JPH03242352A - 硬脆材料の洗浄方法 - Google Patents
硬脆材料の洗浄方法Info
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- JPH03242352A JPH03242352A JP3933990A JP3933990A JPH03242352A JP H03242352 A JPH03242352 A JP H03242352A JP 3933990 A JP3933990 A JP 3933990A JP 3933990 A JP3933990 A JP 3933990A JP H03242352 A JPH03242352 A JP H03242352A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は鉄分を微量に含む研磨剤、特に酸化セリウムを
含有する研磨剤でガラス等の硬脆材料を研磨した後の洗
浄方法に関する。
含有する研磨剤でガラス等の硬脆材料を研磨した後の洗
浄方法に関する。
酸化セリウムを含有する研磨剤は鉄分を微量に含むもの
であるが、酸化セリウムを含有する研磨剤で硬脆材料を
研磨した後に研磨面に残る酸化セリウムは、研磨面に強
固に付着する場合があり、スポンジローラーあるいは回
転ブラシ等を備えた市販の自動洗浄装置では、酸化セリ
ウムを完全に除去することは難しい。そこで、酸化セリ
ウムの除去を容易にするため、前記の自動洗浄装置によ
る洗浄を行なう前に、研磨した硬脆材料を予め水に浸す
（水浸漬）方法が、−ｇに広く用いられ、よい洗浄効果
をあげている。
であるが、酸化セリウムを含有する研磨剤で硬脆材料を
研磨した後に研磨面に残る酸化セリウムは、研磨面に強
固に付着する場合があり、スポンジローラーあるいは回
転ブラシ等を備えた市販の自動洗浄装置では、酸化セリ
ウムを完全に除去することは難しい。そこで、酸化セリ
ウムの除去を容易にするため、前記の自動洗浄装置によ
る洗浄を行なう前に、研磨した硬脆材料を予め水に浸す
（水浸漬）方法が、−ｇに広く用いられ、よい洗浄効果
をあげている。
ところが、上記のような従来の洗浄方法では、水浸漬の
工程において、硬脆材料表面に金属欠点を生ずることが
多く、歩留まりの低下をきたすなど、大きな問題となっ
ている。
工程において、硬脆材料表面に金属欠点を生ずることが
多く、歩留まりの低下をきたすなど、大きな問題となっ
ている。
上記金属欠点とは、硬脆材料表面に生ずる、中心部に茶
褐色の核を有し、その周囲に金属光沢を持つ円形または
擬円形の欠点であり、その直径は０．００１ｍ乃至５■
程度である。
褐色の核を有し、その周囲に金属光沢を持つ円形または
擬円形の欠点であり、その直径は０．００１ｍ乃至５■
程度である。
Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）による組成分析
の結果、同欠点の主成分は鉄であった。
の結果、同欠点の主成分は鉄であった。
中心核及び周囲の金属光沢部の間で組成に差が認められ
ないことから、両者は同じ、鉄を主成分とする組成物で
、単に厚みが異なっている（すなわち、褐色部分は厚く
、金属光沢部分は極めて薄い）だけであると考えられた
。
ないことから、両者は同じ、鉄を主成分とする組成物で
、単に厚みが異なっている（すなわち、褐色部分は厚く
、金属光沢部分は極めて薄い）だけであると考えられた
。
本発明は上記従来の問題点を解決し、硬脆材料を洗浄す
る際、大きな問題となっている金属欠点の発生を防止す
る洗浄方法を提供することを目的とする。
る際、大きな問題となっている金属欠点の発生を防止す
る洗浄方法を提供することを目的とする。
本発明の硬脆材料の洗浄方法は、鉄分を微量に含む研磨
剤で、硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材
料表面を洗浄する方法において、該水中に酸を添加して
水素イオン指数（ｐＨ）を５．５以下にした水溶液を用
いることを特徴とする。
剤で、硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材
料表面を洗浄する方法において、該水中に酸を添加して
水素イオン指数（ｐＨ）を５．５以下にした水溶液を用
いることを特徴とする。
本発明においては、核酸として酢酸、フタル酸。
クエン酸５ シュウ酸、酒石酸、アスコルビン酸。
エチレンジアミン四酢酸またはシクロヘキサン四酢酸を
水中に添加してｐＨを５．５以下にした水溶液を用いる
ようにしたものが好適である。
水中に添加してｐＨを５．５以下にした水溶液を用いる
ようにしたものが好適である。
本発明の硬脆材料の洗浄方法は、鉄分を微量に含む研磨
剤で硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材料
表面を洗浄する方法において、該水中にＦｅ”イオンあ
