JPH03153713A - スチレン系低分子量共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を主成分とする樹脂用配合剤 - Google Patents
スチレン系低分子量共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を主成分とする樹脂用配合剤Info
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Landscapes
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、添加剤、滑剤、塗料などの樹脂用配合剤とし
て、あるいは機能性材料として有用なスチレン系低分子
量共重合体および該共重合体を効率良く製造する方法に
関する。
て、あるいは機能性材料として有用なスチレン系低分子
量共重合体および該共重合体を効率良く製造する方法に
関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕従来
より、シンジオタクチック構造を有するスチレン系共重
合体はいくつか知られている。
より、シンジオタクチック構造を有するスチレン系共重
合体はいくつか知られている。
例えば、特開昭63−241009号公報、 Macr
omolecules 19B9.22.104(Za
104(Za、A、et at、)には、スチレン−パ
ラメチルスチレン等のシンジオタクチック構造を有する
共重合体が報告されている。
omolecules 19B9.22.104(Za
104(Za、A、et at、)には、スチレン−パ
ラメチルスチレン等のシンジオタクチック構造を有する
共重合体が報告されている。
しかしながら、これらはいずれも重量平均分子量35
、000以上、数平均分子量11.000以上の高分子
量体であり、重量平均分子量1 、000〜10,00
0程度のシンジオタクチック構造を有する低重合体につ
いては、未だ報告されていない。
、000以上、数平均分子量11.000以上の高分子
量体であり、重量平均分子量1 、000〜10,00
0程度のシンジオタクチック構造を有する低重合体につ
いては、未だ報告されていない。
なお、前記特開昭63−241009号公報においては
重合度5以上のスチレン系共重合体を特許請求の範囲に
おいて開示しているが、オルト置換スチレン系樹脂の共
重合に関する具体的記載はない。
重合度5以上のスチレン系共重合体を特許請求の範囲に
おいて開示しているが、オルト置換スチレン系樹脂の共
重合に関する具体的記載はない。
また、特開昭63−241009号公報等に記載された
発明において、低分子量の共重合体を得るためには■モ
ノマー濃度を小さくする、■反応温度を高くする等の特
殊な手法が要求され、しかも■の如くモノマー濃度を小
さくすると、触媒活性が悪くなり、また、■の如く反応
温度を高くすると、反応温度の上昇に伴い、タフティシ
ティ−が乱れる等の問題があった。
発明において、低分子量の共重合体を得るためには■モ
ノマー濃度を小さくする、■反応温度を高くする等の特
殊な手法が要求され、しかも■の如くモノマー濃度を小
さくすると、触媒活性が悪くなり、また、■の如く反応
温度を高くすると、反応温度の上昇に伴い、タフティシ
ティ−が乱れる等の問題があった。
本発明者らは、上記従来の問題を解消するために鋭意研
究を重ねた結果、オルト位に置換基を持つスチレン系モ
ノマーを反応系に添加した場合、高効率で、かっ主鎖シ
ンジオタクチック構造の乱れなしで、重量平均分子量1
、000〜10.000のシンジオタクチック構造を
有する低重合体を得ることに成功し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
究を重ねた結果、オルト位に置換基を持つスチレン系モ
ノマーを反応系に添加した場合、高効率で、かっ主鎖シ
ンジオタクチック構造の乱れなしで、重量平均分子量1
、000〜10.000のシンジオタクチック構造を
有する低重合体を得ることに成功し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の第1は一般式
〔式中、R+、は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレ
ン原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を
含む置換基を示し、m!、tl〜5の整数を示す。但し
、mが複数のときは、各Rは同一でも異なるものであっ
てもよい。〕で表わされる構造単位(1)および一般式
〔式中、R!、 R3,R4は、それぞれ水素原子ある
いは炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、Rt、
R3のうち少なくとも1つは炭素数1〜2゜のアルキル
基を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされる構造単位〔H〕 (但し、前記構造単位(
1)と同一の場合を除く)を有する重量平均分子M I
、 000以上で10.000未満の共重合体であり
、かつ、その立体規則性が主としてシンジオタクチック
構造であるスチレン系低分子量共重合体を提供するもの
である。
原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレ
ン原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を
含む置換基を示し、m!、tl〜5の整数を示す。但し
、mが複数のときは、各Rは同一でも異なるものであっ
てもよい。〕で表わされる構造単位(1)および一般式
〔式中、R!、 R3,R4は、それぞれ水素原子ある
いは炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、Rt、
R3のうち少なくとも1つは炭素数1〜2゜のアルキル
基を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされる構造単位〔H〕 (但し、前記構造単位(
1)と同一の場合を除く)を有する重量平均分子M I
、 000以上で10.000未満の共重合体であり
、かつ、その立体規則性が主としてシンジオタクチック
構造であるスチレン系低分子量共重合体を提供するもの
である。
また、本発明の第2は、本発明の第1に記載の共重合体
を主成分とする樹脂用配合剤を提供するものである。
を主成分とする樹脂用配合剤を提供するものである。
さらに、本発明の第3は、触媒成分として(A)i!!
移金属成分および(B)有機アルミニウム化合物と縮合
剤との接触生成物を用い、一般式 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素原
子8酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレン
原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を含
む置換基を示し、mは1〜5の整数を示す。但し、mが
複数のときは、各R’は同一でも異なるものであっても
よい。〕で表わされるスチレン系モノマーおよび一般式 〔式中、Rt、Rx、Raは、それぞれ水素原子あるい
は炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、R”、R
’のうち少なくとも1つは炭素数1〜20のアルキル基
を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされるオルト置換スチレン系モノマー(但し、前
記一般式(1)で表わされるスチレン系モノマーと同一
の場合を除く)を共重合することを特徴とする請求項1
記載のスチレン系低分子量共重合体の製造方法を提供す
るものである。
移金属成分および(B)有機アルミニウム化合物と縮合
剤との接触生成物を用い、一般式 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素原
子8酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレン
原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を含
む置換基を示し、mは1〜5の整数を示す。但し、mが
複数のときは、各R’は同一でも異なるものであっても
よい。〕で表わされるスチレン系モノマーおよび一般式 〔式中、Rt、Rx、Raは、それぞれ水素原子あるい
は炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、R”、R
’のうち少なくとも1つは炭素数1〜20のアルキル基
を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされるオルト置換スチレン系モノマー(但し、前
記一般式(1)で表わされるスチレン系モノマーと同一
の場合を除く)を共重合することを特徴とする請求項1
記載のスチレン系低分子量共重合体の製造方法を提供す
るものである。
本発明におけるスチレン系共重合体は、前記−般式(1
)で表わされる構造単位〔I〕 (繰り返し単位)およ
び一般式(II)で表わされる構造単位[11)(mり
返し単位)を有するものである。
)で表わされる構造単位〔I〕 (繰り返し単位)およ
び一般式(II)で表わされる構造単位[11)(mり
返し単位)を有するものである。
ここで構造単位(1)のR1は、水素原子、ハロゲン原
子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、
リン原子、セレン原子、ケイ素原子および錫原子のいず
れか1種以上を含む置換基を示している。
子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、
リン原子、セレン原子、ケイ素原子および錫原子のいず
れか1種以上を含む置換基を示している。
ここでハロゲン原子としては、塩素、弗素、臭素、沃素
を挙げることができる。
を挙げることができる。
また、炭素原子を含む置換基の具体例としてはメチル基
、エチル基、イソプロピル基、ターシャリ−ブチル基な
どの炭素数1〜20のアルキル基;炭素数6〜30のベ
ンゼン環に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレン原子、ケイ
