JPH03294845A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material and a method for forming an ultra-high contrast negative image using the same, and in particular to a silver halide photograph used in a photolithography process. The present invention relates to ultra-high contrast negative type photographic materials suitable for photosensitive materials.
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。(Prior Art) In the field of photoengraving, in order to deal with the diversity and complexity of printed matter, there are demands for photosensitive materials with good original reproducibility, stable processing solutions, and easy replenishment.
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。−方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インキが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。Particularly in the line drawing process, manuscripts are created by pasting typesetting characters, handwritten characters, illustrations, halftone photographs, etc. Therefore, a document contains images of different densities and line widths, and there is a strong desire for a plate-making camera, a photosensitive material, or an image forming method that can finish these documents with good reproduction. On the other hand, enlarging (stretching) or reducing (shrinking) halftone photographs is widely used in plate making for catalogs and large posters. The point will be photographed. When reduced, the number of lines/ink is larger than that of the original, resulting in a photograph of a thinner point. Therefore, in order to maintain halftone reproducibility, an image forming method having a wider latitude is required.
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source for a plate-making camera. In order to obtain sensitivity to these light sources, photographic materials are usually orthosensitized. However, it has been discovered that ortho-sensitized photographic materials are more strongly affected by the chromatic aberration of lenses, and as a result, image quality tends to deteriorate. Moreover, this deterioration is more noticeable for xenon lamp light sources.
広いラチチュードの要望に応えるシステムとし7て塩臭
化銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハ
イドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非
画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒
化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られ
ている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低
いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、
液温性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなさ
れて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作
業効率を低下させているのが現状であった。As a system to meet the demands for a wide latitude, we developed a lithium-type silver halide photosensitive material made of silver chlorobromide (with a silver chloride content of at least 50% or more) with an extremely low effective concentration of sulfite ions (usually 0.1%). A method is known in which a line or halftone image with high contrast and high blackening density, in which image areas and non-image areas are clearly distinguished, is obtained by processing with a hydroquinone developer (mol/1 or less). However, with this method, the development is extremely unstable against air oxidation due to the low sulfite concentration in the developer.
Currently, various efforts and innovations have been made to keep the temperature of the liquid stable, and the processing speed is extremely slow, reducing work efficiency.
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224,401号、同
4,243゜739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するシステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。For this reason, the above development method (lith development system)
There is a need for an image forming system that eliminates the instability of image formation caused by the process, develops with a processing solution that has good storage stability, and obtains ultra-high contrast photographic characteristics, and one example of this is U.S. Pat. No. 4,168,977, No. 4
.. 221. No. 857, No. 4,224,401, No. 4,243゜739, No. 4,272,606, No. 4
, No. 311.781, a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material to which a specific acylhydrazine compound has been added is treated with a sulfite preservative of 0.15 mol/1 at pH 11.0 to 12.3. A system has been proposed for forming ultra-high contrast negative images with γ of over 10 by processing with a developer containing the above components and having good storage stability. This new image forming system has the feature that it can also use silver iodobromide and silver chloroiodobromide, whereas conventional ultra-high contrast image formation could only use silver chlorobromide, which has a high silver chloride content. There is.
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。The above image system has sharp halftone dot quality, processing stability,
Although it shows excellent performance in terms of speed and original reproducibility, a system with further improved original reproducibility is desired in order to deal with the variety of printed matter in recent years.
特開昭61−213847号、同64−72140号お
よびUS4,684,604号に酸化により写真有用基
を放出するレドックス化合物を含む感光材料が示され、
一方、塩臭化銀を用いた例は特開昭60−83028号
、同60−112034号、同62−235947号、
同63−103232号に示され、階調再現域を広げる
試みが示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体
を用いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化
合物は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すこ
とができなかった。JP-A-61-213847, JP-A No. 64-72140 and US Pat. No. 4,684,604 disclose photosensitive materials containing redox compounds that release photographically useful groups upon oxidation.
On the other hand, examples using silver chlorobromide include JP-A Nos. 60-83028, 60-112034, 62-235947,
No. 63-103232 discloses an attempt to widen the gradation reproduction range. However, in ultra-high contrast processing systems using hydrazine derivatives, these redox compounds have the disadvantage of inhibiting high contrast, and their properties cannot be utilized.
なかった。There wasn't.
(発明の目的)
従って本発明の目的は、第1に、安定性の高い現像液を
用いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供する
ことにある。(Objectives of the Invention) Therefore, the first object of the present invention is to provide a photosensitive material for plate making that can produce high-contrast images using a highly stable developer.
第2に、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料において、高品質の網点が得られ、かつ網階調
の広い製版用感光材料を提供することにある。A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine compound, which can provide high-quality halftone dots and has a wide halftone gradation.
第3に、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料において、黒ボッの発生のない製版用感光材料
を提供することにある。Thirdly, it is an object of the present invention to provide a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine compound, which is free from black spots.
(発明の構成)
本発明のこれらの目的は、支持体上に塩化銀含有率が少
なくとも50モル%のハロゲン化銀とヒドラジン誘導体
を含むハロゲン化銀乳剤層を少なくとも1層有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層
およびその他の親水性コロイド層の少なくとも1層に酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物と下記一般式(I)で表わされる化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。(Structure of the Invention) These objects of the present invention are to provide a silver halide photographic photosensitive material having at least one silver halide emulsion layer containing silver halide and a hydrazine derivative having a silver chloride content of at least 50 mol % on a support. In the material, at least one layer of the silver halide emulsion layer and other hydrophilic colloid layers contains a redox compound capable of releasing a development inhibitor upon oxidation and a compound represented by the following general formula (I). This was achieved using a silver halide photographic material characterized by the following.
一般式(I)
Z、及びZ、は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。General formula (I) Z and Z are each a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a benzoselenazole nucleus, a naphthoxazole nucleus, a naphthothiazole nucleus, a naphthoselenazole nucleus, a thiazole nucleus, a thiazoline nucleus, an oxazole nucleus, a selenazole nucleus, Represents a group of nonmetallic atoms necessary to complete a selenazoline nucleus, pyridine nucleus, benzimidazole nucleus, or quinoline nucleus.
R1及びR8は各々アルキル基またはアラルキル基を表
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又はl
を表わす。R1 and R8 each represent an alkyl group or an aralkyl group. X is a charge balance counterion and n is O or l
represents.
一般式(I)で表わされる実質的に可視域に吸収極大を
もたない化合物について説明する。The compound represented by the general formula (I) having substantially no absorption maximum in the visible region will be explained.
一般式(I)
Z、及び2.は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。General formula (I) Z, and 2. are benzoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, benzoselenazole nucleus, naphthoxazole nucleus, naphthothiazole nucleus, naphthoselenazole nucleus, thiazole nucleus, thiazoline nucleus, oxazole nucleus, selenazole nucleus, selenazoline nucleus, pyridine nucleus, benzimidazole nucleus, or Represents a group of nonmetallic atoms necessary to complete the quinoline nucleus.
R1及びR2は各々アルキル基またはアラルキル基を表
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又は1
を表わす。R1 and R2 each represent an alkyl group or an aralkyl group. X is a charge balance counterion and n is O or 1
represents.
ここで、一般式(I)がラジカル体となる場合には、好
ましくは、2..2.で示される原子群またはR1、R
2に示される基から水素原子が1個離脱したものであり
、特にR,、R2から水素原子が1個離脱したものが好
ましい。Here, when general formula (I) is a radical, preferably 2. .. 2. The atomic group represented by or R1, R
2 from which one hydrogen atom has been removed, and particularly preferred is one from which one hydrogen atom has been removed from R, R2.
また、一般式(I)において、置換基として酸化を有し
たもの(例えばR1、R9が酸基を有したアルキル基ま
たはアラルキル基)においては、それ自体が一般式(I
)で示される化合物となりうる。Furthermore, in the general formula (I), in those having oxidation as a substituent (for example, R1, R9 are alkyl groups or aralkyl groups having an acid group), the general formula (I) itself is
) can be a compound represented by
一般式(I)において、Zl及びZ、で形成される複素
環として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核
、チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好
ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、またはナフトオキサゾール核であり、最も好ましくは
、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核で
ある。一般式(I)において、Z、又はZ2で形成され
る複素環は少くとも一つの置換基で置換されティてモヨ
く、その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩
素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリ
フルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)、アリ
ール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のもの、
例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シアノ
基等を挙げる事ができる。In general formula (I), the heterocycle formed by Zl and Z is preferably a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a naphthoxazole nucleus, a naphthothiazole nucleus, a thiazole nucleus, or an oxazole nucleus, more preferably a benzoxazole nucleus, An oxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, or a naphthoxazole nucleus, most preferably a benzoxazole nucleus or a naphthoxazole nucleus. In the general formula (I), the heterocycle formed by Z or Z2 may be substituted with at least one substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine), Nitro group, alkyl group (preferably one with 1 to 4 carbon atoms, e.g. methyl group, ethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, phenethyl group), aryl group (e.g. phenyl group), alkoxy group (preferably one with carbon number 1 to 4, such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group), carboxyl group, alkoxycarbonyl group (preferably one having 2 to 5 carbon atoms,
Examples include ethoxycarbonyl group), hydroxy group, and cyano group.
