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JPH03228060A - Photosensitive resin composition - Google Patents

Photosensitive resin composition

Info

Publication number
JPH03228060A
JPH03228060A JP2022946A JP2294690A JPH03228060A JP H03228060 A JPH03228060 A JP H03228060A JP 2022946 A JP2022946 A JP 2022946A JP 2294690 A JP2294690 A JP 2294690A JP H03228060 A JPH03228060 A JP H03228060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
parts
water
meth
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022946A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Juichi Muramoto
村本 壽一
Yusuke Ninomiya
裕介 二宮
Keizo Ishii
敬三 石井
Shinichi Ishikura
石倉 慎一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Paint Co Ltd filed Critical Nippon Paint Co Ltd
Priority to JP2022946A priority Critical patent/JPH03228060A/en
Priority to CA002035148A priority patent/CA2035148A1/en
Priority to EP91300716A priority patent/EP0440444B1/en
Priority to DE69123766T priority patent/DE69123766T2/en
Priority to NZ236981A priority patent/NZ236981A/en
Priority to US07/648,881 priority patent/US5204221A/en
Priority to AU70189/91A priority patent/AU629454B2/en
Publication of JPH03228060A publication Critical patent/JPH03228060A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0076Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask

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  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a photosensitive resin composition superior in water developability and storage stability by mixing cross-linkable resin particles nonchangeable in the particle form by water development and swelling and the like nd having dimensional stability. CONSTITUTION:The photosensitive resin composition comprises (I) the cross- linkable resin particles prepared by emulsion polymerizing a mixture of a resin (i) having a glass transition point Tg of <=0 deg.C, another resi (ii) having a Tg by 20 deg.C higher than that of the resin (i),or a monomer for forming it, a polyfunctional vinyl compound (iii), and a polymerization initiator (iv); and (II) a photopolymerizable unsaturated monomer; and (III) a photopolymerization initiator. The resin (i) is embodied by a vinyl-modified conjugated diene type silicone rubber, and the resin (ii) is embodied, preferably, by an acrylic resin, an epoxy resin, a polyamide resin, and the like, thus permitting the component (I) to impart rubber elaticity, the component (II) to enhance redispersibility into water, and the component (III) to ensure the dimensional stability of the resin particles and water developability.

Description

【発明の詳細な説明】 二産業上の利用分野] 本発明は、新聞印刷、一般商業印刷、及びフォトレノス
ト等に広く用いられる感光性樹脂組成物に関する。特に
、フレキソ印刷用製版、ブリット配線板等の印刷用板材
の製造に有用な、水現像性及び貯蔵安定性等に優れた感
光性樹脂組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Second Industrial Fields of Application] The present invention relates to a photosensitive resin composition widely used in newspaper printing, general commercial printing, photorenost, etc. In particular, the present invention relates to a photosensitive resin composition that has excellent water developability, storage stability, etc. and is useful in the production of printing plates such as flexo printing plates and bullet wiring boards.

「従来の技術] 近年、印刷用版材の作製に用いられる感光性組成物とし
ては、健康上及び作業上の安全性等の為に所謂「水現像
性」のものが望まれている。
"Prior Art" In recent years, so-called "water-developable" photosensitive compositions have been desired for the sake of health and operational safety, as photosensitive compositions used in the production of printing plate materials.

本発明者等はそのようなものとして特開昭622385
98号公報に於いて、エマルジョン重合法で得られるラ
ジカル共重合体架橋樹脂粒子を配合した感光性樹脂組成
物を提案した。即ち、架橋樹脂粒子を組成物中に配合す
ることにより、組成物の水分散性が同上し、印刷用版材
作製時の水現像性を高めることが可能となる。更に又、
得られる印刷用樹脂板に於いては、耐水性か向上し、水
性インクの使用に適するものとなる。
The present inventors have published Japanese Patent Application Laid-open No. 622385 as such.
No. 98 proposed a photosensitive resin composition containing radical copolymer crosslinked resin particles obtained by emulsion polymerization. That is, by blending crosslinked resin particles into the composition, the water dispersibility of the composition becomes the same as above, and it becomes possible to improve the water developability during the production of printing plate materials. Furthermore,
The resulting printing resin plate has improved water resistance and is suitable for use with water-based inks.

今回本発明者等は、上記特開昭62−238598号公
報の発明を更に発展させ、感光性樹脂組成物の水現像性
及び貯蔵安定性をより一層向上させるごとを目的に、優
れた架橋樹脂粒子の検討を行なった。
The present inventors have further developed the invention disclosed in JP-A No. 62-238598, and have developed an excellent crosslinked resin with the aim of further improving the water developability and storage stability of photosensitive resin compositions. Particles were investigated.

ところで、広範な種類の架橋樹脂粒子を製造出来る優れ
た方法として、原料の樹脂成分を水中に分散させ、分散
樹脂粒子内部を三次元化し、ついで水性媒体を除去する
工程から成る所謂「後乳化法J(特開昭60−1567
17号等)が知られている。
By the way, an excellent method for producing a wide variety of crosslinked resin particles is the so-called "post-emulsification method", which consists of dispersing raw resin components in water, making the inside of the dispersed resin particles three-dimensional, and then removing the aqueous medium. J (Japanese Patent Publication No. 60-1567
No. 17 etc.) are known.

しかしながら、この後乳化法で架橋樹脂粒子を得る場合
、粒子の表面が可塑変形しやすい状態として残存するた
め、ユマルジョンから水性媒体を除去する工程中におい
て粒子間融着性が強く働き、粗大な粒子塊か生成しやす
く、その際に水性媒体を粒子塊内部に包含しやすいとい
う問題かあった。
However, when crosslinked resin particles are obtained by a subsequent emulsification method, the surfaces of the particles remain in a state where they are easily plastically deformed, so during the process of removing the aqueous medium from the umulsion, interparticle fusion is strongly activated, resulting in coarse particles. There was a problem that agglomerates were likely to form, and at that time, the aqueous medium was likely to be included inside the particle agglomerates.

この不良現象は後の粒子塊の洗浄および乾燥プロセスで
著しくその効率を減少せしめることとなる。
This defective phenomenon significantly reduces the efficiency of the subsequent particle mass cleaning and drying process.

特にこの現象はアクリルゴム、ポリブタンエン、ポリイ
ソプレン、クロロブレン、ポリε−カプロラクトン、ポ
リテトラメチレングリコールなとのユラスFマー等ガラ
ス転移温度(Tg)か比較的低い可塑性の樹脂あるいは
エラストマーを樹脂成分とする場合に著しくこれら材料
からの後乳化法による架橋樹脂粒子は水性媒体への再分
散性が極めて悪く実用化に至らなかった。
This phenomenon is particularly observed when the resin component is a plastic resin or elastomer with a relatively low glass transition temperature (Tg), such as Uras F-mer such as acrylic rubber, polybutanene, polyisoprene, chloroprene, polyε-caprolactone, and polytetramethylene glycol. In some cases, crosslinked resin particles produced from these materials by the post-emulsification method have extremely poor redispersibility in an aqueous medium and have not been put to practical use.

そこで本発明者等は特願平1−178459号に於いて
、上記低いTgを有する樹脂成分もしくはエラストマー
成分にそれより高いTgを有する樹脂成分もしくはそれ
を生成するモノマー成分を配合し、後乳化法に付せば、
上記粒子間融着性の問題を解決することが出来ることを
示した。
Therefore, in Japanese Patent Application No. 1-178459, the present inventors have proposed a post-emulsification method in which a resin component having a higher Tg or a monomer component for producing the same is blended with the above-mentioned resin component or elastomer component having a low Tg. If you attach it to
It has been shown that the above-mentioned problem of interparticle fusion can be solved.

1発明か解決しようとする課題] 本発明は、上記特願平1178459号に記載の架橋樹
脂粒子の優れた融着防止性に加え、優れた水現像性及び
膨潤等により粒子形態か変化しない優れた形態保持性を
有する架橋樹脂粒子を配合し、それにより優れた水現像
性及び貯蔵安定性を示す感光性樹脂組成物を提供するこ
とを目的とする。
1. Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides, in addition to the excellent anti-fusing properties of the crosslinked resin particles described in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 1178459, the excellent water developability and the excellent property that the particle shape does not change due to swelling, etc. It is an object of the present invention to provide a photosensitive resin composition containing crosslinked resin particles having excellent shape retention properties, thereby exhibiting excellent water developability and storage stability.

課題を解決するための手段] 即ち本発明は、 (1)(i)ガラス転移温度(T g)が0℃以下の樹
脂、 (ii)Tgが樹脂(i)より20℃以上高い樹脂、又
はそれを与える単 量体、 (iii)多官能性ビニル化合物、及び(1v)重合開
始剤 の各配合物を、後乳化法に付すことにより得られる架橋
樹脂粒子、 (n)光重合性不飽和単量体、及び (III)光重合開始剤 を含有する感光性樹脂組成物を提供する。
Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides (1) (i) a resin with a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less, (ii) a resin with a Tg higher than resin (i) by 20°C or more, or (n) Photopolymerizable unsaturated A photosensitive resin composition containing a monomer and (III) a photopolymerization initiator is provided.

本発明の架橋樹脂粒子(1)の製造に於いて、基体樹脂
としては、後乳化法により単独で架橋させた場合、粒子
間融着性が顕著なもの、即ちそのガラス転移温度(Tg
)が0℃以下であり、且つ重合性二重結合を有する樹脂
あるいはエラストマーである(以下、これらを「成分(
i)と」云う。)。具体吻には例えば、共役ジエン系樹
脂(例えば、ポリイタジエン、ポリイソプレン、ポリク
ロロプレン、ブチルゴム、スチレン−ブタジェンゴム、
アクリロニトリル−ブタジェンゴム、スチレン−イソプ
レン−スチレンブロックコポリマー、スチレンーブタジ
エンースチレンブロノクコボリマー等)、ポリε−カプ
ロラクトン、ボ1バオキシブロビレン)、ポリ(オキシ
テトラメチレン)グリコール、ポリ(オキシプロピレン
−オキシテトラメチレン)グリコール及びシリコンゴム
のビニル変性樹脂等が挙げられる。
In the production of the crosslinked resin particles (1) of the present invention, the base resin is one that exhibits remarkable interparticle fusion properties when crosslinked alone by a post-emulsification method, that is, its glass transition temperature (Tg
) is 0°C or less and is a resin or elastomer that has a polymerizable double bond (hereinafter referred to as "component (
i). ). The specific snout includes, for example, conjugated diene resins (e.g., polyitadiene, polyisoprene, polychloroprene, butyl rubber, styrene-butadiene rubber,
Acrylonitrile-butadiene rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-styrene bronoccopolymer, etc.), polyε-caprolactone, polyoxybrobylene), poly(oxytetramethylene) glycol, poly(oxypropylene) (oxytetramethylene) glycol and vinyl-modified resins of silicone rubber.

