JPH03265516A - イツトリウム系酸化物超電導体の製法 - Google Patents
イツトリウム系酸化物超電導体の製法Info
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- JPH03265516A JPH03265516A JP2063056A JP6305690A JPH03265516A JP H03265516 A JPH03265516 A JP H03265516A JP 2063056 A JP2063056 A JP 2063056A JP 6305690 A JP6305690 A JP 6305690A JP H03265516 A JPH03265516 A JP H03265516A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は酸化物超電導体の製法に関する。
[従来の技術]
第2図は、たとえば1989年度春期低温工学・超電導
学会予稿集12頁に示された溶融(QMG)法による酸
化物超電導体の製法の説明図である。
学会予稿集12頁に示された溶融(QMG)法による酸
化物超電導体の製法の説明図である。
第2図に示されている溶融法では、原料粉末を大気中で
1400℃(Y203+L領域)まで急速に加熱したの
ち冷却し、再び1200℃(211+L領域)まで加熱
して溶融させたのち、123(211+ L )領域で
徐冷して超電導体であるYBa2 Cu30 結晶
を成−y 長させている。なお、1400℃に加熱するのは、12
00℃に加熱した際に固相と液相とを均一に分散させる
ためであるが、必須の工程ではない。たとえば、140
0℃に加熱するかわりに原料粉末の融点よりも高い温度
で部分的に溶融させたのち、冷却して粉砕し、プレス成
形することによっても前記の均一な分散を達成すること
ができる。しかし、そののちの1200℃の加熱は必須
の工程である。
1400℃(Y203+L領域)まで急速に加熱したの
ち冷却し、再び1200℃(211+L領域)まで加熱
して溶融させたのち、123(211+ L )領域で
徐冷して超電導体であるYBa2 Cu30 結晶
を成−y 長させている。なお、1400℃に加熱するのは、12
00℃に加熱した際に固相と液相とを均一に分散させる
ためであるが、必須の工程ではない。たとえば、140
0℃に加熱するかわりに原料粉末の融点よりも高い温度
で部分的に溶融させたのち、冷却して粉砕し、プレス成
形することによっても前記の均一な分散を達成すること
ができる。しかし、そののちの1200℃の加熱は必須
の工程である。
[発明が解決しようとする課題]
前記のような従来の溶融法による酸化物超電導体の製法
では、YBa2 Cu30 結晶を溶融および−y 成長させる工程が大気中または酸素雰囲気中で行なわれ
るので、Y−Ba−Cu−0系材料の融点が高く高温で
溶融させる必要があり、るつぼ材料との反応が激しくな
ったり、また高価な白金るつぼなどを使用しなければな
らないなどの欠点がある。
では、YBa2 Cu30 結晶を溶融および−y 成長させる工程が大気中または酸素雰囲気中で行なわれ
るので、Y−Ba−Cu−0系材料の融点が高く高温で
溶融させる必要があり、るつぼ材料との反応が激しくな
ったり、また高価な白金るつぼなどを使用しなければな
らないなどの欠点がある。
本発明は、このような課題を解消するためになされたも
のであり、溶融温度を下げて比較的低温で溶融法により
酸化物超電導体を製造する方法を提供することを目的と
する。
のであり、溶融温度を下げて比較的低温で溶融法により
酸化物超電導体を製造する方法を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段]
本発明は、溶融法によるY(イツトリウム)系酸化物超
電導体の製法であって、溶融を低酸素分圧の雰囲気中で
行なうことを特徴とするY系酸化物超電導体の製法に関
する。
電導体の製法であって、溶融を低酸素分圧の雰囲気中で
