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JPH03222130A - Optical master disk exposing device - Google Patents

Optical master disk exposing device

Info

Publication number
JPH03222130A
JPH03222130A JP2015910A JP1591090A JPH03222130A JP H03222130 A JPH03222130 A JP H03222130A JP 2015910 A JP2015910 A JP 2015910A JP 1591090 A JP1591090 A JP 1591090A JP H03222130 A JPH03222130 A JP H03222130A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
incident beam
laser
bit
optical
dot matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015910A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Fujita
滋 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2015910A priority Critical patent/JPH03222130A/en
Publication of JPH03222130A publication Critical patent/JPH03222130A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To extremely increase the control range of the sectional form of a bit, and to stabilize exposure quality by generating the bit by irradiating the surface of an optical information recording medium by an incident beam transmitted through a dot matrix type optical element. CONSTITUTION:A liquid crystal plate 8 as the dot matrix type optical element is arranged just before an objective lens 5 on an optical path along which laser light emitted from an ion gas laser 1 advances toward an optical master disk 6. This plate 8 is of two-dimensional matrix structure (X,Y axes) provided with a diaphragm function and a shutter function, and the laser intensity distribu tion of the incident beam and the form the bit can be freely controlled by the plate 8. Namely, since even the distribution of the quantity of light of the incident beam can be controlled, and various kinds of exposure patterns can be generated by the control result, the control range of the sectional form of the bit can be increased extremely compared with a traditional device.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスク原盤露光装置に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to an optical disc master exposure apparatus.

従来の技術 従来における光ディスク原盤露光装置としては、例えば
、第7図に示すようなものがある。すなわち、ガスレー
ザとしてのイオンガスレーザ1 (その他に、例えば、
アルゴンガスレーザ等)から出射されたレーザ光は、複
数個のミラー2,3やレンズ4を通過した後、対物レン
ズ5に平行光の状態で入射しこれより集光されて光情報
記録媒体としての光ディスク原盤(ガラスマスター)6
の表面に照射される。第8図(a)は、光ディスク原盤
6に照射される入射ビームの光量分布の一例を示したも
のであり、これにより第8図(b)に示すような形状を
したピット7を形成させることができる。
2. Description of the Related Art An example of a conventional optical disk master exposure apparatus is shown in FIG. That is, an ion gas laser 1 as a gas laser (in addition, for example,
After passing through multiple mirrors 2, 3 and a lens 4, the laser light emitted from an argon gas laser, etc. enters the objective lens 5 in the form of parallel light, where it is condensed and used as an optical information recording medium. Optical disc master (glass master) 6
irradiated onto the surface of FIG. 8(a) shows an example of the light intensity distribution of the incident beam irradiated onto the optical disc master 6, which allows the formation of pits 7 having the shape shown in FIG. 8(b). I can do it.

発明が解決しようとする課題 上述したような従来の光ディスク原盤露光装置において
光ディスク原盤6の表面に形成されるピット7の断面形
状の制御方法としては、一般に入射ビームをコントロー
ルすることにより行っている。すなわち、その入射ビー
ムのコントロールの考え方としては、入射ビームの光軸
調整や光量分布の増減に着目したものが多く、また、光
路中にスリットや楕円孔等のマスキングシートを配置し
た入射ビームの断面形状に着目したものもある。
Problems to be Solved by the Invention In the conventional optical disk master exposure apparatus as described above, the cross-sectional shape of the pits 7 formed on the surface of the optical disk master 6 is generally controlled by controlling the incident beam. In other words, many approaches to controlling the incident beam focus on adjusting the optical axis of the incident beam and increasing/decreasing the light intensity distribution. Some focus on shape.

しかし、この場合、「けられ」等の現象により入射ビー
ムに光量損失が生じたりする場合があり、また、このよ
うな制御方法では、入射ビームの光量分布までもコント
ロールすることは不可能であり、このため露光品質の安
定化を図ることができないという問題がある。
However, in this case, there may be a loss of light intensity in the incident beam due to phenomena such as ``vignetting'', and it is also impossible to control the light intensity distribution of the incident beam with this control method. Therefore, there is a problem that it is not possible to stabilize the exposure quality.

課題を解決するための手段 そこで、このような問題点を解決するために、本発明は
、ガスレーザから出射されたレーザ光を対物レンズによ
り集光して微小スポットを形成し、この集光されたレー
ザ光を光情報記録媒体上に照射することにより所定の形
状をなすビットやグルーブを作成する光ディスク原盤露
光装置において、ガスレーザから出射されたレーザ光が
対物レンズに入射する直前の光路上に、入射ビームのレ
ーザ強度分布を制御するドツトマトリックス型光学素子
を配設した。
Means for Solving the Problems Therefore, in order to solve such problems, the present invention focuses laser light emitted from a gas laser using an objective lens to form a minute spot. In an optical disk master exposure device that creates bits or grooves in a predetermined shape by irradiating laser light onto an optical information recording medium, the laser light emitted from the gas laser is incident on the optical path just before it enters the objective lens. A dot matrix type optical element was installed to control the laser intensity distribution of the beam.