るいはＰｅ”イオンと錯塩を形成する薬剤を用いること
を特徴とする。
剤で硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材料
表面を洗浄する方法において、該水中にＦｅ”イオンあ
るいはＰｅ”イオンと錯塩を形成する薬剤を用いること
を特徴とする。
本発明においては、該薬剤としてクエン酸塩。
シュウ酸塩、酒石酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩、シ
クロヘキサンジアミン四酢酸あるいは０−フェナントロ
リンを用いて、水中でＦｅ”イオンあるいはＦｅ”イオ
ンと錯塩を形成させるようにしたｍｏｌ／ｌ以上にした
ものが好適である。
クロヘキサンジアミン四酢酸あるいは０−フェナントロ
リンを用いて、水中でＦｅ”イオンあるいはＦｅ”イオ
ンと錯塩を形成させるようにしたｍｏｌ／ｌ以上にした
ものが好適である。
本発明においては、該シュウ酸塩水溶液の濃度を０．０
５ｍｏ １ ／ １以上にしたものが好適である。
５ｍｏ １ ／ １以上にしたものが好適である。
本発明においては、該酒石酸塩水溶液の濃度を０．０１
ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である。
ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である。
本発明においては、該エチレンジアミン四酢酸塩水溶液
の濃度を０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが
好適である。
の濃度を０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが
好適である。
本発明においては、該シクロヘキサンジアミン四酢酸水
溶液の濃度を０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたも
のが好適である。
溶液の濃度を０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたも
のが好適である。
本発明においては、該０−フェナントロリン水溶液の濃
度をＯ，ＯＯｌｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適
である。
度をＯ，ＯＯｌｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適
である。
本発明の硬脆材料の洗浄方法は、鉄分を微量に含む研磨
剤で硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材料
表面を洗浄する方法において、該水中に還元剤を添加す
ることを特徴とする。
剤で硬脆材料面を研磨し、水中に浸漬して、該硬脆材料
表面を洗浄する方法において、該水中に還元剤を添加す
ることを特徴とする。
本発明においては、該還元剤としてアスコルビン酸ある
いはアスコルビン酸塩を水中に添加するようにしたもの
が好適である。
いはアスコルビン酸塩を水中に添加するようにしたもの
が好適である。
本発明においては、該アスコルビン酸水溶液の濃度を０
．ＯＯｌｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である
。
．ＯＯｌｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である
。
本発明においては、該アスコルビン酸塩水溶液の濃度を
０．０５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である
。
０．０５ｍｏ ｌ ／ １以上にしたものが好適である
。
どのようにして硬脆材料表面に金属欠点が発生するのか
、そのメカニズムを解明するため、以下に示す実験を行
なった。
、そのメカニズムを解明するため、以下に示す実験を行
なった。
実験：
研磨していないガラス板の表面を、酸化セリウム懸濁液
（酸化セリウムスラリー）を含ませたガーゼで拭き、表
面が乾燥する前に、表面に錆を帯びた鉄粉を全面にふり
かけて風乾させた。このガラス板を４５±１°Ｃにコン
トロールした水槽に一定時間浸した後、酸化セリウムを
洗浄除去し、表面を目視観察及び光学顕微鏡観察した。
（酸化セリウムスラリー）を含ませたガーゼで拭き、表
面が乾燥する前に、表面に錆を帯びた鉄粉を全面にふり
かけて風乾させた。このガラス板を４５±１°Ｃにコン
トロールした水槽に一定時間浸した後、酸化セリウムを
洗浄除去し、表面を目視観察及び光学顕微鏡観察した。
上記実験条件において浸漬時間を変えて実験を行なった
ところ、浸漬時間３０分のサンプルに実際に操業してい
るラインと同じ金属欠点の発生が認められた。
ところ、浸漬時間３０分のサンプルに実際に操業してい
