JPH03162717A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、特にヘッド摩
耗（Ｈ，Ｗ．）とＲＦ出力を改良した磁気記録媒体の製
造方法に関する． （従来の技術） 一般にオーディオ用、ビデオ用、コンピューター用（デ
ィスク、メモリーテープ）等の磁気記録媒体として、強
磁性微粉末を結合剤（バインダー）中に分散させた磁性
層を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられて
いる． 近年、これらの磁気記録媒体は高密度記録が要求され、
強磁性微粉末の微粒子化、合金粉末化、高充填化、磁気
記録媒体の超平滑表面化などにより信号／Ｐｉ音の高信
号化や低雑音化が達成されている．又、同一時間で高密
度記録を行うには磁気記録媒体への書き込み速度や呼び
込み速度の短縮化が必要で磁気記録媒体の高速搬送が要
求される．この高速搬送適性の為走行性や帯電特性、ヘ
ッド・クリーニング特性は不可欠であり、この目的のた
めカーボン・ブラックやモース硬度が８以上の研磨剤と
称されるフィラーが用いられ、具体的にはＵＳＰ３６３
０９１０号、ＵＳＰ３８３３４１２号、ＵＳＰ４６１４
６８５号、ＵＳＰ４５３９２５７号、特開昭５９−１９
３５３３号等に開示されている． このようにして製造された磁気記録媒体の磁性層に関し
て見ると、磁性層の表面は一般には粒状戒分が磁性層に
強固に固定され、非常に平滑であると考えられている．
しかしながら、本発明者の検討によると、磁性層の表面
には固定不充分な粒状成分（例えば、強磁性粉末、研磨
材）などが存在していることが判明した．このような固
定不充分な粒状戒分は、例えばビデオテーブにおいては
走行中に脱離して磁気ヘッドに付着して磁気ヘッド目詰
まりの原因となることがあり、またドロンブアウトの発
生原因となることがある．そして、こうした強磁性粉末
の脱離により磁性層の表面近傍にある強磁性粉末の量が
次第に減少するので、走行を繰り返すことによって電磁
変換特性が低下（出力低下）するとの問題もある． そこで本発明者は、こうしたドロップアウトおよび目詰
まりの発生を防止し、繰り返し走行による出力低下を軽
減する方法として磁性層の表面を研削する磁気記録媒体
の製造方法について発明をし、この発明については既に
出願済である（特開昭６２−１７２５３２号又は特開昭
６３−９８８３４号）すなわち、この発明は、表面平滑
化された磁性層の表面をダイヤモンドホイールあるいは
固定式サファイヤブレードなどの高硬度の研削具を用い
て研削することにより、磁性層の表面の付着物あるいは
脱離し易い状態にある粒状或分などを除去し、磁性層か
らの脱離物の量を低減するものである．このように磁性
層の表面を研削することにより、ドロップアウトおよび
目詰まり発生並びに長時間走行による出力の低下を有効
に防止できる． 又磁気ディスクの分野では表面平滑化のためにバーニッ
シュすることが知られ、例えばラフピングフイルムを連
続的にヘンドスライダ面に供給するようにした磁気ディ
スク基板の表面平滑化装置（特公昭５Ｂ−４６７６８）
や磁気ディスク用基板を回転させ、該基板上をスライダ
面に硬質微粒子を含む砥粒層よりなる粗面部を形威した
バーニッシュヘッドを接触状態で往復させることを特徴
とする磁気ディスク用基板の表面平滑化方法（特公昭５
８−４６７６７）なども知られている．しかしながらこ
れらの技術をもってしてもテープの高速搬送化に伴う走
行耐久性、特にヘッド摩耗（Ｈ，Ｗ，　）やＲＦ出力を
改良することはできなかった． 〔発明の目的〕 本発明はヘッド摩耗特にテープ走行初期のヘッド摩耗を
減少し、かつヘッド目詰まりがなく、ＲＦ出力を優れた
磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする． 〔発明の構威〕 すなわち本発明の上記目的は非磁性支持体上に強磁性粉
末、結合剤、添加剤を含む磁性塗料を塗布し、配向、乾
燥した後、カレンダー処理をし、得られた角型比が０．
８０以上でかつＲａが０．０２μｍ以下である磁性層の
表面を超硬刃でバーニッシュすることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法によって達威することができる．更
に好ましくは本発明の上記目的は前記バーニッシュタン
グステンカーバイド（ＷＣ）を主威分としＣ　Ｏ　ｚを
含有し、ＷＣの平均サイズが０．１−１．０μｍである
超硬刃を用いて行なうことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達威することができる． すなわち、本発明はｔ磁変換特性上、充分な特性を発揮
できるように角型比を高め（０．８０以上）平滑にした
（Ｒａが０．０２μｍ以下）磁気記録媒体を更に超硬刃
でバーニッシュすることにより、テープ走行初期のヘッ
ド摩耗が顕著に減少し、ヘッド目詰まり、ＲＦ出力の改
良ができることを見出したものである． ここで角型比と表面粗さのより好ましい関係としては角
型比が０．８４以上でかつＲａが０．０２μｍ以下であ
る．又は角型比が０．８０以上でかつＲａがｏ．ｏｏｓ
μｍ以下である磁性層の表面を超硬刃でバーニフシュす
ることが好ましい．これはＲａが非常に細かく平滑であ
る時には角型比は多少低くてもよく、一方角型比が高い
ときはＲａは多少粗くてもよいことを示している．バー
ニッシェをする超硬刃の材料としてはタングステンカー
バイド（ＷＣ）を主戒分としたものが好ましい．結合金
属としてはコバルトを使用することが好ましい．一般的
にはＣｏ量はＷＣに対して１〜４　０ｗｔ％であるが、
５〜４０ｗｔ％用いると更に好ましく、５〜２０ｗＬ％
が特に好ましい，Ｔａは０．０１〜４Ｑｗｔ％含むのが
好ましい．またＷＣ−Ｔ　ｉ　Ｃ−Ｔａ　Ｃの固溶合金
でもよい．この時ＷＣは５０ｓｏｌ％以上含むのが好ま
しい．タングステンカーバイド（ＷＣ）は平均サイズが
０．１〜１．ＯｔＩｍが好ましい．このＷＣは角ばった
形状である方がよい．これをＣＯで結合して用いるのが
好ましい． バーニッシュの条件としては回数は１〜１０回、刃前張
力は１０〜３　０　０　ｇ／テープ幅が好ましく温度は
５〜６０℃、湿度は３０〜９０％Ｒｆ４が好ましい．バ
ーニッシュは刃側、背当て側いずれでも良い． 刃は、テープ走行方向に直角でも斜めでも良い．テープ
上で刃は垂直に当てても良く、刃当て角度に特に制限は
