JPH03249920A - フルオロカーボンガスの分解方法 - Google Patents
フルオロカーボンガスの分解方法Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は触媒を用いてフルオロカーボン(以下、フロン
と略称する)を分解して無公害化する方法に関する。
と略称する)を分解して無公害化する方法に関する。
成層圏オゾン層枯渇問題が近年クローズアップされ、主
要な破壊物質の一つであるフロンガスの使用抑制が進釣
られている。フロンガスはフッ素または塩素を含む炭化
水素で構成され、無色、無臭、毒性がなく、不燃性でも
あるため、これまで冷凍庫の冷媒や発泡剤等幅広い分野
に利用されている。ところが、近年フロン排出規制が厳
しくなるにつれフロン代替物質や回収システムの開発が
鋭意進められている。一方、現在使用されているフロン
も破壊し2次公害のない物質に変換することが求められ
ており、これまで、超音波利用、電磁気利用、超臨界流
体利用、触媒利用等の手法により検討が加えられている
。とりわけ、触媒利用によるフロンの分解法はフロン処
理法が簡便でありさらに安価となるため注目されている
方法である。
要な破壊物質の一つであるフロンガスの使用抑制が進釣
られている。フロンガスはフッ素または塩素を含む炭化
水素で構成され、無色、無臭、毒性がなく、不燃性でも
あるため、これまで冷凍庫の冷媒や発泡剤等幅広い分野
に利用されている。ところが、近年フロン排出規制が厳
しくなるにつれフロン代替物質や回収システムの開発が
鋭意進められている。一方、現在使用されているフロン
も破壊し2次公害のない物質に変換することが求められ
ており、これまで、超音波利用、電磁気利用、超臨界流
体利用、触媒利用等の手法により検討が加えられている
。とりわけ、触媒利用によるフロンの分解法はフロン処
理法が簡便でありさらに安価となるため注目されている
方法である。
フロンガスは非常に安定な物質であるた杓、これまで分
解用の触媒は存在しておらず、最近、AlCl3触媒に
よるフロン分解の試みがなされている。しかし、AlC
l3触媒は揮性性が大きく、さらに腐食などの問題を多
く抱えているため、固定床りアフターで分解可能で、か
つ2次公害のないものと交換できる触媒の開発が望まれ
ている。
解用の触媒は存在しておらず、最近、AlCl3触媒に
よるフロン分解の試みがなされている。しかし、AlC
l3触媒は揮性性が大きく、さらに腐食などの問題を多
く抱えているため、固定床りアフターで分解可能で、か
つ2次公害のないものと交換できる触媒の開発が望まれ
ている。
([発明が解決しようとする課題〕
本発明は上記技術水準に鑑み、上記AlC1,触媒の有
するような問題点のない触媒を用いてフロンを分解する
方法を提供しようとするものである。
するような問題点のない触媒を用いてフロンを分解する
方法を提供しようとするものである。
本発明は
(1) IV族金属の水酸化物もしくは酸化物及び/
又は用族金属の水酸化物もしくは酸化物からなる担体に
、硫黄又はハロゲンを含む処理剤を含有させ、焼成安定
化して得られた固体超強酸触媒に゛フロンを流通させる
ことを特徴とするフロンガスの分解方法 (2)上記のフロンガス分解方法で使用される固体超強
酸触媒に、ニッケル、白金、ルテニウム、ロジウム、オ
スミウム、パラジウム、イリジウム等の■族金属を担持
し、水素活性、水蒸気改質活性を賦与した触媒に、フロ
ンを流通させることを特徴とするフロンガスの分解方法 である。
又は用族金属の水酸化物もしくは酸化物からなる担体に
、硫黄又はハロゲンを含む処理剤を含有させ、焼成安定
化して得られた固体超強酸触媒に゛フロンを流通させる
ことを特徴とするフロンガスの分解方法 (2)上記のフロンガス分解方法で使用される固体超強
酸触媒に、ニッケル、白金、ルテニウム、ロジウム、オ
スミウム、パラジウム、イリジウム等の■族金属を担持
し、水素活性、水蒸気改質活性を賦与した触媒に、フロ
ンを流通させることを特徴とするフロンガスの分解方法 である。
本発明で担体として用いる■族及び/又は■族の金属水
酸化物もしくは酸化物の一例をあげれば、チタン、ジル
コニウム、シリカ、ケルマニウム、スズ、アルミニウム
、ガリウム、インジウムなどであり、これらの金属を少
なくとも1種用いることができる。
酸化物もしくは酸化物の一例をあげれば、チタン、ジル
コニウム、シリカ、ケルマニウム、スズ、アルミニウム
、ガリウム、インジウムなどであり、これらの金属を少
なくとも1種用いることができる。
担体に含有させる硫黄またはハロゲンを含む処理剤とし
ては、電子吸引作用、電気隘性度が大キイH2so<、
PSO3H,CF13SO3H,Cl5O3H,5O
2C]2゜HF、 5bFs、 TaF5. PFs、
ASFS、 5IF4. UF6. BF2゜F2.