作用 これにより、入射ビームをドツトマトリックス型光学素
子に通過させた後に光情報記録媒体の表面に照射しピッ
トを形成することによって、そのピットの断面形状のコ
ントロール範囲を従来に比べ飛躍的に増加させることが
可能となり、また、入射ビームの信号をフィードバック
して絞りや透過率を変化させることによって露光品質の
安定化を図ることができる。
Effect: By passing an incident beam through a dot matrix optical element and then irradiating it onto the surface of an optical information recording medium to form pits, the range of control over the cross-sectional shape of the pits is dramatically increased compared to conventional methods. Furthermore, exposure quality can be stabilized by changing the aperture and transmittance by feeding back the signal of the incident beam.

実施例 本発明の一実施例を第1図ないし第6図に基づいて説明
する。なお、光ディスク原盤露光装置(第7図参照)の
全体構成については従来技術で述べたのでその同一部分
についての説明は省略し、また、その同一部分について
は同一符号を用いる。
Embodiment An embodiment of the present invention will be explained based on FIGS. 1 to 6. The overall configuration of the optical disk master exposure apparatus (see FIG. 7) has been described in the prior art section, so a description of the same parts will be omitted, and the same parts will be denoted by the same reference numerals.

イオンガスレーザ1から出射されたレーザ光が光ディス
ク原盤6に向かう間の対物レンズ5の直前に位置する光
路上には、ドツトマトリックス型光学素子としての液晶
プレート8が配設されている。この液晶プレート8は、
第2図に示すように、絞り機能とシャッタ機能とを有す
る2次元マトリックス構造(X、Y軸)をしており、こ
れにより入射ビームのレーザ強度分布とビット7の形状
とを自由に制御することができる。
A liquid crystal plate 8 as a dot matrix type optical element is disposed on the optical path of the laser beam emitted from the ion gas laser 1, which is located immediately in front of the objective lens 5 while the laser beam is directed toward the optical disc master 6. This liquid crystal plate 8 is
As shown in Figure 2, it has a two-dimensional matrix structure (X, Y axes) with an aperture function and a shutter function, which allows the laser intensity distribution of the incident beam and the shape of the bit 7 to be freely controlled. be able to.

第3図は、液晶プレート8に印加される電圧と透過率と
の関係を示したものであり、電圧の大小によって透過率
αがO〜1.0の範囲で連続的に変化することがわかる
。この場合、例えば、(Xi、、Yi)、すなわち、X
軸方向のxi番目とY軸方向のYi番目とを共にオン状
態とすることによリーセル(ハツチング領域)9を透明
な状態にして光を透過させることができ、また、共にオ
フ状態とすることによりその一セル9を不透明な状態に
して光を遮断させることができる。
Figure 3 shows the relationship between the voltage applied to the liquid crystal plate 8 and the transmittance, and it can be seen that the transmittance α changes continuously in the range of O to 1.0 depending on the magnitude of the voltage. . In this case, for example, (Xi,,Yi), that is, X
By setting both the xi-th axis in the axial direction and the Yi-th axis in the Y-axis direction, the Lie cell (hatching area) 9 can be made transparent to transmit light, and by turning both the xi-th axis and the Yi-th axis in the OFF state. This makes it possible to make that one cell 9 opaque and block light.

第4図は、その液晶プレート8の断面形状を示したもの
であり、このようにツイストネマティック液晶10をガ
ラス基板11により挟んだ構造のものでは、その基板間
に電位差をつける(オ・ン/オフ状態にする)ことによ
り結晶内の光学軸の再配列が起り、これによりその液晶
プレート10の前後の位置に偏光板12を配置すること
により光の透過状態を変化させることができる。
FIG. 4 shows the cross-sectional shape of the liquid crystal plate 8. In the structure in which the twisted nematic liquid crystal 10 is sandwiched between the glass substrates 11, a potential difference is applied between the substrates (on/off). When the liquid crystal plate 10 is turned off), the optical axis within the crystal is rearranged, and by arranging the polarizing plate 12 in front and behind the liquid crystal plate 10, the light transmission state can be changed.