るラインと同じ金属欠点の発生が認められた。
この実験結果から、以下のような金属欠点発生のメカニ
ズムが考えられた。即ち、酸化セリウムスラリー、ある
いは同スラリーを調製するために用いる水の中、あるい
は酸化セリウム粉体中に鉄粉（たいていの場合表面に錆
が生じている）が含まれていると、硬脆材料研磨面に酸
化セリウムとともに前記鉄粉が付着することがあり、表
面に付着した鉄粉は、水浸漬の際に鉄イオンを溶出し、
欠点を生ずる。
ズムが考えられた。即ち、酸化セリウムスラリー、ある
いは同スラリーを調製するために用いる水の中、あるい
は酸化セリウム粉体中に鉄粉（たいていの場合表面に錆
が生じている）が含まれていると、硬脆材料研磨面に酸
化セリウムとともに前記鉄粉が付着することがあり、表
面に付着した鉄粉は、水浸漬の際に鉄イオンを溶出し、
欠点を生ずる。
表面に付着した鉄粉からの溶出、再析出は、以下のよう
な反応に基づくものと考察される。
な反応に基づくものと考察される。
（鉄粉） Ｆｅ −） Ｆｅ”＋ ２ｅＦｅ” −
＋ Ｆｅ” 十ｅ （水中） ３ＨｚＯ＋ ３ｅ−→３０Ｈ−＋３／２
Ｈｚ（ガラス板表面上） Ｆｅ” ＋３０８−−＋
Ｆｅ（ＯＨ）ｚ↓よって、Ｆ、 （ＯＨ） ３析出防止
の方策として、本発明においては、以下のような手段を
講じた。
＋ Ｆｅ” 十ｅ （水中） ３ＨｚＯ＋ ３ｅ−→３０Ｈ−＋３／２
Ｈｚ（ガラス板表面上） Ｆｅ” ＋３０８−−＋
Ｆｅ（ＯＨ）ｚ↓よって、Ｆ、 （ＯＨ） ３析出防止
の方策として、本発明においては、以下のような手段を
講じた。
■ ｐＨコントロール
浸漬槽中に鉱酸、あるいは有機酸を添加することにより
、ｐＨを５．５以下に下げてＦｅ’＋イオンの加水分解
を防止する。鉱酸、有機酸類は、単独使用でも混合使用
でもよ（、ｐＨを５．５以下に、望ましくはｐｎを５以
下にすることにより、金属欠点を防止できる。ｐＨを一
定にコントロールするためには、前記酸の塩、あるいは
アンモニア水などのアルカリと混合使用した、いわゆる
緩衝液とすることが望ましい。
、ｐＨを５．５以下に下げてＦｅ’＋イオンの加水分解
を防止する。鉱酸、有機酸類は、単独使用でも混合使用
でもよ（、ｐＨを５．５以下に、望ましくはｐｎを５以
下にすることにより、金属欠点を防止できる。ｐＨを一
定にコントロールするためには、前記酸の塩、あるいは
アンモニア水などのアルカリと混合使用した、いわゆる
緩衝液とすることが望ましい。
これら薬剤の濃度は、各々０．ＯＯｌｍｏ ｉ、／ １
以上であることが望ましいが、ｐＦｆが５．５以下にコ
ントロールされていれば大きな影響はない。
以上であることが望ましいが、ｐＦｆが５．５以下にコ
ントロールされていれば大きな影響はない。
■ 鉄イオンの錯体形成によるマスキング浸漬槽中にＦ
ｅ３＋イオンあるいはＦｅ”イオンと錯塩を形成する薬
剤（錯化剤、キレート試薬）を添加し、Ｆｅ”イオンの
加水分解を防止する方法である。錯化剤としてはクエン
酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、エチレンジアミン四酢酸
塩、シクロヘキサンジアミン四酢酸あるいは０−フェナ
ントロリンが挙げられ、濃度を単独使用の場合で錯化剤
の種類により、０．００１〜０．１酬ｏ ｌ ／ １以
上となるように調節してやることにより金属欠点を防止
できる。２種以上の錯化剤類を混合使用してもよい。
ｅ３＋イオンあるいはＦｅ”イオンと錯塩を形成する薬
剤（錯化剤、キレート試薬）を添加し、Ｆｅ”イオンの
加水分解を防止する方法である。錯化剤としてはクエン
酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、エチレンジアミン四酢酸
塩、シクロヘキサンジアミン四酢酸あるいは０−フェナ
ントロリンが挙げられ、濃度を単独使用の場合で錯化剤
の種類により、０．００１〜０．１酬ｏ ｌ ／ １以
上となるように調節してやることにより金属欠点を防止
できる。２種以上の錯化剤類を混合使用してもよい。
前記錯化剤中では、０−フェナントロリンが最も効果的
であるが、０−フェナントロリンは価格が高いこと、浸
漬液が赤橙色を示すことなど不都合な点があるので、実
用上はエチレンジアミン四酢酸塩およびシクロヘキサン
ジアミン四酢酸が最適である。
であるが、０−フェナントロリンは価格が高いこと、浸
漬液が赤橙色を示すことなど不都合な点があるので、実
用上はエチレンジアミン四酢酸塩およびシクロヘキサン
ジアミン四酢酸が最適である。
■ 鉄イオンの還元によるマスキング
錯化剤以外のマスキング剤として、Ｆｅ３＋イオンをＦ
ｅ２＋イオンに還元する薬剤を用いることも可能である
。このような還元剤としてはアスコルビン酸あるいはそ
の塩が最適である。アスコルビン酸の場合は、濃度が０
．００１酬ｏ ｌ ／ １以上で金属欠点の発生を防止
できる。
ｅ２＋イオンに還元する薬剤を用いることも可能である