C12,5ICI−、HCI、 CCL−F、 CC
l2F2. CCIFaから選択される少なくとも1種
があげられる。
ては、電子吸引作用、電気隘性度が大キイH2so<、
PSO3H,CF13SO3H,Cl5O3H,5O
2C]2゜HF、 5bFs、 TaF5. PFs、
ASFS、 5IF4. UF6. BF2゜F2.
C12,5ICI−、HCI、 CCL−F、 CC
l2F2. CCIFaから選択される少なくとも1種
があげられる。
これらの処理剤は含浸法、気相蒸着法(CVD法)等に
より担体上に導入することができる。
より担体上に導入することができる。
処理剤の担持量は担体100重量部に対して0.1〜4
0重量部が好ましい。0.1重量部以下では硫黄又はハ
ロゲンの電子吸引効果が乏しいため固体酸触媒としては
酸強度が弱く、一方、40重量部以上では硫黄又はハロ
ゲンが担体と化合物を形成して硫化物又はハロゲン化物
となり、触媒の活性劣化が顕著となる問題点が生じるが
らである。
0重量部が好ましい。0.1重量部以下では硫黄又はハ
ロゲンの電子吸引効果が乏しいため固体酸触媒としては
酸強度が弱く、一方、40重量部以上では硫黄又はハロ
ゲンが担体と化合物を形成して硫化物又はハロゲン化物
となり、触媒の活性劣化が顕著となる問題点が生じるが
らである。
また、上記担体に上記処理剤を含有させた後焼成安定化
を行うが、焼成安定化は400〜800′Cの温度で行
うことが好ましい。4QOt’以下では硫黄又はハロゲ
ン吉担体との相互作用が不十分であって十分な酸強度を
形成するに至らず、一方、800℃以上では多くの担体
が結晶転移を生じて表面積や酸性点が大幅に減少するた
め、触媒としての使用が困難となるからである。
を行うが、焼成安定化は400〜800′Cの温度で行
うことが好ましい。4QOt’以下では硫黄又はハロゲ
ン吉担体との相互作用が不十分であって十分な酸強度を
形成するに至らず、一方、800℃以上では多くの担体
が結晶転移を生じて表面積や酸性点が大幅に減少するた
め、触媒としての使用が困難となるからである。
さらに、上記触媒に■族金属例えばニッケル、白金、ル
テニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジ
ウム等を担持し、水素化活性、水蒸気改質活性等の機能
を具備させ安定な触媒活性を付与させることもできる。
テニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジ
ウム等を担持し、水素化活性、水蒸気改質活性等の機能
を具備させ安定な触媒活性を付与させることもできる。
固体超強酸触媒に■族金属を担持するに際して、白金、
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウムの場合には0.1〜3111t%の担持量が好ま
しく、鉄、コバルト、ニッケルの場合には1〜10wt
%の担持量が好ましい。
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウムの場合には0.1〜3111t%の担持量が好ま
しく、鉄、コバルト、ニッケルの場合には1〜10wt
%の担持量が好ましい。
■族金属を担持した固体超強酸触媒を用いてフロンを分
解する場合には、フロンと水蒸気あるいはフロンと水素
を同時に供給して該触媒により水蒸気改質反応あるいは
水素化反応によりフロンを分解する方法が用いられる。
解する場合には、フロンと水蒸気あるいはフロンと水素
を同時に供給して該触媒により水蒸気改質反応あるいは
水素化反応によりフロンを分解する方法が用いられる。
以下、本発明方法で使用する触媒調製例及び実施例をあ
げ、本発明の効果を明らかにする。
げ、本発明の効果を明らかにする。
〔触媒調製例1〕
市販のオキシ塩化ジルコニウム(第一希元素■製)20
0gを純水2j2に溶解させ、適当量のNazCLを加
えpHを10と1−沈殿を生成させた。
0gを純水2j2に溶解させ、適当量のNazCLを加
えpHを10と1−沈殿を生成させた。
この沈殿を一昼夜熟成し、ろ過、洗浄、乾燥を行い、Z
r (0)1) 、の白色粉末を70gを得た。次に、