一般式(I)でZl及びZ2に関し、ベンゾチアゾール
核としては、例えばベンゾチアゾール、5−クロロベン
ゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−メチ
ルベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5
−ヨードベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾ
ール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベ
ンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5
−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フルオロ
ベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチア
ゾール、5−トリフルオフメチルベンゾチアゾール、な
どを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト[1
,2−d)チアゾール、ナフトC1,2−d)チアゾー
ル、ナフト〔2゜3−d〕チアゾール、5−メトキシナ
フト[1゜2−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔
2゜3−d〕チアゾール、などを、ベンゾセレナゾール
核としては例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベ
ンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、
5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−
メチルベンゾセレナゾール、などを、ナフトセレナゾー
ル核としては例えば、ナフト[1,2−dlセレナゾー
ル、ナフト〔2゜1−d〕セレナゾールなどを、チアゾ
ール核としては例えば、チアゾール核、4−メチルチア
ゾール核、4−フェニルチアゾール核、4,5−ジメチ
ルチアゾール核、などを、チアゾリン核としては例えば
、チアゾリン核、4−メチルチアゾリン核などが挙げら
れる。Regarding Zl and Z2 in general formula (I), examples of the benzothiazole nucleus include benzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 5-nitrobenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-bromobenzothiazole, 5
-Iodobenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 5-methoxybenzothiazole, 6-methoxybenzothiazole, 5-carboxybenzothiazole, 5
Examples of the naphthothiazole nucleus include naphtho[1
, 2-d) Thiazole, NaphthoC1,2-d) Thiazole, Naphtho[2゜3-d]thiazole, 5-methoxynaphtho[1゜2-d]thiazole, 5-methoxynaphtho[
2゜3-d]thiazole, etc., and examples of the benzoselenazole nucleus include benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole,
5-hydroxybenzoselenazole, 5-chloro-6-
methylbenzoselenazole, etc.; examples of the naphthoselenazole nucleus include naphtho[1,2-dl selenazole, naphtho[2゜1-d]selenazole, etc.; examples of the thiazole nucleus include thiazole nucleus, 4-methylthiazole, etc. Examples of the thiazoline nucleus include a thiazoline nucleus, a 4-methylthiazoline nucleus, and the like.
一般式(1)において21及びZ2に関し、ベンゾオキ
サゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール核、5
−クロロベンゾオキサゾール核、5〜メチルベンゾオキ
サゾール核、5−ブロモベンゾオキサゾール核、5−フ
ルオロベンゾオキサゾール核、5−フェニルベンゾオキ
サゾール核、5−メトキシベンゾオキサゾール核、5−
エトキシベンゾオキサゾール核、5−トリフルオロメチ
ルベンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベンゾオキサ
ゾール核、5−カルボキシベンゾオキサゾ−ル核、6−
メチルベンゾオキサゾール核、6−クロロベンゾオキサ
ゾール核、6−メドキシベンゾオキサゾール核、6−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール核、5,6−シメチルベン
ゾオキサゾール核などを、ナフトオキサゾール核として
は例えば、ナフト(2,1−d)オキサゾール核、ナフ
ト(1,2−d)オキサゾール核、ナフト〔2,3d〕
オキサゾール核、5−メトキシナフト〔1゜2−d〕オ
キサゾール核、などを挙げる事ができる。Regarding 21 and Z2 in general formula (1), examples of the benzoxazole nucleus include benzoxazole nucleus, 5
-chlorobenzoxazole nucleus, 5-methylbenzoxazole nucleus, 5-bromobenzoxazole nucleus, 5-fluorobenzoxazole nucleus, 5-phenylbenzoxazole nucleus, 5-methoxybenzoxazole nucleus, 5-
Ethoxybenzoxazole nucleus, 5-trifluoromethylbenzoxazole nucleus, 5-hydroxybenzoxazole nucleus, 5-carboxybenzoxazole nucleus, 6-
Examples of the naphthoxazole nucleus include naphtho(2, 1-d) Oxazole nucleus, naphtho(1,2-d) oxazole nucleus, naphtho[2,3d]
Examples include oxazole nucleus, 5-methoxynaphtho[1°2-d]oxazole nucleus, and the like.
更にZ、及びZ2に関し、オキサゾール核としては例え
ば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、4−
フェニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾール核
、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フェニルオキ
サゾール核又は4−メトキシオキサゾール核などを、ピ
リジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピリジン
核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−4−ピ
リジン核などを、又キノリン核としては例えば、2−キ
ノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キノリン
核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メドキシー2−キノリン核、8−クロ
ロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン核、な
どを挙げる事ができる。Furthermore, regarding Z and Z2, examples of the oxazole nucleus include oxazole nucleus, 4-methyloxazole nucleus, 4-
Phenyloxazole nucleus, 4-methoxyoxazole nucleus, 4,5-dimethyloxazole nucleus, 5-phenyloxazole nucleus or 4-methoxyoxazole nucleus, etc., and examples of pyridine nucleus include 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 5-methyl -2-pyridine nucleus, 3-methyl-4-pyridine nucleus, etc., and quinoline nucleus such as 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 3-methyl-2-quinoline nucleus, 5-ethyl-2-quinoline nucleus, 8-fluoro-2-
Examples include quinoline nucleus, 6-medoxy-2-quinoline nucleus, 8-chloro-4-quinoline nucleus, and 8-methyl-4-quinoline nucleus.
一般式(I)において、R,及びR2で表わされるアル
キル基は無置換及び置換アルキル基を含み、無置換アル
キル基としては、炭素原子の数が18以下、特に8以下
が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクタデシル
基などがあげられる。また、置換アルキル基としては、
アルキル部分の炭素数原子の数が6以下のものが好まし
く、特に炭素原子の数が4以下のものが好ましく、例え
ば、スルホ基で置換されたアルキル基(スルホ基はアル
コキシ基やアリール基等を介して結合していてもよい。In the general formula (I), the alkyl groups represented by R and R2 include unsubstituted and substituted alkyl groups, and the unsubstituted alkyl group preferably has 18 or less carbon atoms, particularly 8 or less carbon atoms, such as a methyl group. , ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-octadecyl group, etc. In addition, as substituted alkyl groups,
The alkyl moiety preferably has 6 or less carbon atoms, particularly preferably 4 or less carbon atoms. They may be coupled via
例えば2−スルホエチル基、3−スルホブロビル基、3
−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2−(3−ス
ルホプロポキシ)エチル基、2− C2−(3−スルホ
プロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−ヒドロキシ−3
−スルホプロピル基、p−スルホフェネチル基、p−ス
ルホフェニルプロピル基など)カルボキシ基で置換され
たアルキル基(カルボキシ基はアルコキシ基やアリール
基等を介して結合していてもよい。For example, 2-sulfoethyl group, 3-sulfobrovir group, 3
-Sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2-(3-sulfopropoxy)ethyl group, 2-C2-(3-sulfopropoxy)ethoxy]ethyl group, 2-hydroxy-3
-sulfopropyl group, p-sulfophenethyl group, p-sulfophenylpropyl group, etc.) an alkyl group substituted with a carboxy group (the carboxy group may be bonded via an alkoxy group, an aryl group, etc.);
例えば、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基
、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基
、など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロ
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、ア
シロキシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基
、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキ
ル基(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロ
ピル基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例
えば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシ
カルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル基
)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基など
)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイル
エチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2−
フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基など)
、アラルキル基(例えば2−フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基(例
えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル
基など)などがあげられる。For example, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, etc.), hydroxyalkyl group (e.g. 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), acyloxy Alkyl groups (e.g., 2-acetoxyethyl group, 3-acetoxypropyl group, etc.), alkoxyalkyl groups (e.g., 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, etc.), alkoxycarbonylalkyl groups (e.g., 2-methoxycarbonyl group, etc.) ethyl group, 3-methoxycarbonylpropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc.), vinyl group-substituted alkyl group (e.g. allyl group), cyanoalkyl group (e.g. 2-cyanoethyl group, etc.), carbamoyl alkyl group (e.g. 2-cyanoethyl group, etc.) carbamoylethyl group), aryloxyalkyl group (e.g. 2-
phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.)