行なうことを特徴とするY系酸化物超電導体の製法に関
する。
[作 用コ
溶融の際の雰囲気を低酸素分圧にすることにより、原料
の融点を低下させることができる。
の融点を低下させることができる。
[実施例]
本発明に使用される原料としては、たとえばReBa2
Cu30 (式中、ReはY %Ndx Eu、
Gdx Dy。
Cu30 (式中、ReはY %Ndx Eu、
Gdx Dy。
−y
HO% Erなどを示す)などで示される、湿式法、共
沈法、ゾル−ゲル法などによって製造される従来から溶
融法に用いられている粉末などが使用される。
沈法、ゾル−ゲル法などによって製造される従来から溶
融法に用いられている粉末などが使用される。
本発明においては前記原料が低酸素分圧の雰囲気で溶融
せしめられるため、原料の融点が低下し、従来法よりも
低温で結晶を成長させることができる。
せしめられるため、原料の融点が低下し、従来法よりも
低温で結晶を成長させることができる。
前記低酸素分圧の雰囲気としては、真空、不活性ガス(
N2 、Hes Ar)雰囲気などがあげられる。
N2 、Hes Ar)雰囲気などがあげられる。
前記のごとき雰囲気中では、たとえば原料の融点がY−
Ba−Cu−0系材料では1050℃から950℃程度
に低下する。
Ba−Cu−0系材料では1050℃から950℃程度
に低下する。
つぎに、本発明の製法を実施する際の好ましい加熱条件
などについて説明する。
などについて説明する。
まず、原料を前記低酸素分圧の雰囲気中、その融点より
も20〜100℃程度高い温度まで200℃/■in程
度以上の昇温速度、またはあらかじめ昇温された電気炉
などに入れて急速に加熱し、2分〜1時間保持して原料
を溶融させる。つぎに、要すれば結晶が成長しはじめる
温度まで50〜b程度の速度で冷却したのち、10〜b 速度で徐冷して結晶を成長させる。なお、結晶を成長さ
せる際、一方向に温度勾配をつける、または温度勾配を
有する炉中を一方向に移動させることにより、結晶を配
向させることができる。
も20〜100℃程度高い温度まで200℃/■in程
度以上の昇温速度、またはあらかじめ昇温された電気炉
などに入れて急速に加熱し、2分〜1時間保持して原料
を溶融させる。つぎに、要すれば結晶が成長しはじめる
温度まで50〜b程度の速度で冷却したのち、10〜b 速度で徐冷して結晶を成長させる。なお、結晶を成長さ
せる際、一方向に温度勾配をつける、または温度勾配を
有する炉中を一方向に移動させることにより、結晶を配
向させることができる。
このように、前記のごとく原料の融点が低下しているの
で、たとえばY−Ba−Cu−0系材料では950℃程
度で溶融させることができ、高価な白金るつぼなどを使
用する必要がなくなる。これは銀の融点(約960℃)
以下であるので、Y系銀シース酸化物超電導線材を製造
することが可能になる。
で、たとえばY−Ba−Cu−0系材料では950℃程
度で溶融させることができ、高価な白金るつぼなどを使
用する必要がなくなる。これは銀の融点(約960℃)
以下であるので、Y系銀シース酸化物超電導線材を製造
することが可能になる。
結晶の成長が終了したのち、酸化物に充分酸素をとり込
ませるために大気中または酸素ガス雰囲気などの高酸素
分圧の雰囲気中で10〜b度の速度で冷却することによ
り超電導体が製造される。
ませるために大気中または酸素ガス雰囲気などの高酸素
分圧の雰囲気中で10〜b度の速度で冷却することによ
り超電導体が製造される。
なお、Y−Ba−Cu−0系材料のばあい、Y/Ba/
Cuの割合を1/2/3からたとえばl/2/3+α(
α〉0、好ましくは1.5〉α〉0)にずらすことによ
りさらに原料の融点を下げることができる。たとえばY
Ba2Cu Oの融点はチッ素ガスの雰囲気3.
3 7−Y 中で約930℃になる。
Cuの割合を1/2/3からたとえばl/2/3+α(
α〉0、好ましくは1.5〉α〉0)にずらすことによ
りさらに原料の融点を下げることができる。たとえばY
Ba2Cu Oの融点はチッ素ガスの雰囲気3.