この白色粉末をIN硫酸300 cc中に3時間浸漬し
、過剰の硫酸をろ過した後、110℃−昼夜乾燥し、さ
らに600℃で3時間焼成して触媒層を得た。
r (0)1) 、の白色粉末を70gを得た。次に、
この白色粉末をIN硫酸300 cc中に3時間浸漬し
、過剰の硫酸をろ過した後、110℃−昼夜乾燥し、さ
らに600℃で3時間焼成して触媒層を得た。
触媒AはSL(5wt%)/ZrO,の組成である。
〔触媒調製例2〕
四塩化チタン(和光純薬製)100gを純水200gに
溶解させpH調整を行って、沈殿を生成させ、この沈殿
を熟成、ろ過、乾燥し、Ti(旧I)4の白色粉末30
gを得た。さらに、この粉末を塩化スルフリル溶液i
o Omf!中にこの粉末を導入し、110℃で乾燥後
、600℃で3時間焼成して触媒Bとした。
溶解させpH調整を行って、沈殿を生成させ、この沈殿
を熟成、ろ過、乾燥し、Ti(旧I)4の白色粉末30
gを得た。さらに、この粉末を塩化スルフリル溶液i
o Omf!中にこの粉末を導入し、110℃で乾燥後
、600℃で3時間焼成して触媒Bとした。
触媒Bは5O2CI2(4,5讐t%)/TiO,の組
成であった。
成であった。
〔触媒調製例3〕
塩化アルミニウム(和光純薬製)100gを純水200
gに溶解させ、pH調整を行い、沈殿を生成させ、この
沈殿を熟成、ろ過、洗浄、乾燥を行い、AI (DH)
3の白色粉末50gを得た。
gに溶解させ、pH調整を行い、沈殿を生成させ、この
沈殿を熟成、ろ過、洗浄、乾燥を行い、AI (DH)
3の白色粉末50gを得た。
さらに、この粉末を400℃に設定された反応炉中に置
き、CCl2F2のフロンガスを100cc/minで
30分間送り込みハロゲン化処理した。
き、CCl2F2のフロンガスを100cc/minで
30分間送り込みハロゲン化処理した。
この粉末を取り出して大気中で600℃、3時間焼成し
て触媒Cを得た。
て触媒Cを得た。
触媒CはCl2F2 (7wt%)/Al2O,の組成
であった。
であった。
〔触媒調製例4〕
調製例1〜3で得られた触媒A (SQ4/2r02)
、触媒B (So□CI2 /Tl02)、触媒C(C
[hF2/AIJ3)を各々塩化白金酸水溶液(担体重
量100重量部に対し、白金金属に換算して0.5重量
部となるような濃度)中に含浸し110℃で一昼夜乾煙
後、550℃で3時間焼成して各々触媒D1E、Fを得
tこ。
、触媒B (So□CI2 /Tl02)、触媒C(C
[hF2/AIJ3)を各々塩化白金酸水溶液(担体重
量100重量部に対し、白金金属に換算して0.5重量
部となるような濃度)中に含浸し110℃で一昼夜乾煙
後、550℃で3時間焼成して各々触媒D1E、Fを得
tこ。
さらに、触媒Aに塩化パラジウム水溶液、塩化ルテニウ
ム水溶液、硝酸鉄水溶液、硝酸コバルト水溶液を各々担
体重量100に対してPd(0,5wt%)、 Ru(
0,5wt%)、 Fe(3wt%)、 Co(3wt
%)を含浸させて、Pd(0,5)/So、 /Zr0
z、 Ru(0,5)/S[]。
ム水溶液、硝酸鉄水溶液、硝酸コバルト水溶液を各々担
体重量100に対してPd(0,5wt%)、 Ru(
0,5wt%)、 Fe(3wt%)、 Co(3wt
%)を含浸させて、Pd(0,5)/So、 /Zr0
z、 Ru(0,5)/S[]。
/ ZrO,、Fe(3)/SO,/ ZrO,、Co
(3)/SO,/ ZrO,となる触媒を調製し、各々
触媒GSH,I、Jとした。
(3)/SO,/ ZrO,となる触媒を調製し、各々
触媒GSH,I、Jとした。
触媒りはPt (0,5wt%)/SO4(5vt%)
/ZrO,、触媒EはPt(0,5讐t%)/S[]2
C1,(4,5wt%)/TiO,、触媒FはPt (
0,5wt%)/Cl2Fi (7wt%)/^120
3.触媒GはPd(0,5wt%)/SO4(5wt%
)/ZrO2,触媒HはRu (0,5wt%)/S0
4 (5wt%)/2rO,、触媒IはFB(3wt%
)/SO4(5wt%)/ZrO2及び触媒JはCo
(3wt%)/SO,(5wt%)/ZrO2の組成で
あった。
/ZrO,、触媒EはPt(0,5讐t%)/S[]2