これら樹脂あるいはエラストマーは、予め適当な変性に
より、例えばエラストマーをマレイン化したり、それを
更にアミン等で中和したり、あるいは親水性基を有する
適当なモノマーで変性して親水化して水分散性を付与し
、水性媒体中に分散せしめ使用するのか好ましい。基体
樹脂の数平均分子量は通常約500〜1,000,00
0の範囲であることが好ましい。
These resins or elastomers can be made hydrophilic through appropriate modification, for example, by maleating the elastomer, further neutralizing it with an amine, or modifying it with an appropriate monomer having a hydrophilic group to make it hydrophilic. It is preferable to use it by applying it and dispersing it in an aqueous medium. The number average molecular weight of the base resin is usually about 500 to 1,000,00
A range of 0 is preferable.

成分(11)に於いて、基体樹脂よりTgが20’C以
上高い樹脂としては各種のものか挙げられるが、就中、
ポリスチレン(Tg= ] OO’C)、ポリメチルメ
タクリレート(Tg=1()5℃)、ポリエチルメタク
リレート(Tg−65℃)、ポリイソプロピルメタクリ
レート(Tg=81℃)、ポリn−ブチルメタクリレー
ト(Tg=20℃)、ポリアクリロニトリル(Tg−1
00℃)などのアクリル樹脂(共重合樹脂を含む。)、
エポキ/樹脂(Tg=50〜150℃)、ホリアミト樹
脂(Tg=100〜150℃)等が好ましく使用せられ
る。
In component (11), there are various resins whose Tg is 20'C or more higher than that of the base resin, but among them,
Polystyrene (Tg = ] OO'C), polymethyl methacrylate (Tg = 1 () 5°C), polyethyl methacrylate (Tg - 65°C), polyisopropyl methacrylate (Tg = 81°C), poly n-butyl methacrylate (Tg = 20°C), polyacrylonitrile (Tg-1
acrylic resins (including copolymer resins) such as
Epoxy/resin (Tg=50-150°C), phoriamite resin (Tg=100-150°C), etc. are preferably used.

また、高分子化した際に基体樹脂より20℃以上高いT
gを示す樹脂を与えうる単量体としては、α、β−エチ
レン性不飽和モ/マー、例えば(メタ)アクリル酸、そ
のエステル体(例えばメチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、イソフロビル(メタ)アク
リレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ
)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等)
、その塩基性窒素原子含有化合物(例えば、アクリルア
ミド、N、N/メチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、N。
Also, when polymerized, T is 20°C higher than the base resin.
Examples of monomers that can provide a resin showing g include α,β-ethylenically unsaturated monomers, such as (meth)acrylic acid, and its esters (such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isoflovir (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, etc.)
, its basic nitrogen atom-containing compounds (e.g. acrylamide, N, N/methylaminoethyl (meth)acrylate, N.

N−ジメチルアミノフロビル(メタ)アクリルアミド、
N、N−ジメチルアミ/エチル−N゛−(メタ)アクリ
ロイルカーバメイト、N、N−ジエチルアミノエトキシ
エチル(メタ)アクリレート等)、アクリロニトリル、
スチレン系モノマー、酢酸ビニル、塩化ビニル等が挙げ
られる。
N-dimethylaminofurovir (meth)acrylamide,
N,N-dimethylamino/ethyl-N-(meth)acryloyl carbamate, N,N-diethylaminoethoxyethyl (meth)acrylate, etc.), acrylonitrile,
Examples include styrene monomers, vinyl acetate, vinyl chloride, and the like.

しかしながら、上記は使用可能な樹脂及び単量体の一例
に過ぎず、基体樹脂よりTgが20’C以上高い樹脂あ
るいは高分子化した際に基体樹脂よりTgが20℃以上
高い樹脂を与える単量体の任意のものか好都合に使用出
来る。
However, the above are only examples of resins and monomers that can be used, and are monomers that provide a resin with a Tg higher than the base resin by 20'C or more, or a resin with a Tg higher than the base resin by 20°C or higher when polymerized. Any part of the body can be used conveniently.

更に本発明の架橋樹脂粒子(1)の製造に於いては、第
3の配合成分として多官能性ビニル化合物(以下、「成
分(iii)Jと云う。)水性媒体に加える。
Furthermore, in the production of the crosslinked resin particles (1) of the present invention, a polyfunctional vinyl compound (hereinafter referred to as "component (iii) J") is added to the aqueous medium as a third blending component.

そのようなものとしては、例えば重合開始剤、特にラジ
カル重合開始剤の存在下、熱により上記(1)及び(1
1)成分と架橋重合を行なうものであれば特に限定され
ない。このような多官能性ビニル化合物を添加すること
により、従来の樹脂粒子よりも架橋度の高い堅固な樹脂
粒子とすることが出来る。それ故、この架橋樹脂粒子を
感光性樹脂組成物に用いた場合、モノマーや溶剤等によ
る粒子の膨潤を防ぐことが出来、優れた形態保持性を示
す。又、膨潤等の発生かないので印刷板の作製時に於い
て水等によるこの粒子の除去が容易となり、水現像性に
優れる。具体的には成分(iii )としては、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ブロビレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1゜6−へ牛すンジオールジ
(メタ)アクリレートなどの多価(メタ)アクリレート
化合物及びジビニルベンゼン、トリビニルベンゼンなど
が挙°げられる。
As such, for example, in the presence of a polymerization initiator, especially a radical polymerization initiator, the above (1) and (1)
1) It is not particularly limited as long as it can undergo crosslinking polymerization with the component. By adding such a polyfunctional vinyl compound, it is possible to obtain rigid resin particles with a higher degree of crosslinking than conventional resin particles. Therefore, when this crosslinked resin particle is used in a photosensitive resin composition, it is possible to prevent the particles from swelling due to monomers, solvents, etc., and exhibits excellent shape retention. Furthermore, since no swelling occurs, the particles can be easily removed with water or the like during the production of printing plates, resulting in excellent water developability. Specifically, component (iii) includes ethylene glycol di(meth)acrylate, neobentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, brobylene glycol di(meth)acrylate, 1゜6 - Polyhydric (meth)acrylate compounds such as diol di(meth)acrylate, divinylbenzene, trivinylbenzene, and the like.

樹脂粒子の架橋重合反応に使用する重合開始剤(iv)
としては、熱重合開始剤が好ましい。そのようなものと
しては、通常用いられるものでよく、例えばアブビスイ
ソブチロニトリル(AIBN)、パーオキシド類等の油
溶性開始剤、4.4’−アゾビス−4−/アノバレリノ
クアシノド(ACVA)のアミン中和塩等の水溶性開始
剤が挙げられる。
Polymerization initiator (iv) used in crosslinking polymerization reaction of resin particles
As such, a thermal polymerization initiator is preferable. As such, commonly used ones may be used, such as abbisisobutyronitrile (AIBN), oil-soluble initiators such as peroxides, 4,4'-azobis-4-/anovalerinoquacinode ( Examples include water-soluble initiators such as amine neutralized salts of ACVA).

本発明の架橋樹脂粒子(1)の製造に於いては、上記(
1)〜(iv)成分を水性媒体に分散した後、架橋重合
反応を行なう。架橋重合反応を行なう際の反応組成比は
、上記(i)〜(iii)成分の総重量100部に対し
、成分(1)/成分(ii)/成分(iii)−60〜
9910.9〜3010.1〜10重量部であり、又、
上記重合開始剤(1v)は0.1〜2重量部か好ましい
。成分(i)が60重量部未満だと得られる架橋樹脂粒
子の加工性、ゴム弾性が劣り、又99重量部を超えると
水現像性が得られず好ましくない。成分(n)が0.9
重量部未満だと得られる架橋樹脂粒子の水現像性に劣り
、30重量部を超えると加工性、ゴム弾性が劣るので好
ましくない。又、成分(II[)が0.1重量部未満だ
と架橋樹脂粒子の形態保持性、及び現像性に劣り、又1
0重量部を超えると硬度か高くなり過ぎ加工性、ゴム弾
性が劣るので好ましくない。
In producing the crosslinked resin particles (1) of the present invention, the above (
After dispersing components 1) to (iv) in an aqueous medium, a crosslinking polymerization reaction is performed. The reaction composition ratio when carrying out the crosslinking polymerization reaction is component (1)/component (ii)/component (iii) -60 to 100 parts of the total weight of components (i) to (iii) above.
9910.9 to 3010.1 to 10 parts by weight, and
The amount of the polymerization initiator (1v) is preferably 0.1 to 2 parts by weight. If component (i) is less than 60 parts by weight, the processability and rubber elasticity of the resulting crosslinked resin particles will be poor, and if it exceeds 99 parts by weight, water developability will not be obtained, which is not preferred. component (n) is 0.9
If it is less than 30 parts by weight, the resulting crosslinked resin particles will have poor water developability, and if it exceeds 30 parts by weight, processability and rubber elasticity will be poor, which is not preferable. Moreover, if component (II[) is less than 0.1 part by weight, the shape retention and developability of the crosslinked resin particles will be poor;
If it exceeds 0 parts by weight, the hardness becomes too high and the workability and rubber elasticity are poor, which is not preferable.