ない．テープ入口側方向と刃の角度が２０〜１７０度が
好ましい． 走行テープへの刃の押し込み量は、支持ガイド間隔ＸＣ
１１当たり１０Ｘ−Ｘ／１００００ｃｍである事が好ま
しい． より好ましくは、支持ガイド間隔ＸＣ１ｍ当たりＸ〜Ｘ
／１　０　０　０である． バーニッシュ処理工程としてはカレンダー処理後、カレ
ンダー処理の無いものは塗布後、スリット前後、ワイン
ド前後、組み込み前後のいづれでもよく、或いは組み込
み品を処理しても良い．磁気記録媒体の角型比は、０．
８０以上の時に効果が発現する．測定磁場はＨｍは２Ｋ
Ｏｅである．表面粗さＲａは０．０２μｍ以下であるこ
とが必要である．カットオフは０．２５−である．磁気
記録媒体の角型比を、０．８０以上にするとＲＦ出力が
上昇するがヘッド摩耗量が増加する．角型比を落とす事
゛は、出力劣化につながり好ましくない．また表面粗さ
（Ｒａ）を平滑にする事はヘッドとの当たりが良化しノ
イズ戒分が低減するがμ値が上昇しヘッド摩耗量が増大
する．しかし、上記超硬刃処理をすることによって、ヘ
ッド摩耗量を大巾に低減できる． 本発明の好ましい態様としては以下の通りである． １）前記超硬刃がＷＣを主戒分としてＣｏを含有し、Ｃ
ｏの含有率が５〜４　０ｗｔ％である事を特徴とする磁
気記録媒体の製造方法． ２）前記結合剤が塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリイソシアネートからなることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法． ３）Ｍｉ性層を設けた非磁性支持体上の裏面にバック層
を設けた事を特徴とする磁気記録媒体の製造方法． ４）磁性層にカーボンブラックを含む事を特徴とする磁
気記録媒体の製造方法． ５）磁性層の強磁性粉末が酸化鉄或いは金属粉末からな
り、磁気記録媒体としてのＨｃが６５０から１９０００
ｅである事を特徴とする磁気記録媒体の製造方法． ６）前記の超硬刃がＷＣとＣＯからなり、更にＴａＣを
０．０１〜５ｗｔ％含む事を特徴とする磁気記録媒体の
製造方法． 本発明に使用する強磁性微粉末としては、７−Ｆｅ．Ｏ
．，Ｃｏ含有（被着、変威、トーフ）の７−Ｆｅｚ○，
、Ｆｅ．Ｏ，、Ｃｏ含有（被着、変威、ドープ）のＦｅ
ｚＯ４、Ｆｅｂ．、Ｃｏ含有（被着、変威、ドーブ）の
Ｆｅｄ．（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、ＣｒｏｗやＲｎ
，Ｔｏ，Ｓｂ、Ｓｒ，Ｆｅ，Ｔｉ，Ｖ，Ｍｎ．．Ｃｒａ
ｂｓの少なくとも一種類を含むＣｒｙ．　、Ｆｅ，Ｃｏ
，Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎ１合金、Ｇｏ−Ｎｆ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−
Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｆｅ−Ｎ合金、Ｆｅ−Ｃ　ｏ−Ｃ　
ｒ合金、Ｍｎ−Ｂｉ合金など、公知の強磁性微粉末が使
用できる．これら強磁性微粉末の粒子サイズは約０．０
０５〜１μの長さで、軸長／軸幅の比は、１／１〜５０
／ｌ程度である．又、これらの強磁性粉末の比表面積は
、１ボ／ｇ〜７０ｒｒｆ／ｇ程度である．これらの強磁
性粉末の含水率は、０．２〜２．Ｑｗｔ％である．これ
らの強磁性粉末を用いた場合の塗布液の含水率は、０．
００〜２．００ｗｔ％である．これらの強磁性粉末の表
面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれ
ぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、
吸着させてもよい．これらの強磁性微粉末は、ｌｗｔ％
以内でＳｒ，Ｐｂ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｃｄ，Ｃｒ，ＡＩＳＳ
　ｉ，ＴＩ，Ｃｕ，Ｚｎ等の重金属を含む事が好ましい
．これらの強磁性粉末にアルミナ等を被着、溶融させて
もよい． また本発明に使用する強磁性粉末としては、板状六方晶
のバリウムフエライトも使用できる．バリウムフェライ
トの粒子サイズは約０．００１〜１μの直径で厚みが直
径の１／２〜１／２０である．バリウムフエライトの比
重は４〜５　ｇ　／　ｃｃで、比表面積はｌｎｆ／ｇ〜
７０ｒｄ／ｇである．これらの強磁性粉末の表面には後
に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目
的の為に分散に先立って溶剤中で含浸させて、吸着させ
てもよい．また本発明の強磁性粉末として用いる合金粉
末は、鉄、コバルトあるいはニッケルを含む強磁性合金
粉末であって、その比表面積が３５ｒｒｒ／ｇ以上の強
磁性合金粉末を強磁性粉末として使用する際にその効果
が顕著に現れる． この強磁性合金粉末の例としては、強磁性合金粉末中の
金属分が７５重量％以上であり、そして金属分の８０重
量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属あるいは合金
（例、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ％Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−ＮｉＦｅ）であり、該金属分の２０重
量％以下の範囲内で他の威分（例、ＡＩ％Ｓｉ，ＳＳＳ
ｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｙ，Ｍｏ、Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ％　Ｂａ，Ｔａ，Ｗ
，Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，
Ｎｄ，Ｂ，Ｐ）を含むことのある合金や、窒化鉄等を挙
げることができる．また、上記強磁性金属が少量の水、
水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい．
これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり、
本発明で用いる強磁性粉末の代表例である強磁性合金粉
末についてもこれら公知の方法に従って製造することが
