JPH0325182B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は一般的に流体の流れを制御する装置
の改良、更に具体的に云えば、広範囲の流体の流
量にわたり、医療用流体の非経口投与（こゝでは
「静脈投与」又は「IV投与」と呼ぶ）為の新規で
改良された自動的な、自己調整能力を持つ高度に
正確な滴流制御装置に関する。更に詳しく云え
ば、この発明は電気的に作動されるIV管挟みを
使つたIV制御装置の改良に関する。

〔従来の技術〕

入換え流体、流体栄養剤、血液又は血漿の様な
流体を人体に徐々にIV投与する為の普通の医療
では、医療業界で静脈溶液投与装置と普通呼ばれ
る装置を使う。この装置は典型的には使い捨ての
プラスチツク製品であり、流体源に接続される様
になつている滴室と、該室から患者まで伸びる或
る長さの管と、この管に設けられたローラ・クラ
ンプの様な弁機構とで構成される。

滴室は、看護婦又はその他の付添いが、流体が
流体源から滴下する割合を観察することが出来る
様にすると共に、滴室の下端に流体に対する貯蔵
槽を作つて、患者に通ずる主供給管に空気が入ら
ない様に保証するという２重の作用をする。

滴室を通り滴下率（１分間当りの滴下数）の観
察は、或る期間にわたつて患者に供給される流体
量を制御する簡単な方法であるが、それが最終的
に有効である為には、流体源が空になつた為にす
つかり止んでしまつたり、或いは設定した割合か
ら許容し難い程変化したりすることがない様に、
滴下率を絶えず監視することが必要である。

例として云うと、病院では、看護婦が各々の静
脈供給又は非経口注入ステーシヨンで、周期的に
滴下率を監視するのが常套手段である。滴流の
（drop flow）のこの様な監視は煩わしく、時間
のかゝる作業であり、この結果、資格のある医療
従業員が他の重要な仕事に使える時間をかなり奪
うことになる。典型的には、滴下率を監視する看
護婦は腕時計で、１分又は更に長い期間の間に流
れる滴の数を計り、次に観察データを適当な流体
流量、例えば毎時ミリリツトル数又は毎分滴数に
換算する為の暗算を行う。計算で出した滴下率が
所定の滴下率と実質的に異なつている場合、看護
婦は新しい滴下率になる様にローラ・クランプを
手で調節し、滴を再び計数し、新しい滴下率を測
定する為に計算の仕直しをしなければならない。

勿論、上に述べた測定、計算及び滴下率の調節
はいずれも数分間の時間がかゝるのが普通であ
り、これに監視するステーシヨンの数と各々のス
テーシヨンを一旦監視する回数とを乗ずれば、利
用し得る延べ時間のかなりの百分率になることが
ある。

上に述べた難点がある他に、患者の上方に吊し
た流体源から液体を重力の静水圧によつて注入す
ることによつて医療用流体のIV投与は、びんの
中での流体液面の変化、温度変化、患者の静脈又
は動脈の圧力変化、患者の動き及び供給管を挟ん
でいるローラ・クランプ又はその他の弁機構の実
効的な設定位置の変化により、流体の滴下率が変
化し得る。更に、重症の患者、心臓病及び小児病
の患者とか、割合重要な薬品を投与している場合
とか、所望の滴下率を静密に選択することが出来
るようにしなければならないと共に、或る所定の
限界を越えて変動してはならない場合とかが数多
くある。

従つて、利用し得る時間が限られ、且つ重責の
ある計画を持つ病院の職員が当面する最も重要な
問題のあるものが、医療用流体のIV投与に於け
る滴下率を素早く、用意に、信頼性をもつて且つ
正確に監視し且つ調整する問題であることは明ら
かであろう。

〔発明が解決しようとする課題〕

最近、滴下率を感知し且つ調整するいろいろな
仕事を達成する為に、多数の電気監視装置、滴流
制御装置及び注入ポンプが開発されている。然
し、こういう監視装置並びに滴下率制御装置は一
般的にその役に立つているが、広範囲の選ばれた
滴下率にわたる調節の精度を改善する必要性が依
然としてある。動作範囲の極限の端で、即を非常
に大きな滴下率並びに非常に小さい滴下率で正確
な滴下率を設定し且つ維持することについては、
困難があつた。こういう困難がIV制御装置では、
小さい滴下率で開閉する時のIV管の膠着、並び
に非常に高い周波数のパルス列中の各々の電気パ
ルスに対して応答するには、プランジヤの機械的
な慣性が大きすぎる為に、IV管挟み装置が高い
滴下率の時にIV管を完全に締切ることが出来な
いことゝなつて現われる。