C1,(4,5wt%)/TiO,、触媒FはPt (
0,5wt%)/Cl2Fi (7wt%)/^120
3.触媒GはPd(0,5wt%)/SO4(5wt%
)/ZrO2,触媒HはRu (0,5wt%)/S0
4 (5wt%)/2rO,、触媒IはFB(3wt%
)/SO4(5wt%)/ZrO2及び触媒JはCo
(3wt%)/SO,(5wt%)/ZrO2の組成で
あった。
〔触媒調製例5〕
アナターゼ型の二酸化チタン(チタニア−Ti02>
100 gを300ccIN硫酸に1時間浸漬し過剰
の硫酸をろ過した後110℃−昼夜乾燥後、550℃で
3時間焼成して触媒Kを得た。
100 gを300ccIN硫酸に1時間浸漬し過剰
の硫酸をろ過した後110℃−昼夜乾燥後、550℃で
3時間焼成して触媒Kを得た。
さらに、シリカゲル(Sin□)、酸化ゲルマニウム(
Gem2)、水酸化スズ(Sn(D)l)2) 、二酸
化スズ(SnL)、酸化ガリウム(Ga20s) 、酸
化インジウム(InJ3)を用いて各々IN硫酸溶液中
に3時間浸漬し、過剰の硫酸をろ過した後、110℃−
昼夜乾燥、さらに550℃で4時間焼成して触媒り、M
SN、0.P及びQを得た。
Gem2)、水酸化スズ(Sn(D)l)2) 、二酸
化スズ(SnL)、酸化ガリウム(Ga20s) 、酸
化インジウム(InJ3)を用いて各々IN硫酸溶液中
に3時間浸漬し、過剰の硫酸をろ過した後、110℃−
昼夜乾燥、さらに550℃で4時間焼成して触媒り、M
SN、0.P及びQを得た。
触媒にはSO4(5ivt%)/Tin2.触媒りはS
O,(5wt%)/5102.触媒MはSO<(4wt
%)/GeL、触媒NはSO3(5wt%)/5nD2
.触媒Oは304 (6wt%) / S n D 2
、触媒PはS04 (5wt%)/6aaos及び触
媒QはSO4(5wt%)/In2O3の組成であった
。
O,(5wt%)/5102.触媒MはSO<(4wt
%)/GeL、触媒NはSO3(5wt%)/5nD2
.触媒Oは304 (6wt%) / S n D 2
、触媒PはS04 (5wt%)/6aaos及び触
媒QはSO4(5wt%)/In2O3の組成であった
。
〔実施例1〕
調製例1〜40手法にて調製した触媒A−Fと触媒に−
Qを0.50〜1.0On+lOの粒径に成型して、長
さ25cm、内径l cmの石英ガラス製常圧固定床流
通式反応管に各々10g充填した。
Qを0.50〜1.0On+lOの粒径に成型して、長
さ25cm、内径l cmの石英ガラス製常圧固定床流
通式反応管に各々10g充填した。
触媒充填後、反応管を窒素ガス気流中500tx3時間
パージして前処理を行った後、反応温度に設定する。次
に、代表的なフロンガスであるフロン12(CCI。F
、)を窒素ガスにて10%濃度にて希釈し、触媒層に1
oOcc/minにて供給した。
パージして前処理を行った後、反応温度に設定する。次
に、代表的なフロンガスであるフロン12(CCI。F
、)を窒素ガスにて10%濃度にて希釈し、触媒層に1
oOcc/minにて供給した。
原料供給2時間後の得られたガス生成物は水上置換した
後ガスクロマトグラムにて分析を行い、転化率及びガス
組成を分析した。分析結果を表1に示す。
後ガスクロマトグラムにて分析を行い、転化率及びガス
組成を分析した。分析結果を表1に示す。
なお、ガス生成物は[DとC02を定量し、残りをその
他として分類した。その他には、CDCl□。
他として分類した。その他には、CDCl□。
C1□、 F2. H[:l、 HF、 CC1,等が
含まれていた。
含まれていた。
〔実施例2〕
触媒A、D、Eを用いて実施例1と同様に反応管に10
g充填した。触媒を窒素ガスで500’Cx3時間パー
ジし、前処理を行った後、所定温度に設定した。
g充填した。触媒を窒素ガスで500’Cx3時間パー
ジし、前処理を行った後、所定温度に設定した。
10%窒素希釈フロン12 (CCI、F2)を10
0cc/minで供給し、同時に水を5 g/hで供給
し、反応温度400℃にて水蒸気改質反応を行った。原
料供給時間後のフロン12の転化率を、また得られたガ
ス生成物は水上置換した後ガスクロマトグラムにて分析