できる． すなわち、強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下
記の方法を挙げることができる．（ａ）複合有機酸塩（
主としてシュウ酸塩）を水素などの還元性気体で還元す
る方法： （ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあ
るいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法：（Ｃ）金属力ル
ボニル化合物を熱分解する方法：（ｄ）強磁性金属の水
溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいは
ヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法： （ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解折出させた
のち水銀と分離する方法： （ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法； 強磁性合金粉末を使用する場合に、その形状にとくに制
限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものなどが使用される．この強磁性合金粉末の
比表面積（Ｓ　ＢＥＴ）は４０ｒｔｆ／ｇ以上であるこ
とが好ましく、さらに４５ボ／ｇ以上のものを使用する
ことが特に好ましい．本発明の磁性層とバック層に使用
されるバインダーとしては従来公知の熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される
．熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均
分子量が１０，０００〜３００，０００、重合度が約５
０〜２０００程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリ
ル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エス
テルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロ
ニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデ
ン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、
ウレタンエラストマー、ナイロンーシリコン系樹脂、ニ
トロセルロースーボリアミド樹脂、ボリフッカビニル、
塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエン
アクリ口ニトリル共重合体、ボリアミド樹脂、ポリビニ
ルプチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテー
トブチレート、セルロースダイアセテート、セルロース
トリアセテート、セルロースブロピオネート、ニトロセ
ルロース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロ
ビルセルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、アセチルセルロース等）、スチレン
ブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合威ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される． 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加
熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量は
無限大のものとなる．又、これらの樹脂のなかで、樹脂
が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ま
しい．具体的には例えばフェノール樹脂、フエノキシ樹
脂、工ボキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アク
リル系反応樹脂、エボキシーポリアミド樹脂、ニトロセ
ルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートブレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共
重合体とジイソシアネートブレボリマーの混合物、ポリ
エステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、
尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分
子董ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネート
の混合物、ポリアミン樹脂、ボリイミン樹脂及びこれら
の混合物等である．これらの中で塩化ビニル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリイソシア不−トを用いることが
特に好ましい． これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スルフイ
ン酸、スルフェン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホスホ
ン、ホスフイン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エステ
ル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基（これら
の酸性基は、Ｎａ塩などの形でもよい）、アミノ酸類；
アミノスルホン＃類、アミノアルコールの硫酸または燐
酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性１１１５、
アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エボキシ基
、等また、水酸基、アルコシル基、チオール基、ハロゲ