。このような還元剤としてはアスコルビン酸あるいはそ
の塩が最適である。アスコルビン酸の場合は、濃度が０
．００１酬ｏ ｌ ／ １以上で金属欠点の発生を防止
できる。
上記■、■および■の方法は、それぞれ単独で用いても
よいし、各々組合わせて行なってもよい。
よいし、各々組合わせて行なってもよい。
ただし、■から■の処理を２種以上組合わせて実施した
場合には、相乗効果が期待できる。
場合には、相乗効果が期待できる。
なお、本発明はガラスについて述べたが、ガラスと同様
に酸化セリウムを含有する研磨剤で研磨する他のセラミ
ックスなどの硬脆材料の表面洗浄にも、本発明を利用す
ることができる。
に酸化セリウムを含有する研磨剤で研磨する他のセラミ
ックスなどの硬脆材料の表面洗浄にも、本発明を利用す
ることができる。
以下に、本発明の実施例を示す。
実施例の及ぼす効果については、前記実験条件に準じ、
３０分間浸漬したガラスサンプルを、目視観察及び光学
顕微鏡観察により、ブランクサンプルと比較することに
より評価した。ここで、ブランクサンプルとは、前記実
験条件に準じ、鉄粉をふりかけて風乾させたガラスサン
プルをｐＨコントロール、鉄イオンのマスキングなどを
せずに、浸漬槽に蒸留水を用い、それに浸漬したものを
示す。
３０分間浸漬したガラスサンプルを、目視観察及び光学
顕微鏡観察により、ブランクサンプルと比較することに
より評価した。ここで、ブランクサンプルとは、前記実
験条件に準じ、鉄粉をふりかけて風乾させたガラスサン
プルをｐＨコントロール、鉄イオンのマスキングなどを
せずに、浸漬槽に蒸留水を用い、それに浸漬したものを
示す。
■ ｐＨコントロール
酸化セリウムを含む研磨剤で研磨した後のガラス板を、
ｐｔｒがコントロールされた液に浸漬することによる効
果として、ｐｆ（４，０に調製した０、１酬ｏｉ。
ｐｔｒがコントロールされた液に浸漬することによる効
果として、ｐｆ（４，０に調製した０、１酬ｏｉ。
／ｌ酢酸−酢酸ナトリウム緩衝液に浸漬した場合は、金
属欠点は、全く認められながった。しがしｐｉ（６，０
の０．１酬ｏ ｉ！／ ｌ酢酸−酢酸ナトリウム緩衝液
に浸漬した場合は、ブランクと同程度の欠点が出て好ま
しくなかった。一方、濃度を１／ｌ０に減少させた場合
、即ち、０．０１酬ｏ ｉ ／ ｌ酢酸−酢酸ナトリウ
ム緩衝液を用いた場合は、ｐＨが同じならば及ぼす効果
に差は認められながった。同、様な検討を他の緩衝液に
ついても行なった。その結果を第１表に示した。
属欠点は、全く認められながった。しがしｐｉ（６，０
の０．１酬ｏ ｉ！／ ｌ酢酸−酢酸ナトリウム緩衝液
に浸漬した場合は、ブランクと同程度の欠点が出て好ま
しくなかった。一方、濃度を１／ｌ０に減少させた場合
、即ち、０．０１酬ｏ ｉ ／ ｌ酢酸−酢酸ナトリウ
ム緩衝液を用いた場合は、ｐＨが同じならば及ぼす効果
に差は認められながった。同、様な検討を他の緩衝液に
ついても行なった。その結果を第１表に示した。
実施の結果、ｐＨが７以上の緩衝液、即ち、０．１酬ｏ
ｌ／ｌ２ギ酸−ギ酸アンモニウム緩衝液および０．１酬
ｏｌ／ｌアンモニアー塩化アンモニウム緩衝液に浸漬し
た場合には、ブランクよりもひどい欠点が生じた。０．
１ｓｏｆ／ｌフタル酸−水酸化ナトリウム緩衝液につい
ては、ｐＨが４．０．５．０の場合には、金属欠点を全
く生じなかったが、ｐ！（を６．０とした場合には、ブ
ランクと同程度の欠点が出た。
ｌ／ｌ２ギ酸−ギ酸アンモニウム緩衝液および０．１酬
ｏｌ／ｌアンモニアー塩化アンモニウム緩衝液に浸漬し
た場合には、ブランクよりもひどい欠点が生じた。０．
１ｓｏｆ／ｌフタル酸−水酸化ナトリウム緩衝液につい
ては、ｐＨが４．０．５．０の場合には、金属欠点を全
く生じなかったが、ｐ！（を６．０とした場合には、ブ
ランクと同程度の欠点が出た。
■ 鉄イオンの錯体形成によるマスキング酸化セリウム
の研磨剤で研磨した後のガラス板を、鉄イオンと錯塩を
形成する薬剤を含んだ液に浸漬することによる効果とし
て、０．１鵬ｏ１／ｌクエン酸ナトリウム水溶液に浸漬
した場合には、金属欠点は全く認められなかった。同様
な検討を他の錯化剤についても行なった。その結果を第
２表に示す。
の研磨剤で研磨した後のガラス板を、鉄イオンと錯塩を
形成する薬剤を含んだ液に浸漬することによる効果とし
て、０．１鵬ｏ１／ｌクエン酸ナトリウム水溶液に浸漬
した場合には、金属欠点は全く認められなかった。同様
な検討を他の錯化剤についても行なった。その結果を第
２表に示す。
第２表中、濃度０．１ｍｏＩ！、／４２においては、す
べての錯化剤について金属欠点は全く認められなかった
。ところが薬剤濃度を下げていくにつれて、欠点防止効
果に顕著な差が見られ、クエン酸ナトリウムについては
、０．０１ｍｏ ｌ ／ ｊ！以下で、シュウ酸アンモ
ニウムについては、０．００５ｓｏ ｌ ／ ｉ 以下
でブランクよりもひどい欠点を生じた。酒石酸ナトリウ
ムについては、０．ＯＯ１ｍｏｊ！ ／ １以下でブラ
