JPH0344381A - 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法 - Google Patents
光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法Info
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- JPH0344381A JPH0344381A JP1179493A JP17949389A JPH0344381A JP H0344381 A JPH0344381 A JP H0344381A JP 1179493 A JP1179493 A JP 1179493A JP 17949389 A JP17949389 A JP 17949389A JP H0344381 A JPH0344381 A JP H0344381A
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- benzyloxypropan
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法に関す
る。この誘導体は抗不整脈、血圧降下。
る。この誘導体は抗不整脈、血圧降下。
白内障の治療薬として有用な光学活性βブロッカ−の原
料として有用な化合物である。
料として有用な化合物である。
（従来技術と発明が解決しようとする課題）従来、一般
式（４） （式（４）中Ｒ１は水素、０１〜ＣＴ２のアルキル基、
又はアラルキル基を表わし、＊は不斉炭素を表わす。〉
で示される光学活性オキサゾリジノン誘導体は下記反応
経路（Ｉ）で示される光学活性グリセルアルデヒドを経
由する方法（Ａ） （Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂ
ｕ ｌ ｔ 、 、 ２９．３５９３（１９８１）、津
田喜典等）やラセミ体の、微生物による不斉氷解（Ｂ）
（待開昭６０−３６４７１等〉、３−アミノ−１，２−
オキシプロパン誘導体を経由する方法（Ｃ） （特開［
１３６０−６７４７０＞等が知られている。
式（４） （式（４）中Ｒ１は水素、０１〜ＣＴ２のアルキル基、
又はアラルキル基を表わし、＊は不斉炭素を表わす。〉
で示される光学活性オキサゾリジノン誘導体は下記反応
経路（Ｉ）で示される光学活性グリセルアルデヒドを経
由する方法（Ａ） （Ｃｈｅｍ、 Ｐｈａｒｍ、 Ｂ
ｕ ｌ ｔ 、 、 ２９．３５９３（１９８１）、津
田喜典等）やラセミ体の、微生物による不斉氷解（Ｂ）
（待開昭６０−３６４７１等〉、３−アミノ−１，２−
オキシプロパン誘導体を経由する方法（Ｃ） （特開［
１３６０−６７４７０＞等が知られている。
く
■
○
しかしながら（Ａ＞では原料の光学活性グリセルアルデ
ヒドが、Ｄ−マンニトールから多段階で合成せねばなら
ず、しかもラセミ化をしやすい為取扱いが難しいし、（
Ｂ）では基質濃度をあまり高くできず、反対の立体配置
の未反応エステルとの分離が必要である等の問題があり
、（Ｃ）では３−アミノ−１，２−オキシプロパン誘導
体を合成するのに副反応をともなう数段階の反応を要し
、しかも３−アミノ−１，２−オキシプロパン誘導体自
体不安定で取扱いが難しい化合物であるという欠点をか
かえている。
ヒドが、Ｄ−マンニトールから多段階で合成せねばなら
ず、しかもラセミ化をしやすい為取扱いが難しいし、（
Ｂ）では基質濃度をあまり高くできず、反対の立体配置
の未反応エステルとの分離が必要である等の問題があり
、（Ｃ）では３−アミノ−１，２−オキシプロパン誘導
体を合成するのに副反応をともなう数段階の反応を要し
、しかも３−アミノ−１，２−オキシプロパン誘導体自
体不安定で取扱いが難しい化合物であるという欠点をか
かえている。
（課題を解決するための手段）
本発明者は上記の方法にかわる光学活性オキサゾリジノ
