JPH03287548A - シクロヘキサンの精製方法 - Google Patents
シクロヘキサンの精製方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
しくは、シクロヘキサンの工業的用途において要求され
る高純度シクロヘキサンを採取するに当たり、特にメチ
ルシクロペンテン類を含有する粗シクロヘキサンを精製
する方法に関するも(従来の技術) シクロヘキサンは重要な工業中間原料であり、ベンゼン
の水素化により製造されている。製品シクロヘキサンに
要求される純度は極めて高く、ベンゼンの水素化におい
て、未反応ベンゼン量を低減したり、他の副反応生成物
、例えば、環状メチル化合物などを低く抑えるなどの工
夫をしているのが普通である。このようなベンゼンの単
純な水素化によるシクロヘキサンの製造方法は、工業的
完成度が高く、また、プロセスや反応が単純なため、製
品シクロヘキサンにオレフィン類が混在もしくは残存す
ることはほとんどない。本発明が意図する技術は、従来
の単純なシクロヘキサンの製造方法に関わるものとは異
なり、例えば、以下のごとき場合に適用される新しい技
術である。
ってシクロヘキサノン、シクロヘキサノール混合物(以
下「オロン」と略す)を得るためのものである、しかし
、最近において、オロンではなく、純水のシクロヘキサ
ノールを得る方法が例えば、特開昭63−156736
号公報、特公平1−33453号公報などで検討されて
いる。
センとシクロヘキサンの混合物を得、このうちシクロヘ
キセンを酸触媒の存在下に水和してシクロヘキサノール
を得ようとするものであり、従来のオロン製造法とは技
術的に全く異なるものであり、工業的価値も高い、しか
し、一方では、シクロヘキセンの酸触媒による水和反応
においては、シクロヘキサノール以外に多少なりともシ
クロヘキセンの異性化物であるメチルシクロペンテン類
を副生ずることがわかっている(例えば、特公平1−3
3453号公報)、このメチルシクロペンテン類は、最
終的には部分水素化反応のもうひとつの生成物であるシ
クロヘキサンとともに取り出すことがシクロヘキサノー
ル製造プロセス上最適であ−ることか、本発明者らの別
の検討で明らかとなっている。ここに、従来にないメチ
ルシクロペンテンを含有する粗シクロヘキサンが得うし
ることになるが、前述のごとく、シクロヘキサンの工業
的な要求純度が高く、該粗シクロヘキサンを精製する新
しい技術が必要となるのである。
ンの例を示したが、本発明方法を適用できる範囲は、当
然のことながらこの例に限られるものではない。
含むような粗シクロヘキサンは、従来のベンゼンの水素
化反応によって得られるものとは全く異なり、したがっ
て、その精製方法も知られていない0例えば、該粗シク
ロヘキサンからメチルシクロペンテン類を単なる蒸留操
作によって分離しようとすると、シクロヘキサンとメチ
ルシクロペンテン類との比揮発度が極めて1に近いため
、実質的に不可能である。また、抽出蒸留による分離も
考えられるが、やはり比揮発度が小さく、また、抽出溶
媒という新たな成分を必要とするため、工業的にみて価
値のある方法とは言いがたい。
製方法が強く望まれるのである。
る粗シクロヘキサンを簡便に、かつ、確実に精製する方
法を鋭意検討した結果、メチルシクロペンテン類を水素
化してメチルシクロペンタンとし、次に蒸留によって精
製する方法が最も適した手段であるとの結論に達し、本
発明を完成するに至った。
る粗シクロヘキサンから高純度のシクロヘキサンを採取
するに際し、該粗シクロヘキサンを触媒の存在下に水素
化処理をしてメチルシクロペンテン類をメチルシクロペ
ンタンとし、次に蒸留によって塔頂よりメチルシクロペ
ンタンを分離除去することを特徴とするシクロヘキサン
の精製方法である。
とは、主にメチルシクロペンテン類を不純物として含有
するものである。ここでメチルシクロペンテン類とは、
1−メチルシクロペンテン、3−メチルシクロペンテン
および4−メチルシクロペンテンをいい、特に1−メチ
ルシクロペンテン、3−メチルシクロペンテンをいう。
ヘキサン中の重量分率として0.01ないし数十%であ
る。また、該粗シクロヘキサン中にはメチルシクロペン
テン類以外に他の不純物、例えばベンゼンやシクロヘキ
セン、さらには炭素数1から6の炭化水素を含んでいて
もさしつかえない。ベンゼンやシクロヘキセンは、後述
する水素化処理によってシクロヘキサンとすることがで