素原子あるいは錫原子などを含む置換基をもつアリール
基;クロロエチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基
などの炭素1〜20のハロゲン置換アルキル基などが挙
げられる。
、エチル基、イソプロピル基、ターシャリ−ブチル基な
どの炭素数1〜20のアルキル基;炭素数6〜30のベ
ンゼン環に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレン原子、ケイ
素原子あるいは錫原子などを含む置換基をもつアリール
基;クロロエチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基
などの炭素1〜20のハロゲン置換アルキル基などが挙
げられる。
ここで炭素数6〜30のベンゼン環に、水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、
リン原子、セレン原子、ケイ素原子あるいは錫原子など
を含む置換基をもつアリール基としては、例えばベンゼ
ン環、ナフタレン環。
ゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、
リン原子、セレン原子、ケイ素原子あるいは錫原子など
を含む置換基をもつアリール基としては、例えばベンゼ
ン環、ナフタレン環。
フェナントレン環、アントラセン環、インデン環。
アズレン環、ヘブタレン環、ビフェニレン環、aS−イ
ンダセン環、S−インダセン環、アセナフチレン環、フ
ェナレン環、フルオランテン環、アセフェナントレン環
、アセアントリレン環、トリフェニレン環、ナフタセン
環、プレイアゾン環、ヒセン環、ペリレン環、ペンタフ
ェン環、ペンタセン環、ルビセン環、コロセン環、ビラ
ントレン環。
ンダセン環、S−インダセン環、アセナフチレン環、フ
ェナレン環、フルオランテン環、アセフェナントレン環
、アセアントリレン環、トリフェニレン環、ナフタセン
環、プレイアゾン環、ヒセン環、ペリレン環、ペンタフ
ェン環、ペンタセン環、ルビセン環、コロセン環、ビラ
ントレン環。
オバレン環、およびこれらのアルキル置換基(メチル基
、エチル基、イソプロピル基、ターシャリ−ブチル基な
ど)、ハロゲン置換アルキル基(クロロエチル基、ブロ
モエチル基など)、酸素原子を含む置換基(メトキシ基
、エトキシ基、イソプロポキシ基、メトキシカルボニル
基、アセチルオキシ基など)、ケイ素原子を含む置換基
(トリメチルシリル基など)、錫原子を含む置換基(ト
リメチルスタンニル基、トリブチルスタンニルL)I7
フエニルスタンニル基など)、窒素原子を含む置換基(
ジメチルアミノ基、ジアゾ基、ニトロ基、シアノ基など
)、硫黄原子を含む置換基(スルホン基。
、エチル基、イソプロピル基、ターシャリ−ブチル基な
ど)、ハロゲン置換アルキル基(クロロエチル基、ブロ
モエチル基など)、酸素原子を含む置換基(メトキシ基
、エトキシ基、イソプロポキシ基、メトキシカルボニル
基、アセチルオキシ基など)、ケイ素原子を含む置換基
(トリメチルシリル基など)、錫原子を含む置換基(ト
リメチルスタンニル基、トリブチルスタンニルL)I7
フエニルスタンニル基など)、窒素原子を含む置換基(
ジメチルアミノ基、ジアゾ基、ニトロ基、シアノ基など
)、硫黄原子を含む置換基(スルホン基。
スルホン酸メチルエステル基、フェニルチオ基。
メチルチオ基、メルカプト基など)、セレン原子を含む
置換基(メチルセレノ基、フェニルセレノ基。
置換基(メチルセレノ基、フェニルセレノ基。
メチルセレノキシル基、フェニルセレノキシル基など)
、リン原子を含む置換基(リン酸メチルエステル基、亜
すン酸エステル基、ジメチルホスフィノ基、ジフェニル
ホスフィノ基、メチルホスフィニル基、フェニルホスフ
ィニル基など)などを任意の位置に置換したものが含ま
れる。
、リン原子を含む置換基(リン酸メチルエステル基、亜
すン酸エステル基、ジメチルホスフィノ基、ジフェニル
ホスフィノ基、メチルホスフィニル基、フェニルホスフ
ィニル基など)などを任意の位置に置換したものが含ま
れる。
次に、酸素原子を含む置換基としては、メトキシ基、エ
トキシ基、イソプロポキシ基、メトキシカルボニル基、
アセチルオキシ基などが挙げられる。
トキシ基、イソプロポキシ基、メトキシカルボニル基、
アセチルオキシ基などが挙げられる。
また、窒素原子を含む置換基としては、ジメチルアミノ
基、ジアゾ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
基、ジアゾ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
さらに、硫黄原子を含む置換基としては、スルホン基、
スルホン酸メチルエステル基、フェニルチオ基、メチル
チオ基、メルカプト基などがあげられる。
スルホン酸メチルエステル基、フェニルチオ基、メチル
チオ基、メルカプト基などがあげられる。
次に、リン原子を含む置換基としては、リン酸メチルエ
ステル基、亜すン酸エステル基、ジメチルホスフィノ基
、ジフェニルホスフィノ基、メチルホスフィニル基、フ
ェニルホスフィニル基などが挙げられる。
ステル基、亜すン酸エステル基、ジメチルホスフィノ基
、ジフェニルホスフィノ基、メチルホスフィニル基、フ
ェニルホスフィニル基などが挙げられる。
また、セレン原子を含む置換基としては、メチルセレノ
基、フェニルセレノ基、メチルセレノキシル基、フェニ
ルセレノキシル基などが挙げられる。
基、フェニルセレノ基、メチルセレノキシル基、フェニ
ルセレノキシル基などが挙げられる。
さらにまた、ケイ素原子を含む置換基としては、トリメ
チルシリル基などが挙げられる。
チルシリル基などが挙げられる。
最後に、錫原子を含む置換基としては、トリメチルスタ
ンニル基、トリブチルスタンニル基、トリフェニルスタ
ンニル基などが挙げられる。
ンニル基、トリブチルスタンニル基、トリフェニルスタ
ンニル基などが挙げられる。
なお、一般式(1)で表わされる構造単位(r)におい
て、mは1〜5の整数であり、このうちmが複数のとき
は、m個あるR1と、それぞれ同じものであってもよい
し、異なるものであってもよい。
て、mは1〜5の整数であり、このうちmが複数のとき
は、m個あるR1と、それぞれ同じものであってもよい
し、異なるものであってもよい。
このような置換基を有する構造単位(I)の具体例とし
ては、スチレン、p−メチルスチレン。
ては、スチレン、p−メチルスチレン。
m−メチルスチレン、0−メチルスチレン、2゜4−ジ
メチルスチレン、2.5−ジメチルスチレン、3.4−
ジメチルスチレン、3.5−ジメチルスチレン、P−タ
ーシャリ−ブチルスチレンなどのアルキルスチレン;p
−クロロスチレン、m−クロロスチレン、0−クロロス
チレン+P−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、0
−ブロモスチレン、P−フルオロスチレン、m−フルオ
ロスチレン、O−フルオロスチレン、0−メチル−p−
フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン;4−ビニ
ルビフェニル、3−ビニルビフェニル。
メチルスチレン、2.5−ジメチルスチレン、3.4−
ジメチルスチレン、3.5−ジメチルスチレン、P−タ
ーシャリ−ブチルスチレンなどのアルキルスチレン;p
−クロロスチレン、m−クロロスチレン、0−クロロス
チレン+P−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、0
−ブロモスチレン、P−フルオロスチレン、m−フルオ
ロスチレン、O−フルオロスチレン、0−メチル−p−
フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン;4−ビニ
ルビフェニル、3−ビニルビフェニル。
2−ビニルビフェニルなどのビニルビフェニル類;1−
(4−ビニルフェニル)ナフタレン、2−(4−ビニル
フェニル)ナフタレン、1−(3−ビニルフェニル)ナ
フタレン、2−(3−ビニルフェニル)ナフタレン、1
−(2−ビニルフェニル)ナフタレン、2−(2−ビニ
ルフェニル)ナフタレンなどのビニルフェニルナフタレ
ン類;1−(4−ビニルフェニル)アントラセン、2−
(4−ビニルフェニル)アントラセン、9−(4−ビニ
ルフェニル)アントラセン、1−(3−ビニルフェニル
)アントラセン、2−(3−ビニルフェニル)アントラ
セン、9−(3−ビニルフェニル)アントラセン、1−
(2−ビニルフェニル)アントラセン、2−(2−ビニ
ルフェニル)アントラセン、9−(2−ビニルフェニル
)アントラセンなどのビニルフェニルアントラセン類;
1−(4−ビニルフェニル)フェナントレン、2−(4
−ビニルフェニル)フェナントレン、3(4−ビニルフ
ェニル)フェナントレン、4−(4−ビニルフェニル)
フェナントレン、9−(4−ビニルフェニル)フェナン
トレン、1−(3−ビニルフェニル)フェナントレン、
2−(3−ビニルフェニル)フェナントレン、3−(3
−ビニルフェニル)フェナントレン、4−(3−ビニル
フェニル)フェナントレン、9−(3−ビニルフェニル
)フェナントレン、1−(2−ビニルフェニル)フェナ
ントレン、2−(2−ビニルフェニル)フェナントレン
、3−(2−ビニルフェニル)フェナントレン、4−(
2−ビニルフェニル)フェナントレン、9−(2−ビニ
ルフェニル)フェナントレンなとのビニルフェニルフェ
ナントレン類;1−(4−ビニルフェニル)ピレン、2
−(4−ビニルフェニル)ピレン、1−(3−ビニルフ
ェニル)ピレン、2−(3−ビニルフェニル)ピレン、
1−(2−ビニルフェニル)ピレン、2−(2−ビニル
フェニル)ピレンなどのビニルフェニルピレン類; 4
−ビニル−P−ターフェニル、4−ビニル−m=ターフ
ェニル、4−ビニル−〇−ターフェニル、3−ビニル−
P−ターフェニル、3−ビニル−m−ターフェニル、3
−ビニル−〇−ターフェニル。
(4−ビニルフェニル)ナフタレン、2−(4−ビニル
フェニル)ナフタレン、1−(3−ビニルフェニル)ナ
フタレン、2−(3−ビニルフェニル)ナフタレン、1
−(2−ビニルフェニル)ナフタレン、2−(2−ビニ
ルフェニル)ナフタレンなどのビニルフェニルナフタレ
ン類;1−(4−ビニルフェニル)アントラセン、2−
(4−ビニルフェニル)アントラセン、9−(4−ビニ
ルフェニル)アントラセン、1−(3−ビニルフェニル
)アントラセン、2−(3−ビニルフェニル)アントラ