ン誘導体の製法を見出すべく鋭意検討した結果、下記反
応経路（ＩＩ）に従い、光学活性ベンジルグリシジルエ
ーテル（０）から光学純度の高い光学活性オキサゾリジ
ノン誘導体（４）が容易に得られることを見出した。
ン誘導体の製法を見出すべく鋭意検討した結果、下記反
応経路（ＩＩ）に従い、光学活性ベンジルグリシジルエ
ーテル（０）から光学純度の高い光学活性オキサゾリジ
ノン誘導体（４）が容易に得られることを見出した。
区
本発明はこの反応経路に従って得られる誘導体（４）を
提供するものである。
提供するものである。
すなわち本発明は一般式（３）
（式中ｐｈはフェニル基を、Ｒ１は水素、０１〜Ｃｒｚ
のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、
＊は不斉炭素を表わす。）で表わされる５−ベンジルオ
キシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体（３）をパ
ラジウム触媒の存在下水素化分解することを特徴とする
、一般式（４）（式中Ｒ１，＊は上記と同じ。）で表わ
される光学活性オキサゾリジノン誘導体（４）の製法で
ある。
のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、
＊は不斉炭素を表わす。）で表わされる５−ベンジルオ
キシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体（３）をパ
ラジウム触媒の存在下水素化分解することを特徴とする
、一般式（４）（式中Ｒ１，＊は上記と同じ。）で表わ
される光学活性オキサゾリジノン誘導体（４）の製法で
ある。
以下反応経路（Ｉｔ＞に従って化合物（０）より出発し
て誘導体（３）より誘導体（４）を合成する方法を説明
する。
て誘導体（３）より誘導体（４）を合成する方法を説明
する。
ａ〉光学活性ベンジルグリシジルエーテル（０）若しく
は１−ベンジルオキシ−３−クロロ−プロパン−２−オ
ールの合成 ここで原料として用いるベンジルグリシジルエーテル（
０）は光学純度の高いものが要求されるが、これは光学
純度９８％ｅｅ以上のエピクロルヒドリンをトリフルオ
ロボロンエーテル錯体なとのルイス酸触媒の存在下でベ
ンジルアルコールと反応させて得られる光学活性な１−
ベンジルオキシ−３−クロロ−プロパン−２−オールを
苛性ソーダなどで処理して得ることができる。
は１−ベンジルオキシ−３−クロロ−プロパン−２−オ
ールの合成 ここで原料として用いるベンジルグリシジルエーテル（
０）は光学純度の高いものが要求されるが、これは光学
純度９８％ｅｅ以上のエピクロルヒドリンをトリフルオ
ロボロンエーテル錯体なとのルイス酸触媒の存在下でベ
ンジルアルコールと反応させて得られる光学活性な１−
ベンジルオキシ−３−クロロ−プロパン−２−オールを
苛性ソーダなどで処理して得ることができる。
ｂ）１−アミノ−３−ベンジルオキシプロパン−２−オ
ール誘導体（１〉の合成 ベンジルグリシジルエーテル（０）と、アミンの反応は
アミン量が少いと生成した１−アミノ−３−ベンジルオ
キシプロパン−２−オール誘導体（１）へ更にベンジル
グリシジルエーテルが反応するため、５倍当量以上、よ
り好ましくは１０倍当量以上のア且ンと反応させる必要
がある。またアミンがイソプロピルアミンなどの様に沸
点の低い場合は水、メタノール、エタノールなどの溶媒
を混合して沸点を上げてやることが好ましい。
ール誘導体（１〉の合成 ベンジルグリシジルエーテル（０）と、アミンの反応は
アミン量が少いと生成した１−アミノ−３−ベンジルオ
キシプロパン−２−オール誘導体（１）へ更にベンジル
グリシジルエーテルが反応するため、５倍当量以上、よ
り好ましくは１０倍当量以上のア且ンと反応させる必要
がある。またアミンがイソプロピルアミンなどの様に沸
点の低い場合は水、メタノール、エタノールなどの溶媒
を混合して沸点を上げてやることが好ましい。