分散媒として使用する水性媒体としては、水、又は水と
親水性有機溶媒との混合物が好ましい。
The aqueous medium used as a dispersion medium is preferably water or a mixture of water and a hydrophilic organic solvent.

親水性有機溶媒としては、具体的には低級アルコール類
(例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロ
ピルアルコール等)、エーテル類(テトラヒドロフラン
、ジエチルエーテル、ブチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブ等)等が挙げられる。
Specific examples of the hydrophilic organic solvent include lower alcohols (eg, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, etc.), ethers (tetrahydrofuran, diethyl ether, butyl cellosolve, methyl cellosolve, etc.), and the like.

これら親水性有機溶媒の水での混合量は、混合液が均一
な溶液となる量であればよく、特に限定されない。
The amount of these hydrophilic organic solvents to be mixed with water is not particularly limited, as long as the amount makes the mixed solution a uniform solution.

その他添加剤として、水分散性を調整する等の目的の為
に乳化剤、又は乳化剤となり得るオリゴマーもしくはポ
リマー等を加えても良い。更に又、粘度調整等の目的の
ために溶剤等を添加しても良い。
As other additives, emulsifiers, or oligomers or polymers that can serve as emulsifiers may be added for purposes such as adjusting water dispersibility. Furthermore, a solvent or the like may be added for purposes such as viscosity adjustment.

上記(1)〜(iv)成分の水性媒体への添加方法並び
に分散方法としては特に限定されない。例えば、開始剤
(1v)か油溶性の場合、これと上記(1)〜(iii
)成分を均一に混合した混合物をホモジナイザー等の機
械力で水性媒体に分散させながら加え、添加中又は添加
終了後に架橋重合反応を行なっても良い。あるいは(1
)〜(川)成分を水性媒体に分散させたエマル/クン液
に、予め開始剤(11)を水性媒体に分散させておいた
別のエマルジョン液を添加しつつ架橋重合反応を行なっ
ても良い。又、開始剤(iv)が水溶性の場合、(1)
〜(iii)成分を水性媒体に分散させたエマルジョン
液に、予め開始剤(1v)を水に溶解した水溶液を添加
しつつ架橋重合反応を行なっても良い。
There are no particular limitations on the method of adding the components (1) to (iv) above to the aqueous medium and the method of dispersing them. For example, if the initiator (1v) is oil-soluble, this and the above (1) to (iii)
) A homogeneous mixture of the components may be added while being dispersed in an aqueous medium using mechanical force such as a homogenizer, and a crosslinking polymerization reaction may be carried out during or after the addition. Or (1
) ~ (river) The crosslinking polymerization reaction may be carried out while adding another emulsion liquid in which the initiator (11) is previously dispersed in an aqueous medium to the emul/kun liquid in which the components are dispersed in an aqueous medium. . Moreover, when the initiator (iv) is water-soluble, (1)
The crosslinking polymerization reaction may be carried out while adding an aqueous solution in which the initiator (1v) is dissolved in water in advance to an emulsion liquid in which the components to (iii) are dispersed in an aqueous medium.

上記架橋重合反応条件は、40〜100℃lO3〜10
時間が好ましい。
The above crosslinking polymerization reaction conditions are 40-100℃ 1O3-10
time is preferable.

上記架橋重合後、得られた架橋樹脂粒子(1)の単離、
脱水乾燥、及び洗浄等を行なう。これらの方法は従来法
で行なっても良い。即ち、重合反応後の反応混合物をそ
のままスプレードライ、フリーズドライ等公知の乾燥方
法によって乾燥粒子を得ても何等差し支えない。利手法
として、反応混合物に塩化カルシウム、塩化ナトリウム
、塩化マグ不ノウムのような無機塩を添加し、塩析した
際、濾過、水洗浄及び乾燥(真空乾燥なと)させる方法
により乾燥粒子を得ても良い。
After the crosslinking polymerization, isolation of the obtained crosslinked resin particles (1),
Perform dehydration, drying, washing, etc. These methods may be performed using conventional methods. That is, there is no problem even if the reaction mixture after the polymerization reaction is directly used to obtain dry particles by a known drying method such as spray drying or freeze drying. As an advantageous method, an inorganic salt such as calcium chloride, sodium chloride, or magnonium chloride is added to the reaction mixture, and after salting out, dry particles are obtained by filtration, washing with water, and drying (such as vacuum drying). It's okay.

本発明の組成物に配合する光重合性不飽和単量体(II
)は、通常用いられるもので良く、例えばエチレン系不
飽和基を有するもの、好ましくは、露光後の硬化樹脂板
により高い耐水性を付与するために多官能性エチレン系
不飽和基を有するものである。単量体(n)の具体例と
しては、不飽和カルホン酸(例えば、(メタ)アクリル
酸、マレイン酸、イタコン酸)、不飽和カルボン酸エス
テル(例えば、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキ/ル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メト
キシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート
、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート
、フェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アク
リレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリル
イタコネート、グリセロールンくメタ)アクリレート、
グリセロールド1バメタ)アクリレート、1,3−プロ
ピレングリコール/(メタ)アクリレート、1.4−シ
クロへ牛サン/オール/(メタ)アクリレート、1..
2.4−ブタントリオールトリ(メタ)アクリレート、
グリセロールポリプロピレングリコールトリ(メタ)ア
クリレート、1,4−ベンゼンジオールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレ
−)、1.5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート
、不飽和アミド(例えば、メチレンビス(メタ)アクリ
ルアミド、エチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,
6−へキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、ジエ
チレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、N−
(ヒドロキシメチル)アクリルアミド、N−(ヒドロキ
シメチル)メタクリルアミド、N−(β−ヒドロキシエ
チル)アクリルアミド、N−(β−ヒドロキシエチル)
メタクリルアミド、N、N’−ビス(β−ヒドロキシエ
チル)アクリルアミド、N、N’−ビス(β−ヒドロキ
/エチル)メタクリルアミド、ジビニルエステル(例え
ば、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート)、アク
リル化又はメタクリル化ウレタン(ヒドロキノアルキル
アクリレートまたはヒドロキンアルキルメタクリレート
とイソ/アネート化合物から誘導される)、ジアクリル
又はジメタクリルエステル、又は芳香族化合物とポリア
ルコール、たとえばビスフェノールまたはノボラック化
合物とから誘導されるノエボキ/ポリエーテル等が挙げ
られる。これらの化合物の1種又はそれ以上が用いられ
、一般に水不溶性モノマーか好ましい。
Photopolymerizable unsaturated monomer (II
) may be a commonly used one, for example one having an ethylenically unsaturated group, preferably one having a polyfunctional ethylenically unsaturated group in order to impart higher water resistance to the cured resin plate after exposure. be. Specific examples of the monomer (n) include unsaturated carbonic acids (e.g. (meth)acrylic acid, maleic acid, itaconic acid), unsaturated carboxylic acid esters (e.g. n-butyl (meth)acrylate, 2-
Ethylhexyl(meth)acrylate, lauryl(meth)acrylate, stearyl(meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol mono(meth)acrylate meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, diaryl itaconate, glycerol meth)acrylate,
Glycerol (1) acrylate, 1,3-propylene glycol/(meth)acrylate, 1,4-cyclohedoxan/ol/(meth)acrylate, 1. ..
2.4-butanetrioltri(meth)acrylate,
Glycerol polypropylene glycol tri(meth)acrylate, 1,4-benzenediol di(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, tetramethylene glycol di(meth)acrylate), 1,5-pentanediol di(meth)acrylate acrylate, 1,6-hexanethiol di(meth)acrylate, unsaturated amides (e.g. methylene bis(meth)acrylamide, ethylene bis(meth)acrylamide, 1,
6-hexamethylene bis(meth)acrylamide, diethylenetriamine tris(meth)acrylamide, N-
(hydroxymethyl)acrylamide, N-(hydroxymethyl)methacrylamide, N-(β-hydroxyethyl)acrylamide, N-(β-hydroxyethyl)
Methacrylamide, N,N'-bis(β-hydroxyethyl)acrylamide, N,N'-bis(β-hydroxy/ethyl)methacrylamide, divinyl esters (e.g. divinyl adipate, divinyl phthalate), acrylated or methacrylated Urethanes (derived from hydroquinoalkyl acrylates or hydroquinoalkyl methacrylates and iso/anate compounds), diacrylic or dimethacrylic esters, or noeboxy/polyethers derived from aromatic compounds and polyalcohols, such as bisphenols or novolak compounds. etc. One or more of these compounds may be used, with water-insoluble monomers generally being preferred.

上記単量体(It)の内、酸性基もしくは塩基性基を有
するものは、樹脂板作製時に於ける水現像性を高める為
に、予めそれらを塩形成させ、これを本発明の樹脂組成
物に配合しても良い。即ち、例えば単量体か酸性基を汀
する場合は、これを塩基性窒素原子3有化合物(例えば
、前記成分(11)で述へたもの。)で、部分的、もし
くは完全に中和させて塩を形成させ、これを組成物に配
合しても良い。あるいは、単量体か塩基性基を有する場
合は、これを酸性化合物(例えば、(メタ)アクリル酸
、マレイン酸、イタコン酸等)で部分的もしくは完全に
中和させて塩を形成させ、これを組成物に配合してもよ
い。
Among the monomers (It) mentioned above, those having an acidic group or a basic group are formed into salts in advance in order to improve water developability during the production of resin plates, and this is used to form a salt in the resin composition of the present invention. It may be mixed with. That is, for example, when a monomer or an acidic group is to be removed, it can be partially or completely neutralized with a basic nitrogen-triple compound (for example, the one mentioned above for component (11)). may be used to form a salt, which may be incorporated into the composition. Alternatively, if the monomer has a basic group, it can be partially or completely neutralized with an acidic compound (e.g. (meth)acrylic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.) to form a salt. may be added to the composition.