従つて、IV流体投与装置の開発並びに利用に
関係する者、特にIV制御装置の様な自動流体流
れ制御装置の設定に関係する者は、上に述べた難
点を避ける様な、流体の流れを制御する改良され
た、比較的簡単で経済的で、信頼性があり、安定
性があつて正確な装置の必要性を感じている。こ
の発明はこの要望に答えるものである。

〔課題を解決するための手段〕

この発明は滴下率を正確に感知して調整し得る
デイジタル装置により、通常締切られている供給
管を開く制御パルス周波数及びパルス幅を制御す
る様にした、医療用流体のIV投与に於ける滴の
流れを制御する方法並びに装置を提供する。更に
具体的に云うと、この発明は、1974年４月４日に
付与された発明者ハインツ W.ゲオルギーの米
国特許第3800794号「流体の流れを制御する方法
と装置」に記載されている様な種類の滴下制御装
置の新規な改良を提供するものである。前掲特許
の開示内容をこゝでは引用によつて具体的に取入
れることにする。この発明の改良は、選ばれた滴
下率の関数として、制御パルス周波数と滴下率と
の比を変えるものである。

即ち、この発明では、流体導管を略締切つた状
態にクランプし、単位時間内での前記流体導管の
反復的な開閉動作を制御するパルスの周波数を所
望の滴下数より高く設定すると共に、この制御パ
ルス周波数と所望の滴下数との比を、滴下数が少
ないときは大きく、滴下数が多いときは小さくな
るように可変して滴下量を制御することを特徴と
するものであり、この結果、滴毎に、滴の歪みが
少なくなると共に、滴の寸法は一層反復性があ
る。

制御パルス幅、即ち、各々の制御パルスに対し
て供給管を開く期間を変えることにより、滴下率
の別の制御が行われる。閉ループ装置により、制
御パルス幅を変えて実際の滴下率を調整し、それ
が所望の滴下率から狭い許容範囲内に保たれる様
にする。

例として云うと、供給管クランプ部材（普通は
管を締切る位置にある）が駆動器によつて管開放
位置へ反復的に移動する。駆動器は、可変パルス
発生器からのパルスによつて付勢される。この発
生器が所望の滴下率の大きな倍数である周波数で
制御パルスを発生する。各々の制御パルスの幅が
滴下率記憶装置によつて発生される制御電圧の振
幅によつて決定される。この記憶装置は、夫々滴
下率の測定値及び所望の値に比例する１対の電気
信号を比較し、これらの信号の間の電気的な差を
適正な極性で積分して、制御電圧の振幅を増減す
る。こうして所望の滴下率を設定する為の適正な
パルス幅になるまで制御パルスの精密な調整が行
われる。

更にこの発明は前述の装置で、制御パルス周波
数と滴下率との比を変えて、この比は小さい滴下
率の時大きく、大きい滴下率の時は小さくなる様
にする。この可変比を使うことにより、滴下率が
非常に小さい時のIV管の壁の膠着の問題、並び
に滴下率が非常に大きい時の管の挟みの緩動又は
慣性による遅れの問題が軽減される。典型的に
は、この発明の現在好ましいと考えられる実施例
を例にして云うと、この比は1DPM（drops per
minute）又はそれ以下という様な非常に小さい
滴下率の時に15.5まで増加することも出来るし、
342DPM又はそれ以上という非常に大きい滴下率
の時は2.5まで減少することができる。これらの
限界の間の滴下率は、15.5及び2.5の間の複数個
の相異なる比に合せる。制御パルス周波数と滴下
率との比の値は連続的に或いは階段関数として変
えることが出来、当業者が周知のマイクロプロセ
ツサを含む任意のアナログまたはデイジタル手段
によつて行つても、この発明の範囲を逸脱しな
い。

この発明の新規で改良された流体流れ制御装置
は広範囲にわたつて滴下率を選択し且つ維持する
際に、極めて正確で信頼性があり、使い易い。従
つて、この発明の装置は滴下率を人間が監視する
ことに伴う時間のロス並びにそれに伴う誤差を更
に少なくすると共に、医療職員が他の仕事にかゝ
れる様にする。