, an aralkyl group (eg, 2-phenethyl group, 3-phenylpropyl group, etc.), or an aryloxyalkyl group (eg, 2-phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.).
R,、R,で示される置換基としては、特に、少なくと
も一方がスルホ基もしくはカルボキシル基を有したアル
キル基であることが好ましい。As the substituents represented by R, R, it is particularly preferable that at least one of them is an alkyl group having a sulfo group or a carboxyl group.
電荷バランス対イオンXは、複素環中の四級アンモニウ
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであり、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場合n
は1である。Charge balance counter ion , ethylsulfonate ion, perchlorate ion, trifluoromethanesulfonate ion, thiocyanate ion, etc. In this case n
is 1.
複素環四級アンモニウム塩がさらにスルホアルキル置換
基のような陰イオン置換基を含む場合は、塩はベタイン
の形をとることができ、その場合には対イオンは必要な
く、nは0である。複素環四級アンモニウム塩が2個の
陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル基を有
する場合には、X4は陰イオン性対イオンであり、例え
ばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウムイ
オンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアンモニウム
など)などがあげられる。If the heterocyclic quaternary ammonium salt further contains an anionic substituent such as a sulfoalkyl substituent, the salt can be in the form of a betaine, in which case no counterion is required and n is 0. . When the heterocyclic quaternary ammonium salt has two anionic substituents, e.g. two sulfoalkyl groups, X4 is an anionic counterion, e.g. an alkali metal ion (sodium ion, potassium ion, etc.) and ammonium salts (triethylammonium, etc.).
ここで、[実質的に可視光域に吸収極大を持たない」化
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。Here, the term "compound that does not substantially have an absorption maximum in the visible light region" refers to a compound that has a color tone that is below a level that does not cause any practical problems in residual color on photographic light-sensitive materials. It is a compound whose residual color is below a level that poses no practical problem.
好ましくは、上記化合物のメタノール中での吸収極大が
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下
のものである。Preferably, the above compound has an absorption maximum in methanol of 460 nm or less, more preferably 430 nm or less.
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。Specific examples of the compound represented by general formula (I) are shown below.
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。However, the present invention is not limited to the following compounds.
−1
−2
−3
(CH2)s (CH2)sS03)1
−N(C2Ha)3 5Ose−4
−7−
−8
−6−
■−11
1−16
■−17
■−18
■−13
■−14
2H5
(CH2)。-1 -2 -3 (CH2)s (CH2)sS03)1
-N(C2Ha)3 5Ose-4 -7- -8 -6- ■-11 1-16 ■-17 ■-18 ■-13 ■-14 2H5 (CH2).
Son” −15 ose −19 ■−20 (CH2)3 (CH2)。“Son” -15 ose -19 ■-20 (CH2)3 (CH2).
5O3H−N(CzHs )3
S03θ
■
■
CO□H
O3e
l−22
■−25
Js
■−23
■−24
C,R5
(CHz)s
03
■−26
2H5
、bu3Na
so、”’
本発明の一般式(I)で表わされる化合物の含有量はハ
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
層の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の
量を選択することが望ましく、その選択のための試験の
方法は当業者のよく知るところである。通常は好ましく
はハロゲン化銀1モル当り10−6モルないしlXl0
−”モル、特に10−’ないし5X10−”モルの範囲
で用いられる。5O3H-N(CzHs)3 S03θ ■ ■ CO□H O3e l-22 ■-25 Js ■-23 ■-24 C,R5 (CHz)s 03 ■-26 2H5 , bu3Na so, "' General formula of the present invention The content of the compound represented by (I) is determined by the grain size of the silver halide emulsion, the halogen composition, the method and degree of chemical sensitization, the relationship between the layer containing the compound and the silver halide emulsion layer, and the type of antifogging compound. It is desirable to select the optimum amount depending on the amount of silver halide, etc., and testing methods for the selection are well known to those skilled in the art.
-" mol, especially in the range of 10-" to 5X10-" mol.
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物について説明する。The redox compound of the present invention that can release a development inhibitor when oxidized will be explained.
レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロキ
ノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ましく
、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, and reductones, and more preferably hydrazines.
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ま
しくは以下の一般式(II−1)、一般式(■−2)、
一般式(If−3)で表わされる。一般式(II−1)
で表わされる化合物が特に好ましい。The hydrazines used as the redox compound capable of releasing a development inhibitor upon oxidation of the present invention are preferably the following general formula (II-1), general formula (■-2),
It is represented by general formula (If-3). General formula (II-1)
Particularly preferred are compounds represented by:
一般式(II−1)
Rs−N−N−G+−(T ime)、−PUGI A
t
一般式(II−2)
一般式(II−3)
これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基−〇−基
、−C−基、
S〇−基、−5O2−基
11
または−P−基を表わす。G、は単なる結合手、G、−
R。General formula (II-1) Rs-N-N-G+-(Time), -PUGI A
t General formula (II-2) General formula (II-3) In these formulas, R1 is an aliphatic group or an aromatic group -〇- group, -C- group, S〇- group, -5O2- group 11 or -P- group. G is just a bond, G, -
R.
−O−−S−または−N−を表わし、R4は2 水素原子またはR3を表わす。-O--S- or -N-, R4 is 2 Represents a hydrogen atom or R3.
A1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基またはアシル基を表わし置換されていて
も良い。一般式(II−1)ではAA!の少なくとも一
方は水素原子である。A、はA1と同義または−CHz
CH+T 1me)l PUGA。A1 and A2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and may be substituted. In general formula (II-1), AA! At least one of them is a hydrogen atom. A is synonymous with A1 or -CHz
CH+T 1me)l PUGA.
を表わす。represents.
A4はニトロ基、シアン基、カルボキシル基、スルホ基
または−G1 G2 Rsを表わす。A4 represents a nitro group, a cyan group, a carboxyl group, a sulfo group or -G1 G2 Rs.
Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG stands for development inhibitor.
一般式(II−1)、(II−2)、(IT−3)につ
いてさらに詳細に説明する。General formulas (II-1), (II-2), and (IT-3) will be explained in more detail.
一般式(■〜I)、(II−2)、(II−3)におい
て、R1で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜3
0のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基である。In general formulas (■ to I), (II-2), and (II-3), the aliphatic group represented by R1 preferably has 1 to 3 carbon atoms.
In particular, it is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
このアルキル基は置換基を有していてもよい。This alkyl group may have a substituent.
一般式(II−1)、(II−2)、(II−3)にお
いてRIで表される芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。The aromatic group represented by RI in general formulas (II-1), (II-2), and (II-3) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group.
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリ
ン環、イソキノリン環等があるかなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。Examples include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, etc. Among these, those containing a benzene ring are preferred.
R8として特に好ましいものはアリール基である。Particularly preferred as R8 is an aryl group.
R3のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基とし
ては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素
数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1
〜30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルア
ミノ基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スル
ホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)
、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、
リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)な
どである。The aryl group or unsaturated heterocyclic group of R3 may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, Ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group,
Examples include carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, etc. Preferred substituents include linear, branched or cyclic alkyl group (preferably one having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl group (preferably has 7 to 30 carbon atoms), alkoxy group (preferably has 1 to 30 carbon atoms), substituted amino group (preferably has 1 to 30 carbon atoms)
~30 alkyl group substituted), acylamino group (preferably having 2 to 40 carbon atoms), sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms)
, a ureido group (preferably one having 1 to 40 carbon atoms,
Examples include phosphoric acid amide groups (preferably those having 1 to 40 carbon atoms).
一般式(II−1)、(If−2)、(II−3)と0
011
1
しては−C−基、−SO,−基が好ましく、−C基が最
も好ましい。General formulas (II-1), (If-2), (II-3) and 0
011
1 is preferably a -C- group or a -SO,- group, with a -C group being most preferred.
AI、A、としては水素原子が好ましく、A。AI and A are preferably hydrogen atoms;
としては水素原子、−CH2−CH(−Time−)−
、PUGA4
が好ましい。is a hydrogen atom, -CH2-CH(-Time-)-
, PUGA4 are preferred.
一般式(■〜1)、(II−2)、(II−3)におい
てTimeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機
能を有していてもよい。In the general formulas (■ to 1), (II-2), and (II-3), Time represents a divalent linking group and may have a timing adjustment function.
Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸
化体から放出されるTime−PUGから一段階あるい
は、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。The divalent linking group represented by Time represents a group that releases PUG from Time-PUG released from the oxidized product of the redox mother nucleus through one or more reaction steps.