セン、9−(3−ビニルフェニル)アントラセン、1−
(2−ビニルフェニル)アントラセン、2−(2−ビニ
ルフェニル)アントラセン、9−(2−ビニルフェニル
)アントラセンなどのビニルフェニルアントラセン類;
1−(4−ビニルフェニル)フェナントレン、2−(4
−ビニルフェニル)フェナントレン、3(4−ビニルフ
ェニル)フェナントレン、4−(4−ビニルフェニル)
フェナントレン、9−(4−ビニルフェニル)フェナン
トレン、1−(3−ビニルフェニル)フェナントレン、
2−(3−ビニルフェニル)フェナントレン、3−(3
−ビニルフェニル)フェナントレン、4−(3−ビニル
フェニル)フェナントレン、9−(3−ビニルフェニル
)フェナントレン、1−(2−ビニルフェニル)フェナ
ントレン、2−(2−ビニルフェニル)フェナントレン
、3−(2−ビニルフェニル)フェナントレン、4−(
2−ビニルフェニル)フェナントレン、9−(2−ビニ
ルフェニル)フェナントレンなとのビニルフェニルフェ
ナントレン類;1−(4−ビニルフェニル)ピレン、2
−(4−ビニルフェニル)ピレン、1−(3−ビニルフ
ェニル)ピレン、2−(3−ビニルフェニル)ピレン、
1−(2−ビニルフェニル)ピレン、2−(2−ビニル
フェニル)ピレンなどのビニルフェニルピレン類; 4
−ビニル−P−ターフェニル、4−ビニル−m=ターフ
ェニル、4−ビニル−〇−ターフェニル、3−ビニル−
P−ターフェニル、3−ビニル−m−ターフェニル、3
−ビニル−〇−ターフェニル。
2−ビニル−P−ターフェニル、2−ビニル−m−ター
フェニル、2−ビニル−〇−ターフェニルなどのビニル
ターフェニル類、4−(4−ビニルフェニル)−2−タ
ーフェニルなどのビニルフェニルターフェニル類;4−
ビニル−4゛−メチルビフェニル、4−ビニル−3″−
メチルビフェニル、4−ビニル−2゛−メチルビフェニ
ル、2−メチル−4−ビニルビフェニル、3−メチル−
4−ビニルビフェニルなどのビニルアルキルビフェニル
類;4−ビニル−4°−フルオロビフェニル。
フェニル、2−ビニル−〇−ターフェニルなどのビニル
ターフェニル類、4−(4−ビニルフェニル)−2−タ
ーフェニルなどのビニルフェニルターフェニル類;4−
ビニル−4゛−メチルビフェニル、4−ビニル−3″−
メチルビフェニル、4−ビニル−2゛−メチルビフェニ
ル、2−メチル−4−ビニルビフェニル、3−メチル−
4−ビニルビフェニルなどのビニルアルキルビフェニル
類;4−ビニル−4°−フルオロビフェニル。
4−ビニル−3”−フルオロビフェニル、4−ビニル−
2°−フルオロビフェニル、4−ビニル2−フルオロビ
フェニル、4−ビニル−3−フルオロビフェニル、4−
ビニル−4°−クロロビフェニル、4−ビニル−3゛−
クロロビフェニル。
2°−フルオロビフェニル、4−ビニル2−フルオロビ
フェニル、4−ビニル−3−フルオロビフェニル、4−
ビニル−4°−クロロビフェニル、4−ビニル−3゛−
クロロビフェニル。
4−ビニル−2゛−クロロビフェニル、4−ビニル−2
−クロロビフェニル、4−ビニル−3−クロロビフェニ
ル、4−ビニル−4゛−ブロモビフェニル、4−ビニル
−3°−ブロモビフェニル。
−クロロビフェニル、4−ビニル−3−クロロビフェニ
ル、4−ビニル−4゛−ブロモビフェニル、4−ビニル
−3°−ブロモビフェニル。
4−ビニル−2°−ブロモビフェニル、4−ビニル−2
−ブロモビフェニル、4−ビニル−3−ブロモビフェニ
ルなどのハロゲン化ビニルビフェニル類;4−ビニル−
4°−メトキシビフェニル。
−ブロモビフェニル、4−ビニル−3−ブロモビフェニ
ルなどのハロゲン化ビニルビフェニル類;4−ビニル−
4°−メトキシビフェニル。
4−ビニル−3°−メトキシビフェニル、4−ビニル−
2゛−メトキシビフェニル、4−ビニル−2−メトキシ
ビフェニル、4−ビニル−3−メトキシビフェニル、4
−ビニル−4°−エトキシビフェニル、4−ビニル−3
°−エトキシビフェニル、4−ビニル−2°−エトキシ
ビフェニル、4−ビニル−2−エトキシビフェニル、4
−ビニル−3−エトキシビフェニルなどのアルコキシビ
ニルビフェニル類;4−ビニル−4”−メトキシカルボ
ニルビフェニル、4−ビニル−4°−エトキシカルボニ
ルビフェニルなどのアルコキシカルボニルビニルビフェ
ニル類;4−ビニル−4°−メトキシメチルビフェニル
などのアルコキシアルキルビニルビフェニル類;4−ビ
ニル−4°−トリメチルシリルビフェニルなどのトリア
ルキルシリルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−
トリメチルスタンニルビフェニル、4−ビニル−4゜−
トリメチルスタンニルビフェニルなどのトリアルキルス
タンニルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−トリ
メチルシリルメチルビフェニルなどのトリアルキルシリ
ルメチルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−トリ
メチルスタンニルメチルビフェニル、4−ビニル−4°
−トリブチルスタンニルメチルビフェニルなどのトリア
ルキルスタンニルメチルビニルビフェニル類等のアリー
ルスチレン類;p−クロロエチルスチレン、m−クロロ
エチルスチレン、O−クロロエチルスチレンなどのハロ
ゲン置換アルキルスチレン;P−メトキシスチレン、m
−メトキシスチレン、O−メトキシスチレン、p−エト
キシスチレン、m−エトキシスチレン、〇−エトキシス
チレンなどのアルコキシスチレン;p−メトキシカルボ
ニルスチレン、m−メトキシカルボニルスチレンなどの
アルコキシカルボニルスチレン;アセチルオキシスチレ
ン、エタノイルオキシスチレン、ベンゾイルオキシスチ
レンなどのアシルオキシスチレン;p−ビニルベンジル
プロビルエーテルなどのアルキルエーテルスチレン;p
−トリメチルシリルスチレンなどのアルキルシリルスチ
レン;p−4リメチルスタンニルスチレン、P−トリブ
チルスクンニルスチレン、P−トリフェニルスタンニル
スチレンなどのアルキルスタンニルスチレン;ビニルベ
ンゼンスルホン酸エチル、ビニルベンジルジメトキシホ
スファイド、p−ビニルスチレンなどのビニルスチレン
等が挙げられる。
2゛−メトキシビフェニル、4−ビニル−2−メトキシ
ビフェニル、4−ビニル−3−メトキシビフェニル、4
−ビニル−4°−エトキシビフェニル、4−ビニル−3
°−エトキシビフェニル、4−ビニル−2°−エトキシ
ビフェニル、4−ビニル−2−エトキシビフェニル、4
−ビニル−3−エトキシビフェニルなどのアルコキシビ
ニルビフェニル類;4−ビニル−4”−メトキシカルボ
ニルビフェニル、4−ビニル−4°−エトキシカルボニ
ルビフェニルなどのアルコキシカルボニルビニルビフェ
ニル類;4−ビニル−4°−メトキシメチルビフェニル
などのアルコキシアルキルビニルビフェニル類;4−ビ
ニル−4°−トリメチルシリルビフェニルなどのトリア
ルキルシリルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−
トリメチルスタンニルビフェニル、4−ビニル−4゜−
トリメチルスタンニルビフェニルなどのトリアルキルス
タンニルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−トリ
メチルシリルメチルビフェニルなどのトリアルキルシリ
ルメチルビニルビフェニル類;4−ビニル−4°−トリ
メチルスタンニルメチルビフェニル、4−ビニル−4°
−トリブチルスタンニルメチルビフェニルなどのトリア
ルキルスタンニルメチルビニルビフェニル類等のアリー
ルスチレン類;p−クロロエチルスチレン、m−クロロ
エチルスチレン、O−クロロエチルスチレンなどのハロ
ゲン置換アルキルスチレン;P−メトキシスチレン、m
−メトキシスチレン、O−メトキシスチレン、p−エト
キシスチレン、m−エトキシスチレン、〇−エトキシス
チレンなどのアルコキシスチレン;p−メトキシカルボ
ニルスチレン、m−メトキシカルボニルスチレンなどの
アルコキシカルボニルスチレン;アセチルオキシスチレ
ン、エタノイルオキシスチレン、ベンゾイルオキシスチ
レンなどのアシルオキシスチレン;p−ビニルベンジル
プロビルエーテルなどのアルキルエーテルスチレン;p
−トリメチルシリルスチレンなどのアルキルシリルスチ
レン;p−4リメチルスタンニルスチレン、P−トリブ
チルスクンニルスチレン、P−トリフェニルスタンニル
スチレンなどのアルキルスタンニルスチレン;ビニルベ
ンゼンスルホン酸エチル、ビニルベンジルジメトキシホ
スファイド、p−ビニルスチレンなどのビニルスチレン
等が挙げられる。
また、構造単位CIりのR2,R3,R4は、それぞれ
前記した如く、水素原子あるいは炭素数1〜20のアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基。
前記した如く、水素原子あるいは炭素数1〜20のアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基。
n−ヘキシル基など)を示す。但し、Rg、R3のうち
少なくとも1つは炭素数1〜20のアルキル基である。
少なくとも1つは炭素数1〜20のアルキル基である。
また、nは1〜3の整数を示す。
このような置換基を有する構造単位(II)の具体例と
しては、例えば0−メチルスチレン、 0−エチルス
チレン O−ノルマルプロピルスチレン。
しては、例えば0−メチルスチレン、 0−エチルス
チレン O−ノルマルプロピルスチレン。
0−イソプロピルスチレン、O−ノルマルブチルスチレ
ン、0−セカンダリ−ブチルスチレン、〇−ターシャリ
ーブチルスチレン、O−イソブチルスチレン、O−ノル
マルペンチルスチレン、 0−ノルマルヘキシルスチ
レン等のオルト位モノアルキル置換スチレンi ; 2
.6−ジメチルスチレン、2メチル6エチルスチレン、
2メチル−6−ノルマルブチルスチレン等の2,6ジア
ルキル置換スチレン類;2,3−ジメチルスチレン、2
.4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン等
の2.3−、2.4−あるいは2.5−のジアルキル置
換スチレン類などが挙げられる。
ン、0−セカンダリ−ブチルスチレン、〇−ターシャリ
ーブチルスチレン、O−イソブチルスチレン、O−ノル
マルペンチルスチレン、 0−ノルマルヘキシルスチ
レン等のオルト位モノアルキル置換スチレンi ; 2
.6−ジメチルスチレン、2メチル6エチルスチレン、