この発明の上記並びにその他の目的及び利点
は、以下図面について実施例を詳しく説明する所
から明らかになろう。

〔好ましい実施例の説明〕

特に図面の第１図には、この発明の新規な特徴
を実施した滴下制御装置が示されている。以下の
説明で、「IV」と云う用語は普通は静脈投与又は
更に広義に非経口投与を意味するが、これは例に
すぎず、この発明の滴下制御装置が他の医療用流
体の投与にも適していることを承知されたい。

滴下率を制御するには、IV溶液投与装置で起
る実際の滴下率を連続的に監視することが必要で
ある。第１図の装置では、これが滴下監視装置に
よつて行われる。この監視装置は滴感知装置１０
と、落下する時に各々の滴を検出して、滴下率に
正比例する周波数で電気パルス列を発生するパル
ス発生器１２とを含む。

滴感知装置１０がIV投与装置の滴室（図に示
してない）に於ける滴流を監視し、典型的には感
知装置ハウジング（図に示してない）を含んでい
てよい。このハウジングには、基準光源と、それ
から隔たる光電池とを収容して、その間に光感知
用すき間を構成し、光電池には通常基準光ビーム
が入射する様にしてある。ハウジングがIV装置
の滴室に適当にクランプされており、滴室が基準
ビームを遮る様に感知用すき間の中に位置ぎめさ
れている。滴室内の流体の落下する滴が基準ビー
ムを遮り、光電池の電気的な応答の変化が、滴の
存在を表示する様に、適当な回路に連絡される。
光電池監視装置が滴感知装置１０には理想的に適
しているが、滴の存在の電気表示を発生し得る任
意の滴感知装置を使つても、この発明の範囲を逸
脱しないことは云うまでもない。

パルス発生器１２が感知装置１０の電気出力を
線１１を介して受取るが、これは典型的には通の
エクレス・ジヨルダン形単安定フリツプフロツプ
（ワンシヨツト）であり、滴感知装置１０によつ
て滴が検出される度に、所定のパルス幅及び振幅
を持つ出力パルスを発生する。典型的にはパルス
発生器１２が測定された滴下率に比例する正に向
うパルス列を、線１３を介してパルス幅制御流量
記憶装置１４に対する電気入力として発生する。

流量記憶装置１４に対する第２の電気入力が、
可変周波数パルス発生器１６からの負に向うパル
ス列として線１５を介して供給される。パルス発
生器１６は典型的には可変周波数矩形波発生器で
あつて、図面の第３図に詳細に示す様な、滴下率
選択及び制御パルス周波数対滴下率比発生装置に
よつて決定された周波数で負のパルス列を発生す
る。この点、第１図の滴下率選択器１７がその電
圧出力を線１８を介して可変周波数パルス発生器
１６に送り、この発生器からの出力パルス周波数
を設定すると同時に、線１９を介して制御パルス
周波数対滴下率比選択器２０を条件づける。この
選択器が選択された滴の割合に対する適切な比を
決定し、線２１からの電気入力によつてパルス発
生器１６を条件づける。

測定された滴下数を表わす、パルス発生器１２
から線１３を介して供給される正のパルス列、並
びに所望の滴下数を表わす、パルス発生器１６か
ら線１５を介して供給される負のパルス列が、流
量記憶装置１４で組合されて比較される。測定さ
れた流量及び所望の流量を表わす信号の間の電気
的な差が適正な極性で流量記憶装置で積分され、
記憶装置から線２２を介して、選択的に可変の出
力パルス幅を持つパルス発生器２３に対する電気
制御入力として供給される直流出力制御電圧の振
幅を増減する。可変パルス幅発生器２３は可変周
波数パルス発生器１６から線２５を介してのパル
ス列入力をも受取る。滴下率記憶装置１４からの
制御圧によつて制御することが出来る任意の可変
幅パルス発生回路を可変パルス幅発生器２３に用
いても、何等この発明の範囲を逸脱しないことは
云うまでもない。

パルス幅制御用の滴下率記憶装置１４は比選択
器２０からの線２４を介して電気入力をも受取
り、線１３，１５のパルス列に適正な重みがかけ
られる様にする。この為の適正な滴下率記憶装置
が図面の第４図に示されている。

パルス発生器２３からの出力パルスが線２６を
介して駆動器２７に対する付勢パルス入力として
送られる。駆動器２７がクランプ部材２８の様な
管操作装置を可撓性のIV供給管２９から遠ざけ、
こうして流体が流れる様に供給管を開く。クラン
プ部材２８は普通は、管２９を締切つた状態に挟
みつける位置へばねで荷重されている。