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特許第4,248,962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分
子内開環反応によってPUGを放出するもの、米国特許
第4. 310. 612号(特開昭55−53,33
0号)および同4゜358.525号等に記載の環開裂
後の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米
国特許第4.330,617号、同4,446,216
号、同4,483,919号、特開昭59−121.3
28号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁
体のカルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の
生成を伴って、PU、Gを放出するもの;米国特許第4
,409,323号、同4.421.845号、リサー
チ・ディスクロージャー誌Nα21,228 (198
1年12月)、米国特許第4,416,977号(特開
昭57−135.944号)、特開昭58−209,7
36号、同58−209,738号等に記載のアリール
オキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した二重結合を
介した電子移動によりキノモノメタン、またはその類縁
体を生成してPUGを放出するもの;米国特許第4,4
20.554号(特開昭57−136,640号)、特
開昭57−135゜945号、同57−188,035
号、同58−98.728号および同58−209,7
37号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構造を有す
る部分の電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放
出するもの;特開昭57−56,837号に記載の含窒
素へテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子
移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応によりP
UGを放出するもの;米国特許第4.146.396号
(特開昭52−90932号)、特開昭59−93,4
42号、特開昭59−75475号、特開昭60−24
9148号、特開昭60−249149号等に記載のア
ルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開
昭51−146,828号、同57−179.842号
、同59−104,641号に記載のカルボキシル基の
脱炭酸を伴ってPUGを放出するもの、−0−COOC
R,Rb−PUG(R,、R,は−価の基を表わす。)
の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を
伴ってPUGを放出するもの;特開昭60−7.429
号に記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出
するもの;米国特許第4,438.1!]3号等に記載
のカラー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりP
UGを放出するものなどを挙げることかできる。As the divalent linking group represented by Time, for example, U.S. Pat.
No. 135), etc., which releases PUG through an intramolecular ring-opening reaction of p-nitrophenoxy derivatives, and US Pat. No. 4. 310. No. 612 (Unexamined Japanese Patent Publication No. 55-53, 33
U.S. Pat. No. 4,330,617 and U.S. Pat. No. 4,446,216, which release PUG through an intramolecular ring-closing reaction after ring cleavage as described in U.S. Pat.
No. 4,483,919, JP-A-59-121.3
Those that release PU and G along with the production of acid anhydride through the intramolecular ring-closing reaction of the carboxyl group of the succinic acid monoester or its analog described in No. 28, etc.; U.S. Patent No. 4
, No. 409, 323, No. 4.421.845, Research Disclosure Magazine Nα21, 228 (198
(December 1997), U.S. Patent No. 4,416,977 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 135.944/1982), Japanese Unexamined Patent Publication No. 209/7/1983
No. 36, No. 58-209,738, etc., which generates quinomonomethane or its analogs by electron transfer via a double bond conjugated with an aryloxy group or a heterocyclic oxy group and releases PUG. ; U.S. Patent No. 4,4
20.554 (Japanese Patent Publication No. 57-136,640), JP-A No. 57-135゜945, JP-A No. 57-188,035
No. 58-98.728 and No. 58-209,7
A nitrogen-containing heterocycle which releases PUG from the γ-position of the enamine by electron transfer of the moiety having an enamine structure in the nitrogen-containing heterocycle described in No. 37, etc.; P is formed by an intramolecular ring-closing reaction of an oxy group generated by electron transfer to a carbonyl group conjugated with a nitrogen atom.
Those that release UG; U.S. Patent No. 4.146.396 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-90932), JP-A-59-93-4
No. 42, JP-A-59-75475, JP-A-60-24
9148, JP-A-60-249149, etc., which release PUG with the production of aldehydes; JP-A-51-146,828, JP-A-57-179.842, JP-A-59-104, 641, which releases PUG with decarboxylation of carboxyl groups, -0-COOC
R, Rb-PUG (R,, R, represents a -valent group.)
has the structure and releases PUG with decarboxylation and subsequent generation of aldehydes; JP-A-60-7-429
which releases PUG with formation of isocyanates as described in US Pat. No. 4,438.1! ] P by the coupling reaction with the oxidized product of the color developer described in No. 3 etc.
We can list things that emit UG.
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例に
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されている。For specific examples of these divalent linking groups represented by Time, see JP-A No. 61-236,549 and Japanese Patent Application No. 63-Sho.
It is also described in detail in No. 98,803.
PUGは(Time−)−+PUGまたはPUGとして
現像抑制効果を有する基を表わす。PUG represents (Time-)-+PUG or a group having a development inhibiting effect as PUG.
PUGまたは(T im e ++ P U Gで表わ
される現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介
して結合している公知の現像抑制剤であり、これらはた
とえばシー・イー・チー・ミース(C,E。The development inhibitor represented by PUG or (T im e ++ PU G is a known development inhibitor having a heteroatom and bonded via a heteroatom, such as those described by C.E.C. Mies (C, E.
K、 Mees )及びチー・エッチ・ジェームズ(T
、H。K., Mees) and Chi. H. James (T.
,H.
James)著[ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラ
フィック・プロセス(The Theory of t
he Photo−graphic Processe
s)J第3版、1966マクミラン(IJa(mill
an)社刊、344頁〜346頁などに記載されている
。James) [The Theory of the Photographic Process]
he Photo-graphic Processe
s) J 3rd edition, 1966 Macmillan (IJa(mill)
an) published by Sha, pages 344 to 346.
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
。置換基の例としては例えばR3の置換基として列挙し
たものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていて
もよい。The development inhibitor represented by PUG may be substituted. Examples of substituents include those listed as substituents for R3, and these groups may be further substituted.
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。Preferred substituents include a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a phosphono group, a phosphinico group, and a sulfonamide group.
また一般式(I[−1)、(II−2)、(I[−3)
において、R1または+Time−)−、PUGは、そ
の中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用さ
れているバラスト基や一般式(II−1)、(II−2
) (II−3)で表わされる化合物がハロゲン化
銀に吸着することを促進する基が組み込まれていてもよ
い。Also, general formulas (I[-1), (II-2), (I[-3)
In , R1 or +Time-)-, PUG contains a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers, general formulas (II-1), (II-2
) A group that promotes adsorption of the compound represented by (II-3) to silver halide may be incorporated.
バラスト基は一般式(II−1)、(II−2)、(I
I−3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理
液中へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与え
る有機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基
、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基
、ウレタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合
せからなるものである。バラスト基として好ましくは置
換ベンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状ア
ルキル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が
好ましい。The ballast group has general formulas (II-1), (II-2), (I
An organic group that provides a sufficient molecular weight to substantially prevent the compound represented by I-3 from diffusing into other layers or processing liquids, and includes alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, ether groups, and thioethers. group, an amide group, a ureido group, a urethane group, a sulfonamide group, etc. The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, particularly a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−)リ
アゾリン−3−チオン、1. 3. 4−オキサゾリン
−2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベン
ズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−
チオン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−
チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、
脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メ
ルカプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素原
子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミ
ド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したもの
と同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベン
ゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダ
ゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチ
アゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾー
ル、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オ
キサチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒
素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5貝ないし6
員の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムの
ような複素環四級塩などが挙げられる。Specifically, the adsorption promoting group to silver halide is 4-
Thiazoline-2-thione, 4-imidacyline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbital acid, tetrazoline-5-thione, 1,2.4-) liazoline-3-thione, 1. 3. 4-oxazoline-2-thione, benzimidacilline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-
Thione, thiotriazine, 1,3-imidacyline-2-
Cyclic thioamide group such as thione, chain thioamide group,
Aliphatic mercapto group, aromatic mercapto group, heterocyclic mercapto group (if the carbon atom to which the -3H group is bonded is a nitrogen atom, it has the same meaning as a cyclic thioamide group that has a tautomeric relationship with this group, Specific examples of groups are the same as those listed above), groups having a disulfide bond, benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, thiazoline, benzoxazole, oxazole, oxazoline , thiadiazole, oxathiazole, triazine, azaindene, etc., consisting of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon.
Examples thereof include a nitrogen-containing heterocyclic group having a member, and a quaternary heterocyclic salt such as benzimidazolinium.
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。These may be further substituted with a suitable substituent.
置換基としては、例えばR1の置換基として述べたもの
が挙げられる。Examples of the substituent include those described as the substituent for R1.
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。Specific examples of compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
I−1
−5
1−6
−3
−7
ll−9
■
■
2
■
7
■
9
■−20
■
4
■
5
−2 1
■
2
■
3
NO7
NO!