2メチル−6−ノルマルブチルスチレン等の2,6ジア
ルキル置換スチレン類;2,3−ジメチルスチレン、2
.4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン等
の2.3−、2.4−あるいは2.5−のジアルキル置
換スチレン類などが挙げられる。
なお、本発明は、上記の如きオルト位置換スチレン系モ
ノマーの共存下にて、スチレン系モノマーを重合させる
ことを特徴とするものであり、得られる低重合体は、両
者の共重合体である。しかしながら、両者の他にスチレ
ン糸上ツマー単独重合体やオルト位置換スチレン系単独
重合体が含まれていてもよい。
ノマーの共存下にて、スチレン系モノマーを重合させる
ことを特徴とするものであり、得られる低重合体は、両
者の共重合体である。しかしながら、両者の他にスチレ
ン糸上ツマー単独重合体やオルト位置換スチレン系単独
重合体が含まれていてもよい。
また、上記構造単位(I)と(II)は、必ずしも一種
のみを示すものではなく、二種類以上の構造単位をも示
すことから、本発明の共重合体は、単独重合体を含む二
元共重合体のほか、三元共重合体、四元共重合体等の多
元共重合体をも包含する。
のみを示すものではなく、二種類以上の構造単位をも示
すことから、本発明の共重合体は、単独重合体を含む二
元共重合体のほか、三元共重合体、四元共重合体等の多
元共重合体をも包含する。
本発明のスチレン系共重合体は、以上の如き構造単位(
繰り返し単位)を有するものであって、かつ、その立体
規則性が、主としてシンジオタクチック構造、即ち炭素
−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェ
ニル基または置換フェニル基が交互に反対方向に位置す
る立体構造を有するものであり、そのタフティシティ−
は核磁気共鳴法(NMR法)により定量される。
繰り返し単位)を有するものであって、かつ、その立体
規則性が、主としてシンジオタクチック構造、即ち炭素
−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェ
ニル基または置換フェニル基が交互に反対方向に位置す
る立体構造を有するものであり、そのタフティシティ−
は核磁気共鳴法(NMR法)により定量される。
具体的にはl”C−NMR法(同位体炭素による核磁気
共鳴法スペクトル)による芳香環の01炭素シグナル3
メチン・メチレン炭素シグナルまたは、IH−NMRの
プロトンシグナルの解析による。NMRにより定量され
るタフティシティ−は、連続する複数個の構成単位の存
在割合(すなわち、連続する構成単位の相対的立体配座
間係の存在割合)、例えば2個の場合はダイアツド、3
個の場合はトリアット、5個の場合はペンタッドによっ
て示すことができるが、本発明に言う主としてシンジオ
タクチック構造を有するとは、置換基の種類や各繰返し
単位の含有割合によってシンジオタクテイシテイ−の度
合いは若干変動するが、スチレン系繰返し単位の連鎖に
おいて、通常は、ラセミダイアツドで75%以上、好ま
しくは85%以上、若しくはラセミペンタンドで30%
以上、好ましくは50%以上のシンジオタクテイシテイ
−を有するものを示す。
共鳴法スペクトル)による芳香環の01炭素シグナル3
メチン・メチレン炭素シグナルまたは、IH−NMRの
プロトンシグナルの解析による。NMRにより定量され
るタフティシティ−は、連続する複数個の構成単位の存
在割合(すなわち、連続する構成単位の相対的立体配座
間係の存在割合)、例えば2個の場合はダイアツド、3
個の場合はトリアット、5個の場合はペンタッドによっ
て示すことができるが、本発明に言う主としてシンジオ
タクチック構造を有するとは、置換基の種類や各繰返し
単位の含有割合によってシンジオタクテイシテイ−の度
合いは若干変動するが、スチレン系繰返し単位の連鎖に
おいて、通常は、ラセミダイアツドで75%以上、好ま
しくは85%以上、若しくはラセミペンタンドで30%
以上、好ましくは50%以上のシンジオタクテイシテイ
−を有するものを示す。
本発明のスチレン系共重合体では、結合している構造単
位(1)相互間、構造単位(IN相互間のみならず構造
単位(1)と(If)の相互間がそれぞれシンジオタク
チック構造(共シンジオタクチック構造)となっている
。また、この共重合体は構造単位(1)、(n)のブロ
ック共重合、ランダム共重合あるいは交互共重合等の種
々の態様のものがある。
位(1)相互間、構造単位(IN相互間のみならず構造
単位(1)と(If)の相互間がそれぞれシンジオタク
チック構造(共シンジオタクチック構造)となっている
。また、この共重合体は構造単位(1)、(n)のブロ
ック共重合、ランダム共重合あるいは交互共重合等の種
々の態様のものがある。
なお、本発明にいう主としてシンジオタクチック構造の
スチレン系共重合体は、必ずしも単一の共重合体である
必要はない。シンジオタクテイシテイ−が上記範囲に存
する限り、アイソタクチックもしくはアタクチック構造
のスチレン系共重合体との混合物や重合鎖中に組み込ま
れたものであってもよい。
スチレン系共重合体は、必ずしも単一の共重合体である
必要はない。シンジオタクテイシテイ−が上記範囲に存
する限り、アイソタクチックもしくはアタクチック構造
のスチレン系共重合体との混合物や重合鎖中に組み込ま
れたものであってもよい。
また、本発明のスチレン系共重合体は分子量が異なるも
のの混合物であってもよく、重合度は、重量平均分子量
で言うと、1 、000以上10,000以下、好まし
くは1 、000以上7.000以下のものである。
のの混合物であってもよく、重合度は、重量平均分子量
で言うと、1 、000以上10,000以下、好まし
くは1 、000以上7.000以下のものである。
なお、分子量分布に特に制限はない。
上記の如き本発明の第1のスチレン系低分子量共重合体
は、樹脂用配合剤として用いることができる(本発明の
第2)。
は、樹脂用配合剤として用いることができる(本発明の
第2)。
ここで本発明の第1のスチレン系低分子量共重合体が配
合される樹脂の種類には特に制限はないが、特にシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系樹脂用の配合剤と
して有効である。
合される樹脂の種類には特に制限はないが、特にシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系樹脂用の配合剤と
して有効である。
この場合、本発明の第1のスチレン系低分子量共重合体
は、核剤として働き、結晶化速度を大きくするとともに
、結晶化温度を上げる役割を果たす。したがって、射出
成形や低温金型成形などにおいて、高温で成形でき、成
形速度を速めることが可能であり、また金型冷却温度を
高められ、成形速度を速めることに一層寄与する。
は、核剤として働き、結晶化速度を大きくするとともに
、結晶化温度を上げる役割を果たす。したがって、射出
成形や低温金型成形などにおいて、高温で成形でき、成
形速度を速めることが可能であり、また金型冷却温度を
高められ、成形速度を速めることに一層寄与する。
上記の如き本発明の第1のスチレン系低分子量共重合体
は、例えば以下に示す本発明の第3の方法により効率的
に製造することができる。
は、例えば以下に示す本発明の第3の方法により効率的
に製造することができる。
すなわち、本発明の第3は、触媒成分として、(A)遷
移金属成分および(B)有機アルミニウム化合物と縮合
剤との接触生成物を用い、前記−最大(IIr)で表わ
されるスチレン系モノマーおよび前記−最大(IV)で
表わされるオルト置換スチレン系モノマーを共重合させ
ることを特徴とするものである。
移金属成分および(B)有機アルミニウム化合物と縮合
剤との接触生成物を用い、前記−最大(IIr)で表わ
されるスチレン系モノマーおよび前記−最大(IV)で
表わされるオルト置換スチレン系モノマーを共重合させ
ることを特徴とするものである。
換言すれば、前記−最大[I[)で表わされる少なくと
も一種のスチレン系モノマーと、前記−最大(IV)で
表わされるオルト置換スチレン系モノマーの二種類ある
いはそれ以上のスチレン系モノマーを原料として、これ
らを(八)遷移金属成分および(B)有機アルミニウム
化合物と縮合剤との接触生成物よりなる触媒の存在下に
、共重合させるわけである。
も一種のスチレン系モノマーと、前記−最大(IV)で
表わされるオルト置換スチレン系モノマーの二種類ある
いはそれ以上のスチレン系モノマーを原料として、これ
らを(八)遷移金属成分および(B)有機アルミニウム
化合物と縮合剤との接触生成物よりなる触媒の存在下に
、共重合させるわけである。
ここで触媒の(A)成分である遷移金属化合物としては
様々なものがあるが、好ましくは一般式 %式%() () ( (式中、R5−R16は、それぞれ水素原子、)10ゲ
ン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20
のアルコキシ基、炭素数6〜20(7)?’J−ル基、
炭素数6〜20のアリールアルキル基。
様々なものがあるが、好ましくは一般式 %式%() () ( (式中、R5−R16は、それぞれ水素原子、)10ゲ
ン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20
のアルコキシ基、炭素数6〜20(7)?’J−ル基、
炭素数6〜20のアリールアルキル基。
炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜20の
アシルオキシ基、アセチルアセトニル基。
アシルオキシ基、アセチルアセトニル基。
シクロペンタジェニル基、置換シクロペンタジェニル基
或いはインデニル基を示す。また、a + b + C
は、それぞれO≦a+b+c≦4を満たす0以上の整数
を示し、d、eは、それぞれ0≦d十e≦3を満たす0
以上の整数を示し、fは0≦f≦2を満たす0以上の整
数を示し、g、hは、それぞれ0≦g+h≦3を満たす
0以上の整数を示す。さらに、M’+M”はチタン、ジ
ルコニウム、ハフニウムあるいはバナジウムを示し、M
3.M’はバナジウムを示す。〕 で表わされる遷移金属化合物から選ばれた少なくとも1
種の化合物である。これらの遷移金属化合物の中でも、
前記−最大(V)中のM’が、チタンあるいはジルコニ
ウムであるものを用いるのが好ましい。
或いはインデニル基を示す。また、a + b + C
は、それぞれO≦a+b+c≦4を満たす0以上の整数
を示し、d、eは、それぞれ0≦d十e≦3を満たす0