線２６からの各々の出力パルスがクランプ部材
２８を後退させ、こうして付勢するパルス幅の持
続時間の間、供給管２９を開かせる。

前掲米国特許第3800794号に記載されている様
に、パルス発生器１６から線１５及び２５を介し
て送られる制御パルス出力は、希望する実際の滴
下率の倍数である。駆動器のパルス周波数と実際
の滴下率との比が増加すると、滴の寸法の歪み、
並びにそれに伴つて一貫した滴の寸法の反復性の
欠如が小さくなる。駆動器のパルス周波数所望の
滴下率との比を整数以外の比較的高い値にするこ
とにより、最も良い結果が得られる。

特に滴下率が非常に低い時、IV管２９の壁は
膠着する傾向を持ち、クランプ部材２８によつて
締切られる期間が長ければ長い程、管の膠着が著
しくなり、滴の流れに不正確さを持込む可能性が
生ずる。これは液体の非経口投与に普通使われる
ビニールのIV管の場合特にそうであるが、程度
は異なつても、他のプラスチツク及びエラストマ
のIV管材料の場合も同じである。

滴下率が高い時、クランプ部材２８は駆動器か
らのパルスに対して機械的な低域濾波器として振
舞い、こうして慣性による遅れを持込むので、駆
動器からのパルスの合間に、クランプ部材はIV
管２９を完全に締切らずに、途中まで開いた位置
でまごつくことがあることも判つた。これも滴の
流れに不正確さを導入する倶れのある状態であ
る。

この為、この発明では、制御パルス周波数と滴
下率との比を、選択された全ての滴下率に対して
一定の比に保つ代りに、選ばれた滴下率と共に変
える。これに関連して云うと、制御パルス周波数
と滴下率との比は、滴下率が小さい時は比を大き
くし、滴下率が大きい時は小さくなる様に変えら
れる。選ばれた滴下率の関数としてこの様に可変
の比を使うことにより、滴下率が非常に小さい時
のIV管の壁の膠着の問題、並びに滴下率が非常
に大きい時の管挟みのまごつきは又は慣性による
遅れの問題が軽減される。典型的には、この発明
の現在好ましいと考えられる実施例について云う
と、この比は11DPM又はこれを未満と云う様な
非常に小さい滴下率の時の15.5まで増加すること
が出来ると共に、342DPM又はそれより大きい様
な非常に大きな滴下率の時には2.5まで減少する
ことが出来る。こういう限界の間の滴下率が選択
された滴下率の関数として選択され、適当な比の
値は15.5と2.5の間にある。

第２図はこの発明の現在好ましいと考えられる
実施例で、０と380DPMの間の選択された滴下率
に対する、制御パルス周波数と滴下率との比の典
型的な値を記載した表である。制御パルス周波数
と滴下率との比の値は連続的に又は階段関数で変
えることが出来、マイクロプロセツサ又はその他
の計算機を用いたものを含めて、任意の公知のア
ナログ又はデイジタル手によつて行うこと出来、
そうしてもこの発明の範囲を逸脱しない。

この為、この発明では、IV供管２９に流れる
各々の滴が、最終的な滴を構成する連続する流体
の本体を形成する様に、互いにくつついた多数の
一層小さな滴部分で構成される。最終的な滴は、
この為、パルス発生器２３からの付勢パルスの制
御の下に段階的に成長する。制御パルス周波数と
滴下率との比が、選択された滴下率の関数として
変えられる。制御パルスの幅または持続時間が滴
感知装置１０、パルス発生器１２及び滴下率記憶
装置１４を含む閉ループ装置によつて変えられ、
実際に測定された滴下率を、パルス発生器１６か
らのパルス出力によつて示される所望の滴下率に
確実に調整される様にする。

滴下率記憶装置１４からの制御電圧出力が、線
３０を介して限界外状態があれば、それを検出す
る任意の適当な監視警報装置（図に示してない）
にも送られる。こういう監視警報装置は、可聴又
は可視警報器（図に示してない）を選択的にトリ
ガする高レベル弁別器及び低レベル弁別器の様
に、業界で周知の任意の形式にすることが出来
る。