ンクよりもひどい欠点を生じた。各錯化剤の中で最もよ
い欠点防止効果を示したのは０−フェナンドロリンで、
０．００１＋＋ｏ ｉ！ ／ ｌの濃度においてもほと
んど欠点を生じなかった。
べての錯化剤について金属欠点は全く認められなかった
。ところが薬剤濃度を下げていくにつれて、欠点防止効
果に顕著な差が見られ、クエン酸ナトリウムについては
、０．０１ｍｏ ｌ ／ ｊ！以下で、シュウ酸アンモ
ニウムについては、０．００５ｓｏ ｌ ／ ｉ 以下
でブランクよりもひどい欠点を生じた。酒石酸ナトリウ
ムについては、０．ＯＯ１ｍｏｊ！ ／ １以下でブラ
ンクよりもひどい欠点を生じた。各錯化剤の中で最もよ
い欠点防止効果を示したのは０−フェナンドロリンで、
０．００１＋＋ｏ ｉ！ ／ ｌの濃度においてもほと
んど欠点を生じなかった。
■ 鉄イオンの還元によるマスキング
酸化セリウムの研磨剤で研磨した後のガラス板を、Ｆｅ
”イオンをＦｅ”イオンに還元する薬剤を含んだ水溶液
に浸漬することによる効果として、０．０５ｔａｏ ｌ
／ １のＬ−アスコルビン酸水溶液に浸漬した場合に
は金属欠点は全く認められなかった。
”イオンをＦｅ”イオンに還元する薬剤を含んだ水溶液
に浸漬することによる効果として、０．０５ｔａｏ ｌ
／ １のＬ−アスコルビン酸水溶液に浸漬した場合に
は金属欠点は全く認められなかった。
Ｌ−アスコルビン酸の濃度を０．０１．０．００５およ
び０．００１＋ｏ ｌ ／ ｌとして同様な浸漬実験を
試みたところ、０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上では欠
点は全く認められず、０．００１ｍｏ ｌ ／ Ｅにお
いてもほとんど欠点が生じなかった。同様な検討をＬ−
アスコルビン酸ナトリウムについても行なった。結果を
第３表に示す。
び０．００１＋ｏ ｌ ／ ｌとして同様な浸漬実験を
試みたところ、０．００５ｍｏ ｌ ／ １以上では欠
点は全く認められず、０．００１ｍｏ ｌ ／ Ｅにお
いてもほとんど欠点が生じなかった。同様な検討をＬ−
アスコルビン酸ナトリウムについても行なった。結果を
第３表に示す。
実施の結果、Ｌ−アスコルビン酸ナトリウムについては
、濃度０．０５ｔｓｏ １２ ／ ｌでは全く欠点を生
じなかったものの、０．０１ｍｏ ｌ ／ ｌ以下では
、ブランクと同程度かブランクよりひどい欠点を生じた
。
、濃度０．０５ｔｓｏ １２ ／ ｌでは全く欠点を生
じなかったものの、０．０１ｍｏ ｌ ／ ｌ以下では
、ブランクと同程度かブランクよりひどい欠点を生じた
。
以上のように、本発明によれば、酸化セリウムの研磨剤
で研磨した後のガラス板をｐｕ ５．５以下の水溶液、
あるいは鉄イオンと錯塩を形成する薬剤を添加した水溶
液、あるいはＦ、３１イオンをＦ、ｚ＋イオンに還元す
る薬剤を添加した水溶液中に浸漬することにより、ガラ
スなどの硬脆材料の研磨後の水浸漬による従来の洗浄方
法において、大きな問題となっていた金属欠点の発生を
防止することができる。
で研磨した後のガラス板をｐｕ ５．５以下の水溶液、
あるいは鉄イオンと錯塩を形成する薬剤を添加した水溶
液、あるいはＦ、３１イオンをＦ、ｚ＋イオンに還元す
る薬剤を添加した水溶液中に浸漬することにより、ガラ
スなどの硬脆材料の研磨後の水浸漬による従来の洗浄方
法において、大きな問題となっていた金属欠点の発生を
防止することができる。
Claims (14)
- （１）鉄分を微量に含む研磨剤で硬脆材料面を研磨し、
水中に浸漬して、該硬脆材料表面を洗浄する方法におい
て、該水中に酸を添加して水素イオン指数（ｐＨ）を５
．５以下にした水溶液を用いることを特徴とする硬脆材
料の洗浄方法。 - （２）該酸が酢酸、フタル酸、クエン酸、シュウ酸、酒
石酸、アスコルビン酸、エチレンジアミン四酢酸または
シクロヘキサンジアミン四酢酸であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （３）鉄分を微量に含む研磨剤で硬脆材料面を研磨し、
水中に浸漬して、該硬脆材料表面を洗浄する方法におい
て、該水中にＦｅ＾３＾＋イオンあるいはＦｅ＾２＾＋
イオンと錯塩を形成する薬剤を用いることを特徴とする
硬脆材料の洗浄方法。 - （４）該薬剤がクエン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、エ
チレンジアミン四酢酸塩、シクロヘキサンジアミン四酢
酸あるいはｏ−フェナントロリンであることを特徴とす
る特許請求の範囲第３項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （５）該薬剤がクエン酸塩であって、クエン酸塩水溶液
の濃度が０．０５ｍｏｌ／ｌ以上であることを特徴とす
る特許請求の範囲第３項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （６）該薬剤がシュウ酸塩であって、シュウ酸塩水溶液