本発明に使用する光重合性開始剤(III)としては通
常用いられるもので良く、ベンゼンエーテル類(例エバ
、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテル)、ベンゾフェノン類(例エバ、ベンゾフェ
ノン、メチル−〇−ペンゾイルヘンゾエート)、キサン
トン類(例えば、牛サントン、チオキサントン、2−ク
ロロチキサントン)、アセトフェノン類(例えば、アセ
トフェノン、トリクロロアセトフェノン、2.2−ジエ
トキ/アセトフェノン、2.2−ジフトキン−2−フェ
ニルアセトフェノン)、ベンジル、2−エチルアントラ
キノン、メチルベンゾイルホルメート、2ヒトロキ/−
2−メチルプロピオフェノン、2ヒトロキ/−2−メチ
ル−4゛−イソプロピルイソフロピオフエノン、1−ヒ
ドロキノンクロへキ/ルフェニルケトン等か挙げられる
。これるは単独または組み合わせて使用しても良い。
The photopolymerization initiator (III) used in the present invention may be one commonly used, such as benzene ethers (e.g. EVA, benzoin isobutyl ether, benzoin isobutyl ether), benzophenones (e.g. EVA, benzophenone, methyl- penzoylhenzoate), xanthones (e.g. bovine santhone, thioxanthone, 2-chlorothixanthone), acetophenones (e.g. acetophenone, trichloroacetophenone, 2,2-diethoxy/acetophenone, 2,2-diphthoquine-2-phenylacetophenone) ), benzyl, 2-ethylanthraquinone, methylbenzoylformate, 2-hydroki/-
Examples include 2-methylpropiophenone, 2-methylpropiophenone, 2-methyl-4-isopropylisofropiophenone, and 1-hydroquinone chlorohexyl-phenylketone. These may be used alone or in combination.

本発明の組成物の組成に於いて、上記(1)〜(III
 )532分の含量100重量部に対し、成分(I)/
成分(II)/’成分(III)−30〜9015〜7
010゜01〜10重量部か好ましい。成分(1)か3
0重量部未満だと水現像性及び硬化樹脂板の耐水性に劣
り、又90重量部より多いと硬化樹脂板に十分な硬度を
付与出来ない。成分(II)が5重量部未満だと組成物
か十分に光硬化せず、又70重量部を超えると樹脂板の
固形保持性か劣る。成分(I[[)が0.01重量部未
満では、感光性樹脂板に十分な感光性を付与出来ず、又
10重量部を超えると硬化樹脂印刷版上の画像性が悪い
ので好ましくない。
In the composition of the composition of the present invention, the above (1) to (III)
) 532 minutes, component (I) /
Component (II)/'Component (III)-30-9015-7
010°01 to 10 parts by weight is preferred. Ingredient (1) or 3
If it is less than 0 parts by weight, the water developability and water resistance of the cured resin plate will be poor, and if it is more than 90 parts by weight, sufficient hardness cannot be imparted to the cured resin plate. If component (II) is less than 5 parts by weight, the composition will not be sufficiently photocured, and if it exceeds 70 parts by weight, the solid retention property of the resin plate will be poor. If the component (I[[) is less than 0.01 parts by weight, sufficient photosensitivity cannot be imparted to the photosensitive resin plate, and if it exceeds 10 parts by weight, the image quality on the cured resin printing plate will be poor, which is not preferable.

本発明の感光性樹脂組成物は、上記各成分の他に添加剤
として、界面活性剤(例えば、ポリエチレンジ11コー
ル、/ニルフェニルエーテル等)、酸化防止剤(例えば
、2.6−ジーt−・ブチル−p−クレゾール等)、保
存時における重合を抑制すル為の重合禁止剤(例えば、
ヒドロ牛ノンモノメチルエーテル等)、及び粘度調整等
の為の溶剤(例えば、グリセリン、ソルビタンエステル
類等)等を加えても良い。
In addition to the above-mentioned components, the photosensitive resin composition of the present invention may contain surfactants (e.g., polyethylene di-11 alcohol/nylphenyl ether, etc.), antioxidants (e.g., 2,6-di-t, etc.), and additives. -, butyl-p-cresol, etc.), polymerization inhibitors to suppress polymerization during storage (e.g.,
(eg, hydrocarbon nonmonomethyl ether, etc.), and a solvent for adjusting viscosity (eg, glycerin, sorbitan esters, etc.) may be added.

本発明の感光性樹脂組成物の調整法は、通常の方法で良
く、例えば上記(1)〜(III)成分をニーダ−等で
均一に混合することにより行なっても良い。
The photosensitive resin composition of the present invention may be prepared by a conventional method, for example, by uniformly mixing the components (1) to (III) above using a kneader or the like.

上記のようにして得られる本発明の感光性樹脂組成物を
用いて、印刷用版材を作製することが出来る。即ち、得
られた感光性樹脂組成物をホットロールコータ−などに
より支持基盤(例えば、ブライマーコートを施した金属
プレート)上に一定膜厚に展開した上で、ネガフィルム
を当てて露光・硬化した後、水現像装置を用いて未露光
部分を洗浄除去することによって、ネガフィルムに忠実
にレリーフ画像を得ることができる。
A printing plate material can be produced using the photosensitive resin composition of the present invention obtained as described above. That is, the obtained photosensitive resin composition was spread to a constant thickness on a support base (for example, a metal plate coated with primer) using a hot roll coater, and then exposed and cured by applying a negative film. Thereafter, by washing and removing the unexposed areas using a water developing device, a relief image can be obtained faithfully to the negative film.

[発明の効果コ 本発明に使用する架橋樹脂粒子は、成分(1)によりゴ
ム弾性が付与され、成分(II)により樹脂粒子間の融
着性が解決され、これにより水への再分散性が向上し、
更に成分(III)により樹脂粒子の形態保持性、及び
水現像性が確保される。
[Effects of the invention] Component (1) imparts rubber elasticity to the crosslinked resin particles used in the present invention, and component (II) solves the problem of fusion between resin particles, thereby improving redispersibility in water. improved,
Furthermore, component (III) ensures the shape retention and water developability of the resin particles.

上記架橋樹脂粒子の製造は、後乳化法で行なわれる。従
って、通常のエマルジョン重合法がラジカル重合性モノ
マーからのビニル樹脂(例えば、ジエン系樹脂)等の製
造に限定されるのに対し、様々な樹脂、例えばゴムエラ
ストマー等の樹脂にも架橋樹脂原料として適応すること
が出来る。更に、エマルジョン重合法では一般に架橋原
料として単量体のみを使用するが、これらの単量体、例
えばブタジェン等は低沸点揮発性物質であり、製造工程
上、又安全性上、問題を有する。しかし後乳化法では、
架橋原料として樹脂を使用出来るため、揮発性物質を取
り扱うことを避けることか出来、上記問題を解消出来る
The above-mentioned crosslinked resin particles are produced by a post-emulsification method. Therefore, while the usual emulsion polymerization method is limited to the production of vinyl resins (e.g., diene resins) from radically polymerizable monomers, various resins, such as rubber elastomers, can also be used as raw materials for crosslinked resins. Can adapt. Further, in the emulsion polymerization method, only monomers are generally used as crosslinking raw materials, but these monomers, such as butadiene, are volatile substances with low boiling points, and have problems in terms of manufacturing process and safety. However, in the post-emulsification method,
Since a resin can be used as a crosslinking raw material, handling of volatile substances can be avoided and the above problem can be solved.

本発明の感光性樹脂組成物は、上記の優れた諸行性を持
つ架橋樹脂粒子を使用することにより、組成物の水分散
性は一層高められ、優れた水現像性が付与される。又、
組成物中に於いて架橋樹脂粒子の粒子形態か長時間保持
されるので、感光性樹脂組成物の貯蔵安定性か優れる。
In the photosensitive resin composition of the present invention, by using the crosslinked resin particles having the above-mentioned excellent processing properties, the water dispersibility of the composition is further improved and excellent water developability is imparted. or,
Since the particle form of the crosslinked resin particles is maintained in the composition for a long time, the storage stability of the photosensitive resin composition is excellent.

更に、又、本発明の感光性樹脂組成物を用いて作製され
たレリーフ版は、弾性、透明性、強度、耐久性に優れ、
かつ適度な硬度、耐水性を有している。そのため、印刷
用凸板として利用した場合、油性インクだけでなく水性
インクに対しても優れた抵抗性を有する。またプリント
配線板にも十分に適用可能な硬化画像を与えるものであ
る。
Furthermore, the relief plate produced using the photosensitive resin composition of the present invention has excellent elasticity, transparency, strength, and durability.
It also has appropriate hardness and water resistance. Therefore, when used as a printing plate, it has excellent resistance not only to oil-based inks but also to water-based inks. Furthermore, it provides a cured image that is sufficiently applicable to printed wiring boards.

「実施例」 以下、本発明を実施例により更に詳しく説明するが、本
発明はこれら実施例により限定されるものではない。
"Examples" Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited by these Examples.

(成分(1)の調製) 参考例1 撹拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を装着した
2g容量の四つロフラスコにLIR−300(ポリブタ
ジェン、推定分子ff145,000、クラレ製)のキ
シレン溶液<固形分aV90%)500部、無水マレイ
ン酸30部及びN0CRAC6C(N−フェニル−(1
,3−ジメチルブチル)p−フェニル/アミン 大向新
興化学工業製)1部を仕込み、次いて、窒素気流下にお
いて190℃て6時間反応を行なった。
(Preparation of component (1)) Reference Example 1 In a 2 g capacity four-loop flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube and thermometer, LIR-300 (polybutadiene, estimated molecular weight 145,000, manufactured by Kuraray) was placed. 500 parts of xylene solution <solid content aV 90%), 30 parts of maleic anhydride and N0CRAC6C (N-phenyl-(1
, 3-dimethylbutyl) p-phenyl/amine (manufactured by Ohmukai Shinko Kagaku Kogyo) was charged, and then a reaction was carried out at 190° C. for 6 hours under a nitrogen stream.

