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JPH03234475A - 研磨布 - Google Patents

研磨布

Info

Publication number
JPH03234475A
JPH03234475A JP2988690A JP2988690A JPH03234475A JP H03234475 A JPH03234475 A JP H03234475A JP 2988690 A JP2988690 A JP 2988690A JP 2988690 A JP2988690 A JP 2988690A JP H03234475 A JPH03234475 A JP H03234475A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
clogging
abrasive cloth
nonwoven fabric
fiber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2988690A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Nakagawa
浩司 中川
Shigeki Morimoto
茂樹 森本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanebo Ltd
Original Assignee
Kanebo Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kanebo Ltd filed Critical Kanebo Ltd
Priority to JP2988690A priority Critical patent/JPH03234475A/ja
Publication of JPH03234475A publication Critical patent/JPH03234475A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は研磨布に係り、更に詳しくは、砥粒類の目詰り
現象が実質的に解消され耐火性に優れ、特に集噴回路素
子用半導体基板、例えば高純度シリコンおよび化合物半
導体板からなるウェハーの素面加工、島るいはガラス、
金寓項の仕上研磨に好適な研磨布に関する。
(従来の技術) 天然a維、再生繊維または合成iiamからなる不織布
に嗣詣類を含浸・凝固して得られる研磨布は、夙によく
知られており、レンズ、仮ガラス、ブラウン管、フォト
マスク等のガラス製品、シリコン。
ゲルマニウム、セラミック等の半導体部品、あるいはス
テンレス鋼、各穏合金等の金属製品の研磨工程において
、酸化セリウム、酸化アルミニウム。
酸化ケイ素等の微粒子状砥粒を分散せしめた研磨液を供
給しながら研磨を行う遊離砥粒研磨用に広く使用されて
いる。
従来使用されている研磨布は、研磨条件を適宜変更して
目的とする研磨精度のものを得ている。
しかしながら研磨中に研磨布の目詰まり現象が生じ、短
期間に研磨速度が低下するとともに、被研磨体に加工傷
が発生し、更に平坦度も低下する。
そこで目詰まり現象が発生する前に研磨布を交換しなけ
ればならず、研磨布の取り替え頻度が高くなり、作業性
が低下するといった問題点があった。
特公昭54−30158号公報lこは、研磨布を加熱加
圧することによってJI8硬度を80度以上に向上した
研磨布が提案されている。しかしこの方法は研磨布を加
熱加圧するため気泡が小さくなり、通気度が低下し、目
詰まりの発生はむしろ早まること一ζなる。特開昭61
−877354+公報Iこは、ポリウレタンの軟化温度
以上に加熱処理を施した多孔買復合板が提案されている
が、この方法はポリウレタンを溶融し、繊維を強固に結
合して硬度を向上させるため、微細な加工傷(所謂スク
ラッチ)の発生を引き起こし、高精度な鏡面性を必要と
する半導体ウェハーには不適である。
(発明が解決しようとする課題) 本発明者等は上述の如き問題点に鑑み、鋭意研究した結
果本発明を完成したものであり、本発明の目的は砥粒や
研磨屑による目詰まり現象が実質的に解消され、研磨速
度や平坦度の低下および加工傷の発生等を未然Eこ防止
し、耐久性に優れた研磨布を提供するにある。
(課題を解決するための手段) 本発明の目的は、合成繊維からなる不msにゴム状弾性
を有する高分子変質とを腹合一体化した研磨布であって
、前記不織布が平均直径23μ以上の1雄を20ii量
%以上含有し、前記合成1准と前記高分子物質との重量
比率が50150〜35/15であり、且つ通気度が1
0 cc/cm”/秒置上であることを特徴とする研M
?!5によって達成される。
本発明の研磨布を購成する合成繊維としては、例えばポ
リアミド、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリ塩化ビ
ニル等のa惟が挙げられ、更にこれらの変性繊維、W合
繊維あるいは混合紡糸繊維もしくは再生繊維が使用され
る。これらの合成繊維は単独で使用してもよく、組合せ
て使用してもよい。
本発明において不織布に使用される上記合成繊維は平均
直径が23μ以上のものを少なくとも20重量%、好ま
しくは50重量%以上、更に好ましくは40重量%以上
含有するものである。平均直径23μ以上の繊維の割合
が20重量%未満の場合は、繊維密度が大きくなり、空
隙率および通気度が低く、研磨加工を実施した際に目詰
まり現象が早期に発生して、耐久性のない研磨布となる
平均直径の大き過ぎる繊維は研磨の際の加工傷が発生し
易くなり、通常は40μ以下のものが用いられる。又、
平均直径の小さい繊維を配合すると研壱面の平坦度を同
上させる効果を奏する。尚、本発明でいう平均直径とは
異形断亙糸の場合は、その外接円の直径をは味するもの
である。
末完、iA+こ係る不a?5の製造方法は特に限定され
るものではなく、例えばランダムウェーバ一方式。
クロスラッピング方式等のニードルパンチングによる方
法、あるいは湿式抄紙方法、スパンボンド方法等の公知
の適宜な方法でよい。
本発明において不織布と複合一体止するゴム状弾性を有
する高分子物質としては、例えばポリウレタンエラスト
マー@、ニトリルブタジェンゴム。
スチレンブタジェンゴム等を挙げることができるが、就
中ポリウレタンエラストマー類が好適である。また、ポ
リウレタンエラストマー類(こはポリ塩化ビニル、ポリ
メチルメタクリレート、アクリルニトリル等の樹脂をポ
リウレタンエラストマー類100重量部に対して10〜
100!量部混合することもできる。