3 7−Y 中で約930℃になる。
また、原料として、溶融させた際の固相と液相の分散状
態をさらに均一にするために、前記従来法と同様に原料
をY2O3+L領域まで急速に加熱したのち急冷し、粉
砕したものや、融点よりも高い温度で部分的に溶融させ
たのち冷却して粉砕し、プレス成形したものを使用して
もよい。
態をさらに均一にするために、前記従来法と同様に原料
をY2O3+L領域まで急速に加熱したのち急冷し、粉
砕したものや、融点よりも高い温度で部分的に溶融させ
たのち冷却して粉砕し、プレス成形したものを使用して
もよい。
この原料の前処理の際にも、低酸素分圧の雰囲気にする
ことにより原料の融点を下げ、従来よりも低い温度で処
理することができる。
ことにより原料の融点を下げ、従来よりも低い温度で処
理することができる。
実施例1
第1図に示す条件で超電導体を製造した。
すなわち、まずY2O3粉末、BaCO3粉末およびC
uO粉末(平均粒径はいずれも10am以下)を白金る
つぼに入れ、チッ素ガス雰囲気中で、1300℃(Y2
O3+L領域)の電気炉にさし込んで急速加熱し、3分
間保持したのち、室温下に取り出して急冷した。
uO粉末(平均粒径はいずれも10am以下)を白金る
つぼに入れ、チッ素ガス雰囲気中で、1300℃(Y2
O3+L領域)の電気炉にさし込んで急速加熱し、3分
間保持したのち、室温下に取り出して急冷した。
ついで、えられた原料を乳鉢で平均粒径が10m+以下
になるように粉砕したのちプレス成形を行なった。えら
れた成形品をチッ素ガス雰囲気中、1000℃(211
+L領域)まで電気炉で急速加熱し、10分間保持した
のち、900℃(123(2N + L )領域)まで
50℃/hで徐冷して結晶を成長させ、ついで酸素ガス
フローの高酸素分圧雰囲気中(1気圧の酸素中)で室温
まで100℃/hで冷却し、超電導体を製造した。
になるように粉砕したのちプレス成形を行なった。えら
れた成形品をチッ素ガス雰囲気中、1000℃(211
+L領域)まで電気炉で急速加熱し、10分間保持した
のち、900℃(123(2N + L )領域)まで
50℃/hで徐冷して結晶を成長させ、ついで酸素ガス
フローの高酸素分圧雰囲気中(1気圧の酸素中)で室温
まで100℃/hで冷却し、超電導体を製造した。
なお、原料として850〜950℃でIO時間程度仮焼
きしたYBa2 Cu30 からなる粉末を白金る
っ−y ぼに入れ、前記と同様に急熱急冷したものを用いても、
同様の超電導体を製造することができた。
きしたYBa2 Cu30 からなる粉末を白金る
っ−y ぼに入れ、前記と同様に急熱急冷したものを用いても、
同様の超電導体を製造することができた。
実施例2
実施例1において原料をプレス成形したかわりに、原料
を銀製のバイブに充填して線引きしたほかは、実施例1
と同じ条件で溶融、結晶成長させ、超電導体を製造した
。
を銀製のバイブに充填して線引きしたほかは、実施例1
と同じ条件で溶融、結晶成長させ、超電導体を製造した
。
なお、前記実施例1および2では1300℃に加熱する
前処理を行なったが、この前処理を行なわないばあいは
全プロセスを1000℃以下で行なうことができる。
前処理を行なったが、この前処理を行なわないばあいは
全プロセスを1000℃以下で行なうことができる。
[発明の効果コ
以上のように、本発明の方法では溶融を酸素分圧の低い
雰囲気中で行なうため、酸化物の融点が低下して低温で
結晶成長させることができ、るつぼ材との反応をおさえ
ることができる。また、銀シース線材の製造に溶融法を
適用することができる。
雰囲気中で行なうため、酸化物の融点が低下して低温で
結晶成長させることができ、るつぼ材との反応をおさえ
ることができる。また、銀シース線材の製造に溶融法を
適用することができる。
第1図は本発明の製法による加熱条件説明図、第2図は
従来の製法による加熱条件説明図である。 代 理 人 大 岩 増 雄 明 郵 則 郵
従来の製法による加熱条件説明図である。 代 理 人 大 岩 増 雄 明 郵 則 郵
Claims (1)
- (1)溶融法によるイットリウム系酸化物超電導体の製
法であって、溶融を低酸素分圧の雰囲気中で行なうこと
を特徴とするイットリウム系酸化物超電導体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2063056A JPH03265516A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | イツトリウム系酸化物超電導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2063056A JPH03265516A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | イツトリウム系酸化物超電導体の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03265516A true JPH03265516A (ja) | 1991-11-26 |
Family
ID=13218300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2063056A Pending JPH03265516A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | イツトリウム系酸化物超電導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03265516A (ja) |
-
1990
- 1990-03-13 JP JP2063056A patent/JPH03265516A/ja active Pending
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