■
24
■−25
■−29
■
1
NO9
■−26
Hs
■−27
■−28
■−32
■−33
SU、Na
■
34
CaH+s
■−35
■−36
本発明に用いられるレドックス化合物としては上記のも
のの他に、例えば特開昭61−213゜847号、同6
2−260,153号、特願平1102.393号、同
1−102.394号、同1−102,395号、同1
,114,455号に記載されたものを用いることがで
きる。I-1 -5 1-6 -3 -7 ll-9 ■ ■ 2 ■ 7 ■ 9 ■-20 ■ 4 ■ 5 -2 1 ■ 2 ■ 3 NO7 NO! ■ 24 ■-25 ■-29 ■ 1 NO9 ■-26 Hs ■-27 ■-28 ■-32 ■-33 SU, Na ■ 34 CaH+s ■-35 ■-36 The redox compounds used in the present invention include the above. In addition to the
No. 2-260,153, Japanese Patent Application No. 1102.393, No. 1-102.394, No. 1-102,395, No. 1
, 114,455 can be used.
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
特開昭61−213,847号、同62260.153
号、米国特許第4. 684. 604号、特願昭63
−98,803号、米国特許第3,379.529号、
同3,620,746号、同4,377.634号、同
4.332.878号、特開昭49−129,536号
、同56−153,336号、同56−153,342
号などに記載されている。The method for synthesizing the redox compound used in the present invention is, for example, JP-A-61-213,847, JP-A No. 62260.153.
No. 4, U.S. Pat. 684. No. 604, patent application 1986
-98,803, U.S. Patent No. 3,379.529,
No. 3,620,746, No. 4,377.634, No. 4.332.878, JP-A-49-129,536, No. 56-153,336, No. 56-153,342
It is written in the number etc.
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあた
りlXl0−’〜5X10−”モル、より好ましくはl
Xl0−’〜lXl0−”モルの範囲内で用いられる。The redox compound of the present invention is preferably 1X10-' to 5X10-' mol per mole of silver halide, more preferably 1
It is used within the molar range of Xl0-' to lXl0-''.
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができる。The redox compound of the present invention can be used in a suitable water-miscible organic solvent, such as alcohols (methanol, ethanol, propatool, fluorinated alcohols), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. It can be used by dissolving it in
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いる
こともできる。In addition, by the well-known emulsification and dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate, or diethyl phthalate can be dissolved using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and then mechanically emulsified and dispersed. You can also create and use things.
あるいは固体分散法として知られている方法によって、
レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイ
ドミル、あるいは超音波によって分散して用いることも
できる。Alternatively, by a method known as solid dispersion method,
The powder of the redox compound can also be dispersed in water using a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave.
本発明のレドックス化合物を含む層は、ヒドラジン造核
剤を含む感光性乳剤層の上層、または下層に設けられる
。本発明のレドックス化合物を含む層はさらに感光性も
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい。A layer containing the redox compound of the present invention is provided above or below a photosensitive emulsion layer containing a hydrazine nucleating agent. The layer containing the redox compound of the present invention may further contain photosensitive or non-photosensitive silver halide emulsion grains.
本発明のレドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。An intermediate layer containing gelatin or a synthetic polymer (polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, etc.) may be provided between the layer containing the redox compound of the present invention and the photosensitive emulsion layer containing the hydrazine nucleating agent.
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
II[)によって表わされる化合物が好まし。The hydrazine derivative used in the present invention has the following general formula (
Preference is given to compounds represented by II[).
い。stomach.
一般式(III) R,−N−N−V−R。General formula (III) R, -N-N-V-R.
I Bz
式中、R5は脂肪族基または芳香族基を表わし、R6は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基またはヒ1
ドラジノ基を表わし、■は一〇−基、−SO。I Bz In the formula, R5 represents an aliphatic group or an aromatic group, R6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group, and ■ represents a 10- group, -SO.
7
カルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、B1、B
2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアシル基を表わす。7 represents a carbonyl group or iminomethylene group, B1, B
Both 2 represent a hydrogen atom, or one of them is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
一般式(■)において、R6で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。この
アルキル基は置換基を有していてもよい。In the general formula (■), the aliphatic group represented by R6 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly 1 to 30 carbon atoms.
20 straight chain, branched or cyclic alkyl groups. This alkyl group may have a substituent.
一般式(II[)においてR,で表される芳香族基は単
環または2環の了り−ル基または不飽和へテロ環基であ
る。ここで不飽和へテロ環基はアリール基と縮環してい
てもよい。In the general formula (II[), the aromatic group represented by R is a monocyclic or bicyclic ring group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be fused with an aryl group.
R6として好ましいものはアリール基であり、特に好ま
しくはベンゼン環を含むものである。Preferred as R6 is an aryl group, particularly preferably one containing a benzene ring.
R6の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよく
、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ア
リール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、ス
ルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミドR5
ましい置換基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜2
0のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン
酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などで
ある。The aliphatic group or aromatic group of R6 may be substituted, and typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, a ureido group, Urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group,
Alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide R5 Preferred substituents are alkyl groups (preferably carbon atoms
~20 carbon atoms), aralkyl groups (preferably 7~20 carbon atoms),
30), alkoxy group (preferably 1 to 2 carbon atoms)
0), substituted amino groups (preferably 1 to 20 carbon atoms), substituted amino groups (preferably 1-20 carbon atoms)
(an amino group substituted with an alkyl group), an acylamino group (preferably one having 2 to 30 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably one having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably one having 1 carbon number) 30), a phosphoric acid amide group (preferably one having 1 to 30 carbon atoms), and the like.
一般式(III)においてR6で表わされるアルキル基
としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり
、アリール基としては単環または2環のアリール基が好
ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。The alkyl group represented by R6 in general formula (III) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group (for example, one containing a benzene ring). .
1
■が−C−基の場合、R6が表わされる基のうち好まし
いものは水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、ト
リフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−
メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニル
メチル基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒドロキ
シベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基
、3,5−ジクロロフェニル基、0−メタンスルホンア
ミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2
−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に
水素原子が好ましい。When 1 (2) is a -C- group, preferred among the groups represented by R6 are a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 3-
(methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (e.g., 0-hydroxybenzyl group, etc.), aryl group (e.g., phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 0-methanesulfonamidophenyl group, 4 -methanesulfonylphenyl group, 2
-hydroxymethylphenyl group, etc.), and a hydrogen atom is particularly preferred.
R6は置換されていても良く、置換基としては、R6に
関して列挙した置換基が適用できる。R6 may be substituted, and as the substituent, the substituents listed for R6 can be applied.
1
一般式(III)のVとしては−C−基が最も好ましい
。1 V in general formula (III) is most preferably a -C- group.
又、R6はV Rsの部分を残余分子から分裂させ、
−V−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、その例とし
ては例えば特開昭63−29751号などに記載のもの
が挙げられる。Also, R6 splits the VRs part from the remaining molecules,
-VR, may be one that causes a cyclization reaction to produce a cyclic structure containing an atom of the moiety; examples thereof include those described in JP-A No. 63-29751, etc. It will be done.
B1、B2としては水素原子が最も好ましい。Hydrogen atoms are most preferred as B1 and B2.
一般式(III)のR6またはR@はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。R6 or R@ in the general formula (III) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein.
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。The ballast group is a group having 8 or more carbon atoms and is relatively inert to photography, such as an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group,
It can be selected from alkylphenoxy groups, etc.
またポリマーとしては例えば特開平1−100530号
に記載のものが挙げられる。Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
一般式(III)のR5またはR6はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4゜385.108号、同4,4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201.045号、同
59−201.046号、同59−201.047号、
同59−201,048号、同59−201,049号
、特開昭61−170,733号、同61−270,7
44号、同62−948号、特願昭62−67.508
号、同62−67.501号、同62−67.510号
に記載された基があげられる。R5 or R6 in general formula (III) may have a group incorporated therein to enhance adsorption to the silver halide grain surface. Such adsorption groups include thiourea group,
U.S. Pat. No. 4,385.108, U.S. Pat.
No. 59,347, JP-A No. 59-195,233, No. 5
9-200゜231, 59-201.045, 59-201.046, 59-201.047,
No. 59-201,048, No. 59-201,049, JP-A-61-170,733, No. 61-270,7
No. 44, No. 62-948, Patent Application No. 62-67.508
No. 62-67.501 and No. 62-67.510.