以上の整数を示し、fは0≦f≦2を満たす0以上の整
数を示し、g、hは、それぞれ0≦g+h≦3を満たす
0以上の整数を示す。さらに、M’+M”はチタン、ジ
ルコニウム、ハフニウムあるいはバナジウムを示し、M
3.M’はバナジウムを示す。〕 で表わされる遷移金属化合物から選ばれた少なくとも1
種の化合物である。これらの遷移金属化合物の中でも、
前記−最大(V)中のM’が、チタンあるいはジルコニ
ウムであるものを用いるのが好ましい。
ここで、前記式中のR5〜R1’で示されるもののうち
、ハロゲン原子として具体的には塩素、臭素、沃素ある
いは弗素がある。また、置換シクロペンタジェニル基は
、例えば炭素数1〜6のアルキル基で1個以上置換され
たシクロペンタジェニル基、具体的には、メチルシクロ
ペンタジェニルLl、2−ジメチルシクロペンタジェニ
ル基。
、ハロゲン原子として具体的には塩素、臭素、沃素ある
いは弗素がある。また、置換シクロペンタジェニル基は
、例えば炭素数1〜6のアルキル基で1個以上置換され
たシクロペンタジェニル基、具体的には、メチルシクロ
ペンタジェニルLl、2−ジメチルシクロペンタジェニ
ル基。
ペンタメチルシクロペンタジェニル基等である。
また、前記式中のR5−R16はそれぞれ独立に水素原
子、炭素数1〜2oのアルキル基(具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、アミル基、イソアミル基。
子、炭素数1〜2oのアルキル基(具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、アミル基、イソアミル基。
オクチル基、2−エチルヘキシル基、炭素数1〜20の
アルコキシ基(具体的には、メトキシ基。
アルコキシ基(具体的には、メトキシ基。
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、アミルオキシ
基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基。
基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基。
2−エチルへキシルオキシ基等)、炭素数6〜20のア
リール基(具体的には、フェニル基、ナフチル基等)、
炭素数6〜20のアリールアルキル基(具体的には、ベ
ンジル基、フェネチル基、9−アントリルメチル基等)
、炭素数1〜20のアシルオキシ基(具体的には、アセ
チルオキシ基、ステアロイルオキシ基等)であってもよ
い。これらR5,、R1&は上記条件を具備する限り、
同一のものであっても、異なるものであってもよい。
リール基(具体的には、フェニル基、ナフチル基等)、
炭素数6〜20のアリールアルキル基(具体的には、ベ
ンジル基、フェネチル基、9−アントリルメチル基等)
、炭素数1〜20のアシルオキシ基(具体的には、アセ
チルオキシ基、ステアロイルオキシ基等)であってもよ
い。これらR5,、R1&は上記条件を具備する限り、
同一のものであっても、異なるものであってもよい。
このような前記−最大(V)、 (Vl)、 (■
〕または〔■〕で表される遷移金属化合物のうちチタン
化合物の具体例としては、テトラメトキシチタン、テト
ラエトキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テト
ライソプロポキシチタン、シクロペンタジェニルトリメ
チルチタン、シクロペンタジェニルトリエチルチタン、
シクロペンタジェニルトリプロピルチタン、シクロペン
タジェニルトリブチルチタン、メチルシクロペンタジェ
ニルトリメチルチタン、l、2−ジメチルシクロペンタ
ジェニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、シクロペンタジェニルメチ
ルチタンジクロリド、シクロペンタジェニルエチルチタ
ンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジェニルメチ
ルチタンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジェニ
ルエチルチタンジクロリド、シクロペンタジェニルジメ
チルチタンモノクロリド、シクロペンタジェニルジエチ
ルチタンモノクロリド、シクロペンタジェニルチタント
リメトキシド、シクロペンタジェニルチタントリエトキ
シド、シクロペンタジェニルチタントリエトキシド、シ
クロペンタジェニルチタントリフェノキシド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルチタントリメトキシド、ペン
タメチルシクロペンタジェニルチタントリエトキシド、
ペンタメチルシクロペンタジェニルチタントリプロポキ
シド、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタントリブ
トキシド、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタント
リフェノキシド、シクロペンタジェニルチタントリクロ
リド。
〕または〔■〕で表される遷移金属化合物のうちチタン
化合物の具体例としては、テトラメトキシチタン、テト
ラエトキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テト
ライソプロポキシチタン、シクロペンタジェニルトリメ
チルチタン、シクロペンタジェニルトリエチルチタン、
シクロペンタジェニルトリプロピルチタン、シクロペン
タジェニルトリブチルチタン、メチルシクロペンタジェ
ニルトリメチルチタン、l、2−ジメチルシクロペンタ
ジェニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリメチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、ペンタメチルシクロペンタ
ジェニルトリエチルチタン、シクロペンタジェニルメチ
ルチタンジクロリド、シクロペンタジェニルエチルチタ
ンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジェニルメチ
ルチタンジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジェニ
ルエチルチタンジクロリド、シクロペンタジェニルジメ
チルチタンモノクロリド、シクロペンタジェニルジエチ
ルチタンモノクロリド、シクロペンタジェニルチタント
リメトキシド、シクロペンタジェニルチタントリエトキ
シド、シクロペンタジェニルチタントリエトキシド、シ
クロペンタジェニルチタントリフェノキシド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルチタントリメトキシド、ペン
タメチルシクロペンタジェニルチタントリエトキシド、
ペンタメチルシクロペンタジェニルチタントリプロポキ
シド、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタントリブ
トキシド、ペンタメチルシクロペンタジェニルチタント
リフェノキシド、シクロペンタジェニルチタントリクロ
リド。
ペンタメチルシクロペンタジェニルチタントリクロリド
、シクロペンタジェニルメトキシチタンクロリド、シク
ロペンタジェニルジメトキシチタンクロリド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルメトキシチタンジクロリド、
シクロペンタジェニルトリベンジルチタン、ペンタメチ
ルシクロペンタジェニルメチルジェトキシチタン、イン
デニルチタントリクロリド、インデニルチタントリメト
キシド2 インデニルチタントリエトキシド、インデニ
ルトリメチルチタン、インデニルトリベンジルチタン等
が挙げられる。
、シクロペンタジェニルメトキシチタンクロリド、シク
ロペンタジェニルジメトキシチタンクロリド、ペンタメ
チルシクロペンタジェニルメトキシチタンジクロリド、
シクロペンタジェニルトリベンジルチタン、ペンタメチ
ルシクロペンタジェニルメチルジェトキシチタン、イン
デニルチタントリクロリド、インデニルチタントリメト
キシド2 インデニルチタントリエトキシド、インデニ
ルトリメチルチタン、インデニルトリベンジルチタン等
が挙げられる。
これらのチタン化合物のうち、ハロゲン原子を含まない
化合物が好適であり、特に、上述した如き少なくとも1
配位子が不飽和なπ電子系配位子であるような4配位型
のチタン化合物が好ましい。
化合物が好適であり、特に、上述した如き少なくとも1
配位子が不飽和なπ電子系配位子であるような4配位型
のチタン化合物が好ましい。
また、前記−最大(V)、 (Vl)、 (■〕ま
たは〔■〕で表される遷移金属化合物のうちジルコニウ
ム化合物の具体例としては、シクロペンタジェニルジル
コニウムトリメトキシド、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルジルコニウムトリメトキシド、シクロペンタジェ
ニルトリベンジルジルコニウム、ペンタメチルシクロペ
ンタジェニルトリベンジルジルコニウム、ビスインデニ
ルジルコニウムジクロリド、ジルコニウムジベンジルジ
クロリド、ジルコニウムテトラベンジル、トリブトキシ
ジルコニウムクロリド、トリイソプロポキシジルコニウ
ムクロリドなどが挙げられる。
たは〔■〕で表される遷移金属化合物のうちジルコニウ
ム化合物の具体例としては、シクロペンタジェニルジル
コニウムトリメトキシド、ペンタメチルシクロペンタジ
ェニルジルコニウムトリメトキシド、シクロペンタジェ
ニルトリベンジルジルコニウム、ペンタメチルシクロペ
ンタジェニルトリベンジルジルコニウム、ビスインデニ
ルジルコニウムジクロリド、ジルコニウムジベンジルジ
クロリド、ジルコニウムテトラベンジル、トリブトキシ
ジルコニウムクロリド、トリイソプロポキシジルコニウ
ムクロリドなどが挙げられる。
さらに、同様にハフニウム化合物の具体例としては、シ
クロペンタジェニルハフニウムトリメトキシド、ペンタ
メチルシクロペンタジェニルハフニウムトリメトキシド
、シクロペンタジェニルトリベンジルハフニウム、ペン
タメチルシクロペンタジェニルトリベンジルハフニウム
、ビスインデニルハフニウムジクロリド、ハフニウムジ
ベンジルクロリド、ハフニウムテトラベンジル、トリブ
トキシハフニウムクロリド、トリイソブロボキシハフニ
ウムクロリドなどが挙げられる。