ン基、シリル基、シロキサン基を通常１種以上６種以内
含み、各々の官能基は樹脂１ｇあたりＩ　Ｘ　１　０−
”ｅ　ｑ〜Ｉ　Ｘ　１　０−”ｅ　ｑ含む事が好ましい
． これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
ほかに添加剤が加えられる．磁性層の強磁性粉末と結合
剤との混合割合は重量比で強磁性粉末１００重量部に対
して結合剤５〜３００重量部の範囲で使用される．バッ
ク層の微粉末と結合剤の混合割合は重量比で微粉末１０
０重量部に対して結合剤３０〜３００！量部の範囲で使
用される．添加剤は分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止
剤、酸化防止剤、溶剤等がくわえられる．本発明に用い
るポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネ
ート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシ
アネート、ナフチレン−１、５−ジイソシアネート、０
−トルイジンジイソシアネート、インホロンジイソシア
ネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート等のイソシアネート類、又当該
イソシアネート類とポリアルコールとの生底物、又イソ
シアネート類の縮奇に依って生成した２〜１５量体のポ
リイソシアネート等を使用することができる．これらポ
リイソシアネート類の平均分子量は、１００〜２０００
０のものが好適である．これらポリイソシアネートの市
販されている商品名としては、コロネートＬ１コロネー
トＨＬ，コロネート２０３０、コロネー｝２０３１、ξ
リオネートＭＲ，ミリオネートＭＴＬ（日本ポリウレタ
ン■製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−ＬＩ
ＯＮ，タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２　０　
２、タケネート３００Ｓ、タケネート５００（武田薬品
■製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ１
スミジュールＰＥ、スミジュールＬ，スミジュールＮ１
デスモジュールし、デスモジュールＩＬ，デスモジュー
ルＮ，デスモジュールＨＬ，デスモジュールＴ６５、デ
スモジュール１５、デスモジュールＲ１デスモジュール
ＲＦ，デスモジュールＳＬ，デスモジュールＺ４２７３
　（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若しく
は硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組
み合わせによって使用することができる．又、硬化反応
を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキサン
ジオール、分子量が１０００〜１００００のポリウレタ
ン、水等）、ア旦ノ基（モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化
物の触媒を併用する事も出来る．これらの水酸基やアミ
ノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい．これ
らのポリイソシアネートは結合剤総量の５〜４Ｑｗｔ％
で用いることが好ましい． 本発明に使用する分散剤としては、カプリル酸、カブリ
ン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノ
ール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１０〜
２６個の脂肪酸（　Ｒ　＋　Ｃ　Ｏ　Ｏ　Ｈ　，　Ｒ　
ｒは炭素数９〜２５個のアルキル基）、前記の脂肪酸の
アルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ、Ｋ，ＮＨ．”等）またはア
ルカリ土類金属（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等），Ｃｕ，Ｐｂ等
から威る金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド；レシチ
ン等が使用される．この他に炭素数４以上の高級アルコ
ール、（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチル
アルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸
エステル、燐酸エステル、アミン化合物等も使用可能で
ある．また、ポリアルキレンオキサイド及びこれらの砿
酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等やスルホ琥
珀酸、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である．これ
らの化合物にはバインダーとの相溶性や特性を変えるこ
とからＳｉ，Ｆの置換基を導入することも可能である．
これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、種類の分
散剤は結合剤１００重量部に対してＯ．００５〜２０重
量部の範囲で添加される．これら分散剤の使用方法は、
強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く
、また分散途中で添加してもよい．このようなものは、
例えば特公昭３９−２８３６９号、特公昭４３−２３８
８９号、特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８
２２１、特公昭４９−３９４０２号、特公昭４８一１５
００１号、米国特許３３８７９９３号、同３４７００２
１号等に於いて示されている．このほかに分散剤として
好ましい化合物としては、カルボン酸、燐酸エステル等
の界面活性剤やフッ素系界面活性剤フロラードＦＣ９５
、ＦＣＩ２９、ＦＣ４３０，ＦＣ４３１を用いる事がで
きる． 本発明の磁性層とバンク層に使用される潤滑剤、酸化防
止剤としては、二硫化モリブデン、チツカ硼素、フン力
黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸ノイリウム、酸化ケイ・八
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等
の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ペンゾ
グアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリ
オレフイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、
ポリアミド系樹脂微粉末、ボリイξド系樹脂微粉末、ポ
リフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末、シリコ
ンオイル、脂肪酸変性シリコンオイル、グラファイト、
フッ素アルコール、ポリオレフイン（ポリエチレンワッ
クス等）、ポリグリコール（ポリエチレンオキシドワッ
クス等）、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、
ポリテトラフルオログリコール、パーフルオロ脂肪酸、
ハーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫
酸エステル、パーフルオロアルキル燐酸エステル、アル
キル燐酸エステル、ポリフエニルエーテル、炭素数１０
〜２０の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のア
ルコールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール
、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つ
もしくは２つ以上とから戒る脂肪酸エステル類、炭素数
１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計
して炭素数が１１〜２８個と威る一価〜六価のアルコ一
ルから或る脂肪酸エステル類等の有機化合物潤滑剤が使
用できる．又、炭素数８〜２２の脂肪酸或いは脂肪酸ア
ミド、脂肪族アルコールも使用できる．これら有機化合
物潤滑剤の具体的な例としては、カプリル酸ブチル、カ
プリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブラ
ル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリス
チン酸プチル、ミリスチン酸オクチル、バルミチン酸エ
チル、バルミチン酸プチル、パルミチン酸オクチル、ス
テアリン酸エチル、ステアリン酸プチル、ステアリン酸
オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒドロソルビタン
モノステアレート、アンヒドロソルビクンジステアレー
ト、アンヒドロソルビタントリステアレート、アンヒド
ロソルビタンテトラステアレート、アンヒドロソルビタ
ンエチレンオキシドモノステアレート、オレイルオレー
ト、オレイルアルコール、ラウリルアルコール等が有り
単独若しくはくみあわせ使用出来る．また本発明に使用
される潤滑剤として所謂潤滑油添加剤も単独若しくはく
みあわせて使用出来、酸化防止剤（アルキルフェノール
等）、錆どめ剤（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジ
ラウリルフォスフェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウ
リルアルコール等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、
トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスファイト
等）、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡
とめ剤等がある．これらの潤滑剤は結合剤１００重量部
に対して０．０５〜２０重量部の範囲で添加される． 本発明に用いる帯電防止剤としてはグラファイト、カー
ボンブラック、カーボンプラックグラフトポリマー、酸
化錫一酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン一酸化錫一
酸化アンチモン、等の導電性粉末；サボニン等の天然界
面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステ
ル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活
性剤；高級アルキルアミン頬、環状アミン、ヒダントイ
ン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アン
モニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤；
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；ア
ミノ酸類：アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性
界面活性剤等が使用される．これらの界面活性剤は単独
または混合して添加しても良い．また、これらの界面活
性剤は磁気記録媒体の表面に１■／ポ〜５５０■／ポオ
ーバーコートしても良い．磁気記録媒体における、これ
らの界面活性剤の使用量は、強磁性微粉末１００重量部
当たり０．０１〜１０重量部である．これらは帯電防止
剤として用いられるものであるが、時としてそのほかの
目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗
布助剤として適用される場合もある．本発明に使用され
るカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマ
ル、カラー用ブランク、アセチレンブラック等を用いる
事ができる．これらカーボンブラックの米国における略
称の具体例をしめすとＳＡＦ，ＩＳＡＦ，ｒ　ＩＳＡＦ
．．Ｔ，ＨＡＦ，ＳＰＦ，ＦＦ，ＦＥＦ，ＨＭＦ，ＧＰ
Ｆ，ＡＰＦ，ＳＲＦ，ＭＰＦ，ＥＣＦ，ＳＣＦ．．ＣＦ
