JPH0344376A - イミダゾール誘導体の製造法 - Google Patents
イミダゾール誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPH0344376A JPH0344376A JP1177023A JP17702389A JPH0344376A JP H0344376 A JPH0344376 A JP H0344376A JP 1177023 A JP1177023 A JP 1177023A JP 17702389 A JP17702389 A JP 17702389A JP H0344376 A JPH0344376 A JP H0344376A
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- compound
- expressed
- methyl
- solvent
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野）
本発明で得られる弐（ＩＩＩ）
の化合物は、式（ＩＶ）
で表わされる化合物、即ちＮ−シアノ−Ｎ゛−メチル−
Ｎ”−（２−（４−メチル−５−イミダゾリル）メチル
チオノエチル］グアニジン（一般名シメチシン）の製造
原料化合物である。
Ｎ”−（２−（４−メチル−５−イミダゾリル）メチル
チオノエチル］グアニジン（一般名シメチシン）の製造
原料化合物である。
シメチジンはヒスタミンｈ受容拮抗作用のある胃および
十二指腸潰瘍治療薬である。
十二指腸潰瘍治療薬である。
〔従来の技術］
従来、弐（ＩＩ［）で表わされる化合物の製造法につい
ては、特開昭５８−１６２５７６ 、同６２−１３２８
６７等が知られている。
ては、特開昭５８−１６２５７６ 、同６２−１３２８
６７等が知られている。
上記の方法では式（Ｖ）
（式中、Ｒ１、Ｒｔ、 Ｒｓは同一または異なってもよ
い低級アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し
、Ｒ１およびＲ１は隣接する窒素原子と共に異項環を形
成してもよい、又Ｑは酸残基を示す、）の化合物を式（
＋）の化合物と反応させて式（Ｉｔ）の化合物を得てい
る。
い低級アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し
、Ｒ１およびＲ１は隣接する窒素原子と共に異項環を形
成してもよい、又Ｑは酸残基を示す、）の化合物を式（
＋）の化合物と反応させて式（Ｉｔ）の化合物を得てい
る。
また、他にも （Ｉ）４−メチル−５−クロルメチルイ
ミダゾールとシステア藁ン（式（Ｉ）の化合物）を反応
させる方法 （２）過剰な濃塩酸中で４−メチルーイ【ダゾールとシ
ステアミンおよびホルムアルデヒドを閉鎖された系内に
て反応させる方法（特開昭５４−１３２５６８ ）等が
知られている。
ミダゾールとシステア藁ン（式（Ｉ）の化合物）を反応
させる方法 （２）過剰な濃塩酸中で４−メチルーイ【ダゾールとシ
ステアミンおよびホルムアルデヒドを閉鎖された系内に
て反応させる方法（特開昭５４−１３２５６８ ）等が
知られている。
式（Ｖ）の化合物を用いて式（ＩＩＩ）の化合物を製造
する方法においては式（ＩＩ） （式中、Ｒ１，、ｐ、は同−又は異なってもよい低級ア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、１？、
、 Ｒ，は隣接する窒素原子と共に異項環を形成しても
よい、） の化合物を４級アミン化する必要がある０例えば、式（
Ｖｌ）の化合物や式（Ｉ／ｌ ）のような化合物が必要
となるが、これらを得るためには、ヨウ化メチル又は硫
酸ジメチルと式（■）の化合物を反応させなければなら
ない。
する方法においては式（ＩＩ） （式中、Ｒ１，、ｐ、は同−又は異なってもよい低級ア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、１？、
、 Ｒ，は隣接する窒素原子と共に異項環を形成しても
よい、） の化合物を４級アミン化する必要がある０例えば、式（
Ｖｌ）の化合物や式（Ｉ／ｌ ）のような化合物が必要
となるが、これらを得るためには、ヨウ化メチル又は硫
酸ジメチルと式（■）の化合物を反応させなければなら
ない。
しかしながら、この方法では４級化する工程が必要とな
り経済的に有利とは言えないプロセスである。
り経済的に有利とは言えないプロセスである。
特に、式（Ｖｌ）や式（■）の化合物を用いる場合、メ
チル化剤であるヨウ化メチルや硫酸ジメチルは有毒であ
る為、製造時の保安面でも不利なプロセスである。