きる一方、炭素数1から6の炭化水素は、本発明方法に
おける蒸留操作によって塔頂より容易に除去することが
できるからである。
て気相でも液相でも行うことができる。
炭化水素の水素化用触媒を用いればよく、具体的にはN
i触媒やPt、 Pd、 Ruなどの貴金属触媒が挙げ
られ、経済的観点からはNi触媒が好適である。水素化
処理条件としては不純物の含有量にもよるが、通常室温
ないし300″C1好ましくは50ないし200°Cの
温度範囲、1ないし100気圧、好ましくは5ないし5
0気圧の水素圧力範囲で行う。反応形式としては特に制
限はないが、固定床式のいわゆるトリクルベツド型の反
応方法は好ましく用いることができる。このような水素
化処理によって、粗シクロヘキサン中のメチルシクロペ
ンテン類のほとんどすべてをメチルシクロペンタンに転
化させることができる。
留によって高純度シクロヘキサンに精製する。蒸留操作
は常圧下においても、また、減圧下、加圧下においても
実施することができ、適宜選択すればよい。この蒸留に
よって、メチルシクロペンタンに冨んだ留出液を塔頂よ
り除去し、塔底より極めて高純度のシクロヘキサンを採
取することができる。また、粗シクロヘキサン中にシク
ロヘキサン、メチルシクロペンテン類以外の炭素数1か
ら6の炭化水素が含まれていても、この蒸留操作によっ
て、メチルシクロペンタンとともに容易に塔頂から除去
することができる。
ンの純度は、工業的に要求される純度として充分以上で
あり、具体的には99%以上、または99.5%以上、
さらには99.9%以上のシクロヘキサンを取得するこ
とができる。
粗シクロヘキサンを精製して、極めて高純度のシクロヘ
キサンを取得することができ、その工業的価値は高い。
、本発明は、これらの例によってなんら限定されるもの
ではない。
類4.5重量%、その他の不純物としてシクロヘキセン
2.0重量%、炭素数4から6の飽和炭化水素0.5重
量%を含有する粗シクロヘキサンを、水素化処理装置に
1.0kg/Firで供給し、粗シクロヘキサンの水素
化処理を連続的に行った。水素化処理装置には水素化触
媒としてNi触媒(日照ガードラー社製c−33)50
0gを充填し、入口温度を120°Cに制御しつつ、5
0気圧の水素圧下で行った。処理後の液を連続的に取り
出し、その組成を分析したところ、シクロヘキサン94
.9重量%、メチルシクロペンタン4゜6重量%、炭素
数4から6の飽和炭化水素0.5重置%であり、メチル
シクロペンテン類、シクロヘキサンは0.01重量%以
下であり、はとんど検出されなかった。
化処理を経た液を、濃縮部20段、回収部20段を有す
る蒸留塔に1.0kg/Hrで連続的に供給し、シクロ
ヘキサンの精製を行った。
で留出液を連続的に抜き出し、その組成を分析したとこ
ろ、シクロヘキサン44.7重量%、メチルシクロペン
タン49.9重量%、炭素数4から6の飽和炭化水素5
.4重量%であった。このとき塔底から連続的に採取さ
れる液の組成は、シクロヘキサン99.97重量%、メ
チルシクロペンタン0.03重量%であり、極めて高純
度のシクロヘキサンを取得することができた。
実施例と同様にして蒸留操作を行った。
シクロヘキサン並であり、炭素数4から6の飽和炭化水
素は塔頂に除去されるものの、メチルシクロペンテン類
はほとんど減少せず、粗シクロヘキサンの精製はできな
かった。
Claims (1)
- メチルシクロペンテン類を含有する粗シクロヘキサンか
ら高純度のシクロヘキサンを採取するに際し、該粗シク
ロヘキサンを触媒の存在下に水素化処理をしてメチルシ
クロペンテン類をメチルシクロペンタンとし、次に蒸留
によって塔頂よりメチルシクロペンタンを分離除去する
ことを特徴とするシクロヘキサンの精製方法。
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JPH0649660B2 JPH0649660B2 (ja) | 1994-06-29 |
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-
1990
- 1990-04-03 JP JP2087461A patent/JPH0649660B2/ja not_active Expired - Lifetime
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