一般式(III)で示される化合物の具体例を以下に示
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。Specific examples of the compound represented by general formula (III) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
ll−1
−2
I[I−3
ll−5
■−1
■−12
−8
ll−13
■−14
■−10
IJしaH
■−15
■−16
I4
−N
■−22
■−23
■−24
■−18
ll−19
■
0
■−25
■−26
曲
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
,108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4.478.928号、英国特許2,01
1,391B、特開昭60−179734号、同62−
270,948号、同63−29,751号、同61−
170゜733号、同61−270.74.4号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS 4
゜686.167号、特開昭62−178,246号、
同63−32,538号、同63−104゜047号、
同63−121,838号、同63−129.337号
、同63−223,744号、同63−234,244
号、同63−234,245号、同63−234,24
6号、同63−294.552号、同63−306,4
38号、特開平1−100,530号、同1. 105
. 941号、同1−105,943号、特開昭64−
1O,233号、特開平1−90,439号、特願昭6
3−105,682号、同63−114,118号、同
63−110.051号、同63−114.119号、
同63−116,239号、同63−147,339号
、同63−179,760号、同63−229,163
号、特願平1−18.377号、同1−18.378号
、同1−18.379号、同1−15,755号、同1
−16.814号、同1−40,792号、同1−42
.615号、同1−42,616号、同1−123.6
93号、同1−126.284号に記載されたものを用
いることができる。ll-1 -2 I[I-3 ll-5 ■-1 ■-12 -8 ll-13 ■-14 ■-10 IJ ShiaH ■-15 ■-16 I4 -N ■-22 ■-23 ■- 24 ■-18 ll-19 ■ 0 ■-25 ■-26 Song In addition to the above-mentioned hydrazine derivatives used in the present invention, RESEARCH DISCLOSURE
Item23516 (November 1983 issue, P, 34
6) and the documents cited therein, as well as U.S. Pat.
No. 80.207, No. 4,269,929, No. 4.27
No. 6.364, No. 4,278,748, No. 4,385
, No. 108, No. 4,459,347, No. 4,560,
No. 638, No. 4.478.928, British Patent No. 2,01
1,391B, JP-A-60-179734, JP-A No. 62-
No. 270,948, No. 63-29,751, No. 61-
170゜733, 61-270.74.4, 6
No. 2-948, EP 217,310, or US 4
゜686.167, JP 62-178,246,
No. 63-32,538, No. 63-104゜047,
No. 63-121,838, No. 63-129.337, No. 63-223,744, No. 63-234,244
No. 63-234,245, No. 63-234,24
No. 6, No. 63-294.552, No. 63-306, 4
No. 38, JP-A No. 1-100,530, 1. 105
.. No. 941, No. 1-105,943, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1983-
No. 1O,233, Japanese Patent Application Publication No. 1-90,439, Patent Application No. 1989
No. 3-105,682, No. 63-114,118, No. 63-110.051, No. 63-114.119,
No. 63-116,239, No. 63-147,339, No. 63-179,760, No. 63-229,163
No., Japanese Patent Application No. 1-18.377, No. 1-18.378, No. 1-18.379, No. 1-15,755, No. 1
-16.814, 1-40,792, 1-42
.. No. 615, No. 1-42, 616, No. 1-123.6
93 and No. 1-126.284 can be used.
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モルあたりlXl0−@モルないし5XIO
−’モル含有されるのが好ましく、特にlXl0−’モ
ルないし2X10−”モルの範囲が好ましい添加量であ
る。The amount of the hydrazine derivative added in the present invention ranges from lXl0-@mol to 5XIO per mole of silver halide.
-' mol is preferable, and the addition amount is particularly preferably in the range of 1X10-' mol to 2X10-'' mol.
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、塩臭
化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀のいずれでもよいが、少な
くとも50モル%が塩化銀から成るものである。なかで
も少な(とも70モル%が塩化銀から成るものが好まし
い。沃化銀含有率は3モル%以下、より好ましくは、0
.5モル%以下である。The silver halide emulsion used in the present invention may be any one of silver chloride, silver chlorobromide, silver iodochloride, and silver iodochlorobromide, but at least 50 mol % of the emulsion is composed of silver chloride. Among these, those containing a small amount (70 mol% of silver chloride) are preferable.The silver iodide content is 3 mol% or less, more preferably 0.
.. It is 5 mol% or less.
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。The average grain size of the silver halide used in the present invention is preferably fine (for example, 0.7 μm or less), particularly 0.7 μm or less.
It is preferably 5μ or less. There are basically no restrictions on the particle size distribution, but monodisperse distribution is preferable. Monodisperse herein means that at least 95% of the particles by weight or number of particles is composed of particles having a size within ±40% of the average particle size.
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。Silver halide grains in photographic emulsions may have regular crystals such as cubic or octahedral, or irregular crystals such as spherical or plate-like.
ular) crystals, or a composite form of these crystal forms.
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。The interior and surface layers of the silver halide grains may be composed of uniform phases or may be composed of different phases.
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。Two or more silver halide emulsions formed separately may be used in combination.
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。In the silver halide emulsion used in the present invention, cadmium salt, sulfite, lead salt, thallium salt, rhodium salt or its complex salt, iridium salt or its complex salt, etc. are allowed to coexist in the silver halide grain formation or physical ripening process. Good too.
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高める
ための、主として350nm〜600nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。The emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the present invention may contain a water-soluble dye as a filter dye or for various purposes such as preventing irradiation. Filter dyes include dyes for further lowering photographic sensitivity, preferably ultraviolet absorbers that have a spectral absorption maximum in the intrinsic sensitivity range of silver halide, and dyes that are safe against safelight light when handled as bright-room sensitive materials. In order to increase the wavelength, dyes having substantial light absorption mainly in the 350 nm to 600 nm region are used.
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。These dyes are added to the emulsion layer depending on the purpose, or they are added together with a mordant to the upper part of the silver halide emulsion layer, that is, to the non-light-sensitive hydrophilic colloid layer which is further away from the silver halide emulsion layer with respect to the support. It is preferable to use it by fixing it.
染料のモル吸光係数により異なるが、通常10−!g
/ rrr〜1 g/rrrの範囲で添加される。好ま
しくは50■〜500■/耐である。Although it varies depending on the molar extinction coefficient of the dye, it is usually 10-! g
/ rrr to 1 g/rrr. Preferably it is 50 to 500 ■/durability.
染料の具体例は特願昭61−209169号に詳しく記
載されているが、いくつかを次にあげる。Specific examples of dyes are described in detail in Japanese Patent Application No. 61-209169, and some are listed below.
SO,K
SO,に
OsK
O2K
0sNa
SO,Na
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。SO,K SO, to OsK O2K 0sNa SO,Na The above dye is dissolved in a suitable solvent [e.g., water, alcohol (e.g. methanol, ethanol, propatool, etc.), acetone, methyl cellosolve, etc., or a mixed solvent thereof]. It is added to the coating solution for a non-photosensitive hydrophilic colloid layer of the present invention.
これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。Two or more of these dyes can also be used in combination.
本発明の染料は、明室取扱いを可能にするに必要な量用
いられる。The dyes of the invention are used in amounts necessary to enable bright room handling.
具体的な染料の使用量は、一般に10−”g/rrr〜
Ig/イ、特に10−’g/rrr〜0.5g/イの範
囲に好ましい量を見い出すことができる。The specific amount of dye used is generally 10-”g/rrr~
Preferred amounts can be found in the range of Ig/I, especially from 10-'g/rrr to 0.5 g/I.
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよ、い。A known spectral sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion layer used in the present invention.
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール
)である。また、これらの化合物を処理液に含有させて
もよい。The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fogging or stabilizing photographic performance during the manufacturing process, storage, or photographic processing of the light-sensitive material. That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles, benzothiazoles, nitrobenzotriazoles, mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinthione; azaindenes, such as triazaindenes, tetrazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted (1,3,3a,7) tetrazaindenes); A number of compounds known as antifoggants or stabilizers can be added, such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide, etc.), pentaazaindenes, etc.; Among these, preferred are benzotriazoles (eg 5-methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (eg 5-nitroindazole). Further, these compounds may be included in the treatment liquid.
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。The photographic material of the present invention may contain an inorganic or organic hardener in the photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer.
例えば活性ビニル化合物(1,3゜5−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−S−トリアジン、■、3−ビニルス
ルホニルー2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合
物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−8−トリアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合
わせて用いることができる。For example, active vinyl compounds (1,3゜5-triacryloyl-hexahydro-S-triazine, ■,3-vinylsulfonyl-2-propatol, etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-8 -triazine, etc.), mucohalogen acids, etc. can be used alone or in combination.
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material prepared using the present invention may contain coating aids, antistatic properties, smoothness improvement, emulsification dispersion, adhesion prevention, and photographic property improvement (e.g.
Various surfactants may be included for various purposes such as development acceleration, high contrast, and sensitization.