チル化剤であるヨウ化メチルや硫酸ジメチルは有毒であ
る為、製造時の保安面でも不利なプロセスである。
次に、前記の４−メチル−５−クロルメチルイミダゾー
ル及びシステアミンを出発原料とする方法も、同様な点
で不利である。なぜならば、４−メチル−５−クロルメ
チルイミダゾールの製造においては、４−メチルイミダ
ゾールとホルムアルデヒドを濃塩酸中で反応させる時に
、収率を上げるためには、常圧系、加圧系に拘らｒ、反
応系内に塩化水素ガスを導入させる必要があり、かつ反
応生成物から目的とする化合物の単離収率を上げるため
には、塩化水素含有の溶剤を必要とする等、煩雑な操作
を要するからである。
ル及びシステアミンを出発原料とする方法も、同様な点
で不利である。なぜならば、４−メチル−５−クロルメ
チルイミダゾールの製造においては、４−メチルイミダ
ゾールとホルムアルデヒドを濃塩酸中で反応させる時に
、収率を上げるためには、常圧系、加圧系に拘らｒ、反
応系内に塩化水素ガスを導入させる必要があり、かつ反
応生成物から目的とする化合物の単離収率を上げるため
には、塩化水素含有の溶剤を必要とする等、煩雑な操作
を要するからである。
一方、４−メチル−イミダゾールとシステアミンおよび
ホルムアルデヒドを用いる方法においては、反応溶媒が
塩酸であることに限定され、また反応を閉鎖された系の
加圧下で行うことが必要であり、かつ高温反応であるた
め工業化に際して高価な装置が必要となり、経済的に有
利ではない。
ホルムアルデヒドを用いる方法においては、反応溶媒が
塩酸であることに限定され、また反応を閉鎖された系の
加圧下で行うことが必要であり、かつ高温反応であるた
め工業化に際して高価な装置が必要となり、経済的に有
利ではない。
（課題を解決するための手段）
これまで、式（ＩＩ）の化合物を、４級アミン化するこ
となく、３級アミンのまま、式（［、）の化合物と反応
させて式（Ｉ［Ｉ）の化合物を得る合成法は報告されて
いなかった。
となく、３級アミンのまま、式（［、）の化合物と反応
させて式（Ｉ［Ｉ）の化合物を得る合成法は報告されて
いなかった。
本発明者等は、式（ＩＩ）の化合物を式（Ｉ）の化合物
と反応させたところ、驚くべきことに高い反応率で式（
、Ｉ［ｌ）の化合物が得られることを見出した。
と反応させたところ、驚くべきことに高い反応率で式（
、Ｉ［ｌ）の化合物が得られることを見出した。
これにより、式（Ｉ［）の化合物を４級アくン化するこ
となく式（Ｉ［ｌ）の化合物へ導くことが可能となった
。
となく式（Ｉ［ｌ）の化合物へ導くことが可能となった
。
すなわち、本発明は式（Ｉ）
％式％（Ｉ）
で表される化合物と式（ＩＩ）
（式中、Ｒ＋、Ｒｔは同−又は異なってもよい低級アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、Ｒ１，Ｒ
２は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、
） で表される化合物とを反応させることを特徴とする式（
ＩＩＩ） で表されるイミダシールール誘導体の製造法に関するも
のである。
キル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、Ｒ１，Ｒ
２は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、
） で表される化合物とを反応させることを特徴とする式（
ＩＩＩ） で表されるイミダシールール誘導体の製造法に関するも
のである。
本発明において、式（ＩＩ）の化合物は以下の方法にま
り台底できる。
り台底できる。
式（■）
に示す化合物とホルムアルデヒド及び式（ＩＸ）（式中
、Ｒ１％ Ｒ２は、同−又は異なってもよい低級アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、Ｒ１、Ｒ２
は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、） に示す化合物とを反応させることにより得ることが出来
る。
、Ｒ１％ Ｒ２は、同−又は異なってもよい低級アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、Ｒ１、Ｒ２
は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、） に示す化合物とを反応させることにより得ることが出来
る。
本発明において、式（ＩＩ）の化合物を弐（Ｉ）の化合
物１．０モルに対して０．９〜１．１ モルの比で反応
させる。