した。
0cc/minで供給し、同時に水を5 g/hで供給
し、反応温度400℃にて水蒸気改質反応を行った。原
料供給時間後のフロン12の転化率を、また得られたガ
ス生成物は水上置換した後ガスクロマトグラムにて分析
した。
転化率及びガス組成を表2に示す。
なお、この反応式は主に
CC1,l?2+ 211.0 → CO,+28F
+ 28C1であり、HF、 IIcIは水中にて、ト
ラップされており、ガス生成物は主にCD2であった。
+ 28C1であり、HF、 IIcIは水中にて、ト
ラップされており、ガス生成物は主にCD2であった。
なお表2のその他はほとんどHP、 HCIである。
表
〔実施例3〕
実施例1と同様に前処理を行い、10%フロン12
(CC12F、)/N2ベース100cc/minと高
濃度H2ガスを40cc/minで同時に触媒層へ供給
し、反応温度450℃にて水素化反応試験を実施した。
(CC12F、)/N2ベース100cc/minと高
濃度H2ガスを40cc/minで同時に触媒層へ供給
し、反応温度450℃にて水素化反応試験を実施した。
使用した触媒は触媒G、H,I、Jであり、原料供給2
時間後のフロン12の転イヒ率をまた水上置換して得ら
れたガス組成を表3に示す。
時間後のフロン12の転イヒ率をまた水上置換して得ら
れたガス組成を表3に示す。
なお、この反応式は1例を挙げれば
CCV2Fa+4L→ CH,+28C1+28CIで
あり、他にco、 co。、C2L等の副生成物が多く
認められた。
あり、他にco、 co。、C2L等の副生成物が多く
認められた。
−θ
LJ。
+!悩
L’IO
型V
Q瞼
中ミ
〔実施例4〕
触媒りを用いて実施例2と同様にして触媒の寿命試験を
実施した。原料(10%CCl2F2/N2゜1+ 2
0 )供給100時間後、500時間後のフロン12
(CCV、F2)の転化率及び分解生成物の組成を表4
に示す。
実施した。原料(10%CCl2F2/N2゜1+ 2
0 )供給100時間後、500時間後のフロン12
(CCV、F2)の転化率及び分解生成物の組成を表4
に示す。
本実施例の結果より、フロン12は本発明によって使用
される触媒により簡単にCO2やHF11(CI等に分
解されることが判明した。なおHP。
される触媒により簡単にCO2やHF11(CI等に分
解されることが判明した。なおHP。
1101等の酸は既存の技術によって容易にアルカリ中
和処理することができる。こ−で使用される触媒はフロ
ン12の分解に対して高活性、長寿命であるばかりでな
く、排出規制されているフロンl 1 (C(’13
F)、フロン113 (C,C+、Fい、フロン114
(CCI、F、) フロン115 (CCIFs)
等においても効率的に分解することができる。
和処理することができる。こ−で使用される触媒はフロ
ン12の分解に対して高活性、長寿命であるばかりでな
く、排出規制されているフロンl 1 (C(’13
F)、フロン113 (C,C+、Fい、フロン114
(CCI、F、) フロン115 (CCIFs)
等においても効率的に分解することができる。
Claims (2)
- (1)IV族金属の水酸化物もしくは酸化物及び/又はI
II族金属の水酸化物もしくは酸化物からなる担体に、硫
黄又はハロゲンを含む処理剤を含有させ、焼成安定化し
て得られた固体超強酸触媒にフルオロカーボンを流通さ
せることを特徴とするフルオロカーボンガスの分解方法
。 - (2)請求項(1)のフルオロカーボンガスの分解方法
で使用される固体超強酸触媒に、ニッケル、白金、ルテ
ニウム、ロジウム、オスミウム、パラジウム、イリジウ
ム等のVIII族金属を担持し、水素活性、水蒸気改質活性
を賦与した触媒にフルオロカーボンを流通させることを