，ＦＴ，ＭＴ，ＨＣＣＳ　ＨＣＦ，ＭＣＦ．．ＬＦＦ、
ＲＣＦ等があり、米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６５−
８２ａに分類されているものを使用することができる．
本発明に使用されるこれらカーボンプラックの平均粒子
サイズは、５〜１０００ｍμ（電子顕微鏡）、窒素吸着
法比表面積は１〜１５００ｎｆ／ｇ，ＰＨは２〜１３（
ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）、ジブチルフタ
レート（ＤＢＰ）吸油量は、５　〜２００（ｌｄ／１０
０ｇ　（ＪＩＳｔｉｔ椙Ｋ−６２２１−１９８２法）で
ある．本発明に使用されるこれらカーボンブラックの含
水率は、０．００〜２０ｗｔ％である．本発明に使用さ
れるカーボンプラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵
抗を下げる目的で、５〜１００ｍμのカーボンブラック
を、また塗布膜の強度をｒａｍするときに５０〜１００
０ｍμのカーボンブラックを用いる．また塗布膜の表面
粗さを制御する目的でスペーシングロス減少のための平
滑化のためにより微粒子のカーボンブラック（１００ｍ
μ以下）を、粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子
のカーボンブランク（５０ｍμ以上）を用いる．このよ
うにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に
要求される目的に応じて使い分けられる． また、これらのカーボンプラックを、後述の分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよ
い．また、カーボンブラックを製造するときの炉の温度
を２０００″Ｃ以上で処理して表面の一部をグラファイ
ト化したものも使用できる．また、特殊なカーボンブラ
ンクとして中空カーポンブランクを使用することもでき
る．これらのカーボンブランクは磁性層の場合強磁性微
粉末１００垂量部に対して０．１〜２０重量部で用いる
ことが望ましい．本発明に使用出来るカーポンブランク
及びカーボンブラックの物性値は例えば『カーボンブラ
ック便覧１１カーボンブラック協会編、（昭和４６年発
行）を参考にすることが出来る． 本発明に用いる磁性層とバック層の研磨剤としては一般
に使用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、
α−アルξナ、γ−アルミナ、αγ−アルミナ、熔融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コラ
ンダム、人造ダイヤモンド、α一酸化鉄、ザクロ石、エ
メリー（主威分：コランダムと磁鉄ＦＬ）、ガーネット
、ケイ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオー
ツ、トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト等で、主として
モース硬度６以上より好ましくはモース硬度８以上の材
料がｌ内至４種迄の組合わせで使用される、これらの研
磨剤は平均粒子サイズが０．００５〜５ミクロンの大き
さのものが使用され、特に好ましくは０．０１〜２【ク
ロンである．これらの研磨剤は結合剤１００重量部に対
して０．０１〜２０重量部の範囲で添加される．以下に
本発明の製造方法について述べる．本発明の分散、混練
、塗布の際に使用する有機溶媒としては、任意の比率で
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラ
ン等のケトン系；メタノール、エタノール、プロパノー
ル、プタノール、イソブチルアルコール、イソプロビル
アルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコー
ル系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソ
プチル、酢酸イソプロビル、乳酸エチル、酢酸グリコー
ルモノエチルエーテル等のエステル系；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル
、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのエ
ーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール
、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭
化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用できる． 分散・混練の方法には特に制限はなく、また各威分の添
加順序などは適宜設定することができる．磁性塗料およ
びバックＮ塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本
ロールごル、三本ロールξル、ボールミル、ペブルくル
、トロンミル、サンドグラインダー、ツェグバリ（Ｓｚ
ｅｇｖａｒｉ）、アト・ライター、高速インベラー、分
散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー
、二一グー、高速ξキサー、リボンブレンダー、コニー
ダー、インテンシブミキサー、クンプラー、ブレンダー
、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押
し出し機、二輪スクリュー押し出し機、及び超音波分散
機などを用いることができる．混練分散に関する技術の
詳細は、Ｔ．　Ｃ．　ＦＡＴＴＯＮ著（テー・シー・バ
ントン）″Ｐａｉｎｔ　Ｆｌｏｗ　ａｎｄＰｉｇｓ＋ｅ
ｎｔ　Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ　　（ペイント　フロー　
アンド　ピグメント　ディスバージョン）１９６４年Ｊ
ｏｈｎ　ＩＩ４ｉ１ｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ社発行（ジゴン
　ウィリーアンド　サンズ）や田中信一著ｒ工業材料１
２５ｊＪ３７　（１９７７）などや当該書籍の引用文献