得られたマレイン化ポリブタンエンにさらに2ヒトロキ
ンルメタクリレート26Lエマルケン109P(ポリエ
チレンオキシドモノラウリルエーテル、花王製)58部
、ヒドロキノン1部、N、N−ジメチルベンジルアミン
3部及びキシレン330部を仕込み、さらに135℃1
30分間反応を行なった。
To the obtained maleated polybutanene were further added 58 parts of 2-hydroquine methacrylate 26L Emulken 109P (polyethylene oxide monolauryl ether, manufactured by Kao), 1 part of hydroquinone, 3 parts of N,N-dimethylbenzylamine and 330 parts of xylene. 135℃1
The reaction was carried out for 30 minutes.

得られた樹脂は固形濃度60%、平均分子量56.40
0及び樹脂固形分酸価38てあり、又IRスペクトル測
定によりラジカル重合可能な二重結合を有していること
か認められた。
The obtained resin had a solid concentration of 60% and an average molecular weight of 56.40.
0 and resin solid content acid value of 38, and it was confirmed by IR spectrum measurement that it had a double bond capable of radical polymerization.

参考例2 撹拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を装着した
2g容量の四つロフラスコにLIR−30(ポリイソプ
レン、推定分子量29,000、クラレ製)のキシレン
溶液(固形分a度90%)500部、無水マレイン酸3
0部及びN0CRAC6C(N−フェニル−(1,3−
ジメチルブチル)−pフエニルジアミン 大向新興化学
工業製)1部を仕込み、次いで、窒素気流下において1
90℃で6時間反応を行なった。
Reference Example 2 A xylene solution of LIR-30 (polyisoprene, estimated molecular weight 29,000, manufactured by Kuraray) (solid content a degree 90%) 500 parts, maleic anhydride 3
0 parts and N0CRAC6C(N-phenyl-(1,3-
(dimethylbutyl)-p phenyldiamine (manufactured by Ohmukai Shinko Kagaku Kogyo) was charged, and then 1 part was heated under a nitrogen stream.
The reaction was carried out at 90°C for 6 hours.

得られたマレイン化ポリイソプレンにさらに2ヒドロキ
シルメタクリレ一ト26部、エマルケン109P(ポリ
エチレンオキシドモノラウリルエーテル、花王製)58
部、ヒドロキノン1部、N、N−ジメチルベンジルアミ
ン3部及びキシレン330部を仕込み、さらに135℃
130分間反応を行なった。
To the obtained maleated polyisoprene, 26 parts of 2-hydroxyl methacrylate and 58 parts of Emulken 109P (polyethylene oxide monolauryl ether, manufactured by Kao) were added.
1 part of hydroquinone, 3 parts of N,N-dimethylbenzylamine and 330 parts of xylene, and further heated to 135°C.
The reaction was carried out for 130 minutes.

得られた樹脂は固形濃度60%、平均分子量40.40
0及び樹脂固形分酸価40であり、又IRスペクトル測
定によりラジカル重合可能な二重結合を有していること
が認められた。
The resulting resin had a solid concentration of 60% and an average molecular weight of 40.40.
0 and the resin solid content acid value was 40, and it was confirmed by IR spectrum measurement that it had a double bond capable of radical polymerization.

)考例3 撹拌機、還流冷却器、窒素導入管及び温度計を装着した
2e容量の四つロフラスコに無水トリメリット酸192
部、プラクセルFM−1(ヒドロキンメタクリレートと
ε−カプロラクトン1.1モル付加物、ダイセル化学製
)224部、ンクロへキサノン100部、ヒドロキノン
0.1部を仕込み、次いで、窒素気流下において150
’Cて05時間反応を行なった。
) Example 3 Trimellitic anhydride 192 was added to a 2e capacity four-bottle flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube and thermometer.
1 part, 224 parts of Plaxel FM-1 (1.1 mol adduct of hydroquine methacrylate and ε-caprolactone, manufactured by Daicel Chemical), 100 parts of nclohexanone, and 0.1 part of hydroquinone, and then heated to 150 parts under a nitrogen stream.
The reaction was carried out for 05 hours at 'C.

さらにブナコール992(ポリテトラメチレングリコー
ルジクリシジルエーテル、ナガセ化成工業製)740部
、シクロへキサノン400部及びヒドロキノン0.1部
を仕込み、150℃、60分間反応を行なった。
Further, 740 parts of Bunacol 992 (polytetramethylene glycol dicrycidyl ether, manufactured by Nagase Chemical Industries, Ltd.), 400 parts of cyclohexanone, and 0.1 part of hydroquinone were charged, and a reaction was carried out at 150° C. for 60 minutes.

得られた樹脂は固形濃度70%、平均分子量2゜400
及び樹脂固形分酸価48てあり、又IRスペクトル測定
によりう/カル重合可能な二重結合を有していることか
認められた。
The resulting resin had a solid concentration of 70% and an average molecular weight of 2°400.
The resin solid content had an acid value of 48, and it was confirmed by IR spectrum measurement that it had a double bond capable of polymerization.

(架橋樹脂粒子(1)の製造) 製造例1 分散工程: 参考例1の樹脂の7メチル工タノールアミン100%中
和物140部、メチルメタクリレート20部及びンビニ
ルヘンセン2部を混合し、均一になるまで撹拌した。さ
らに脱イオン水450部及びn−プロピルアルコール5
0部を加え、ホモジナイザーで70℃130分間乳化操
作を行なった。
(Manufacture of crosslinked resin particles (1)) Production example 1 Dispersion step: 140 parts of the 100% neutralized product of 7-methyl ethanolamine of the resin of Reference example 1, 20 parts of methyl methacrylate, and 2 parts of vinylhense are mixed to become uniform. Stir until Additionally, 450 parts of deionized water and 5 parts of n-propyl alcohol
0 parts was added, and emulsification was performed at 70°C for 130 minutes using a homogenizer.

架橋工程。Crosslinking process.

得られたエマル/コンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2e容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、CJ、A、
(4,4’−7ゾビスー4−シアノバレリノクアシッド
、大塚化学製)1部のジメチルエタノールアミン100
%中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気流下8
5℃で2時間ラジカル重合による架橋反応を行なった。
The obtained emul/con was transferred to a 2E four-bottle flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube and thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, CJ, A,
(4,4'-7zobis-4-cyanovalerinoquacid, manufactured by Otsuka Chemical) 1 part dimethylethanolamine 100
After adding 100 parts of an aqueous solution of the neutralized product, the
A crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 5° C. for 2 hours.

以上の工程にて調製された樹脂エマルジョンの平均粒子
径は110部m(電子顕微鏡観察による)であった。
The average particle size of the resin emulsion prepared in the above steps was 110 parts m (observed by electron microscopy).

水性溶媒除去工程: 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カルシウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径0.1〜数my)となって析出し
たため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃,0,5To
rr)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step: While stirring the obtained emulsion, a 1% aqueous calcium chloride solution was gradually added to salt out the resin particles, which were precipitated as fine aggregates (particle size of 0.1 to several my). Therefore, filtration, washing and vacuum drying (45℃, 0.5To
rr) to obtain dry particles.

製造例2 分散工程・ 111+1の樹脂のジメチルエタ/−ルアミノ100%
中和物140部、スチレンモノマー20部泣ひ1,6−
ヘキサンジオールメタクリレート3部を混合し、均一に
なるまで撹拌した。さらに脱イオン水450部及びn−
プロピルアルコール50部を加え、ホモジナイザーで7
0℃130分間乳化操作を行なった。
Production Example 2 Dispersion Step - 100% dimethyl ethyl/-ruamino of 111+1 resin
140 parts of neutralized product, 20 parts of styrene monomer 1,6-
Three parts of hexanediol methacrylate were mixed and stirred until homogeneous. Additionally, 450 parts of deionized water and n-
Add 50 parts of propyl alcohol and use a homogenizer to
Emulsification operation was performed at 0°C for 130 minutes.

架橋工程。Crosslinking process.

得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2g容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、C,V、A
 (4,4’−アゾビス−4−ンア/バレリノクアシッ
ド、大塚化学製)1部のジメチルエタノールアミン10
0%中+Delの水溶液100部を添加した嫂、窒素気
流下85℃で2時間ラジカル重合による架橋反応を行な
った。以上の工程にて調製された樹脂エマルジョンの平
均粒子径は124 run(電子顕微鏡観察による)で
あった。
The obtained emulsion was transferred to a 2 g four-bottle flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and radical polymerization initiators A, C, V, and A prepared separately were added.
(4,4'-azobis-4-na/valerinoquacid, manufactured by Otsuka Chemical) 1 part dimethylethanolamine 10
A crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 85° C. for 2 hours under a nitrogen stream to which 100 parts of an aqueous solution of 0% +Del was added. The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 124 run (observed using an electron microscope).

水性溶媒除去工程 得られたエマルションを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カル/ウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径0.1〜数■)となって析出した
ため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃,0,5Tor
r)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal process When the obtained emulsion was salted out by gradually adding a 1% aqueous calcium chloride solution while stirring, the resin particles became fine aggregates (particle size of 0.1 to several square meters). Due to precipitation, filtration, washing and vacuum drying (45°C, 0.5 Torr) were performed.
Dry particles were obtained by carrying out step r).

製造例3 分散工程: 参考例1の樹脂のジメチルエタノールアミン100%中
和物140部、ポリメチルメタクリレート(数平均分子
量推定約30万)の20%キシレン溶液100部及びネ
オペンチルグリコールジメタクリレート3部を混合し、
均一になるまで撹拌した。さらに税イオン水450部お
よびn−プロピルアルコール50部を加え、ホモジナイ
ザーで70′C130分間乳化操作を行なった。
Production Example 3 Dispersion Step: 140 parts of 100% neutralized dimethylethanolamine of the resin of Reference Example 1, 100 parts of a 20% xylene solution of polymethyl methacrylate (estimated number average molecular weight approximately 300,000), and 3 parts of neopentyl glycol dimethacrylate. mix,
Stir until homogeneous. Further, 450 parts of ionized water and 50 parts of n-propyl alcohol were added, and emulsification was carried out using a homogenizer for 130 minutes at 70'C.