の濃度が０．０５ｍｏｌ／ｌ以上であることを特徴とす
る特許請求の範囲第３項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （７）該薬剤が酒石酸塩であって、酒石酸塩水溶液の濃
度が０．０１ｍｏｌ／ｌ以上であることを特徴とする特
許請求の範囲第３項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （８）該薬剤がエチレンジアミン四酢酸塩であって、エ
チレンジアミン四酢酸塩水溶液の濃度が０．００５ｍｏ
ｌ／ｌ以上であることを特徴とする特許請求の範囲第３
項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （９）該薬剤がシクロヘキサンジアミン四酢酸であって
、シクロヘキサンジアミン四酢酸水溶液の濃度が０．０
０５ｍｏｌ／ｌ以上であることを特徴とする特許請求の
範囲第３項記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （１０）該薬剤がｏ−フェナントロリンであって、ｏ−
フェナントロリン水溶液の濃度が０．００１ｍｏｌ／ｌ
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載
の硬脆材料の洗浄方法。 - （１１）鉄分を微量に含む研磨剤で硬脆材料面を研磨し
、水中に浸漬して、該硬脆材料表面を洗浄する方法にお
いて、該水中に還元剤を添加することを特徴とする硬脆
材料の洗浄方法。 - （１２）該還元剤がアスコルビン酸あるいはアスコルビ
ン酸塩であることを特徴とする特許請求の範囲第１１項
記載の硬脆材料の洗浄方法。 - （１３）該還元剤がアスコルビン酸であって、アスコル
ビン酸水溶液の濃度が０．００１ｍｏｌ／ｌ以上である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１１項記載の硬脆材
料の洗浄方法。 - （１４）該還元剤がアスコルビン酸塩であって、アスコ
ルビン酸塩水溶液の濃度が０．０５ｍｏｌ／ｌ以上であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１１項記載の硬脆
材料の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3933990A JPH03242352A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 硬脆材料の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3933990A JPH03242352A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 硬脆材料の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03242352A true JPH03242352A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12550330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3933990A Pending JPH03242352A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 硬脆材料の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03242352A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2722511A1 (fr) * | 1994-07-15 | 1996-01-19 | Ontrak Systems Inc | Procede pour enlever les metaux dans un dispositif de recurage |
| WO1996026538A1 (en) * | 1995-02-21 | 1996-08-29 | Advanced Micro Devices, Inc. | Chemical solutions for removing metal-compound contaminants from wafers after cmp and the method of wafer cleaning |
| EP0985059A4 (en) * | 1997-03-17 | 2001-05-16 | Rodel Inc | COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING A TITANIUM-CONTAINING COMPOSITE |