に記載されており、連続処理の為これらの混練分散機を
適宜組み合わせ送液し塗布する．また、米国特許第２５
８１４１４号及び同第２８５５１５６号などの明細書に
も記載がある．本発明においても上記の書籍や当該書籍
の引用文献などに記載された方法に準して混練分散を行
い磁性塗料およびバックＮ塗料を調製することができる
．磁気記録層の形或は上記の組成などを任意に組合せて
有機溶媒に溶解し、塗布溶戒として支持体上に塗布・乾
燥する．テープとして使用する場合には支持体の厚み２
．５〜１００μｍ程度、好ましくは３〜７０μｍ程度が
良い．ディスクもしくはカード状の場合は厚みが０．０
３〜ｌＯ一程度であり、ドラムの場合は円筒状で用いる
事も出来る．素材としてはポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリ
プロピレン、ポリエチレン等ポリオレフイン類、セルロ
ーストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、
ボリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニウム、
銅等の金属、ガラス等のセラミック等も使用出来る．こ
れらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラ
ズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処
理、アルカリ処理をおこなってもよい．これら支持体に
関しては例えば西独特許３３３８８５４Ａ，特開昭５９
−１１６９２６号、米国特許４３８８３６８号；三石幸
夫著、『繊維と工業ｊ３ｌＳＰ５０〜５５、１９７５年
などに記載されている． 支持体上へ前記の磁気記録層ならびにバンク層を塗布す
る方法としてはエアードクターコート、ブレードコート
、エアナイフコート、スクイズコ｝、含ｉコート、リバ
ースロールコート、トランスファーロールコート、グラ
ビアコート、キスコート、キャストコート、スブレイコ
ート、バーコート、等が利用出来、その他の方法も可能
であり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーテ
ィング工学ｊ２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０
．発行）に詳細に記載されている．このような方法によ
り、支持体上に塗布された磁性層は必要により層中の磁
性粉末を直ちに乾燥しながら所望の方向へ配向させる処
理を施したのち、形威した磁性層を乾燥する．このとき
の支持体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜１０００ｍ／
分でおこなわれ、乾燥温度が２０℃〜１３０℃で制御さ
れる．次に表面平滑化処理（カレンダー処理）を施した
り、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録体
を製造する．これらの製造方法はフイラーの表面処理、
混線・分散、塗布、熱処理、カレンダー、ＥＢ処理、表
面研磨処理、裁断の工程を連続して行う事が好ましい．
カレンダー処理は５段又は７段のスーパーカレンダー装
置（例えば特開昭５１−１０３４０号、特開昭６０３８
１２０号）を用いることが好ましい．また必要に応して
幾つかに工程を分ける事ができる．これらの工程におい
ては、温度、湿度が制御され、温度は１０℃〜１３０℃
、湿度は空気中の水分量で表すと、５■／ポ〜２０■／
ポである．これらは、例えば、特公昭４０−２３６２５
号公報、特公昭３９−２８３６８号公報、米国特許第３
４７３９６０号明細書、等にしめされている．又、特公
昭４１−１３１８１号公報にしめされる方法はこの分野
における基本的、且つ重要な技術と考えられている． （発明の効果） 本発明はｉｔｍ変換特性上、充分な特性を発揮できるよ
うに角型比を０．８０以上に高め、磁性層表面をＲａが
０．０２μｍ以下（カットオフ０．２５■）と平滑にし
た磁気記録媒体を、更に超硬刃でバーニッシュすること
により、特にテープ走行初期のヘッド摩耗が顕著に減少
し、ヘッド目詰まり、ＲＦ出力の改良ができる． このような効果がどうして得られるのかは明確にはわか
らないが、バーニッシェ後の表面粗さ（Ｒａ）は特に処
理前と変化していないが、言わばテープ走行の馴らし効
果によってテープ走行初期のヘッド摩耗が顕著に減少す
るものと思われる。

サファイヤブレードやラフピングテーブではこのような
効果は得られないので超硬刃によるバーニフシュの特有
な効果と思われる． （実施例） 以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する．こ
こに示す威分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
． 従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い．猶を、実施例中の部は重量部をしめす． 〔実施例！〕 下記磁性層組底物の（１）を二一グーに入れ充分混練し
たあと（Ｉｆ）を追加投入し充分混練し、塗布前に〔■
〕、続いて（ＩＶ）を入れ混合分散して磁性塗料を作成
した． 迫止８目底曳 （１）Ｃｏ含有ｙ−ＦｅＯ，粉末　　　３００部（窒素
吸着比表面積：　４５ｒｒｆ／ｇ，　Ｆ　ｅ　”　　４
　ａｔｍＺ粉末Ｈｃ：７５００ｅ） 塩化ビニル樹脂　　　　　　　　　２５部（ＭＲ　１１
０、日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂　　　　　　　　２０部（ＵＲ　８６
００　、東洋紡社製） カーボン・ブラック　　　　　　　１２部（三菱９５０
Ｂ、三菱化威社製、 平均粒子サイズ１０ｍμ） 研磨剤：α−Ａ　Ｉ　ｔ０，　　　　　　１５部（住友
化学社製、Ｈ　Ｉ　ＴＩＯＯ オレイン酸　　　　　　　　　　　　　３部シクロへキ
サノン　　　　　　　１５０部（ＩＩ）酢酸ブチル　　
　　　　　　　　８５０部ステアリン酸ｔｅｒｔプチル
　　　　３部（Ｉｌｌ）ポリイソシアネー｝　　　　　
　　　２０部（コロネート３０４０、バイエル社製）ス
テアリン酸　　　　　　　　　　　３部メチルエチルケ
トン　　　　　　１００部この磁性塗料を粘度調整した
後１８μｍの非磁性支持体のポリエチレンテレフタレー
