JPH03171653A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JPH03171653A JPH03171653A JP31127589A JP31127589A JPH03171653A JP H03171653 A JPH03171653 A JP H03171653A JP 31127589 A JP31127589 A JP 31127589A JP 31127589 A JP31127589 A JP 31127589A JP H03171653 A JPH03171653 A JP H03171653A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- chip
- semiconductor device
- gate lead
- case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 53
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば半導体パワーモジュール等の樹脂封止
形半導体複合装置に使用して好適な半導体装置に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device suitable for use in a resin-sealed semiconductor composite device such as a semiconductor power module.
従来、この種の半導体装置は、例えばサイリスクモジュ
ールとして第2図に示すように構威されている。これを
同図に基づいて説明すると、同図において、符号lで示
すものは金属製のベース板2および樹脂製の枠体3によ
って形成され各熱膨張率が互いに異なる上下2つの樹脂
4.5をその内部に積層してなる有底箱状のケース、6
および7はこのケース1のベース板2上に絶縁板8を介
して接合されその先端部がケース外に露呈する2つの電
極端子、9はこれら両電極端子6,7のうち一方の電極
端子6に内部接続板10を介して接続されかつ他方の電
極端子7に接続されたサイリスクチップ、11はこのサ
イリスタチフプ9に接続されその先端部が前記上層の樹
脂4内に臨む制御電極としてのゲートリード、l2はこ
のゲートリード11にリード線13を介して半田接続さ
れ前記ケース1外にその先端部が露呈する外部ゲート端
子である。なお、サイリスクチフプ9は、両樹脂4.5
のうち下層の樹脂5によって封止されている。また、2
つの樹脂4.5としては、各々電極端子6.7および外
部ゲート端子l2の機械的強度を確保する例えばエボキ
シ樹脂とサイリスタチップ9を保護するシリコーンゲル
が各々使用される.
このように構威された半導体装置を樹脂4.5によって
封止するには、先ずベース板2上に枠体3を接着してケ
ースlを形成し、次にこのケース1内に電極端子6.7
および外部ゲート端子12が接続されたサイリスタチッ
プ9を収納した後、このサイリスタチップ9を封止する
樹脂5をケース1内に注入してから、この樹脂5の上方
に樹脂4を積層することにより行われる.
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、この種の半導体装置においては、ゲートリー
ド11を両樹脂4.5内に臨ませる構造であるため、サ
イリスタチソプ9の通電による発熱によって温度が上昇
すると、両樹脂4.5等が膨張して樹脂4が上方に押し
上げられていた.これは、樹脂(シリコーンゲル)5の
熱膨張率が樹脂(エボキシ樹脂)4の熱膨張率より大き
いからである。この結果、樹脂4内に臨むゲートリード
11が上方に引張力を受け、ゲートリード1lがサイリ
スクチップ9から剥離してしまうという問題があった。Conventionally, this type of semiconductor device has been constructed as, for example, a Cyrisk module as shown in FIG. To explain this based on the same figure, in the same figure, what is indicated by the symbol l is formed by a metal base plate 2 and a resin frame 3, and is made of two upper and lower resins 4.5 having different coefficients of thermal expansion. A box-shaped case with a bottom made by laminating the inside of the case, 6
and 7 are two electrode terminals that are joined to the base plate 2 of this case 1 via an insulating plate 8 and whose tips are exposed outside the case, and 9 is one electrode terminal 6 of these two electrode terminals 6 and 7. A thyristor tip 11 connected to the thyristor tip 9 through the internal connection plate 10 and connected to the other electrode terminal 7 serves as a control electrode with its tip facing into the upper layer resin 4. A gate lead 12 is an external gate terminal that is soldered to the gate lead 11 via a lead wire 13 and whose tip is exposed outside the case 1. In addition, Cyrisk Tip 9 has both resins of 4.5
Of these, it is sealed with a lower layer of resin 5. Also, 2
As the two resins 4.5, for example, epoxy resin is used to ensure the mechanical strength of the electrode terminal 6.7 and the external gate terminal 12, and silicone gel is used to protect the thyristor chip 9. In order to seal the semiconductor device constructed in this way with the resin 4.5, first the frame 3 is bonded onto the base plate 2 to form a case l, and then the electrode terminals 6 are placed inside this case 1. .7
After accommodating the thyristor chip 9 to which the external gate terminal 12 is connected, a resin 5 for sealing the thyristor chip 9 is injected into the case 1, and then the resin 4 is laminated above the resin 5. It will be done. [Problems to be Solved by the Invention] Incidentally, in this type of semiconductor device, since the gate lead 11 is configured to face inside both the resins 4.5, when the temperature rises due to heat generation due to the energization of the thyristor 9. , both resins 4.5, etc. expanded and resin 4 was pushed upward. This is because the coefficient of thermal expansion of the resin (silicone gel) 5 is greater than the coefficient of thermal expansion of the resin (epoxy resin) 4. As a result, the gate lead 11 facing into the resin 4 is subjected to an upward tensile force, causing a problem in that the gate lead 1l is peeled off from the silice chip 9.