この光学活性な１−アミノ−３−ベンジルオキシプロパ
ン−２−オール誘導体（１）は上記の光学活性な１−ベ
ンジルオキシ−３−クロロプロパン−２−オールをアミ
ン当量以上と加熱還流下に反応させることによっても得
られる。この場合生成物は光学活性な１−アミノ−３−
ベンジルオキシプロパン−２−オールの塩＠塩であるの
で、反応途中あるいは反応終了後炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどの塩基１〜５モルを加えて後処理をし、遊
離のアミンを得ることができる。
ン−２−オール誘導体（１）は上記の光学活性な１−ベ
ンジルオキシ−３−クロロプロパン−２−オールをアミ
ン当量以上と加熱還流下に反応させることによっても得
られる。この場合生成物は光学活性な１−アミノ−３−
ベンジルオキシプロパン−２−オールの塩＠塩であるの
で、反応途中あるいは反応終了後炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどの塩基１〜５モルを加えて後処理をし、遊
離のアミンを得ることができる。
Ｃ）１−（Ｎ−アルコキシカルボニル）アミノ−３−ベ
ンジルオキシプロパン−２−オール誘導体（２〉の合成 １−アミノ−３−ベンジルオキシプロパン−２−オール
誘導体（１〉ととクロロ炭酸アルキルとの反応は二級水
酸基へのオキシカルボニル化を抑制するために一り５℃
〜室温の範囲でクロロ炭酸アルキルを徐々に加えること
が望ましい。クロロ炭酸アルキルエステルとしてはメチ
ル、エチル。
ンジルオキシプロパン−２−オール誘導体（２〉の合成 １−アミノ−３−ベンジルオキシプロパン−２−オール
誘導体（１〉ととクロロ炭酸アルキルとの反応は二級水
酸基へのオキシカルボニル化を抑制するために一り５℃
〜室温の範囲でクロロ炭酸アルキルを徐々に加えること
が望ましい。クロロ炭酸アルキルエステルとしてはメチ
ル、エチル。
ベンジルなどのアルキルエステルを用いることができる
。量的には１．０〜１，４当量が望ましい。
。量的には１．０〜１，４当量が望ましい。
受酸剤としての塩基は１〜１０倍当量用いることができ
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭Ｍ１ノチウム、炭
酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素ナトリウムな
どの炭酸塩が好ましい。溶媒はアセトン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル、 Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ジメチ
ルスルホキシド。
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭Ｍ１ノチウム、炭
酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素ナトリウムな
どの炭酸塩が好ましい。溶媒はアセトン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエー
テル、 Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ジメチ
ルスルホキシド。
エタノール、メタノールなどの極性溶媒を用いることが
できる。塩基として用いる炭酸塩を溶解するために、水
を添加することもできる。
できる。塩基として用いる炭酸塩を溶解するために、水
を添加することもできる。
ｄ）オキサゾリジン−２−オン誘導体（３）の合成
オキサゾリジン−２−オン誘導体（３）への閉環反応は
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、 Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアルデヒド。ジエチレングリコールジエチル