又、寸度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如き
ポリマーラテックスを含有せしめることができる。Additionally, a polymer latex such as polyalkyl acrylate may be included for dimensional stability.
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同5
4−37732、同53−137゜133、同60−1
40,340、同60−14959、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。Development accelerators or nucleating and infectious development accelerators suitable for use in the present invention include JP-A-53-77616 and JP-A-53-77616;
4-37732, 53-137゜133, 60-1
In addition to the compounds disclosed in US Pat. No. 40,340, No. 60-14959, etc., various compounds containing N or S atoms are effective.
次に具体例を列挙する。Next, specific examples are listed.
、S−S、
CH2CH
\CH2′
CHtCHzCHtCHzCOOH
C1e
CH2C82N(C2H5)2
N
(C2Hs) 2NCH2CHCH20HH
n−CtHoN(CtHtOH)t
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが1.0XIO−’〜0.5g/rrr。, S-S, CH2CH \CH2' CHtCHzCHtCHzCOOH C1e CH2C82N(C2H5)2 N (C2Hs) 2NCH2CHCH20HH n-CtHoN(CtHtOH)t The optimum addition amount of these accelerators varies depending on the type of compound, but 1.0XIO- '〜 0.5g/rrr.
好ましくは5.0X10−”〜0.1g/ポの範囲で用
いるのが望ましい。Preferably, it is used in a range of 5.0×10 −” to 0.1 g/po.
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
できる。In order to obtain ultra-high contrast photographic properties using the silver halide photosensitive material of the present invention, it is necessary to use a conventional infectious developer or U.S. Pat.
It is not necessary to use a highly alkaline developer with a pH close to 13 as described in No. 9,975, and a stable developer can be used.
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、pH
10,5〜12.3、特にpH11,0〜12,0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。That is, the silver halide photosensitive material of the present invention contains 0.15 mol/1 or more of sulfite ion as a preservative, and has a pH of
By using a developer having a pH of 10.5 to 12.3, particularly 11.0 to 12.0, a sufficiently high contrast negative image can be obtained.
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えばl−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることができる。There are no particular limitations on the developing agent that can be used in the method of the present invention, such as dihydroxybenzenes (e.g. hydroquinone), 3-pyrazolidones (e.g. l-phenyl-3-pyrazolidone, 4゜4-dimethyl-1-phenyl- 3-pyrazolidone), aminophenols (e.g. N
-methyl-p-aminophenol) can be used alone or in combination.
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/j2.3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類
はo、06モル/1以下の範囲で併用される。In particular, the silver halide photosensitive material of the present invention contains dihydroxybenzenes as a main developing agent and 3-3 as an auxiliary developing agent.
Suitable for processing with developers containing pyrazolidones or aminophenols. Preferably, in this developer, dihydroxybenzenes are used in an amount of 0.05 to 0.5 mol/j2.3-pyrazolidones or aminophenols in a range of 0.06 mol/1 or less.
また米国特許4269929号に記載されているように
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。Further, as described in US Pat. No. 4,269,929, the development speed can be increased and the development time can be shortened by adding amines to the developer.
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。The developer also contains alkali metal sulfites, carbonates,
Contains pH buffering agents such as borates and phosphates, development inhibitors or antifoggants such as bromides, iodides, and organic antifoggants (particularly preferably nitroindazoles or benzotriazoles). Can be done.
又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像
促進剤、界面活性剤(と(に好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾール
スルホン酸銀など)を含んでもよい。In addition, if necessary, water softeners, solubilizers, color toning agents, development accelerators, surfactants (preferably the aforementioned polyalkylene oxides), antifoaming agents, hardeners, silver stains on the film, etc. Inhibitors such as silver 2-mercaptobenzimidazole sulfonate may also be included.
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。As the fixer, one having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfates and thiocyanates, organic sulfur compounds known to be effective as fixing agents can be used.
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt or the like as a hardening agent.
本発明の方法における処理温度は普通18°Cから50
℃の間に選ばれる。The processing temperature in the method of the invention is usually from 18°C to 50°C.
Selected between ℃.
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を90秒〜120秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。Although it is preferable to use an automatic processor for photographic processing, the method of the present invention allows the total processing time from the time the photosensitive material is placed in the automatic processor to the time it comes out to be 90 to 120 seconds. , sufficiently ultra-high contrast negative gradation photographic characteristics can be obtained.
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭61−28708
に記載の化合物を用いることができる。In the developing solution of the present invention, JP-A-56-2 is used as a silver stain preventive agent.
Compounds described in No. 4,347 can be used. Patent application 1986-109 as a solubilizing agent added to the developer.
Compounds described in No. 743 can be used. Furthermore, as a pH buffering agent for use in developing solutions, JP-A-60-93,4
Compounds described in No. 33 or Japanese Patent Application No. 61-28708
Compounds described in can be used.
以下実施例により、本発明の詳細な説明する。The present invention will be described in detail below with reference to Examples.
(実施例) 以下に示すように乳剤[A)、CB)を調製した。(Example) Emulsions [A) and CB) were prepared as shown below.
50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X10
−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアン
モニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化
カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpA
gを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28
μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散
乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法によ
り、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性
ゼラチンを加えた後、銀1モル当り10−3モルのKl
溶液に加え、15分分間時させた後降温した。4X10 per mole of silver in an aqueous gelatin solution kept at 50°C.
- In the presence of mol of potassium iridium(III) hexachloride and ammonia, an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of potassium iodide and potassium bromide were simultaneously added for 60 minutes, and the pA
By keeping g at 7.8, the average particle size is 0.28
A cubic monodisperse emulsion with an average silver iodide content of 0.3 mol % was prepared. This emulsion was desalted by the flocculation method, after which 40 g of inert gelatin was added per mole of silver, and 10-3 moles of Kl per mole of silver were added.
The mixture was added to the solution, allowed to stand for 15 minutes, and then cooled down.
45℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X10
−’モルの塩化イリジウム(III)カリ、2XIO”
モルの6塩化ロジウム(Illr)酸アンモニウムおよ
びアンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と塩化ナトリウ
ム、臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその
間のpAgを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ
0.28μで、平均塩化銀含有量70モル%の立方体単
分散乳剤を調整した。乳剤Aと同様に、脱塩し不活性ゼ
ラチンを加えた後60℃に保ち塩化金酸8■とチオ硫酸
ナトリウム5■を添加し化学熟成を施した。この乳剤に
さらに銀1モル当り10−’モルのKl溶液を加え15
分分間時させた後降温した。4X10 per mole of silver in an aqueous gelatin solution kept at 45°C.
−'Mole of potassium iridium(III) chloride, 2XIO”
In the presence of molar ammonium hexachloride rhodium (Illr) and ammonia, an average particle size of 0 was obtained by simultaneously adding an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride and potassium bromide for 60 minutes while maintaining the pAg at 7.8. A cubic monodisperse emulsion with a particle diameter of .28μ and an average silver chloride content of 70 mol% was prepared. In the same manner as Emulsion A, after desalting and adding inert gelatin, the mixture was kept at 60°C and chemically ripened by adding 8 quartz of chloroauric acid and 5 quartz of sodium thiosulfate. To this emulsion was further added 10-' mol of Kl solution per 1 mol of silver.
After allowing the mixture to stand for several minutes, the temperature was lowered.
これらの乳剤を分割して増感色素として銀1モルあたり
lXl0−’モルの5,5′−ジクロロ−9−エチル−
3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカルボ
シアニン(増感色素1)、および5− [3−(4−ス
ルホブチル)−5−クロロ−2−オキサゾリジリデン〕
−1−ヒドロキシエチル−3−(2−ピリジル)−2−
チオヒダントイン(増感色素2)と、本発明の一般式(
I)および(IF)の化合物を表1のように添加した。These emulsions were divided into 1X10-' moles of 5,5'-dichloro-9-ethyl-5,5'-dichloro-9-ethyl-per mole of silver as a sensitizing dye.
3,3'-bis(3-sulfopropyl)oxacarbocyanine (sensitizing dye 1), and 5-[3-(4-sulfobutyl)-5-chloro-2-oxazolidylidene]
-1-hydroxyethyl-3-(2-pyridyl)-2-
Thiohydantoin (sensitizing dye 2) and the general formula of the present invention (
Compounds I) and (IF) were added as in Table 1.