| KR20020022937A (ko) * | 2000-09-21 | 2002-03-28 | 백순기 | 대리석 표면의 연마광택용 조성물, 경화용 조성물 및 이들을 이용한 대리석 표면 처리방법 |
| US6572453B1 (en) | 1998-09-29 | 2003-06-03 | Applied Materials, Inc. | Multi-fluid polishing process |
| JP2004002163A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法、および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP2006089363A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、それにより得られる磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体 |
| JP2006092719A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法 |
| WO2011125894A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JP2013084335A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2013108963A (ja) * | 2011-11-24 | 2013-06-06 | Hakujuji Co Ltd | 尿検査用衛生材料およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP3933990A patent/JPH03242352A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2722511A1 (fr) * | 1994-07-15 | 1996-01-19 | Ontrak Systems Inc | Procede pour enlever les metaux dans un dispositif de recurage |
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| US5662769A (en) * | 1995-02-21 | 1997-09-02 | Advanced Micro Devices, Inc. | Chemical solutions for removing metal-compound contaminants from wafers after CMP and the method of wafer cleaning |
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| JP2004002163A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 化学強化ガラスの製造方法、および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| JP2006089363A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、それにより得られる磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体 |
| JP2006092719A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法 |
| WO2011125894A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-13 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JPWO2011125894A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-11 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JP5386036B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-01-15 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JP2013084335A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
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