ト上に乾燥膜厚５．ＯＩＩｍで塗布し、その［３　０　
０　０ガウスの磁石で磁場配向したあと乾燥し、引き続
きカレンダーをかけて磁性層を作威した．引き続き磁性
層を設けた非磁性支持体の裏側面に、下記バック組威物
（１）をボール・ミルで混練分散し（Ｉｆ）続いて（Ｉ
［［）を加えて混合攪拌してバック液を調整し乾燥膜厚
み２．０μｍに塗布してバック層を設けた． バユｌ量朧底隻 （１）カーボン・ブラック　　　　　　　３０部（カン
カルプＭＴＣＩ 窒素吸着比表面積：１０ボ／ｇ 平均粒子サイズ２５０ｍμ カンカルブ社製） カーボン・ブラック　　　　　　　７０部（三菱＃３２
５０Ｂ 窒素吸着比表面積：１６０ポ／ｇ 平均粒子サイズ３０ｍμ 三菱化威社製） ポリウレタンポリカーボネート樹脂 （ＦＪ２、大日精化社製）　　　　　３０部フェノキシ
樹脂　　　　　　　　　２０部（ＰＫＨＨ， ユニオンカーバイド社製） メチルエチルケトン　　　　　　７００部シクロヘキサ
ノン　　　　　　　３００部（ＩＩ）ボリインシアネー
ト　　　　　　　１０部（コロネー｝　３０４０、日本
ポリウレタン社製）潤滑剤　　　　　　　　　　　　０
．　　１部（シリコーン、ＫＦ６９、信越化学社製）潤
滑剤　　　　　　　　　　　　　　１部（オレイン酸） メチルエチルケトン　　　　　　１００部この後、１イ
ンチ幅にスリ７｝して、ビデオ・テープを作威し、表１
の条件でテープのバーニッシュを行った． 〔評価方法〕 ニヱヱ里Ｋ豊杜（Ｈ，　Ｗ．　） 加湿条件下（２５℃、７０％ＲＨ）に於いて、ソニー製
のＢＶＨ２１８０のＶＴＲで繰り返し走行５０バスし、
ＶＴＲヘッドの摩耗量を求める．且Ｌ量方 低湿条件下（２５゜Ｃ、１０％ＲＨ）に於いて、アンペ
ックス製のＶＰＲ３のＶＴＲでＲＦ記録をしたあと５０
パス繰り返し走行を行い再生ＲＦ出力低下を測定する． 本発明の磁気記録媒体は第１表の実施例から明らかなよ
うに、ヘッド摩耗特性、ＲＦ出力低下特性で優れた性能
を示している．とくにＷＣを用いた場合は有効にヘッド
摩耗を低減せしめヘッドの寿命を１０倍以上長くできる
．またこの時出力低下も起こさず本発明は従来方法に比
較し顕著な効果が認められる． 〔実施例２〕 下記磁性層ＭＩｉ物の（１）を二一グーに入れ充分混練
したあと［ＩＩ）を追加投入し充分混練し、塗布前に〔
■〕、続いて（ＩＶ）を入れ混合分散して磁性塗料を作
威した． 延性夏鳳虞忽 （１）金属合金粉末　　　　　　　　　３００部（窒素
吸着比表面積：６０ポ／ｇ、 粉末Ｈｃ：１５０００ｅ） 塩化ビニル樹脂　　　　　　　　　１８部（ＭＲＩＩＯ
、日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂　　　　　　　　２４部（υＲ　８３
００、東洋紡社製） カーボン・ブラック　　　　　　　１０部（三菱３２５
０　Ｂ、三菱化威社製、 平均粒子サイズ１０ｍμ） 研磨剤：α−ＡＩ．０．　　　　　　　２０部（住友化
学社製、ＨＩＴ５５） オレイン酸　　　　　　　　　　　　　３部シクロヘキ
サノン　　　　　　　１５０部（Ｉｆ）酢酸ブチル　　
　　　　　　　　８５０部ステアリン酸アミド　　　　
　　　　３部（Ｉ［Ｉ）ポリイソシアネート　　　　　
　　２０部（コロネート３０４０、バイエル社製）ベヘ
ン＃　　　　　　　　　　　　　３部メチルエチルケト
ン　　　　　　１００部この磁性塗料を粘度調整した後
１０ｔＩｍの非磁性支持体ポリエチレンテレフタレート
上に乾燥膜厚３．Ｏμｍで塗布し、その［３　０　０　
０ガウスの磁石で磁場配向したあと乾燥し、引き続きカ
レンダーをかけて磁性層を作威した．引き続き磁性層を
設けた非磁性支持体の裏側面に、下記バック組底物〔Ｉ
〕をボール・逅ルで混練分散し（Ｉ［）続いて［Ｉ［［
）を加えて混合攪拌してバック液を調整し乾燥膜厚み０
．５μｍに塗布してバック層を設けた． が１ｌ』Ｄ助え艷 （１）カーボン・ブラック　　　　　　　８５部（コン
ダクテックスＳＣ 窒素吸着比表面積：２００ボ／ｇ 平均粒子サイズ２０ｍμ キャボット社製） カーボン・ブラック　　　　　　　　５部（レーベンＭ
ＴＰ 窒素吸着比表面積：８ポ／ｇ 平均粒子サイズ２　５　０ｍｔｔ コロンビアン社製） ポリウレタンボリカーボネート樹脂　１０部（ＦＪ２、
大日精化社製） ニトロセルロース樹脂　　　　　　８０部（ＦＭ２００
、ダイセル社製） 研磨剤　　　　　　　　　　　　０．　　２部（αアル
ミナ；Ｈｉｔ５５；住友化学製）メチルエチルケトン　
　　　　　７５０部シクロヘキサノン　　　　　　　２
５０部（Ｉｆｆ）ポリイソシアネート　　　　　　　２
０部（コロネート３０４０、日本ポリウレタン社製）潤
滑剤　　　　　　　　　　　　０．　　１部（シリコー
ン、ＫＦ６９、信越化学社製）潤滑剤　　　　　　　　
　　　０．　　１部（オレイン酸銅） メチルエチルケトン　　　　　　５００部この後、８鵬
幅にスリットして、ビデオ・テープを製造した． 〔評価方法〕 ニュ上輩Ｋ豊性（Ｈ，　Ｗ．） 加湿条件下（２５℃、７０％Ｒｆ｛）に於いて、ソニー
製のＶＴＲで繰り返し走行２０バスし、ＶＴＲヘッドの
摩耗量とヘッド汚れによる目詰まり出力低下を観察する
． 且Ｌ量方 低湿条件下（２５℃、１０％ＲＨ）に於いて、ソニー製
のＶＴＲでＲＦ記録をしたあと２０パス繰り返し走行を
行い再生ＲＦ出力低下を測定する．本発明の磁気記録媒
体は第２表の実施例から毬らかなように、ヘッド摩耗・
目詰まり特性、Ｒ｝出力低下特性で優れた性能を示して
いる．とく振ＷＣを用いた場合は有効にヘッド摩耗を低
減せＬめ且つヘッド目詰まり特性も特に良好でヘッドＯ
寿命を１５倍以上長くできる．またこの時出力ｎ下も起
こさず本発明は従来方法に比較し顕著な交果が認められ
る．

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性支持体上に強磁性粉末、結合剤、添加剤を
   含む磁性塗料を塗布し、配向、乾燥した後、カレンダー
   処理をし、得られた角型比が０．８０以上でかつＲａが
   ０．０２μｍ以下である磁性層の表面を超硬刃でバーニ
   ッシュすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. （２）前記のバーニッシュをタングステンカーバイド（
   ＷＣ）を主成分としＣＯ＿２を含有し、ＷＣの平均サイ
   ズが０．１〜１．０μｍである超硬刃を用いて行なうこ
   とを特徴とする請求項第（１）項の磁気記録媒体の製造
   方法。