クロペンタジェニルハフニウムトリメトキシド、ペンタ
メチルシクロペンタジェニルハフニウムトリメトキシド
、シクロペンタジェニルトリベンジルハフニウム、ペン
タメチルシクロペンタジェニルトリベンジルハフニウム
、ビスインデニルハフニウムジクロリド、ハフニウムジ
ベンジルクロリド、ハフニウムテトラベンジル、トリブ
トキシハフニウムクロリド、トリイソブロボキシハフニ
ウムクロリドなどが挙げられる。
また、同様にバナジウム化合物の具体例としては、バナ
ジウムトリクロリド、バナジルトリクロリド、バナジウ
ムトリアセチルアセトナート、バナジウムテトラクロリ
ド、バナジルトリブトキシド、バナジルジクロリド、バ
ナジルビスアセチルアセトネート、バナジルトリアセチ
ルアセトネートなどが挙げられる。
ジウムトリクロリド、バナジルトリクロリド、バナジウ
ムトリアセチルアセトナート、バナジウムテトラクロリ
ド、バナジルトリブトキシド、バナジルジクロリド、バ
ナジルビスアセチルアセトネート、バナジルトリアセチ
ルアセトネートなどが挙げられる。
一方、本発明の第3の方法で用いる触媒の他の成分であ
る(B)有機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成
物は、例えば特開昭62−187708号公報に記載さ
れたものと同種のものであるが、詳しくは下記の通りで
ある。
る(B)有機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成
物は、例えば特開昭62−187708号公報に記載さ
れたものと同種のものであるが、詳しくは下記の通りで
ある。
即ち、この接触生成物は、各種の有機アルミニウム化合
物と縮合剤とを接触させて得られるものである。
物と縮合剤とを接触させて得られるものである。
ここで有機アルミニウム化合物としては、通常−最大
%式%
〔式中、R1?は炭素数1〜8のアルキル基を示す。〕
で表わされる有機アルミニウム化合物、具体的にはトリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウムが
挙げられ、中でもトリメチルアルミニウムが好ましい、
なお、縮合剤については、典型的には水が挙げられるが
、そのほか上記トリアルキルアルミニウムが縮合反応す
るもの、例えば硫酸銅5水塩、無機物や有機物への吸着
水など各種のものが挙げられる。
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウムが
挙げられ、中でもトリメチルアルミニウムが好ましい、
なお、縮合剤については、典型的には水が挙げられるが
、そのほか上記トリアルキルアルミニウムが縮合反応す
るもの、例えば硫酸銅5水塩、無機物や有機物への吸着
水など各種のものが挙げられる。
本発明の第3において用いる触媒の(B)成分である有
機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物の代表例
としては、前記−最大Aj!R”sで表わされるトリア
ルキルアルミニウムと水との接触生成物があるが、具体
的には 一般式 〔式中、pは重合度を示し、0〜50であり、R′7は
炭素数1〜8のアルキル基を示す、〕で表わされる鎖状
アルキルアミノキサンあるいは一般式 %式% 〔式中、R1?は前記と同じである。〕で表わされる繰
り返し単位を有する環状アルキルアルミノキサン(繰返
し単位数2〜50)等がある。
機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物の代表例
としては、前記−最大Aj!R”sで表わされるトリア
ルキルアルミニウムと水との接触生成物があるが、具体
的には 一般式 〔式中、pは重合度を示し、0〜50であり、R′7は
炭素数1〜8のアルキル基を示す、〕で表わされる鎖状
アルキルアミノキサンあるいは一般式 %式% 〔式中、R1?は前記と同じである。〕で表わされる繰
り返し単位を有する環状アルキルアルミノキサン(繰返
し単位数2〜50)等がある。
−Jlに、トリアルキルアルミニウム等のアルキルアル
ミニウムと水との接触生成物は、上述の鎖状アルキルア
ルミノキサンや環状アルキルアルミノキサンとともに、
未反応のトリアルキルアルミニウム、各種の縮合生成物
の混合物、さらにはこれらが複雑に会合した分子であり
、これらはトリアルキルアルミニウムと縮合剤である水
との接触条件によって様々な生成物となる。
ミニウムと水との接触生成物は、上述の鎖状アルキルア
ルミノキサンや環状アルキルアルミノキサンとともに、
未反応のトリアルキルアルミニウム、各種の縮合生成物
の混合物、さらにはこれらが複雑に会合した分子であり
、これらはトリアルキルアルミニウムと縮合剤である水
との接触条件によって様々な生成物となる。
この際のアルキルアルミニウムと縮合剤との反応は特に
限定はなく、公知の手法に準じて反応させればよい0例
えば、■有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解して
おき、これを水と接触させる方法、■重合時に当初有機
アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方
法、さらには■金属塩などに含有されている結晶水、無
機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反
応させるなどの方法がある。なお、この反応は無溶媒下
でも進行するが、溶媒中で行なうことが好ましく、好適
な溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の脂肪
族炭化水素あるいはベンゼン。
限定はなく、公知の手法に準じて反応させればよい0例
えば、■有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解して
おき、これを水と接触させる方法、■重合時に当初有機
アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方
法、さらには■金属塩などに含有されている結晶水、無
機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反
応させるなどの方法がある。なお、この反応は無溶媒下
でも進行するが、溶媒中で行なうことが好ましく、好適
な溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の脂肪
族炭化水素あるいはベンゼン。
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を挙げることが
できる。また、上記の水にはアンモニア。
できる。また、上記の水にはアンモニア。
エチルアミン等のアミン、硫化水素等の硫黄化合物、亜
燐酸エステル等の燐化合物などが20%程度まで含有さ
れていてもよい。
燐酸エステル等の燐化合物などが20%程度まで含有さ
れていてもよい。
本発明の第3において触媒の(B)成分として用いる有
機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物(例えば
、アルキルアルミノキサン)は、上記の接触反応の後、
含水化合物等を使用した場合には、固体残渣を濾別し、
濾液を常圧下あるいは減圧下で30〜200℃の温度、
好ましくは40〜150°Cの温度で20分〜8時間、
好ましくは30分〜5時間の範囲で溶媒を留去しつつ熱
処理することが好ましい。
機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物(例えば
、アルキルアルミノキサン)は、上記の接触反応の後、
含水化合物等を使用した場合には、固体残渣を濾別し、
濾液を常圧下あるいは減圧下で30〜200℃の温度、
好ましくは40〜150°Cの温度で20分〜8時間、
好ましくは30分〜5時間の範囲で溶媒を留去しつつ熱
処理することが好ましい。
この熱処理にあたっては、温度は各種の状況によって適
宜定めればよいが、通常は上記範囲で行なう。一般に、
30″C未満の温度では、効果が発現せず、また200
°Cを超えると、アルキルアルミノキサン自体の熱分解
が起こり、いずれも好ましくない。
宜定めればよいが、通常は上記範囲で行なう。一般に、
30″C未満の温度では、効果が発現せず、また200
°Cを超えると、アルキルアルミノキサン自体の熱分解
が起こり、いずれも好ましくない。
熱処理の処理条件により反応生成物は、無色の固体又は
溶液状態で得られる。このようにして得られた生成物を
、必要に応じて炭化水素溶媒で溶解あるいは希釈して触
媒溶液として使用することができる。
溶液状態で得られる。このようにして得られた生成物を
、必要に応じて炭化水素溶媒で溶解あるいは希釈して触
媒溶液として使用することができる。
このような触媒の(B)成分として用いる有機アルミニ
ウム化合物と縮合剤との接触生成物、特にアルキルアル
ミノキサンの好適な例は、プロトン核磁気共鳴吸収法で
観測されるアルミニウムーメチル基(A1−CH3)結
合に基(メチルプロトンシグナル領域における高磁場成
分が50%以下のものである。つまり、上記の接触生成
物を、室温下、トルエン溶媒中でそのプロトン核磁気共
鳴(l H−N M R)スペクトルを観測すると、A
ffi−CH,に基くメチルプロトンシグナルは、テト
ラメチルシラン(TMS)基準において1.0〜−0.
5ppmの範囲に見られる。TMSのプロトンシグナル
(Oppm)がAffi−CH,に基くメチルプロトン
観測領域にあるため、この/1−CH,に基くメチルプ
ロトンシグナルを、7MS基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.35 ppmヲ基準にして測定
し、高磁場成分(即ち、−0,1〜−0,5ppm)と
他の磁場成分(即ち、1.0〜−0.lppm>とに分
けたときに、政商磁場成分が、全体の50%以下、好ま
しくは45〜5%のものが触媒の(B)成分として好適
に使用できる。
ウム化合物と縮合剤との接触生成物、特にアルキルアル
ミノキサンの好適な例は、プロトン核磁気共鳴吸収法で
観測されるアルミニウムーメチル基(A1−CH3)結
合に基(メチルプロトンシグナル領域における高磁場成
分が50%以下のものである。つまり、上記の接触生成
物を、室温下、トルエン溶媒中でそのプロトン核磁気共
鳴(l H−N M R)スペクトルを観測すると、A
ffi−CH,に基くメチルプロトンシグナルは、テト
ラメチルシラン(TMS)基準において1.0〜−0.