このように2次元マトリックス構造の液晶プレート8を
全セルについて電圧制御すると、第5図に示すように、
任意の形状で開孔部Aと遮断部Bとを作成することがで
き、これにより任意の絞りの開孔形状を設定することが
可能となる。そして、このような構造をもつ液晶プレー
ト8の絞りを任意に変えることによって、その液晶プレ
ート8を通過した入射ビームの光量分布の形状を、第6
図における(a)、 (c)、 (e)に示すように、
自由に変化させることができる。これにより、(a)に
対応して(b)に示すような矩形溝13を、 (c)に
対応して(d)に示すような特殊溝14を、 (e)に
対応して(f)に示すような段付溝上5をそれぞれ作成
することができる。
When the liquid crystal plate 8 with the two-dimensional matrix structure is voltage-controlled for all cells in this way, as shown in FIG.
The aperture A and the blocking part B can be created in any shape, and thereby the aperture shape of any aperture can be set. By arbitrarily changing the aperture of the liquid crystal plate 8 having such a structure, the shape of the light intensity distribution of the incident beam passing through the liquid crystal plate 8 can be changed to the sixth shape.
As shown in (a), (c), and (e) in the figure,
It can be changed freely. As a result, a rectangular groove 13 as shown in (b) corresponds to (a), a special groove 14 as shown in (d) corresponds to (c), and (f) corresponds to (e). ) It is possible to create stepped grooves 5 as shown in FIG.

上述したように、2次元マトリックス構造をもつ液晶プ
レート8を設けたことによって、入射ビームの光量分布
までもコントロールすることが可能となり、これにより
各種の露光パターンを作成することができるため、従来
に比ベピット7の断面形状のコントロール範囲を飛躍的
に増加させることが可能となる。
As mentioned above, by providing the liquid crystal plate 8 with a two-dimensional matrix structure, it becomes possible to control even the light intensity distribution of the incident beam, and this makes it possible to create various exposure patterns. It becomes possible to dramatically increase the control range of the cross-sectional shape of the comparison pit 7.

発明の効果 本発明は、入射ビームをドツトマトリックス型光学素子
に通過させた後に光情報記録媒体の表面に照射しピット
を形成するようにしたので、そのピットの断面形状のコ
ントロール範囲を従来に比べ飛躍的に増加させることが
でき、しかも、入射ビームの信号をフィードバックして
絞りや透過率を変化させることによって露光品質の安定
化を図ることができるものである。
Effects of the Invention In the present invention, the incident beam is passed through a dot matrix type optical element and then irradiated onto the surface of the optical information recording medium to form pits, so the control range of the cross-sectional shape of the pits is greater than in the past. In addition, the exposure quality can be stabilized by changing the aperture and transmittance by feeding back the signal of the incident beam.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図はその
ドツトマトリックス型光学素子の平面図、第3図は透過
率と印加電圧との関係を示す波形図、第4図はドツトマ
トリックス型光学素子の断面図、第5図は絞りを所定の
状態に設定した場合におけるドツトマトリックス型光学
素子の平面図、第6図は各種の入射ビームの光量分布及
びその分布に対応したピット形状を示す説明図、第7図
は従来例を示す構成図、第8図は従来における入射ビー
ムの光量分布及びその分布に対応したピット形状を示す
説明図である。 1・・ガスレーザ、 ・対物レンズ、 光情報 記録媒体、 、ピット、 ドツトマトリックス 型光学素子 出 願 人 株式会社 リ コ 15図 6 箇 (a) (b) 甲)し
Fig. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a plan view of the dot matrix type optical element, Fig. 3 is a waveform diagram showing the relationship between transmittance and applied voltage, and Fig. 4 is a diagram showing the relationship between transmittance and applied voltage. A cross-sectional view of the dot matrix type optical element, Figure 5 is a plan view of the dot matrix type optical element when the aperture is set to a predetermined state, and Figure 6 shows the light intensity distribution of various incident beams and the pits corresponding to the distribution. FIG. 7 is a configuration diagram showing a conventional example, and FIG. 8 is an explanatory diagram showing a conventional light amount distribution of an incident beam and a pit shape corresponding to the distribution. 1. Gas laser, ・Objective lens, Optical information recording medium, , Pit, Dot matrix type optical element Applicant Rico Co., Ltd. 15 Figure 6 Items (a) (b) A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ガスレーザから出射されたレーザ光を対物レンズにより
集光して微小スポットを形成し、この集光された前記レ
ーザ光を光情報記録媒体上に照射することにより所定の
形状をなすピットやグルーブを作成する光ディスク原盤
露光装置において、前記ガスレーザから出射されたレー
ザ光が前記対物レンズに入射する直前の光路上に、入射
ビームのレーザ強度分布を制御するドットマトリックス
型光学素子を配設したことを特徴とする光ディスク原盤
露光装置。
Laser light emitted from a gas laser is focused by an objective lens to form a minute spot, and the focused laser light is irradiated onto an optical information recording medium to create pits or grooves in a predetermined shape. The optical disk master exposure apparatus is characterized in that a dot matrix type optical element for controlling the laser intensity distribution of the incident beam is disposed on the optical path immediately before the laser beam emitted from the gas laser enters the objective lens. Optical disk master exposure equipment.
JP2015910A 1990-01-25 1990-01-25 Optical master disk exposing device Pending JPH03222130A (en)

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JP2015910A JPH03222130A (en) 1990-01-25 1990-01-25 Optical master disk exposing device

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JP2015910A JPH03222130A (en) 1990-01-25 1990-01-25 Optical master disk exposing device

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JP (1) JPH03222130A (en)

Cited By (4)

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