物１．０モルに対して０．９〜１．１ モルの比で反応
させる。
尚、式（Ｉ）及び式（Ｉｔ）の化合物は、フリー体を用
いても塩酸塩を用いてもよい。式（Ｉ）の化合物の塩酸
塩は市販品であり、容易に入手可能である。
いても塩酸塩を用いてもよい。式（Ｉ）の化合物の塩酸
塩は市販品であり、容易に入手可能である。
本発明の方法は、通常溶媒中で行うが、溶媒としてはメ
タノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類及び水又はそれらのｄ合溶媒が好ましい。
タノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類及び水又はそれらのｄ合溶媒が好ましい。
溶液のＰＨとしては、中性域又はアルカリ性域が望まし
い。
い。
式（Ｉ）及び／または式（ＩＩ）の化合物が塩酸塩の場
合には、アルカリ金属アルコキシド、苛性アルカリ等に
より反応液を中性又はアルカリ性に保つことが望ましい
。
合には、アルカリ金属アルコキシド、苛性アルカリ等に
より反応液を中性又はアルカリ性に保つことが望ましい
。
反応温度は一般には溶媒の還流温度までの任意の温度で
よいが、好ましくは、５０°Ｃ〜還流温度がよい。
よいが、好ましくは、５０°Ｃ〜還流温度がよい。
反応時間は、温度により異なるが、通常１〜３０時間で
あり、好ましくは窒素雰囲気下で反応を行うのが好まし
い。
あり、好ましくは窒素雰囲気下で反応を行うのが好まし
い。
本発明の方法の第一の利点は、式（Ｉｔ）で表わされる
化合物を４級化することなく、式（Ｉ）で表わされる化
合物と反応させ、式（Ｉｌｌ）に示すイミダゾール誘導
体を高い生成率で得ることが出来る点である。
化合物を４級化することなく、式（Ｉ）で表わされる化
合物と反応させ、式（Ｉｌｌ）に示すイミダゾール誘導
体を高い生成率で得ることが出来る点である。
第二の利点は、４−メチル−５−クロルメチルイミダヅ
ール及びシステアミンを出発原料とする方法に比べ、本
店は有毒な塩化水素ガスを使用しなくて済み、反応生成
物から目的とする化合物の単離も通常の方法で済む点で
ある。
ール及びシステアミンを出発原料とする方法に比べ、本
店は有毒な塩化水素ガスを使用しなくて済み、反応生成
物から目的とする化合物の単離も通常の方法で済む点で
ある。
第三の利点は、４−メチル−イミダゾールとシステアミ
ンおよびホルムアルデヒドを出発原料とする方法に比べ
、本店は常圧反応で済み工業化に際して、高価な装置を
必要しない点である。
ンおよびホルムアルデヒドを出発原料とする方法に比べ
、本店は常圧反応で済み工業化に際して、高価な装置を
必要しない点である。
以下に実施例をあげて、本発明を更に詳しく説明する。
実施例−１
反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩４５．１ｇ（０，
４０モル）及び水酸化ナトリウム８．０ ｇ （０，
２０モル）を水２００ｇにとかした。次に４−メチル５
−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアごツメチル）イミダゾール５５
．６ｇ（０，４０モル）を加え、還流下に７時間反応を
行った９反応後、反応液について液体クロマトグラフィ
ー分析を行ったところ、４−メチル５−（（２−アミノ
エチル）チオメチル〕イ２ダゾールの生成率は８７％で
あった。
４０モル）及び水酸化ナトリウム８．０ ｇ （０，
２０モル）を水２００ｇにとかした。次に４−メチル５
−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアごツメチル）イミダゾール５５
．６ｇ（０，４０モル）を加え、還流下に７時間反応を
行った９反応後、反応液について液体クロマトグラフィ
ー分析を行ったところ、４−メチル５−（（２−アミノ
エチル）チオメチル〕イ２ダゾールの生成率は８７％で
あった。
液体クロマト分析
液体クロマト 島津 ＬＣ−５Ａ
カラム Ｕｎｔｓｉｌ Ｑ−ＣＮ４．６ΦＸ２５
０ｍｍ 移動相 Ｃｌｌ３ＣＮ ：水：２０％アンモニア
水＝ ９５０１ｄ： ５０ｄ ： ２５ ｇ流ｉｔ
１ 、 Ｏｔｄ ／ｌ＊ ｉ ｎ検出
ＵＶ ２２８ｎａ 実施例−２ 反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩４５．２ ｇ（０
，４０モル）を水１８０ｇにとかした０次に４−メチル
−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）イミダゾール
ニ塩酸塩８４．６ｇ （０，４０モル）を加え、さら