5ppmの範囲に見られる。TMSのプロトンシグナル
(Oppm)がAffi−CH,に基くメチルプロトン
観測領域にあるため、この/1−CH,に基くメチルプ
ロトンシグナルを、7MS基準におけるトルエンのメチ
ルプロトンシグナル2.35 ppmヲ基準にして測定
し、高磁場成分(即ち、−0,1〜−0,5ppm)と
他の磁場成分(即ち、1.0〜−0.lppm>とに分
けたときに、政商磁場成分が、全体の50%以下、好ま
しくは45〜5%のものが触媒の(B)成分として好適
に使用できる。
本発明の方法に用いる触媒は、前記(A) 、 (B)
成分を主成分とするものであり、前記の他にさらに所望
により他の触媒成分、例えば−最大%式% 〔式中、R18は炭素数1〜8のアルキル基を示す。] で表されるトリアルキルアルミニウムや他の有機金属化
合物などを加えることもできる。
成分を主成分とするものであり、前記の他にさらに所望
により他の触媒成分、例えば−最大%式% 〔式中、R18は炭素数1〜8のアルキル基を示す。] で表されるトリアルキルアルミニウムや他の有機金属化
合物などを加えることもできる。
本発明の第3では、上記のようにして得られた触媒を用
いて、スチレン系モノマーおよびオルト置換スチレン系
モノマーを共重合するが、重合方法は塊状重合、溶液重
合、懸濁重合等いずれの方法を用いてもよい。そしてこ
れらの場合、溶削としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式
炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素が用いられる。これらの中でも芳香族炭化水素
が好ましく、とりわけトルエン、キシレンが好ましい。
いて、スチレン系モノマーおよびオルト置換スチレン系
モノマーを共重合するが、重合方法は塊状重合、溶液重
合、懸濁重合等いずれの方法を用いてもよい。そしてこ
れらの場合、溶削としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式
炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素が用いられる。これらの中でも芳香族炭化水素
が好ましく、とりわけトルエン、キシレンが好ましい。
この場合において、モノマー/溶媒比は任意に選択する
ことができる。
ことができる。
また、重合条件としては特に制限はないが、−船釣には
、重合温度は0〜120°C1好ましくは10〜70°
Cであり、また重合時間は5分〜24時間、好ましくは
1時間以上である。
、重合温度は0〜120°C1好ましくは10〜70°
Cであり、また重合時間は5分〜24時間、好ましくは
1時間以上である。
さらに、得られるスチレン系共重合体の分子量を調節す
るには、水素の存在下で行なうことが効果的である。
るには、水素の存在下で行なうことが効果的である。
さらに、この触媒を使用するにあたって、触媒中の(A
)成分と(B)成分との割合は、各成分の種類や、原料
であるスチレン系モノマーおよびオルト置換スチレン系
モノマーの種類その他の条件により異なり、一義的に定
めることは困難であるが、通常は、触媒成分(B)中の
アルミニウムと、(A)遷移金属成分中の遷移金属との
比、すなわち、アルミニウム/遷移金属(モル比)とし
て、171〜106/1 (モル比)、好ましくは10
71〜10’/1 (モル比)である。また、モノマー
と触媒成分(B)中のアルミニウムとの比、すなわちモ
ノマー/アルミニウム(モル比)として、10’/1〜
1/1(モル比)、好ましくは、1071〜10’/1
(モル比)である。
)成分と(B)成分との割合は、各成分の種類や、原料
であるスチレン系モノマーおよびオルト置換スチレン系
モノマーの種類その他の条件により異なり、一義的に定
めることは困難であるが、通常は、触媒成分(B)中の
アルミニウムと、(A)遷移金属成分中の遷移金属との
比、すなわち、アルミニウム/遷移金属(モル比)とし
て、171〜106/1 (モル比)、好ましくは10
71〜10’/1 (モル比)である。また、モノマー
と触媒成分(B)中のアルミニウムとの比、すなわちモ
ノマー/アルミニウム(モル比)として、10’/1〜
1/1(モル比)、好ましくは、1071〜10’/1
(モル比)である。
なお、原料の仕込比は特に制限はなく目的物の組成に応
じて定めることができる。さらに、原料と触媒成分の仕
込みの順序は特に制限はなく、任意の順序で行なうこと
ができる。
じて定めることができる。さらに、原料と触媒成分の仕
込みの順序は特に制限はなく、任意の順序で行なうこと
ができる。
叙上の如くして、本発明の第1のスチレン系共重合体を
製造することができる。
製造することができる。
この共重合体は、前記の如く重量平均分子量が1 、0
00〜10.000という低分子量のものである。ここ
で重量平均分子量が上記範囲外のものであると、核剤な
どの配合剤として用いた場合に効果が低下してしまう。
00〜10.000という低分子量のものである。ここ
で重量平均分子量が上記範囲外のものであると、核剤な
どの配合剤として用いた場合に効果が低下してしまう。
また、この共重合体は、前記の如くシンジオタクテイシ
テイ−の高いものであるが、重合後、必要に応じて塩酸
等を含む洗浄液で脱灰処理し、さらに洗浄、減圧乾燥を
経て、極めてシンジオタクテイシテイの大きい高純度の
スチレン系共重合体を入手することができる。
テイ−の高いものであるが、重合後、必要に応じて塩酸
等を含む洗浄液で脱灰処理し、さらに洗浄、減圧乾燥を
経て、極めてシンジオタクテイシテイの大きい高純度の
スチレン系共重合体を入手することができる。
次に本発明を実施例により詳しく説明する。
実施例1
(1)メチルアルミノキサンの調製
アルゴン置換した内容積500−のガラス製容器にトル
エン200++4!、硫酸!1iiJ5水塩(Cu S
Oa ・5 H,0) 17.7 g (71ミリ
モル)及びトリメチルアルミニウム24d(250ミリ
モル)を入れ、40°Cで8時間反応させた。その後、
固体成分を除去し、得られた溶液からさらにトルエンを
減圧留去して接触生成物6.7gを得た。このものの凝
固点降下法により測定した分子量は610であった。
エン200++4!、硫酸!1iiJ5水塩(Cu S
Oa ・5 H,0) 17.7 g (71ミリ
モル)及びトリメチルアルミニウム24d(250ミリ
モル)を入れ、40°Cで8時間反応させた。その後、
固体成分を除去し、得られた溶液からさらにトルエンを
減圧留去して接触生成物6.7gを得た。このものの凝
固点降下法により測定した分子量は610であった。
また、’H−NMR測定による高磁場成分、すなわち、
室温下、トルエン溶媒中でそのプロトン核磁気共鳴スペ
クトルを観測すると、(Affi−CH,)結合に基づ
くメチルプロトンシグナルは、テトラメチルシラン基準
において1.0〜−0.5 ppmの範囲に見られる。
室温下、トルエン溶媒中でそのプロトン核磁気共鳴スペ
クトルを観測すると、(Affi−CH,)結合に基づ
くメチルプロトンシグナルは、テトラメチルシラン基準
において1.0〜−0.5 ppmの範囲に見られる。
テトラメチルシランのプロトンシグナルは(Oppn+
)がAl−CH,結合に基づくメチルプロトンに基づく
観測領域にあるため、このAA−CHi結合に基づくメ
チルプロトンシグナルをテトラメチルシラン基準におけ
るトルエンのメチルプロトンシグナル2.35ppmを
基準にして測定し、高磁場成分(すなわち、−〇、1〜
−〇、5ppりと他の磁場成分(すなわち、1.0〜−
0.1 ppm)とに分けたときに、液高磁場成分が全
体の43%であった。
)がAl−CH,結合に基づくメチルプロトンに基づく
観測領域にあるため、このAA−CHi結合に基づくメ
チルプロトンシグナルをテトラメチルシラン基準におけ
るトルエンのメチルプロトンシグナル2.35ppmを
基準にして測定し、高磁場成分(すなわち、−〇、1〜
−〇、5ppりと他の磁場成分(すなわち、1.0〜−
0.1 ppm)とに分けたときに、液高磁場成分が全
体の43%であった。
(2)共シンジオタクチック構造を有するスチレン・0
−メチルスチレン共重合体の製造アルゴン雰囲気下にお
いて、乾燥した反応容器に、室温下、スチレン0.4
d (3,5Xl0−3綱O1)。
−メチルスチレン共重合体の製造アルゴン雰囲気下にお
いて、乾燥した反応容器に、室温下、スチレン0.4
d (3,5Xl0−3綱O1)。
0−メチルスチレン1.8 ytl (1,4Xl0−
”Mo1) (モノマー仕込み比:0−メチルスチレン
/スチレン=8/2)、TIBA C)リイソブチルア
ルミニウム) 8 Xl0−’mol(2mol#2−
)ルエン溶液)および触媒成分(B)として上記(1
)で得られたメチルアルミノキサン8 X 10−’m
ol (2,6mol/ 41!−トルエン溶液)を順
次加え、70°Cに加熱した。70°Cに30分保持し
た後、この反応溶液に、触媒成分(A)として、1.2
,3.4.5−ペンタメチルシクロペンタジェニルチタ
ニウムトリメトキシド4X10−”mol (0,01
mol/ I!−トルエン溶液)を加え、4時間反応を
行なった。
”Mo1) (モノマー仕込み比:0−メチルスチレン
/スチレン=8/2)、TIBA C)リイソブチルア
ルミニウム) 8 Xl0−’mol(2mol#2−
)ルエン溶液)および触媒成分(B)として上記(1
)で得られたメチルアルミノキサン8 X 10−’m
ol (2,6mol/ 41!−トルエン溶液)を順
次加え、70°Cに加熱した。70°Cに30分保持し
た後、この反応溶液に、触媒成分(A)として、1.2
,3.4.5−ペンタメチルシクロペンタジェニルチタ
ニウムトリメトキシド4X10−”mol (0,01
mol/ I!−トルエン溶液)を加え、4時間反応を
行なった。
その後、メタノール−塩酸混合液に反応生成物を注ぎ、
反応を停止、脱灰し、濾過し、さらにメタノールで3回
洗浄した。これを減圧下で乾燥させることにより、収量
40■のスチレン・O−メチルスチレン共重合体を得た
。
反応を停止、脱灰し、濾過し、さらにメタノールで3回
洗浄した。これを減圧下で乾燥させることにより、収量
40■のスチレン・O−メチルスチレン共重合体を得た
。
この共重合体の分子量を、ゲルパーミエーシゴンクロマ
トグラフィーCGPC)により測定したところ、重量平
均分子量(Mw)は、ポリスチレン(ps)換算で10
,000であり、数平均分子量(Mn)はPS換算で2
,300であった。
トグラフィーCGPC)により測定したところ、重量平
均分子量(Mw)は、ポリスチレン(ps)換算で10
,000であり、数平均分子量(Mn)はPS換算で2
,300であった。
なお、GPC測定条件は以下の通りであった。
・装置:ウォーターズ ALC/GPC150″C・カ
ラム:TSにHM+GMH6X2 ・流量: 1.Od/min。
ラム:TSにHM+GMH6X2 ・流量: 1.Od/min。
・温度:135°C
・溶媒: TCB
・流入量:400μl
また、示差走査熱量測定(DSC)により求めたこの共
重合体のガラス転移点(Tg)は、89.8℃であり、
融点(Tm )は存在しなかった。これらの結果を第1
表に示す。
重合体のガラス転移点(Tg)は、89.8℃であり、
融点(Tm )は存在しなかった。これらの結果を第1
表に示す。
実施例2〜6
0−メチルスチレン/スチレンのモノマー仕込み比を、
それぞれ515.4/6.3/7.2/8.1/9(合
計モノマー量1.75X10−”mol)としたこと以
外は、実施例1と同様に行なった。結果を第1表に示す