エーテル、Ｎ−メチルピロリドンなどの極性溶媒中、炭
酸ナトリウムや炭酸カリウムと加熱還流することにより
達成できる。
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、 Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアルデヒド。ジエチレングリコールジエチル
エーテル、Ｎ−メチルピロリドンなどの極性溶媒中、炭
酸ナトリウムや炭酸カリウムと加熱還流することにより
達成できる。
ここで得られた１−アミノ−３−ベンジルオキシプロパ
ン−２−オール誘導体（１）、１−（Ｎ−アルコキシカ
ルボニル ルオキシプロパン−２−オール誘導体（２〉及び５−ベ
ンジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体（
３）はいずれも文献未記載のｖｆｒ規化金化合物り、次
に述べる光学純度の高い５−ヒドロキシメチルオキサゾ
リジン−２−オン誘導体（４）を製造する上で重要な中
間体である。
ン−２−オール誘導体（１）、１−（Ｎ−アルコキシカ
ルボニル ルオキシプロパン−２−オール誘導体（２〉及び５−ベ
ンジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体（
３）はいずれも文献未記載のｖｆｒ規化金化合物り、次
に述べる光学純度の高い５−ヒドロキシメチルオキサゾ
リジン−２−オン誘導体（４）を製造する上で重要な中
間体である。
ｅ）５−ヒドロキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘
導体（４）の合成 本発明に用いる前記一般式（３）で表わされる５−ベン
ジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体〈３
）のＲ１としては水素，炭素数１〜１２の直鎖状，分岐
状のアルキル基，アリール基又はアラルキル基が挙げら
れる。具体的には水素，メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル。
導体（４）の合成 本発明に用いる前記一般式（３）で表わされる５−ベン
ジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体〈３
）のＲ１としては水素，炭素数１〜１２の直鎖状，分岐
状のアルキル基，アリール基又はアラルキル基が挙げら
れる。具体的には水素，メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル。
ｎ−ブチル， ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル：フェニル、２−（３，４−ジメ
トキシフェニル〉エチル、Ｒ−１−メチル−３−フェニ
ルプロピル等が挙げられる。
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル：フェニル、２−（３，４−ジメ
トキシフェニル〉エチル、Ｒ−１−メチル−３−フェニ
ルプロピル等が挙げられる。
この５−ベンジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オ
ン誘導体（３〉は常法によりパラジウム触媒による水素
化分解で容易に５−ヒドロキシメチルオキサゾリジン−
２−オン誘導体（４）に変換できる。すなわちこの水素
化分解は１〜５ａｔｍの水素圧下で例えば０．２〜ＩＯ
Ｗ／Ｗ％活性炭に担持したパラジウム触媒を用いてメタ
ノール、エタノール、アセトン、酢酸エチル、酢酸など
の極性溶媒中で理論量の水素を吸収するまで反応させて
行うことにより高収率で達成できる。
ン誘導体（３〉は常法によりパラジウム触媒による水素
化分解で容易に５−ヒドロキシメチルオキサゾリジン−