特徴とするフルオロカーボンガスの分解方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2044441A JPH03249920A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | フルオロカーボンガスの分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2044441A JPH03249920A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | フルオロカーボンガスの分解方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03249920A true JPH03249920A (ja) | 1991-11-07 |
Family
ID=12691575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2044441A Pending JPH03249920A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | フルオロカーボンガスの分解方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03249920A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5430230A (en) * | 1991-04-30 | 1995-07-04 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Method for disposing of organohalogen compounds by oxidative decomposition |
US5490941A (en) * | 1992-03-25 | 1996-02-13 | Kurita Water Industries, Ltd. | Method of treatment of a fluid containing volatile organic halogenated compounds |
US5531901A (en) * | 1992-03-25 | 1996-07-02 | Kurita Water Industries, Ltd. | Method of treatment of a fluid containing volatile organic halogenated compounds |
US6855305B2 (en) * | 1997-01-14 | 2005-02-15 | Hitachi, Ltd. | Process for treating fluorine compound-containing gas |
JP2007196204A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Kocat Inc | 半導体製造工程から発生する排ガスの処理装置及び方法 |
JP2011045832A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Hitachi Ltd | フッ素化合物分解触媒 |
CN110917872A (zh) * | 2019-11-05 | 2020-03-27 | 河北科技大学 | 一种液态合金吸收及催化氧化卤代烃的方法 |
-
1990
- 1990-02-27 JP JP2044441A patent/JPH03249920A/ja active Pending
Cited By (9)
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US7347980B2 (en) * | 1997-01-14 | 2008-03-25 | Hitachi, Ltd. | Process for treating fluorine compound-containing gas |
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CN110917872B (zh) * | 2019-11-05 | 2021-08-10 | 河北科技大学 | 一种液态合金吸收及催化氧化卤代烃的方法 |
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