架橋工程: 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2e容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、CV、A、
(4,4“−アゾビス−4−シアノバレリソクアンノド
、大塚化学製)1部のジメチルエタノールアミン100
%中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気流下8
5℃で2時間ラジカル重合による架橋反応を行なった。
Crosslinking step: The obtained emulsion was transferred to a 2E four-bottle flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, CV, A,
(4,4"-azobis-4-cyanovalerisoquinone, manufactured by Otsuka Chemical) 1 part dimethylethanolamine 100
After adding 100 parts of an aqueous solution of the neutralized product, the
A crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 5° C. for 2 hours.

以上の工程にて調製された樹脂エマルションの平均粒子
径は145 nm(ii電子顕微鏡観察よる)であった
The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 145 nm (ii) by electron microscopy observation.

水性溶媒除去工程゛ 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カルシウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径0.1〜数j+x)となって析出
したため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃1Q、5T
orr)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step: While stirring the obtained emulsion, 1% aqueous calcium chloride solution was gradually added to salt out the resin particles, which precipitated out as fine aggregates (particle size 0.1 to several j+x). Therefore, filtration, washing and vacuum drying (45℃ 1Q, 5T
orr) to obtain dry particles.

製造例4 分散工程 参考例tの樹脂のジメチルエタノールアミン100%中
和物120部、YD−014’(ビスフェノール型エボ
キン樹脂、東部化学製)の酢酸ブチル50%溶液60部
及びエチレングリフールジメタクリレート05部を混合
し、均一になるまで撹拌した。さらに脱イオン水、45
0部およびnプロピルアルコール50部を加え、ホモジ
ナイザーで70’C130分間乳化操作を行なった。
Production Example 4 Dispersion Process 120 parts of a 100% dimethylethanolamine neutralized product of the resin of Reference Example t, 60 parts of a 50% butyl acetate solution of YD-014' (bisphenol type Evokin resin, manufactured by Tobu Kagaku), and ethylene glyfur dimethacrylate. 05 parts were mixed and stirred until homogeneous. Plus deionized water, 45
0 parts and 50 parts of n-propyl alcohol were added, and emulsification was performed using a homogenizer for 130 minutes at 70'C.

架橋工程 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2Q容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、C,V、A
、(4,4’−アゾビス−4−ンアノバレリノクアシノ
ド、大塊化学H) 1 部のジメチルエタノールアミン
100%中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気
流下85℃て2時間ラジカル重合による架橋反応を行な
った。以上の工程にて調製された樹脂エマル/コンの平
均粒子径は131 nm(電子顕微鏡観察による)であ
った。
Crosslinking process The obtained emulsion was transferred to a 2Q four-bottle flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, and thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, C, V, and A were added.
, (4,4'-Azobis-4-ananovalerinokuacinodo, Oganka Kagaku H) After adding 100 parts of an aqueous solution of 1 part of 100% neutralized dimethylethanolamine, 2 A crosslinking reaction was carried out by time radical polymerization. The average particle diameter of the resin emul/con prepared in the above steps was 131 nm (observed using an electron microscope).

水性溶媒除去工程 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カルシウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径01〜数U)となって析出したた
め、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃、Q5Torr)
を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal process When the obtained emulsion was salted out by gradually adding a 1% aqueous calcium chloride solution while stirring, the resin particles precipitated as fine aggregates (particle size 01 to several U), so they were filtered. , washing and vacuum drying (45°C, Q5 Torr)
to obtain dry particles.

腎匙凱旦 分散工程 l考例2の樹脂のジメチルエタノールアミン100%中
和物12 OL スチレンモノマー15部、エチルメタ
クリレート15部及びプロピレングリコールノアクリレ
ート10部を混合し、均一になるまて撹拌した。さらに
脱イオン水430部およびイソプロピルアルコール50
部を加え、ホモジナイザーで70’C130分間乳化操
作を行なった。
100% neutralized dimethylethanolamine of the resin from Example 2 OL 15 parts of styrene monomer, 15 parts of ethyl methacrylate, and 10 parts of propylene glycol noacrylate were mixed and stirred until homogeneous. . Additionally, 430 parts of deionized water and 50 parts of isopropyl alcohol
and emulsification was performed using a homogenizer for 130 minutes at 70'C.

架橋工程: 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2Q容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、CJ、A、
(4,4’−アゾビス−4−シア/バリリックアシノド
、大塊化学製)1部のジメチルエタノールアミン100
%中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気流下8
5℃で2時間ラジカル重合による架橋反応を行なった。
Crosslinking step: The obtained emulsion was transferred to a 2Q four-bottle flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, CJ, A,
(4,4'-Azobis-4-thia/valylic acid, manufactured by Daichu Kagaku) 1 part dimethylethanolamine 100
After adding 100 parts of an aqueous solution of the neutralized product, the
A crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 5° C. for 2 hours.

以上の工程にて調製された樹脂エマルジョンの平均粒子
径は254 nm(電子顕微鏡観察による)であった。
The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 254 nm (observed using an electron microscope).

水性溶媒除去工程・ 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カルシウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径0,1部数mm)となって析出し
たため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃,Q、5To
rr)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step - While stirring the obtained emulsion, a 1% aqueous calcium chloride solution was gradually added to salt out the resin particles, which precipitated out as fine aggregates (particle size of 0.1 part/several mm). , filtration, washing and vacuum drying (45°C, Q, 5To
rr) to obtain dry particles.

製造例6 分散工程。Manufacturing example 6 Dispersion process.

参考h+2の樹脂のジメチルエタノールアミン100%
中和物120部、ポリスチレン(数平均分子量推定約3
0万)の20%キンレン溶液150部及びトリビニルベ
ンセン0.1部を混合し、均一になるまで撹拌した。さ
らに脱イオン水450部およびイソプロピルアルコール
50部を加え、ホモジナイザーで70℃130分間乳化
操作を行なった。
Reference h+2 resin dimethylethanolamine 100%
120 parts of neutralized product, polystyrene (estimated number average molecular weight approximately 3
150 parts of a 20% quintessence solution (100,000) and 0.1 part of trivinylbenzene were mixed and stirred until homogeneous. Further, 450 parts of deionized water and 50 parts of isopropyl alcohol were added, and emulsification was performed at 70°C for 130 minutes using a homogenizer.

架橋工程: 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2ρ容器の四つロフラスコに
移し、別途調製したラジカル重合開始剤A、C,VJ 
(4+4’−7ソビスー4−ンアノバレリノクアンノド
、大塊化学製)1部のジメチルエタノールアミン100
%中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気流下8
5℃で2時間ラジカル重合による架橋反応を行なった。
Crosslinking step: The obtained emulsion was transferred to a four-bottle flask with a 2ρ container equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, C, and VJ were added.
(4+4'-7 sobisu-4-one anovalerinokannod, manufactured by Daika Kagaku) 1 part dimethylethanolamine 100
After adding 100 parts of an aqueous solution of the neutralized product, the
A crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 5° C. for 2 hours.

以上の工程にて調製された樹脂エマルジョンの平均粒子
径は190 nm(i子顕微鏡観察による)であった。
The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 190 nm (observed using an i-son microscope).

水性溶媒除去工程: 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カルンウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径01〜数xx)となって析出した
ため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃,0,5Tor
r)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step: While stirring the obtained emulsion, 1% aqueous carunium chloride solution was gradually added for salting out, and the resin particles precipitated as fine aggregates (particle size 01 to several xx). Filtration, washing and vacuum drying (45°C, 0.5 Torr)
Dry particles were obtained by carrying out step r).

製造例7 分散工程 参考例3の樹脂の7メチル工タノールアミン100%中
和物140部、タイアミド−PAE(ボッアミド樹脂、
タイセルヒュルス製)の7クロへ牛すノン30%溶液6
7部、トリメチロールプロパントリアクリレート1部及
びV−65(2,2アソビスー(2,4−7メチルハレ
ロニトリル)、相光純薬製)1部を混合し、均一になる
まで撹拌した。さらに脱イオン水600部ナモ/ナイ叶
−で70’C130分間乳化操作を行なった。
Production Example 7 Dispersion Process 140 parts of 100% neutralized product of 7-methylated ethanolamine of the resin of Reference Example 3, Tyamide-PAE (boamide resin,
(manufactured by Teiselhüls) 7 Kurohe Beef Non 30% Solution 6
7 parts of trimethylolpropane triacrylate and 1 part of V-65 (2,2 asobis-(2,4-7 methylhaleronitrile), manufactured by Aiko Pure Chemical Industries, Ltd.) were mixed and stirred until uniform. Further, an emulsification operation was performed for 130 minutes at 70'C with 600 parts of deionized water.

【康ニー盟 得られたエマル/コノを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管および温度計を装着した2g容器の四つロフラスコに
移し、窒素気流下75℃で1時間ラジカル重合による架
橋反応を行なった。以上の工程にて調製された樹脂エマ
ルジョンの平均粒子径は70部m(ii電子顕微鏡観察
よる)であった。
[Kanneyeng] The obtained emul/container was transferred to a 2 g four-bottle flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube and thermometer, and a crosslinking reaction by radical polymerization was carried out at 75°C under a nitrogen stream for 1 hour. I did it. The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 70 parts m (ii) by electron microscopy observation.

水性溶媒除去工程・ 得られたエマルジョンを撹拌しながら、徐々に1%塩化
カル/ウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径0.1〜数yrx)となって析出
したため、接遇、洗浄及び真空乾燥(45℃,0,5T
orr)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step - While stirring the obtained emulsion, a 1% aqueous calcium chloride solution was gradually added to salt out the resin particles, which turned into fine aggregates (particle size of 0.1 to several yrx). Since the precipitates precipitated during treatment, washing and vacuum drying (45℃, 0.5T)
orr) to obtain dry particles.