２−オン誘導体（４）に変換できる。すなわちこの水素
化分解は１〜５ａｔｍの水素圧下で例えば０．２〜ＩＯ
Ｗ／Ｗ％活性炭に担持したパラジウム触媒を用いてメタ
ノール、エタノール、アセトン、酢酸エチル、酢酸など
の極性溶媒中で理論量の水素を吸収するまで反応させて
行うことにより高収率で達成できる。
（発明の効果）
本発明によれば、従来法と比べて、ラセミ化を起すこと
なく、簡単な反応経路で収率よく目的物質を容易に得る
ことができ、副反応を伴うことなく反応させることがで
きる。
なく、簡単な反応経路で収率よく目的物質を容易に得る
ことができ、副反応を伴うことなく反応させることがで
きる。
以下実施例をあげて具体的に説明する。
（実施例）
化合物（０）から本発明の方法により誘導体（４）を得
る実施例を以下順に示す。
る実施例を以下順に示す。
実施例
１）誘導体（１）の合成
Ｒ− （−）−ベンジルグリシジルエーテル（９６％ｅ
ｅ） ４９．２ｇをイソプロピルアミン１４０（］、
メタノール１４０ｇ中で５時間加熱還流し、ガスクロマ
トグラフで反応が終了している事を確め、溶媒を減圧留
去し、残漬を減圧蒸留してＳ− （−）− １−ベンジ
ルオキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−２−オー
ル５９． ５（Ｊを得た。
ｅ） ４９．２ｇをイソプロピルアミン１４０（］、
メタノール１４０ｇ中で５時間加熱還流し、ガスクロマ
トグラフで反応が終了している事を確め、溶媒を減圧留
去し、残漬を減圧蒸留してＳ− （−）− １−ベンジ
ルオキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−２−オー
ル５９． ５（Ｊを得た。
収率 ８９％
ｂｐ１２６〜１２７℃１０． ９Ｔｏｒｒ［α］習−８
．３１” （Ｃ＝１．０６， ）夕／−ル）ＮＭＲ
（ＣＤＣ１３） δ： １．０７ （６ｔｌ， Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ 、 ＣＨ３ ）２、５５ 〜２．７０ （？Ｈ，
ｍ，ＣＨ）２、７２ 〜２．８８ （２ｔｌ，
ｍ， ＣＨ２ ）３、（）８ （２Ｈ， ｂ
ｒ Ｓ， ＣＨ２ ＞３、４７，３．４９ （各々ｌ
ｔｌ， ｂｒ ｓ， ＮＨ， ＯＨ）３、９０
（ＩＨ， ｍ， ＣＭ＞４、５４ （２
ｔｌ， Ｓ， ＣＨ２ ）７、３２ （５
ｔｌ， Ｓ， Ｐｈ）このものの光学８１１度はキラ
ルセルＯＤを用い、ヘキサン：２−プＣｌ／＜ノール５
０：２ （ｖ／ｖ）。
．３１” （Ｃ＝１．０６， ）夕／−ル）ＮＭＲ
（ＣＤＣ１３） δ： １．０７ （６ｔｌ， Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ 、 ＣＨ３ ）２、５５ 〜２．７０ （？Ｈ，
ｍ，ＣＨ）２、７２ 〜２．８８ （２ｔｌ，
ｍ， ＣＨ２ ）３、（）８ （２Ｈ， ｂ
ｒ Ｓ， ＣＨ２ ＞３、４７，３．４９ （各々ｌ
ｔｌ， ｂｒ ｓ， ＮＨ， ＯＨ）３、９０
（ＩＨ， ｍ， ＣＭ＞４、５４ （２
ｔｌ， Ｓ， ＣＨ２ ）７、３２ （５
ｔｌ， Ｓ， Ｐｈ）このものの光学８１１度はキラ
ルセルＯＤを用い、ヘキサン：２−プＣｌ／＜ノール５
０：２ （ｖ／ｖ）。
１、５ｍｌ／ｍｉｌｌ 、λｍａＸ ２５６ｎｍで分析
し、保持時間（Ｒｔ＞ ８．８， １０．６分に各々
溶出するＲ体，３体の比より９６％ｅｅであることがわ
かった。
し、保持時間（Ｒｔ＞ ８．８， １０．６分に各々
溶出するＲ体，３体の比より９６％ｅｅであることがわ
かった。
またＲ− （−）− １−ベンジルオキシ−３−クロロ
プロパン−２−オール（９６％ｅｅ） １８．５５ｇを
イソプロピルアミン３０Ｃｌ 、メタノール３０（］中
で５時間力０熱還流し、炭酸カリウム７、５ｇを加え更
に２時間撹拌下に加熱還流し、反応混合物をろ過し、ろ
液を減圧濃縮し、残漬を減圧蒸留してＳ−（−１１−ベ
ンジルオキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−２−
オール１Ｂ．４（ｌを得た。収率７９％２〉誘導体（２
）の合成 ５−（−）−１−ベンジルオキシ−３−イソプロピルア
ミノプロパン−２−オール３０．０ｇをアセトン２８９
．水２０ｇにとかし、炭酸カリウム１０．１９（１と水
１５（］からなる溶液をこれに加え、氷水浴で冷却して
反応液温を１０℃以下に保つように撹拌下でクロロ炭酸
エチル１６．０９（］を滴下した。滴下接受に１時間１
０℃以下で撹拌したのち、酢酸エチルを加えて抽出し、
５−（−）−１−ベンジルオキシ−３−（Ｎ−エトキシ
カルボニル）イソプロピルアミノプロパン−２−オール
３９．８０をほぼ定量的収率で得た。
プロパン−２−オール（９６％ｅｅ） １８．５５ｇを
イソプロピルアミン３０Ｃｌ 、メタノール３０（］中
で５時間力０熱還流し、炭酸カリウム７、５ｇを加え更
に２時間撹拌下に加熱還流し、反応混合物をろ過し、ろ
液を減圧濃縮し、残漬を減圧蒸留してＳ−（−１１−ベ
ンジルオキシ−３−イソプロピルアミノプロパン−２−
オール１Ｂ．４（ｌを得た。収率７９％２〉誘導体（２
）の合成 ５−（−）−１−ベンジルオキシ−３−イソプロピルア
ミノプロパン−２−オール３０．０ｇをアセトン２８９
．水２０ｇにとかし、炭酸カリウム１０．１９（１と水
１５（］からなる溶液をこれに加え、氷水浴で冷却して
反応液温を１０℃以下に保つように撹拌下でクロロ炭酸
エチル１６．０９（］を滴下した。滴下接受に１時間１
０℃以下で撹拌したのち、酢酸エチルを加えて抽出し、
５−（−）−１−ベンジルオキシ−３−（Ｎ−エトキシ
カルボニル）イソプロピルアミノプロパン−２−オール
３９．８０をほぼ定量的収率で得た。
［α］習 −９，９６° （Ｃ＝１．０９．メタノール
〉Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ３４５２．１６９６ｃｍ−１
ＨＭＲ（ＣＤＯ２３＞ δ：１．１５ （６Ｈ。
〉Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ３４５２．１６９６ｃｍ−１
ＨＭＲ（ＣＤＯ２３＞ δ：１．１５ （６Ｈ。
１．２９ （３Ｈ。
３．３０ （２Ｈ。
３．４８ （２Ｈ。
３．９２ （１Ｍ。
Ｊ＝７．０Ｈｚ 、 ＣＨ３）
ｔ、 Ｊ＝７．０Ｈｚ 、 ＣＨ３）ｂｒ ｓ、 Ｃ
Ｈ２） ｂｒ ｓ、 ＣＨ２） ｍ、ＣＨ） ４．１５ （２Ｈ，Ｑ、 Ｊ＝７．０ｔｌ
Ｚ 、 ＣＨ２）４．０７〜／１．２５ （ＩＨ，ｍ
、ＣＨ）４．２〜４．５ （１１，ｂｒ ｓ、 ０
Ｈ）４．５６ （２Ｎ、 Ｓ、 ＣＨ２）
７．３４ （５Ｈ，Ｓ、 Ｐｈ）このものの
光学純度はキラルセルＯＤを用い、ヘキサン＝２−プロ
パツール５００：３ （Ｖ／Ｖ）。
Ｈ２） ｂｒ ｓ、 ＣＨ２） ｍ、ＣＨ） ４．１５ （２Ｈ，Ｑ、 Ｊ＝７．０ｔｌ
Ｚ 、 ＣＨ２）４．０７〜／１．２５ （ＩＨ，ｍ
、ＣＨ）４．２〜４．５ （１１，ｂｒ ｓ、 ０
Ｈ）４．５６ （２Ｎ、 Ｓ、 ＣＨ２）
７．３４ （５Ｈ，Ｓ、 Ｐｈ）このものの
光学純度はキラルセルＯＤを用い、ヘキサン＝２−プロ
パツール５００：３ （Ｖ／Ｖ）。
１．５ｄ／ｍｉｎ 、λｍａｘ ２５６ｎｍで口ＰＬＣ
分析を行いＲｔ各々３８．４３分に溶出する８体、Ｒ体
の比率より９５．８％ｅｅであることがわかった。
分析を行いＲｔ各々３８．４３分に溶出する８体、Ｒ体
の比率より９５．８％ｅｅであることがわかった。
３）誘導体（３）の合成
Ｓ−（−）−１−ベンジルオキシ−３−（Ｎ−エトキシ
カルボニル）イソプロピルアミノプロパン−２−オール
３５ｇを炭酸ナトリウム２０（ｌとＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアルデヒド５０−中で２日間還流撹拌し、反応の終
了をＩＲスペクトルで確認し、無機塩をろ過して除去し