に水酸化ナトリウム３２．０ｇ （０，８０モル）を
加えて還流下に１８時間反応を行った。
０ｍｍ 移動相 Ｃｌｌ３ＣＮ ：水：２０％アンモニア
水＝ ９５０１ｄ： ５０ｄ ： ２５ ｇ流ｉｔ
１ 、 Ｏｔｄ ／ｌ＊ ｉ ｎ検出
ＵＶ ２２８ｎａ 実施例−２ 反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩４５．２ ｇ（０
，４０モル）を水１８０ｇにとかした０次に４−メチル
−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）イミダゾール
ニ塩酸塩８４．６ｇ （０，４０モル）を加え、さら
に水酸化ナトリウム３２．０ｇ （０，８０モル）を
加えて還流下に１８時間反応を行った。
反応液について液体クロマトグラフィー分析を行ったと
ころ、４−メチル−５−（（２−アミノエチル）チオメ
チル〕イξダゾールの生成率は７５％であった。
ころ、４−メチル−５−（（２−アミノエチル）チオメ
チル〕イξダゾールの生成率は７５％であった。
実施例−３
反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩４５．２ｇ（０，
４０モル）及びナトリウムメトキシド（２８％メタノー
ル液）３８．６ｇ （０，２０モル）をメタノール２
００ｇにとかした。次に４−メチル−５−（Ｎ、Ｎジメ
チルアミノメチルノイミグゾール５５．６ｇ（０，４０
モル）を加え、還流下に１５時間反応を行った。
４０モル）及びナトリウムメトキシド（２８％メタノー
ル液）３８．６ｇ （０，２０モル）をメタノール２
００ｇにとかした。次に４−メチル−５−（Ｎ、Ｎジメ
チルアミノメチルノイミグゾール５５．６ｇ（０，４０
モル）を加え、還流下に１５時間反応を行った。
反応液について液体クロマトグラフィー分析を行ったと
ころ、４−メチル−５−〔（２−アミノエチル）チオメ
チルコイミダゾールの生成率は５８％であった。
ころ、４−メチル−５−〔（２−アミノエチル）チオメ
チルコイミダゾールの生成率は５８％であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）式（ I ） ＨＳＣＨ＿２ＣＨ＿２ＮＨ＿２（ I ） で表わされる化合物と式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は同一又は異なってもよい低級
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、Ｒ＿
１、Ｒ＿２は隣接する窒素原子と共に異項環を形成して
もよい。）で表される化合物とを反応させることを特徴
とする式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で表されるイミダゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1177023A JPH0344376A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | イミダゾール誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1177023A JPH0344376A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | イミダゾール誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344376A true JPH0344376A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16023806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1177023A Pending JPH0344376A (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | イミダゾール誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0344376A (ja) |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP1177023A patent/JPH0344376A/ja active Pending
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