そこで、樹脂(シリコンゲル)5の容量を多く(層厚を
大き<)シて樹脂5内にのみゲートリード1lを臨ませ
る構造も考えられるが、この場合ケースlの内容積が限
定されていることから、樹脂(エボキシ樹脂)4の層厚
が小さくなり、電極端子6.7および外部ゲート端子1
2の機械的強度を維持することができないという不都合
があった。Therefore, it is possible to consider a structure in which the capacity of the resin (silicon gel) 5 is increased (the layer thickness is larger) so that the gate lead 1L is exposed only inside the resin 5, but in this case, the internal volume of the case 1 is limited. Therefore, the layer thickness of the resin (epoxy resin) 4 becomes smaller, and the electrode terminals 6.7 and external gate terminals 1
There was a disadvantage that the mechanical strength of No. 2 could not be maintained.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、チソ
プからの制御電極の剥離発生を防止することができると
共に、チップ端子の機械的強度を維持することができ、
もって長期間に亘って品質を保証することができる半導
体装置を提供するものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and can prevent the control electrode from peeling off from the chip, and can maintain the mechanical strength of the chip terminal.
The present invention provides a semiconductor device whose quality can be guaranteed over a long period of time.
本発明に係る半導体装置は、チップを封止する樹脂とこ
の樹脂に隣接する樹脂との間にキャップによって空間部
を形成し、この空間部に制御電極の先端部を臨ませたも
のである。In the semiconductor device according to the present invention, a space is formed by a cap between a resin for sealing a chip and a resin adjacent to this resin, and the tip of a control electrode is exposed to this space.
本発明においては、使用時にチップを封止する樹脂に隣
接する樹脂によって引張力を受けることがない。In the present invention, during use, no tensile force is applied by the resin adjacent to the resin sealing the chip.
以下、本発明の構威等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure etc. of this invention will be explained in detail by the Example shown in the figure.
第1図は本発明に係る半導体装置を示す断面図で、同図
において第2図と同一の部材については同一の符号を付
し、詳細な説明は省略する.同図において、符号2lで
示すものは下方に開口するキャップで、前記ケース1内
に設けられており、これにより前記両樹脂4.5間には
前記ゲートリード11の先端部が臨む空間部22が形成
されている。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a semiconductor device according to the present invention. In this figure, the same members as in FIG. In the same figure, what is designated by the reference numeral 2l is a cap that opens downward and is provided inside the case 1, so that there is a space 22 between both the resins 4.5 where the tip of the gate lead 11 faces. is formed.
このように構威された半導体装置においては、サイリス
タチップ9の通電時に両樹脂4.5等が膨張して樹脂4
が上方に押し上げられても、この樹脂4によってゲート
リード11が引張力を受けることがないから、ゲートリ
ード11とサイリスクチソプ9の剥離発生を防止するこ
とができる。In the semiconductor device configured in this way, when the thyristor chip 9 is energized, the resins 4, 5, etc. expand and the resin 4.
Even if the gate lead 11 is pushed upward, the gate lead 11 is not subjected to any tensile force due to the resin 4, so it is possible to prevent the gate lead 11 from peeling off from the gate lead 11.
また、サイリスタチップ9を封止する樹脂5に隣接する
樹脂4の層厚を十分に確保することができるから、電極
端子6.7および外部ゲート端子12の機械的強度を維
持することができる。Further, since a sufficient layer thickness of the resin 4 adjacent to the resin 5 sealing the thyristor chip 9 can be ensured, the mechanical strength of the electrode terminals 6.7 and the external gate terminals 12 can be maintained.
なお、本実施例においては、ケース1内の樹脂構造が2
層である場合を示したが、本発明はこれに限定されず、
例えば3層,4層,・・・としてもよく、その層数は適
宜変更することができる。In addition, in this example, the resin structure inside the case 1 is
Although the case where the layer is a layer is shown, the present invention is not limited to this.
For example, it may be three layers, four layers, etc., and the number of layers can be changed as appropriate.
また、本実施例においては、サイリスクモジュールに適
用する例を示したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、他のパワートランジスタモジュールにも実施例
と同様に適用できることは勿論である。Further, in this embodiment, an example is shown in which the present invention is applied to a cyrisk module, but the present invention is not limited to this, and it goes without saying that it can be applied to other power transistor modules in the same manner as in the embodiment. .