、溶媒を減圧留去してＳ−（＋）−５−ベンジルオキシ
メチル−プロピルオキサゾリジン−２−オン２９． ４
（］をほぼ定量的収率で得た。
カルボニル）イソプロピルアミノプロパン−２−オール
３５ｇを炭酸ナトリウム２０（ｌとＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアルデヒド５０−中で２日間還流撹拌し、反応の終
了をＩＲスペクトルで確認し、無機塩をろ過して除去し
、溶媒を減圧留去してＳ−（＋）−５−ベンジルオキシ
メチル−プロピルオキサゾリジン−２−オン２９． ４
（］をほぼ定量的収率で得た。
［α］習 ＋３６． ２３° （Ｃ＝１．０６，メタノ
ール〉ＩＲ （ｎｅａｔ） １７４６． １２５６．
１０５０ｃｍ−１ＨＭＲ （ＣＤα３） δ：１．１４ （６Ｎ， ｄ。
ール〉ＩＲ （ｎｅａｔ） １７４６． １２５６．
１０５０ｃｍ−１ＨＭＲ （ＣＤα３） δ：１．１４ （６Ｎ， ｄ。
３、３３ （１Ｎ， ｄｄ。
３、５１ （ＩＨ， ｔ。
３、６１ （２Ｈ， ｄ。
４、０８ （ＩＨ，Ｓｅｐｔ。
４、５０ 〜４．６８（ＩＨ， ｍ， ＣＨ）４、５
７ （２Ｈ， Ｓ， ＣＨ２ ）７、３２
（５Ｈ， ｓ， Ｐｈ）このものの光学純度は
キラルセルＯＤを用い、ヘキサン＝ ２−プロパツール
５０：２ （ｖ／ｖ）。
７ （２Ｈ， Ｓ， ＣＨ２ ）７、３２
（５Ｈ， ｓ， Ｐｈ）このものの光学純度は
キラルセルＯＤを用い、ヘキサン＝ ２−プロパツール
５０：２ （ｖ／ｖ）。
１、５ｄ／ｍｉｎ 、λｍａＸ ２５６ｎｍで日ＰＬＣ
分析した。
分析した。
Ｒｔ各々３６． ４８分に溶出するＲ体，８体の比より
９５、７％ｅｅであることがわかった。
９５、７％ｅｅであることがわかった。
４）誘導体（４）の製造
Ｓ− （＋）− ５−ベンジルオキシメチル−３イソプ
ロピルオキサゾリジン−２−オン２６． ６７（Ｊを５
％活性炭に担持したＰｄ触媒２．０６ｇと酢酸ｉｏｇ。
ロピルオキサゾリジン−２−オン２６． ６７（Ｊを５
％活性炭に担持したＰｄ触媒２．０６ｇと酢酸ｉｏｇ。
Ｊ＝６．８ｔｌｚ 、 ＣＨ３ ）
Ｊ＝６．０， ８．８Ｈｚ， ＣＨ）
Ｊ＝８．８Ｈｚ 、 ＣＨ）
Ｊ＝６．ＯＨｚ 、 ＣＨ２ ）
Ｊ＝６．８Ｈｚ 、 ＣＨ）
メタノール１００ｒｄｌ中３ｋＣＩ／ｒｆｆｌの水素圧
下で水素を吸収しなくなるまで反応させた。反応終了後
触媒をろ過して除き、溶媒を減圧留去し、酢酸エチルを
加え、飽和ＮａＨＣＯ：＋水溶液で中和し、溶媒を留去
し、エーテルで再結晶してＳ− （十）−５−ヒドロキ
シメチル−３−イソプロピルオキサゾリジン−２−オン
１５．２０ｉ；ｌを得た。収率９６．８％ｍｐ ５
５〜５６℃ ［α］習 ＋５７．２° （Ｃ＝１．１８，ＣＨＣｉ３
）（ ｌｉｔ．ｍｐ５５〜５６℃，［α］ ”ｆｊ ＋
５７．１。
下で水素を吸収しなくなるまで反応させた。反応終了後
触媒をろ過して除き、溶媒を減圧留去し、酢酸エチルを
加え、飽和ＮａＨＣＯ：＋水溶液で中和し、溶媒を留去
し、エーテルで再結晶してＳ− （十）−５−ヒドロキ
シメチル−３−イソプロピルオキサゾリジン−２−オン
１５．２０ｉ；ｌを得た。収率９６．８％ｍｐ ５
５〜５６℃ ［α］習 ＋５７．２° （Ｃ＝１．１８，ＣＨＣｉ３
）（ ｌｉｔ．ｍｐ５５〜５６℃，［α］ ”ｆｊ ＋
５７．１。
（ Ｃ＝１．１７， ＣＨＣｊ！３） 、 Ｃｈｅｍ．
Ｐｈａｒｍ．Ｂｕ」五１２）、３５９３（１９８１）） ＮＭＲ （ＣＤα３〉 δ：１．１８ （６Ｈ， ｄ。
Ｐｈａｒｍ．Ｂｕ」五１２）、３５９３（１９８１）） ＮＭＲ （ＣＤα３〉 δ：１．１８ （６Ｈ， ｄ。
３、４３ （１）１，ｄｄ。
３、５２ （ＩＨ， ｔ。
３、６５ （１Ｍ， ｄｄ。
３、８６ （ＩＨ， ｂｒ ｄｄ。
４、０８ （ＩＨ，Ｓｅｔ）ｔ。
４、５９ （ＩＨ， ｍ， ＣＨ）Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ 、 ＣＨ３ ） Ｊ＝８．８， ６．６Ｈｚ， ＣＨ） Ｊ＝８．８Ｈｚ 、 ＣＨ） Ｊ＝−１２．５，４．２Ｈｚ， ＣＨ）Ｊ＝−１２．５