本発明の研磨布は、上記不織布のmaと上記高分子物質
のxt割合(F/R)が50/s a〜85/15であ
って、且つその通気度が10 cc/am’/秒以上の
6のである。繊維の割合が少ない場合は目詰りが発生し
易く、多過ぎる場合は研磨布の毛羽の磨耗が著しく披研
麿体の平坦性が損なわれる。また通気度が10 cc/
cm’/秒より小さい場合は目詰まりが顕著となり耐久
性のないものとなる。尚、本発明において通気度とは、
JIS−L108Gの6−27に規定するフラジール型
通気度試験器iこよる測定値のことである。
本発明の研磨布はベロア調研磨布であり、例えば次のよ
うにして製造される。即ち、平均直径23μ以上の繊維
を20重量%以上含有する上記の合成繊維を公知の適宜
な方法により、目的とする厚さ、目付に調整された不織
布にした後、ゴム状弾性を有する高分子物質例えばポリ
ウレタンエラストマーを主体とする重合体組成物を浴解
した溶液を含浸し、ポリウレタンエラストマーの浴剤と
非洛剤を混合した凝固液で凝固させる。欠いて常法に従
い悦塔媒のため水洗・乾燥し、必要に応じ厚さを調整す
るためにスライス加工やサンドペーパー等iこよる研削
加工を光して本発明の研(磨布となす。
上述の方法において、高分子物質を浴解した層液は、固
型分#変が好ましくは5〜30重1%で、更に好ましく
は10〜20直量%であり、必要に応じ顔料、染料等の
着色剤や老化防止剤を添加混合してもよい。
(発明の効果) 本発明の研磨布を用いると、目詰り現象が実質的に解消
され、研磨速度や被研磨体の平坦度が長時間に渡り安定
しており、加工傷の発生も極めて少なく、耐久性及び研
磨性能に優れた研磨ができる。
以下、実施例により本発明を詳述する。
(実施例1〜10) 繊維長が51 mmで平均m維直径が18μ、22μ、
23μ、29μのポリエステル繊維を第1表に示す如き
割合で混合して、ニードルパンチング方式により厚さ8
.2mm、目付量1200 y/m2の不融布とした。
この不融布にポリエチレンアジペートグリコールとジフ
ェニルメタン−4,4′−ジイソシアネートを原料とし
たポリエステル系ポリウレタンエラストマーの13.5
%ジメチルホルムアミド溶液(孜m40°C)を含浸率
400%にて含浸させたのち、ジメチルホルムアミド(
以下、「DMFJと略記する)の水希釈液(#度9.8
%)に浸漬してポリウレタンエラストマーを凝固させ、
次いで水洗によって俗煤を除去したのち乾燥して、厚さ
6.0〜6.1mmの基材を得た。続いて得られた基材
をスライス機で両面を切り剥がして、厚さ4 mmの研
磨布とした。得られた研磨布の、mmとポリウレタンエ
ラストマー(11il&)との割合は65/35で、通
気度は第1表の通りであった。
(比較例1〜5) 上記実施例11こおけるポリエステル繊維を第1表に示
す如き本発明外の割合で混合するほかは実施例1〜10
と同様の方法で研磨布を製造した。
く研磨試験〉 実施例1〜10および比較例1〜3で得られた研磨布を
用いて、直径100 mmの自動車用バックミラーの研
磨試験を行った。平均粒径10μの酸化セリウム10%
水分教液を研磨液として用い、定盤回転数3 Orpm
、加工圧力1.8 ky/am”で1回の研磨時111
21分で研磨した。結果は第1表の通りであった。なお
第1表に示す種々の特性の評価法について以下に記述す
る。
〈目詰り性〉 研SOロエ中に目視により確認できる目詰りの発生状況
が、 @・・・72時間以上目詰まりなし 、○・・・24時間以上目詰まりなし △・・・ 8時間以上目詰まりなし X・・・ 8時間以内fこ目詰まりが発生〈不良発生性
〉 158枚研磨し、1万ルクスの照射光下にて目視−こよ
り加工傷(スクラッチ)が確認された枚数の割合が、 (@・・・10%未満 (D・・・10〜20% へ・・・20〜40% ×・・・40%以上 (以下−余白) (実血例11〜14および比較例4〜5)4[e長が5
1mmで、***径が18μと23μのポリエステルa
mをso:soの割合で混合して、ニードルパンチング
方式により厚さ3.0mm。
日付量510 f/m”の不織布とした。この不織布ζ
ζポリテトラメチレンエーテルグリコールとジフェニル
メタン−4,4−ジイソシアネートを原料とするポリエ
ーテル系ポリウレタンエラストマーをD M F 12
: f8解し液a40℃で各種濃度に調整したfII液
を含浸率400%にて含浸したのち、DMFの水希釈液
(濃度6.8%)に浸漬してポリウレタンエラストマー
を凝固させ、次いで水洗によって洛媒を除去したのち乾
燥して、厚さ10〜3.1mmの基材を碍だ。続いて得
られた基材の厚み中央部をスライス機で切り剥がして2
分割し、サンドペーパーによる研削機にて両面研削(サ
ンディング)加工を施し厚さ1.4mmの研磨布とした
。得られた研磨布の繊維とポリウレタンエラストマー(
甜詣)との割合および通気度は第2表の通りであった。
〈研磨試横〉 実施例11〜14および比較例4〜5で得られた研磨布
を用いて、5インチシリコンウェハーの研磨試験を行っ
た。平均粒径001μのコロイダルシリカQP−15(
不二見研磨剤製、3%分散液)を水で10倍冷釈した分
′/PIFLを研磨剤として用い、その池の研磨条件は
以下に示す通りであった。
研1機   スピードファム社製36SPAW定盤回転
数 77 rpm 加工温度  40°C 加工圧力  2817ダ/am’ 研磨時間  50分/回 結果は第2表および第1図〜第3図のグラフの通りであ
った。なお第2表に示す種々の特性の評価法について以
下に記述する。
〈目詰り注〉 研磨加工中に目視により確認できる目詰まりの発生状況
が、 (@・・・30時間以上目詰まりなし ○・・・20時間以上目詰まりなし Δ・・・10時間以上目詰まりなし く研磨能率〉 ○・・・研磨速度が0.7μ/分で安定△・・・研磨速
度が0.4〜07μ/分で不安定X・・・研磨速度が0
.4μ/分未満 く平坦性〉 サーフコム55 GA(東京′#I密社製)#ζよりウ
ェハー全面を測定し基準線に対する最大凸部の高さを測
定して求めた平坦度が、 ○・・・2μ以下にて安定 △・・・2〜4μ X・・・4μ以上 〈不良発生性〉 5万ルクスの照射光下にて目視により加工傷(スクラッ
チ)が確認された枚数の割合(加工傷発生率)が、 ○・・・10%未満 △・・・10 S−30% ×・・・30%以上 時間
【図面の簡単な説明】
第1図は研磨速度の経時変化を表わしたグラフで、第2
図はウェハーの平坦度の経時変化を表わしたグラフで、
第5図は加工傷の発生率の経時変化を表わしたグラフで
ある。 第 図 時間 6、補正の内容 (1) 明細書第1 1頁に記載の 「第1表」 を

