状に限定されるもので
ないことはもちろんである。
音筒３の開「コ部２の形状を長方形としたが、本発明が
上記実施例に示したそれぞれの形状に限定されるもので
ないことはもちろんである。
第３図はＬ記実施例の洗浄装置をカスケード洗浄装置に
応用した実施例を示す図で、本実施例では４個の洗浄槽
１を一列に配置して、■槽および貯槽をそれぞれ溶剤に
よる洗浄槽、■槽を水によるすすぎ槽、■槽は純水を用
いた仕りげのすすぎ槽としている。例えばコンベアによ
って、被洗浄物１０が、それぞれの槽１の集音筒３の開
口部２上に盛り上がった溶剤や洗浄水中を、順次浸漬し
ながら通過することによって洗浄プロセスが完結する。
応用した実施例を示す図で、本実施例では４個の洗浄槽
１を一列に配置して、■槽および貯槽をそれぞれ溶剤に
よる洗浄槽、■槽を水によるすすぎ槽、■槽は純水を用
いた仕りげのすすぎ槽としている。例えばコンベアによ
って、被洗浄物１０が、それぞれの槽１の集音筒３の開
口部２上に盛り上がった溶剤や洗浄水中を、順次浸漬し
ながら通過することによって洗浄プロセスが完結する。
なお、第３図にはポンプその他を省略している。
上記のように本発明による超音波洗浄装置は、底部に超
音波発振子を設置した洗浄槽の内部に、超音波の進行方
向に先細りした集音筒を取り付け、−１−、記集音筒の
内部から上記開口部に向けて洗浄液を流し、上記開口部
に盛り上がって逸流する洗浄液に、被洗浄物を浸漬する
とともに超音波エネルギーを照射することにより、上記
盛りＬがった洗浄水中を水平移動して浸漬する被洗浄物
に、超音波エネルギーを集束して照射することができる
ため１強力な超音波振動を伴った洗浄が行える超音波洗
浄装置を得ることができる。
音波発振子を設置した洗浄槽の内部に、超音波の進行方
向に先細りした集音筒を取り付け、−１−、記集音筒の
内部から上記開口部に向けて洗浄液を流し、上記開口部
に盛り上がって逸流する洗浄液に、被洗浄物を浸漬する
とともに超音波エネルギーを照射することにより、上記
盛りＬがった洗浄水中を水平移動して浸漬する被洗浄物
に、超音波エネルギーを集束して照射することができる
ため１強力な超音波振動を伴った洗浄が行える超音波洗
浄装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１＠は本発明による超音波洗浄装置の一実施例を示す
構成図、第２図は上記実施例の洗浄槽の上面図、第３図
は］二記洗浄槽をカスケード洗浄装置に用いた場合の実
施例を示す図である。 １・・・洗浄槽 ２・・・開口部３・・・集音
筒 ４・・・超音波発振ｔ１０・・・被洗浄物 第３ 図
構成図、第２図は上記実施例の洗浄槽の上面図、第３図
は］二記洗浄槽をカスケード洗浄装置に用いた場合の実
施例を示す図である。 １・・・洗浄槽 ２・・・開口部３・・・集音
筒 ４・・・超音波発振ｔ１０・・・被洗浄物 第３ 図
Claims (1)
- １、底部に超音波発振子を設置した洗浄槽の内部に、超
音波の進行方向に先細りした集音筒を取り付け、上記集
音筒の内部から上部開口部に向けて洗浄液を流し、上記
開口部に盛り上がって逸流する洗浄液に、被洗浄物を浸
漬するとともに超音波エネルギーを照射する超音波洗浄
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21309089A JPH0377319A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21309089A JPH0377319A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0377319A true JPH0377319A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16633396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21309089A Pending JPH0377319A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0377319A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0652979U (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-19 | コーア株式会社 | 電子部品の洗浄装置 |
| US5333628A (en) * | 1992-02-12 | 1994-08-02 | Kyushu Sumitoku Electronics Co., Ltd. | Continuous ultrasonic cleaning apparatus |
| US5339842A (en) * | 1992-12-18 | 1994-08-23 | Specialty Coating Systems, Inc. | Methods and apparatus for cleaning objects |
| US7147721B2 (en) | 2002-12-30 | 2006-12-12 | Asm Assembly Automation Ltd. | Apparatus and method for cleaning electronic packages |
| US7757701B2 (en) | 2005-11-07 | 2010-07-20 | Denso Corporation | Ultrasonic cleaning method and device |
| JP2012228654A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Kaken Tec Kk | 部分洗浄装置および部分洗浄方法 |
| CN102806216A (zh) * | 2012-08-21 | 2012-12-05 | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 | 准单晶硅片清洗方法 |
| JP2013118209A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板洗浄装置 |
| KR20230083060A (ko) * | 2021-12-02 | 2023-06-09 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP21309089A patent/JPH0377319A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5333628A (en) * | 1992-02-12 | 1994-08-02 | Kyushu Sumitoku Electronics Co., Ltd. | Continuous ultrasonic cleaning apparatus |
| US5339842A (en) * | 1992-12-18 | 1994-08-23 | Specialty Coating Systems, Inc. | Methods and apparatus for cleaning objects |
| JPH0652979U (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-19 | コーア株式会社 | 電子部品の洗浄装置 |
| US7147721B2 (en) | 2002-12-30 | 2006-12-12 | Asm Assembly Automation Ltd. | Apparatus and method for cleaning electronic packages |
| KR100718484B1 (ko) * | 2002-12-30 | 2007-05-16 | 에이에스엠 어쌤블리 오토메이션 리미티드 | 전자 부품 세정 방법 및 장치 |
| US7757701B2 (en) | 2005-11-07 | 2010-07-20 | Denso Corporation | Ultrasonic cleaning method and device |
| JP2012228654A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Kaken Tec Kk | 部分洗浄装置および部分洗浄方法 |
| JP2013118209A (ja) * | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板洗浄装置 |
| CN102806216A (zh) * | 2012-08-21 | 2012-12-05 | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 | 准单晶硅片清洗方法 |
| KR20230083060A (ko) * | 2021-12-02 | 2023-06-09 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
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