，３．３Ｈｚ， ＣＨ）Ｊ＝６．８Ｈｚ 、 ＣＨ）
ｚ 、 ＣＨ３ ） Ｊ＝８．８， ６．６Ｈｚ， ＣＨ） Ｊ＝８．８Ｈｚ 、 ＣＨ） Ｊ＝−１２．５，４．２Ｈｚ， ＣＨ）Ｊ＝−１２．５
，３．３Ｈｚ， ＣＨ）Ｊ＝６．８Ｈｚ 、 ＣＨ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式（３） ▲数式、化学式、表等があります▼（３） （式中ｐｈはフェニル基を、Ｒ＾１は水素、Ｃ＿１〜Ｃ
＿１＿２のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
表わし、＊は不斉炭素を表わす。）で表わされる５−ベ
ンジルオキシメチルオキサゾリジン−２−オン誘導体を
パラジウム触媒の存在下水素化分解することを特徴とす
る、一般式（４） ▲数式、化学式、表等があります▼（４） （式中Ｒ＾１、＊は上記と同じ。）で表わされる光学活
性オキサゾリジノン誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179493A JPH0344381A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179493A JPH0344381A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344381A true JPH0344381A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16066790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1179493A Pending JPH0344381A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0344381A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58105966A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-24 | ジ−・デイ・サ−ル・アンド・コンパニ− | 新規な５−置換イソキノリン化合物 |
| JPS6036471A (ja) * | 1983-08-08 | 1985-02-25 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製造方法 |
| JPS6067470A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光学活性オキサゾリジン−２−オン誘導体の製造法 |
-
1989
- 1989-07-12 JP JP1179493A patent/JPH0344381A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58105966A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-24 | ジ−・デイ・サ−ル・アンド・コンパニ− | 新規な５−置換イソキノリン化合物 |
| JPS6036471A (ja) * | 1983-08-08 | 1985-02-25 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光学活性オキサゾリジノン誘導体の製造方法 |
| JPS6067470A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光学活性オキサゾリジン−２−オン誘導体の製造法 |
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