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)合成繊維からなる不織布とゴム状弾性を有する高
    分子物質とを複合一体化した研磨布であって、前記不織
    布が平均直径23μ以上の繊維を20重量%以上含有し
    、前記合成繊維と前記高分子物質との重量比率が50/
    50〜85/15であり、且つ通気度が10cc/cm
    ^2/秒以上であることを特徴とする研磨布。
JP2988690A 1990-02-08 1990-02-08 研磨布 Pending JPH03234475A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2988690A JPH03234475A (ja) 1990-02-08 1990-02-08 研磨布

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008093850A1 (ja) 2007-02-01 2008-08-07 Kuraray Co., Ltd. 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
WO2010016486A1 (ja) 2008-08-08 2010-02-11 株式会社クラレ 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
WO2014125797A1 (ja) 2013-02-12 2014-08-21 株式会社クラレ 硬質シート及び硬質シートの製造方法
CN107695902A (zh) * 2017-10-18 2018-02-16 河北思瑞恩新材料科技有限公司 一种植绒材料及其制备方法
JP2018060871A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ デバイスチップの製造方法
KR20210106436A (ko) 2018-12-27 2021-08-30 주식회사 쿠라레 연마 패드
KR20220117220A (ko) 2019-12-13 2022-08-23 주식회사 쿠라레 폴리우레탄, 연마층, 연마 패드 및 연마 방법

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008093850A1 (ja) 2007-02-01 2008-08-07 Kuraray Co., Ltd. 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
US8647179B2 (en) 2007-02-01 2014-02-11 Kuraray Co., Ltd. Polishing pad, and method for manufacturing polishing pad
WO2010016486A1 (ja) 2008-08-08 2010-02-11 株式会社クラレ 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法
WO2014125797A1 (ja) 2013-02-12 2014-08-21 株式会社クラレ 硬質シート及び硬質シートの製造方法
KR20150116876A (ko) 2013-02-12 2015-10-16 가부시키가이샤 구라레 경질 시트 및 경질 시트의 제조 방법
JP2018060871A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ デバイスチップの製造方法
CN107695902A (zh) * 2017-10-18 2018-02-16 河北思瑞恩新材料科技有限公司 一种植绒材料及其制备方法
KR20210106436A (ko) 2018-12-27 2021-08-30 주식회사 쿠라레 연마 패드
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