滴下率選択器１７、制御パルス周波数対滴下率
比選択器２０及び可変周波数パルス発生器１６の
作用を行うのに適した装置の１例が図面の第３図
に示されている。

第３図の措置は、例として、制御パルス周波数
対滴下率の比１乃至比４に対応する４種類の異な
る比信号S1−S4を決定する手段を構成している。
然し、４つの比を選んだのは例にすぎず、選択さ
れた滴下率の適当な関数である任意の数の比を使
うことが出来るし、この発明の範囲を逸脱せず
に、アナログ、デイジタルの任意の便利な方法
で、又は計算機によつて、決定することが出来る
ことは云うまでもない。

比選択器１７が第３図では可変ポテンシヨメー
タとして概略的に示されている。これが可変周波
数パルス発生器１６に対する入力として、線１９
にアナログ信号を発生する。比選択器１７は、比
信号S1−S4を決定する比較回路に対し、線１８
にも同じ電気出力を発生する。

比較回路が正の電圧源と大地の間に、普通の重
みづけ抵抗梯子形回路として直列に接続された４
つの梯抗32乃至35、３つの比較器37乃至39、３つ
の論理インバータ41乃至43、及び１対のアンド・
ゲート４５，４６を含む。各々の比較器は抵抗梯
子形回路から１つの入力を受取り、もう１つの入
力を比較器１７から受取る。比較回路は、どんな
時も、一度に１個の制御パルス周波数対滴下率の
比を排他的に決定するので、どんな時も、一度に
１つの比信号S1乃至S4だけが「真」であり、他
の全ての比信号はその時「虚偽」である。

例えば非常に大きい滴下率が選択されたと仮定
すると、全ての比較器３７乃至３９から夫々線４
７乃至４９に出る電気出力は全て「真」である。
従つて、線４７の比信号４が「真」である。然
し、インバータ４１乃至４３がある為、比信号Ｓ
１乃至Ｓ３は全部「虚偽」である。これより低い
滴下率を選択した場合、線４７の出力は「虚偽」
であるが、線４８，４９は依然として「真」であ
る。線４７の「虚偽」出力が反転されてアンド・
ゲート４５に対する「真」入力になり、この為、
比信号Ｓ３が「真」になる。然し、他の全ての比
信号Ｓ１，Ｓ２及びＳ４は依然として「虚偽」で
ある。同様に、更に小さい滴下率を選択した場
合、比較器３９から線４９に出る出力だけが
「真」であり、この結果アンド・ゲート４６の出
力で比信号Ｓ２が「真」になる。他の全ての比信
号Ｓ１，Ｓ３及びＳ４は「虚偽」になる。これに
より更に小さい滴下率を選択した場合、従つて唯
一の「真」の比信号は、インバータ４３の反転出
力、即ち比信号Ｓ１である。他の全ての比信号Ｓ
２乃至Ｓ４は「虚偽」である。

比信号Ｓ１乃至Ｓ４を使つて可変周波数パルス
発生器１６を制御し、比選択器１７から線１９を
介して入力される任意の所定の制御電圧に対し
て、パルス発生器の周波数出力を変える。比信号
Ｓ１乃至Ｓ４は、発振周波数を変える様に発振器
回路にある部品の数値を切換えると云う様な任意
の便利な方法で、パルス発生器１６を修正するこ
とが出来る。

パルス幅制御用の滴下率記憶装置１４に必要な
作用を実施するのに適した電気回路の１実施例が
図面の第４図に示されている。パルス発生器１６
からの負のパルス列が線１５を介して複数個の電
流決定抵抗Ｒ１乃至Ｒ４の内の選ばれた１つ及び
ダイオードＤ１を通り、普通の演算増幅器３１の
負のチヤンネルに入力される。この増幅器は、コ
ンデンサIC１と共に普通の積分形式に電気配線
されており、線２２を介して可変幅パルス発生器
２３に対する直流制御電圧を出力する。同様に、
パルス発生器１２からの正のパルス列が線１３を
介して、複数個の電流決定抵抗Ｒ５乃至Ｒ８の内
の選ばれた１つ及びダイオードＤ２を通り、ダイ
オードＤ１を通つた負のパルス列と同じ増幅器３
１の負のチヤンネルに対する別の入力となる。

測定された滴下率及び所望の滴下率が同じであ
れば、正及び負のパルスが互いに略相殺するの
で、増幅器３１に対する正味の電気入力はゼロで
あり、線２２の直流制御電圧出力は一定にどゞま
る。所望の滴下率が測定された滴下率より高けれ
ば、制御電圧出力は更に正に移るが、測定された
滴下率が所望の滴下率より高ければ、制御電圧は
負に移る。増幅器３１に対する電気入力が遮断さ
れた場合、増幅器の直流制御電圧出力は遮断前の
最後のレベルに一定のまゝに保たれることが理解
されよう。