以上説明したように本発明によれば、チップを封止する
樹脂とこの樹脂に隣接する樹脂との間にキャンプによっ
て空間部を形成し、この空間部に制御電極の先端部を臨
ませたので、チップを封止する樹脂以外の樹脂によって
制御電極が引張力を受けることがなく、しかもチップを
封止する樹脂に隣接する樹脂の層厚を十分に確保するこ
とができる。したがって、w1御電極のチップからの剥
離発生を防止することができると共に、チップ端子の機
械的強度を維持することができるから、長期間に亘って
品質を保証することができる。As explained above, according to the present invention, a space is formed by camping between the resin sealing the chip and the resin adjacent to this resin, and the tip of the control electrode is exposed to this space. The control electrode is not subjected to tensile force by the resin other than the resin that seals the chip, and a sufficient layer thickness of the resin adjacent to the resin that seals the chip can be ensured. Therefore, peeling of the w1 control electrode from the chip can be prevented, and the mechanical strength of the chip terminal can be maintained, so quality can be guaranteed over a long period of time.
第1図は本発明に係る半導体装置を示す断面図、第2図
は従来の半導体装置を示す断面図である。
1・・・・ケース、4.5・・・・樹脂、9・・・・サ
イリスクチップ、1l・・・・ゲートリード、21・・
・・キャップ、22・・・・空間部。
代 理 人 大 岩 増 雄第
1
図
第
2
図FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor device according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing a conventional semiconductor device. 1...Case, 4.5...Resin, 9...Sirisk chip, 1l...Gate lead, 21...
... Cap, 22 ... Space part. Agent Masuo Oiwa Figure 1 Figure 2
Claims (1)
積層してなるケースと、このケース内に設けられかつ前
記両樹脂のうちチップ保護用の樹脂によって封止された
チップと、このチップに接続されかつ前記ケース内に設
けられた制御電極とを備えた半導体装置において、前記
チップ保護用の樹脂とこの樹脂に隣接する樹脂との間に
キャップによって空間部を形成し、この空間部に前記制
御電極の先端部を臨ませたことを特徴とする半導体装置
。A case formed by laminating two or more resins having different coefficients of thermal expansion, a chip provided in the case and sealed with a chip-protecting resin among the two resins, and the chip. In the semiconductor device, a space is formed between the chip-protecting resin and a resin adjacent to the resin by a cap, and a control electrode is connected to the chip and is provided in the case. A semiconductor device characterized in that the tip of the control electrode is exposed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31127589A JPH03171653A (en) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31127589A JPH03171653A (en) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03171653A true JPH03171653A (en) | 1991-07-25 |
Family
ID=18015176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31127589A Pending JPH03171653A (en) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03171653A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6144106A (en) * | 1996-10-04 | 2000-11-07 | Dow Corning Corporation | Electronic coatings |
-
1989
- 1989-11-29 JP JP31127589A patent/JPH03171653A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6144106A (en) * | 1996-10-04 | 2000-11-07 | Dow Corning Corporation | Electronic coatings |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3341649A (en) | Modular package for semiconductor devices | |
JP2915892B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JPH02222565A (en) | Semiconductor device | |
JPS62202548A (en) | Semiconductor device | |
JP2569008B2 (en) | Semiconductor device | |
JPH03171653A (en) | Semiconductor device | |
JPH04249348A (en) | Resin sealed semiconductor device and manufacture thereof | |
JP2002110867A (en) | Semiconductor device and its manufacturing method | |
JP2698259B2 (en) | Heat sink manufacturing method | |
JPH0382059A (en) | Resin sealed type semiconductor device | |
JPH04340751A (en) | Plastic molded type semiconductor device | |
JPH03116960A (en) | Semiconductor device | |
JPH02129950A (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
JPS6361779B2 (en) | ||
JPS5931044A (en) | Semiconductor device | |
KR940008328B1 (en) | Film-type semiconductor package (F-PAC: Film-Type Package) and its manufacturing method | |
JPH06151700A (en) | Intelligent transistor module | |
JPS607751A (en) | Semiconductor device | |
JPS5949695B2 (en) | Manufacturing method for glass-sealed semiconductor devices | |
JPS62202544A (en) | Semiconductor device | |
JPH0786497A (en) | Intelligent power module | |
JPH04316354A (en) | Semiconductor device | |
JPS60200542A (en) | semiconductor equipment | |
JPS63237552A (en) | Semiconductor device | |
JPS6254944A (en) | Sealed structure type semiconductor resin vessel |