製造例8 分散工程゛ AC−PTGlooO(ポリテトラメチレングノコール
ンアクリレート 分子1約1,200、保土谷化学製)
60部、N、N’−7,1チルアミ/工チルアクリレー
ト2部、アクリロニトリル1部、エチレングI/コール
/了りIJレート5L2−ヒドロキンエチルメタクリレ
ート2部、イソフロビルメタクリレート30部、及びV
−60(アブビスイノブチロニトリル、和光純薬製)1
部を混合し、均一になるまで撹拌した。更に、ラウリル
硫酸ナトリウムの1%水溶液400部を加え、ホモジナ
イザーで70’C130分間乳化操作を行なった。
Production example 8 Dispersion step AC-PTGlooO (polytetramethylene gnocolon acrylate molecule 1 approximately 1,200, manufactured by Hodogaya Chemical)
60 parts, 2 parts of N,N'-7,1 methyl acrylate, 1 part of acrylonitrile, 2 parts of ethylene chloride/col/IJ rate 5L2-hydroquine ethyl methacrylate, 30 parts of isoflovir methacrylate, and V
-60 (abbisinobutyronitrile, manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 1
The parts were mixed and stirred until homogeneous. Furthermore, 400 parts of a 1% aqueous solution of sodium lauryl sulfate was added, and emulsification was performed using a homogenizer for 130 minutes at 70'C.

架橋工程 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管及び温度計を装着した2a容器の四つロフラスコに移
し、窒素気流下75℃で1時間ランカル重合による架橋
反応を行なった。以上の工程に調製された樹脂エマルジ
ョンの平均粒子径は120 nm(電子顕微鏡観察によ
る)であった。
Crosslinking process The obtained emulsion was transferred to a 2A four-bottle flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and a crosslinking reaction by Rancal polymerization was carried out at 75° C. under a nitrogen stream for 1 hour. The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 120 nm (observed using an electron microscope).

水性溶媒除去工程 得うれたエマルションはスプレードライ法によって乾燥
粒子を得た。
Aqueous solvent removal step The obtained emulsion was spray-dried to obtain dry particles.

製造例9 分散工程 HYCAR,VTBNX、BOOX23(ブタシエシー
アクリロニトリル共重合体の両末端ヒニル化物、分子1
約3.500、宇部興産製)96部、ノビニルベンセフ
1部、N、N−ジメチルアミノエトキンエチルアクリレ
ート2部及び参考例1の樹脂のジメチルエタノールアミ
ンによる100%中和物10部を混合し、均一になるま
で撹拌した。
Production Example 9 Dispersion Step HYCAR, VTBNX, BOOX23 (butashiacrylonitrile copolymer with both terminals hynylated, molecule 1
3.500, manufactured by Ube Industries), 1 part of novinylbencef, 2 parts of N,N-dimethylaminoethquin ethyl acrylate, and 10 parts of a 100% neutralized product of the resin of Reference Example 1 with dimethylethanolamine, Stir until homogeneous.

更に、脱イオン水900部及びイソプロピルアルコール
90部を加え、ホモジナイザーで70℃、30分間乳化
操作を行なった。
Further, 900 parts of deionized water and 90 parts of isopropyl alcohol were added, and emulsification was performed using a homogenizer at 70° C. for 30 minutes.

架橋工程・ 得られたエマルションを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管及び温度計を装着した2ρ容器の四つロフラスコに移
し、別途調製したラジカル重合開始剤A、CJ、A、(
4,4°−アゾビス−4−シアノバレリノクアンノド、
大塊化学製)1部のジメチルエタノールアミン100%
中和物の水溶液100部を添加した後、窒素気流下85
℃て2時間ランカル重合による架橋反応を行なった。以
上の工程にて調製された樹脂エマルジョンの平均粒子径
は10100n電子顕微鏡観察による)であった。
Crosslinking step: The obtained emulsion was transferred to a four-bottle flask with a 2ρ container equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, and the separately prepared radical polymerization initiators A, CJ, A, (
4,4°-azobis-4-cyanovalerinoquannode,
1 part dimethylethanolamine 100%
After adding 100 parts of an aqueous solution of the neutralized product, 85 parts of the aqueous solution was added under a nitrogen stream.
A crosslinking reaction by Rancal polymerization was carried out at ℃ for 2 hours. The average particle diameter of the resin emulsion prepared in the above steps was 10100n (as determined by electron microscopy).

水性溶媒除去工程 得うれたエマルションはフリーズドライ法によつて乾燥
粒子を得た。
Aqueous solvent removal step The obtained emulsion was freeze-dried to obtain dry particles.

比較製造例1 分散工程: 膠考例1の樹脂のジメチルエタノールアミン100%中
和物140部及びメチルメタクリレート20部を混合し
、均一になるまで撹拌した。更に脱イオン水450部及
びn−プロピルアルコール50部を加え、ホモジナイザ
ーで70℃130分間乳化操作を行なった。
Comparative Production Example 1 Dispersion Step: 140 parts of a 100% dimethylethanolamine neutralized product of the resin of Glue Example 1 and 20 parts of methyl methacrylate were mixed and stirred until uniform. Further, 450 parts of deionized water and 50 parts of n-propyl alcohol were added, and emulsification was performed using a homogenizer at 70°C for 130 minutes.

架橋工程 得られたエマルジョンを撹拌機、還流冷却器、窒素導入
管及び温度計を装着した2a容器の四つロフラスコに移
し、別途調製したラジカル重合開始剤A、C,V、A、
(4,4−7ソヒスー4−/7ノバレリ、クアン、ド、
大塊化学製)1部のンメチルエタノールアミン100%
中和物の水1IJI00部を添加した後、窒素気流下8
5℃て2時間う/カル重合による架橋反応を行なった。
Crosslinking step The obtained emulsion was transferred to a 2A four-bottle flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube and thermometer, and separately prepared radical polymerization initiators A, C, V, A,
(4, 4-7 Sohisu 4-/7 Novareli, Quan, Do,
(manufactured by Daichu Kagaku) 1 part methylethanolamine 100%
After adding 1 IJI 00 parts of neutralized water, 8 parts of water was added under a nitrogen stream.
A crosslinking reaction was carried out by polymerization/cal polymerization at 5° C. for 2 hours.

以上の工程にて調製された樹脂エマル/ジンの平均粒子
径はl 00 nm(電子顕微鏡観察による)てあった
The average particle diameter of the resin emul/gin prepared in the above steps was l 00 nm (observed using an electron microscope).

水性溶媒除去工程: 得られたエマルジョンを撹拌しなから、徐々に1%塩化
カルシウム水溶液を加えて塩析したところ、樹脂粒子は
、細かい凝集物(粒径01〜数nm)となって析出した
ため、濾過、洗浄及び真空乾燥(45℃10,5Tor
r)を行ない乾燥粒子を得た。
Aqueous solvent removal step: While stirring the obtained emulsion, a 1% aqueous calcium chloride solution was gradually added to salt out the resin particles, which precipitated out as fine aggregates (particle size of 0.1 to several nanometers). , filtration, washing and vacuum drying (45°C 10,5 Tor
Dry particles were obtained by carrying out step r).

(感光性樹脂組成物の調製) 実施例1 製造例1て製造された乾燥粒子60部に対し、NN−ジ
メチルアミノプロピルメタクリルアミド58部、ポリエ
チレングリコールノニルフェニルエーテル55部、フェ
ノキ/エトキノエタノール55部、ジプロピレングリコ
ールモノメチルモノアクリレート11部、ノナエチレン
グリフールジアクリレート5部、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート5部、2,2−シメトキ/−2−
フェニルアセトフェノン1.8部、及ヒ2.6−ノーt
フチルーpクレソール04部を加えた。得られた混合物
を加II2軸二一夕により十分に混合した。このように
して得られた光重合樹脂組成物をT−ダイを有するエー
タ押出機により鉄板上に押出し、厚さ約0.4011の
感光性樹脂層を有するプレートを得た。次いで、感光性
樹脂板の感光性樹脂層を表面に、適当な画像を有するネ
ガフィルムを均一に接触し、350W化学ランプで1時
間照射後、40’Cで水で現像することにより、ネガフ
ィルムに忠実な樹脂白板が作製できた。
(Preparation of photosensitive resin composition) Example 1 To 60 parts of the dry particles produced in Production Example 1, 58 parts of NN-dimethylaminopropyl methacrylamide, 55 parts of polyethylene glycol nonylphenyl ether, and 55 parts of phenoxy/ethoquinoethanol were added. parts, dipropylene glycol monomethyl monoacrylate 11 parts, nonaethylene glyfur diacrylate 5 parts, trimethylolpropane trimethacrylate 5 parts, 2,2-cymethoxy/-2-
1.8 parts of phenylacetophenone, and 2.6 parts of phenylacetophenone
04 parts of Fuchirup P Cresol was added. The resulting mixture was thoroughly mixed using a two-screw kettle. The photopolymerized resin composition thus obtained was extruded onto an iron plate using an eta extruder equipped with a T-die to obtain a plate having a photosensitive resin layer with a thickness of about 0.4011 mm. Next, a negative film having an appropriate image is uniformly brought into contact with the surface of the photosensitive resin layer of the photosensitive resin plate, and after being irradiated with a 350W chemical lamp for 1 hour, the negative film is developed by developing with water at 40'C. We were able to create a resin white board that was faithful to the above.

この印刷板を用いて、フレキソ印刷機で印刷条件600
フイ一ト/分において水性フレキソインクを用いて印刷
を行なった。150,000枚印刷した後、印刷板の表
面に何ら変化は見られなかった。
Using this printing plate, printing conditions were 600 on a flexo printing machine.
Printing was carried out using an aqueous flexo ink at 1 ft/min. After printing 150,000 sheets, no changes were observed on the surface of the printing plate.

実施例2〜7 製造例1の乾燥粒子を代わりに製造例2〜7で製造され
た乾燥粒子60部を用いた以外は、実施例1と同様にし
て、感光性樹脂組成物を調製し、これを塗装して厚さ約
0.40xxの感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂板を
得た。これらの印刷板を用いて、フレキソ印刷機で印刷
条件600フイ一ト/分において水性フレキソインクを
用いて印刷を行なった。150,000枚印刷した後、
印刷板の表面に何ら変化は見られなかった。
Examples 2 to 7 Photosensitive resin compositions were prepared in the same manner as in Example 1, except that 60 parts of the dry particles produced in Production Examples 2 to 7 were used instead of the dry particles in Production Example 1, This was coated to form a photosensitive resin layer having a thickness of about 0.40xx, thereby obtaining a photosensitive resin plate. Using these printing plates, printing was carried out using water-based flexographic ink on a flexographic printing machine under printing conditions of 600 feet/min. After printing 150,000 sheets,
No change was observed on the surface of the printing plate.