第４図に示す様に、特定の抵抗Ｒ１乃至Ｒ４及
びＲ５乃至Ｒ８が、適当なリレー駆動器５１乃至
５４の制御の下に、夫々連動スイツチSW１乃至
SW４及びSW５乃至SW８により、対応する対と
して選択される。これらのリレー駆動器５１乃至
５４が、第３図の制御パルス周波数対滴下率の比
選択装置からの出力である比信号Ｓ１乃至Ｓ４に
よつて選択的に付勢される。抵抗比が、積分器に
対するパルス列に対する重みになる。勿論、この
切換え装置はリレー、FETスイツチ、計算機の
制御又は任意の同等の装置によつて行うことが出
来る。

この様にして、例えば図面の第２図及び第３図
に例示する様に、可変周波数パルス発生器１６及
びパルス幅制御用の滴下率記憶装置１４が比選択
器１７の調節によつて所望の滴下率が変えられた
時に起る制御パルス周波数と滴下率との可変のに
対し、適正に調節され且つ補償される。

この発明の滴の流れを制御する新規で改良され
た方法並びに装置は、非常に広い範囲にわたつて
滴下率を選択し且つ維持する際にデイジタルの精
度を持つ極めて正確で、比較的低コストで、信頼
性があつて使い易い装置に対する医療業界の長年
の要望を充たすものである。この発明の装置は、
温度変化、供給管の折れ曲げ、患者の静脈又は動
脈圧力の変動、患者の筋肉活動又は1IVびん内の
高さの変動又はびん内の溶液の液面の変動に実質
的に無関係に、選択された滴下率を保つ様に作用
する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の流体流れ制御装置のブロツ
ク図である。第２図はこの発明の現在好ましいと
考えられる実施例に従つて、選ばれた滴下率に対
し、制御パルス周波数と滴下率との比の典型的な
値を示す表である。第３図はこの発明の流れ制御
装置に使うのに適した、制御パルス周波数と所望
の滴下率との対応する適切な比を発生する手段を
含む、滴下率選択及び制御パルス発生装置のブロ
ツク図兼回路図である。第４図は第３図に示した
装置によつて発生される可変の制御パルス周波数
と所望の滴下率との比の制御の下に動作する滴下
率記憶装置の回路図である。 １０……滴感知装置、１２……パルス発生器、
１４……パルス幅制御流量記憶装置、１６……可
変周波数パルス発生器、１７……滴下率選択器、
２０……制御パルス周波数対滴下率比選択器、２
３……可変パルス幅発生器、２７……駆動器、２
８……管操作装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 滴形成手段並びに該滴形成手段に結合された
   流体導管手段を用いて医療用流体を非経口投与す
   る際、前記流体導管手段を通る滴下量を制御する
   方法に於て、前記流体導管を略締切つた状態にク
   ランプし、単位時間内での前記流体導管の反復的
   な開閉動作を制御するパルスの周波数を所望の滴
   下数より高く設定すると共に、この制御パルス周
   波数と所望の滴下数との比を、滴下数が少ないと
   きは大きく、滴下数が多いときは小さくなるよう
   に可変にして滴下量を制御することからなる方
   法。 ２ 請求の範囲１に記載した方法に於て、管を開
   く周期が所望の滴下数の整数倍である方法。 ３ 請求の範囲１に記載した方法に於て、管を開
   く周期が所望の滴下数の整数以外の倍数である方
   法。 ４ 滴形成手段並びに滴形成手段に結合した流体
   導管を用いて医療用流体を経口投与する装置にお
   いて、前記流体導管を締切つた状態にクランプす
   るクランプ手段と、所望の滴下数より高い周波数
   の制御パルスを発生して前記クランプ手段を開状
   態に周期的に付勢することで前記管を流体の流れ
   に対して開放する電気パルス駆動手段とを有し、
   前記制御パルスの周波数と前記滴下数との比は滴
   下数が少ない時は大きく、滴下数が多い時は少な
   くなるようにすると共に、所望の滴下数に比例す
   る電気信号を発生する流量設定手段と、前記管を
   通る実際の滴下数を監視して測定された滴下数に
   比例する電気信号を発生する流れ監視手段と、前
   記流量設定手段及び流れ監視手段の両方に応答し
   て前記パルス駆動手段からのパルスの周波数を調
   整する手段とを有する装置。