また、次のヒドラジン誘導体を添加し
更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、7−チトラザインデン、ハイドロキノン
200■/イ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及び
ゼラチンに対して30wt%のポリエチルアクリレート
及びゼラチン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、
塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,5μ)を
有するポリエチレンテレフタレートフィルム(150μ
)上に銀量3.4g/rrfとなるように塗布した。In addition, the following hydrazine derivatives were added, and further 5-methylbenztriazole, 4-hydroxy-
1,3,3a,7-chitrazaindene, hydroquinone 200/a, the following compounds (a), (b), (c), 30 wt% polyethyl acrylate based on gelatin, and the following compound (d) as a gelatin hardening agent. Add
Polyethylene terephthalate film (150μ) with an undercoat layer (0.5μ) consisting of vinylidene chloride copolymer
) so that the amount of silver was 3.4 g/rrf.
15.0■/d
CI
(保護層の塗布)
この上に保護層として、ゼラチン1. 5g/rrr、
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)
0. 3g/n(を次の界面活性剤を用いて塗布した。15.0■/d CI (Coating of protective layer) Gelatin 1. 5g/rrr,
Polymethyl methacrylate particles (average particle size 2.5μ)
0. 3 g/n (applied using the following surfactants).
(CI(2CH÷、。(−CH,C÷、。(CI(2CH÷,.(-CH,C÷,.
Cool(C00C2H400C
−(−C−CH,−)−
Ha
200■/d
(ニ)
H
C)it = CH302CHtCHCI(!5OIC
H= CH2ゼラチンに対して2.(1wt%
CH,C00C,H,。Cool(C00C2H400C -(-C-CH,-)- Ha 200■/d (d) HC)it = CH302CHtCHCI(!5OIC
2 for H=CH2 gelatin. (1wt% CH, C00C, H,.
CHCOOC,H,、31rng/d
S Os N a
C,F、7SO2NCH,C00K
CsHr 2. 5■/イこれらの試料を
、3200°にのタングステン光で光学クサビおよびコ
ンタクトスクリーン(富士フィルム、150Lチエーン
ドツト型)を通して露光後、次の現像液で34℃30秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。CHCOOC,H,,31rng/d S Os Na C,F,7SO2NCH,C00K CsHr 2. 5./A These samples were exposed to 3200° tungsten light through an optical wedge and a contact screen (Fuji Film, 150L chain dot type), then developed with the following developer at 34°C for 30 seconds, fixed, washed with water, and dried. did.
得られたサンプルの写真性および黒ボッの測定結果を表
2に示した。網階調は次式で表わした。Table 2 shows the photographic properties and black porosity measurement results of the obtained sample. The halftone gradation is expressed by the following formula.
*網階調−95%の網点面積率を与える露光量(1og
E95%)−5%の網点面積率を与える露光量(fog
E5%)
網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「l」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、r4Jが実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1」は
実用不可能な品質である。「4」と「3」の中間のもの
はr3. 5Jとした。*Exposure amount that gives halftone area ratio of -95% (1og
Exposure amount (fog) giving a halftone area ratio of -5%
E5%) The halftone dot quality was visually evaluated on a five-level scale. The 5-level evaluation is
"5" indicates the best quality, and "1" indicates the worst quality. As a halftone original for plate making, "5" and r4J are practical, and "
3 is the practical limit level, and 2 and 1 are impractical quality levels. The one between "4" and "3" is r3. It was set to 5J.
黒ボッは顕微鏡観察により5段階に評価したもので、「
5」が最もよく 「1」が最も悪い品質を表わす。「5
」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だか、ぎりぎり
実用でき「2j又は「1」は実用不可である。「4」と
「3」の中間のものはr3.5Jと評価した。Kurobot was evaluated on a five-point scale based on microscopic observation.
5 represents the best quality and 1 represents the worst quality. "5
” or “4” is practical, “3” is poor or barely practical, and “2j or “1” is impractical. The one between "4" and "3" was evaluated as r3.5J.
本発明の試料は、高い硬調性を維持し網階調が広い。網
点の品質は、試料1.IL21.31ではスムーズさに
欠け、試料2〜10,22〜30では光学濃度が低く、
ぼやけた状態になっているのに対し、本発明の試料では
光学濃度が高く、スムーズな形状をしている。さらに試
料12〜14.32〜34と比べ黒ボッが良化されてい
る。The samples of the present invention maintain high contrast and have wide halftones. The quality of the halftone dots is as follows: Sample 1. IL21.31 lacks smoothness, and samples 2 to 10 and 22 to 30 have low optical density.
In contrast, the sample of the present invention has a high optical density and a smooth shape. Furthermore, black spots were improved compared to Samples 12-14 and 32-34.
表。table.
2 表。2 table.
Claims (4)
のハロゲン化銀とヒドラジン誘導体を含むハロゲン化銀
乳剤層を少なくとも1層有するハロゲン化銀写真感光材
料において、該ハロゲン化銀乳剤層およびその他の親水
性コロイド層の少なくとも1層に酸化されることにより
現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物と下記一般式
( I )で表わされる化合物を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ Z_1及びZ_2は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾ
チアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾ
ール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、
チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナ
ゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダ
ゾール核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子
群を表わす。 R_1及びR_2は各々アルキル基またはアラルキル基
を表わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nは0又
は1を表わす。(1) silver chloride content on the support of at least 50 mol %;
In a silver halide photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer containing silver halide and a hydrazine derivative, the silver halide emulsion layer and at least one other hydrophilic colloid layer are oxidized. A silver halide photographic material comprising a redox compound capable of releasing a development inhibitor and a compound represented by the following general formula (I). General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ Z_1 and Z_2 are respectively benzoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, benzoselenazole nucleus, naphthoxazole nucleus, naphthothiazole nucleus, naphthoselenazole nucleus,
Represents a group of nonmetallic atoms necessary to complete a thiazole nucleus, thiazoline nucleus, oxazole nucleus, selenazole nucleus, selenazoline nucleus, pyridine nucleus, benzimidazole nucleus, or quinoline nucleus. R_1 and R_2 each represent an alkyl group or an aralkyl group. X is a charge balance counterion, and n represents 0 or 1.
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。(2) Claim No. (1) characterized in that the redox compound has hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, and reductones as redox groups. The silver halide photographic material described in Section 1.
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。(3) Claim (1) characterized in that the redox compound has a hydrazine as a redox group.
The silver halide photographic material described in Section 1.
I−2)、(II−3)で表わされることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式(II−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(II−2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(II−3) ▲数式、化学式、表等があります▼ これらの式中、R_3は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G_1は▲数式、化学式、表等があります▼基、▲
数式、化学式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、−SO−基、−SO_2−基ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼基を表わす。G
_2は単なる結合手、−O−、−S−または▲数式、化
学式、表等があります▼を表わし、R_4は水素原子ま
たはR_3を表わす。 A_1、A_2は水素原子、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基またはアシル基を表わし置換されて
いても良い。一般式(II−1)ではA_1、A_2の少
なくとも一方は水素原子である。A_3はA_1と同義
または▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす。 A_4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ
基または−G_1−G_2−R_3を表わす。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。(4) The redox compound has the following general formula (II-1), (I
The silver halide photographic material according to claim (1), characterized in that it is represented by I-2) or (II-3). General formula (II-1) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (II-2) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (II-3) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In these formulas, R_3 represents an aliphatic group or an aromatic group. G_1 has ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼group, ▲
There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are tables, etc. ▼ Represents a group. G
_2 represents a simple bond, -O-, -S-, or ▲a numerical formula, chemical formula, table, etc.▼, and R_4 represents a hydrogen atom or R_3. A_1 and A_2 represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, and may be substituted. In general formula (II-1), at least one of A_1 and A_2 is a hydrogen atom. A_3 has the same meaning as A_1 or represents ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. A_4 represents a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group or -G_1-G_2-R_3. Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG stands for development inhibitor.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9839190A JPH03294845A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Silver halide photographic sensitive material |
US07/684,087 US5230983A (en) | 1990-04-13 | 1991-04-12 | Silver halide photographic material |
EP91105967A EP0452848B1 (en) | 1990-04-13 | 1991-04-15 | Silver halide photographic material |
DE69125305T DE69125305T2 (en) | 1990-04-13 | 1991-04-15 | Silver halide photographic material |
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JP9839190A JPH03294845A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Silver halide photographic sensitive material |
Publications (1)
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JPH03294845A true JPH03294845A (en) | 1991-12-26 |
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ID=14218548
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JP9839190A Pending JPH03294845A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Silver halide photographic sensitive material |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH03294845A (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61213847A (en) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photosensitive material |
JPS6461743A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
JPH021844A (en) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Konica Corp | Silver halide photographic sensitive material |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP9839190A patent/JPH03294845A/en active Pending
Patent Citations (4)
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JPS61213847A (en) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photosensitive material |
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JPH021844A (en) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Konica Corp | Silver halide photographic sensitive material |
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