実施例8及び9 製造例8及び9で製造された各乾燥粒子60部に対し、
メタクリル酸5.8部、ポリエチレングリコールノニル
フェニルエーテル5.5部、フェノキシエトキシエタノ
ール5,5部、ジプロピレングリコールモノメチルモノ
アクリレート11部、ノナエチレングリフールジアクリ
レート5部、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト5部、2.2−ジフトキン−2−フェニルアセトフェ
ノン1.8部、及び2,6−シーtブチル−pクレゾー
ル04部を加えた。得られた混合物を加圧2軸ニータに
より十分に混合した。このようにして得られた光重合樹
脂組成物をT−クイを有するニダ押出機により鉄板上に
押出し、厚さ約0.40Uの感光性樹脂層を有するプレ
ートを得た。次いで、感光性樹脂板の感光性樹脂層を表
面に、適当な画像を有するネガフィルムを均一に接触し
、350W化学ランプで1時間照射後、40℃て水で現
像することにより、ネガフィルムに忠実なl脂凸板か作
製できた。
Examples 8 and 9 For 60 parts of each dry particle produced in Production Examples 8 and 9,
5.8 parts of methacrylic acid, 5.5 parts of polyethylene glycol nonylphenyl ether, 5.5 parts of phenoxyethoxyethanol, 11 parts of dipropylene glycol monomethyl monoacrylate, 5 parts of nonaethylene glyfur diacrylate, 5 parts of trimethylolpropane trimethacrylate. , 1.8 parts of 2,2-diftquine-2-phenylacetophenone, and 04 parts of 2,6-sheet t-butyl-p-cresol were added. The resulting mixture was thoroughly mixed using a pressurized twin-screw kneader. The photopolymerized resin composition thus obtained was extruded onto an iron plate using a Nida extruder equipped with a T-pull to obtain a plate having a photosensitive resin layer with a thickness of about 0.40U. Next, a negative film having a suitable image is uniformly brought into contact with the surface of the photosensitive resin layer of the photosensitive resin plate, and after being irradiated with a 350W chemical lamp for 1 hour, the film is developed with water at 40°C to form a negative film. I was able to create a faithful l-fat convex plate.

これらの印刷板を用いて、フレキソ印刷機で印刷条件6
00フイ一ト/分において水性フレキソインクを用いて
印刷を行なった。l 50. OO0枚印刷した後、印
刷板の表面に何ら変化は見られなかった。
Using these printing plates, printing conditions 6 were applied to a flexo printing machine.
Printing was carried out using a water-based flexographic ink at 0.00 feet/min. l 50. After printing OO0 sheets, no change was observed on the surface of the printing plate.

K梅桝土l 製造例1て製造された各乾燥粒子60部に対し、N、N
−ツメチルアミノプロピルメタクリルアミ)’5.8部
、ポリエチレングリコール/ニルフェニルエーテル5.
5部、フェノキ/エトキンエタノール5.5L /プロ
ピレングリコールモノメチルモノアクリレート11.0
部、)(X−620(口本化薬製)5 0部、ジエチレ
ングリコール/メタクリレート50部、2 、2>メト
キノ−2フエニルアセトフエ/ン18部、及ヒ2.6ノ
ー[ブチル−pフレソール04部をりUえた。得られた
混合物を加圧2軸二一夕により十分に混合した。この組
成物をソート状に押出成形し、同時に80℃でスペーサ
ーを介して支持体上に低圧プレスを用い0.4xx厚の
感光性樹脂板を得た。
K Umemasuto l For 60 parts of each dry particle produced in Production Example 1, N, N
5.8 parts of polyethylene glycol/nylphenyl ether
5 parts, phenol/ethquin ethanol 5.5 L/propylene glycol monomethyl monoacrylate 11.0
) (50 parts of X-620 (manufactured by Kuchmoto Kayaku), 50 parts of diethylene glycol/methacrylate, 18 parts of 2,2>methoquino-2phenylacetophene, and 2.6 parts of 04 parts of Fresol was removed.The resulting mixture was thoroughly mixed by pressurizing twin screws overnight.This composition was extruded into a sorted form, and at the same time, it was placed on a support at 80°C via a spacer under low pressure. A photosensitive resin plate with a thickness of 0.4xx was obtained using a press.

これらの印刷板を用いて、1分間120フイートの印刷
スピードでフレキソ印刷機を用いて新聞用フレキソイン
クで印刷した。印刷はまだら部分を有さすスムーズに行
なわれた。
These printing plates were used to print with newsprint flexo inks using a flexo printing machine at a printing speed of 120 feet per minute. Printing was smooth with some mottling.

実施例11〜16 製造例1の乾燥粒子の代わりに製造例2〜7で調製され
た乾燥粒子60部を用いた以外は実施例10に掲げた同
様の方法により、感光性樹脂組成物を調製し、これを基
板に塗装して厚さ約0401の感光性樹脂層を形成し、
感光性樹脂板を得た。
Examples 11 to 16 Photosensitive resin compositions were prepared in the same manner as in Example 10, except that 60 parts of the dry particles prepared in Production Examples 2 to 7 were used instead of the dry particles in Production Example 1. Then, this was coated on the substrate to form a photosensitive resin layer with a thickness of about 0401 mm,
A photosensitive resin plate was obtained.

これらの樹脂板を用いて実施例10と同様に印刷を行な
ったところ、鮮明な画像か得られた。
When printing was carried out in the same manner as in Example 10 using these resin plates, clear images were obtained.

実施例17及乙冒8 製造例8及び9て調製された各乾燥粒子60部に対し、
メタクリル酸58部、ポリエチレングツコール/ニルフ
ェニルエーテル5.5 部、フェノキンエトキノエタノ
ール55部、/プロピレングリコールモノメチルモノア
クリレート11゜0部、HX−620(日本化薬製)5
0部、ジエチレングリコールジメタクリレート50部、
2゜2−/メトキノ−2−フエニルアセトフエフ218
部、及び2,6−シーtブチル−pクレゾール04部を
加えた。得られた混合物を加圧2軸ニーダにより十分に
混合した。この組成物をソート状に押出成形し、同時に
80’Cでスペーサーを介して支持体上に低圧プレスを
用い0.4xx厚の感光性樹脂板を得た。
Example 17 and Otsura 8 For 60 parts of each dry particle prepared in Production Examples 8 and 9,
58 parts of methacrylic acid, 5.5 parts of polyethylene gutucol/nylphenyl ether, 55 parts of fenoquinethoquinoethanol, 11.0 parts of propylene glycol monomethyl monoacrylate, HX-620 (manufactured by Nippon Kayaku) 5
0 parts, 50 parts of diethylene glycol dimethacrylate,
2゜2-/Methoquino-2-phenylacetofu 218
and 0.4 parts of 2,6-sheet t-butyl-p-cresol were added. The resulting mixture was thoroughly mixed using a pressurized twin-screw kneader. This composition was extruded into a sorted form, and at the same time, a 0.4xx thick photosensitive resin plate was obtained on a support using a low pressure press at 80'C via a spacer.

これらの樹脂板を′用いて実施例10と同様に印刷を行
なったところ、鮮明な画像が得られた。
When these resin plates were used for printing in the same manner as in Example 10, clear images were obtained.

(水現像性及び貯蔵安定性試験) 実施例1で作製した感光性樹脂プレート、及び製造例1
の乾燥粒子の代わりに比較製造例1の乾燥粒子を用いて
実施例1と同様の方法により作製した厚さ約0.403
!2の感光性樹脂層を有するプレート(これを比較例1
とする)を、各々2枚ずつ用いて試験に洪した。まず、
各々1枚ずつのプレートを実施例1と同様の方法により
露光・硬化した後、40’Cでの水現像に要する時間(
水現像時間)を測定した。さらに残りの各々1枚ずつの
プレートを40℃の暗所に1週間放置した後、同様に水
現像に要する時間を測定した。以下に両者の実験結果を
示す。
(Water developability and storage stability test) Photosensitive resin plate produced in Example 1 and Production Example 1
A sample having a thickness of about 0.403 mm produced by the same method as in Example 1 using the dry particles of Comparative Production Example 1 instead of the dry particles of
! A plate having a photosensitive resin layer of 2 (comparative example 1)
Two sheets of each were used in the test. first,
After each plate was exposed and cured in the same manner as in Example 1, the time required for water development at 40'C (
Water development time) was measured. Further, each of the remaining plates was left in a dark place at 40° C. for one week, and then the time required for water development was measured in the same manner. The experimental results for both are shown below.

これらの結果より、本発明の感光性樹脂組成物は従来の
ものに比し、水現像性に優れ、且つ暗所に長時間放置し
ておいても全(硬化を起こすことなく容易に水現像され
、優れた貯蔵安定性を示す。
From these results, the photosensitive resin composition of the present invention has excellent water developability compared to conventional ones, and is easily water developable without curing even if left in a dark place for a long time. and exhibits excellent storage stability.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)( I )(i)ガラス転移温度(Tg)が0℃以
下の樹脂、 (ii)Tgが樹脂(i)より20℃以上 高い樹脂、又はそれを与える単量体、 (iii)多官能性ビニル化合物、及び (iv)重合開始剤 の各配合物を、後乳化法に付すことにより得られる架橋
樹脂粒子、 (II)光重合性不飽和単量体、及び (III)光重合開始剤 を含有する感光性樹脂組成物。
(1) (I) (i) A resin with a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less, (ii) A resin whose Tg is 20°C or more higher than resin (i), or a monomer that provides it, (iii) Polymer Crosslinked resin particles obtained by subjecting each blend of a functional vinyl compound and (iv) a polymerization initiator to a post-emulsification method, (II) a photopolymerizable unsaturated monomer, and (III) photopolymerization initiation A photosensitive resin composition containing a photosensitive agent.
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