。
それぞれ515.4/6.3/7.2/8.1/9(合
計モノマー量1.75X10−”mol)としたこと以
外は、実施例1と同様に行なった。結果を第1表に示す
。
比較例1
0−メチルスチレン/スチレンのモノマー仕込み比を0
/10(スチレン2.0 m<1.75 Xl0−”m
ol))としたこと以外は、実施例1と同様に行なった
。
/10(スチレン2.0 m<1.75 Xl0−”m
ol))としたこと以外は、実施例1と同様に行なった
。
結果を第1表に示す。
丑への′告の石i沁
(1) シンジオタクチック構造の確認衣に実施例1
〜6で得られた重合体が、主としてシンジオタクチック
構造を有することを、以下の方法により確認した。
〜6で得られた重合体が、主としてシンジオタクチック
構造を有することを、以下の方法により確認した。
まず、第1図〜第5図に、それぞれ実施例2〜6で得ら
れたスチレン系共重合体の13cmNMR(100MH
z、溶媒:1+2+4− )リクロロベンゼン/重ベン
ゼン=8/2 (モル比))におけるベンゼン環C1炭
素以外の吸収スペクトルを示す。
れたスチレン系共重合体の13cmNMR(100MH
z、溶媒:1+2+4− )リクロロベンゼン/重ベン
ゼン=8/2 (モル比))におけるベンゼン環C1炭
素以外の吸収スペクトルを示す。
シンジオタクチック構造のポリスチレンが、このCI炭
素のピークから示唆されることは、既に報告されており
(例えば、特開昭61−101926号公報など)、こ
の第1図〜第5図は、明らかに主鎖がシンジオタクチッ
ク構造になっていることを示している。
素のピークから示唆されることは、既に報告されており
(例えば、特開昭61−101926号公報など)、こ
の第1図〜第5図は、明らかに主鎖がシンジオタクチッ
ク構造になっていることを示している。
(2)共重合体の確認
第6図は、実施例6で得られた重合体のI3cmN M
R(100M!lz、溶媒:1+2+4− )リクロ
ロベンゼン/重ベンゼン−8/2(モル比)、温度13
0°C)測定結果を示すものであるが、この第6図中に
、メチン、メチレン、メチル部を示す。それぞれのピー
クの帰属は、Macromolecules、 198
7.20.2035(Zan+belli、A、et
al)を参考に行なった。
R(100M!lz、溶媒:1+2+4− )リクロ
ロベンゼン/重ベンゼン−8/2(モル比)、温度13
0°C)測定結果を示すものであるが、この第6図中に
、メチン、メチレン、メチル部を示す。それぞれのピー
クの帰属は、Macromolecules、 198
7.20.2035(Zan+belli、A、et
al)を参考に行なった。
その結果、30.8pps+、 33.5ppm、 3
7.9ppm、 38.7ppmに、それぞれ新しいメ
チレン由来のピークが観測された。
7.9ppm、 38.7ppmに、それぞれ新しいメ
チレン由来のピークが観測された。
これらについては、下記に示す構造の波線部のメチレン
炭素に帰属できる。
炭素に帰属できる。
また、35.7ppm、 18.3ppm付近に、オル
トメチルスチレンに基づくメチン(主鎖)、メチル(オ
ルト位)ピークが観測された。
トメチルスチレンに基づくメチン(主鎖)、メチル(オ
ルト位)ピークが観測された。
これらの結果より、得られた重合体がスチレン・O−メ
チルスチレン共重合体であることが確認された。
チルスチレン共重合体であることが確認された。
実施例7
特開平1−146912号公報に記載された方法で得ら
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:98、O
OO,Mn :43,000) 80重量%および実施
例6で得られたシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン・0−メチルスチレン共重合体20重量%からなる混
合物について、示差走査熱量測定〔測定条件二の300
°Cで5分間保持、■7°C/分の降温速度で30°C
まで降温(ファーストクーリング)。
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:98、O
OO,Mn :43,000) 80重量%および実施
例6で得られたシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン・0−メチルスチレン共重合体20重量%からなる混
合物について、示差走査熱量測定〔測定条件二の300
°Cで5分間保持、■7°C/分の降温速度で30°C
まで降温(ファーストクーリング)。
■30’Cで5分間保持、020°Cの昇温速度で30
0℃まで昇温(セカンドヒーティング)〕を行なったと
ころ、ファーストクーリング時における結晶化温度(T
c)が238.2°Cであり、セカンドヒーティング時
におけるガラス転移点(Tg)が90.5°Cであり、
融点(Tm)が265.5°Cであった。
0℃まで昇温(セカンドヒーティング)〕を行なったと
ころ、ファーストクーリング時における結晶化温度(T
c)が238.2°Cであり、セカンドヒーティング時
におけるガラス転移点(Tg)が90.5°Cであり、
融点(Tm)が265.5°Cであった。
比較例2
特開平1−146912号公報に記載された方法で得ら
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:9B、0
00. M n : 43,000) 80重量%およ
びラジカル重合で合成したアククチンクボリスチレン(
Mw: 5.200. M n : 2.500 )
20重量%からなる混合物について、実施例7と同様に
して示差走査熱量測定を行なったところ、ファーストク
ーリング時における結晶化温度(T c )が230.
2 ’Cであり、セカンドヒーティング時におけるガラ
ス転移点(Tg)が86.3°Cであり、融点(Tm)
が263.0°Cであった。
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:9B、0
00. M n : 43,000) 80重量%およ
びラジカル重合で合成したアククチンクボリスチレン(
Mw: 5.200. M n : 2.500 )
20重量%からなる混合物について、実施例7と同様に
して示差走査熱量測定を行なったところ、ファーストク
ーリング時における結晶化温度(T c )が230.
2 ’Cであり、セカンドヒーティング時におけるガラ
ス転移点(Tg)が86.3°Cであり、融点(Tm)
が263.0°Cであった。
参考例1
特開平1−146912号公報に記載された方法で得ら
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:98.0
00. M n : 43,000) (実施例7お
よび比較例2で用いたもの)について、実施例7と同様
にして、示差走査熱量測定を行なったところ、ファース
トクーリング時における結晶化温度(Tc)が232.
4°Cであり、セカンドヒーティング時におけるガラス
転移点 (Tg)が96.5°Cであり、融点(Tm)
が266.8°Cであった。
れたシンジオタクチックポリスチレン(Mw:98.0
00. M n : 43,000) (実施例7お
よび比較例2で用いたもの)について、実施例7と同様
にして、示差走査熱量測定を行なったところ、ファース
トクーリング時における結晶化温度(Tc)が232.
4°Cであり、セカンドヒーティング時におけるガラス
転移点 (Tg)が96.5°Cであり、融点(Tm)
が266.8°Cであった。
以上の結果、実施例7で得られたものは、参考例1のも
のに比べて結晶化温度(Tc)が高くなっていることが
判る。すなわち、添加剤として用いたシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン・O−メチルスチレン共重合体
は、核剤として作用し、結晶化温度を上げ、また結晶化
速度を大きくする役割を果たしていることが判る。した
がって、金型冷却温度も高められ、この結果、射出成形
や低温金型成形等において、成形速度を速める得ること
が判る。
のに比べて結晶化温度(Tc)が高くなっていることが
判る。すなわち、添加剤として用いたシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン・O−メチルスチレン共重合体
は、核剤として作用し、結晶化温度を上げ、また結晶化
速度を大きくする役割を果たしていることが判る。した
がって、金型冷却温度も高められ、この結果、射出成形
や低温金型成形等において、成形速度を速める得ること
が判る。
本発明の第1のスチレン系共重合体は、主としてシンジ
オタクチック構造を有し、かつ、重量平均分子量1 、
000〜10 、000という低分子量のものである。
オタクチック構造を有し、かつ、重量平均分子量1 、
000〜10 、000という低分子量のものである。
この低分子量スチレン系共重合体は、各種樹脂に配合し
た場合に、核剤として作用し、結晶化温度を上げ、また
結晶化速度を大きくする役割を果たすことができる。し
たがって、より高温で成形でき、射出成形や低温金型成
形等において、成形速度を速めることができる。また、
この結果、金型冷却温度も高められ、これにより同様に
成形速度を速めることができるや したがって、本発明の第1のスチレン系共重合体は、そ
れ自体単独で機能性材料として用いることができるとと
もに、本発明の第2に示した如く、本発明の第1のスチ
レン系共重合体は、シンジオタクチック構造を有するポ
リスチレンを始めとする各種樹脂の配合剤として、ある
いは滑剤、塗料等への配合剤として有効に用いることが
できる。
た場合に、核剤として作用し、結晶化温度を上げ、また
結晶化速度を大きくする役割を果たすことができる。し
たがって、より高温で成形でき、射出成形や低温金型成
形等において、成形速度を速めることができる。また、
この結果、金型冷却温度も高められ、これにより同様に
成形速度を速めることができるや したがって、本発明の第1のスチレン系共重合体は、そ
れ自体単独で機能性材料として用いることができるとと
もに、本発明の第2に示した如く、本発明の第1のスチ
レン系共重合体は、シンジオタクチック構造を有するポ
リスチレンを始めとする各種樹脂の配合剤として、ある
いは滑剤、塗料等への配合剤として有効に用いることが
できる。
さらに、本発明の第3の製造方法を用いれば、上記共重
合体を極めて効率的に製造することができる。
合体を極めて効率的に製造することができる。
第1図は、実施例2で得られた共重合体の13C−NM
R測定結果である。 第2図は、実施例3で得られた共重合体の13C−NM
R測定結果である。 第3図は、実施例4で得られた共重合体の13cmNM
R測定結果である。 第4図は、実施例5で得られた共重合体の13c−NM
R測定結果である。 第5図は、実施例6で得られた共重合体の130−NM
R測定結果である。 第6図は、実施例6で得られた共重合体の13cmNM
R測定結果(低ppm範囲)である。なお、図中、各ピ
ークは、波線部の炭素原子に帰属できる。 第 1 図 第 図 4B 46 44 42 48 46 44
R測定結果である。 第2図は、実施例3で得られた共重合体の13C−NM
R測定結果である。 第3図は、実施例4で得られた共重合体の13cmNM
R測定結果である。 第4図は、実施例5で得られた共重合体の13c−NM
R測定結果である。 第5図は、実施例6で得られた共重合体の130−NM
R測定結果である。 第6図は、実施例6で得られた共重合体の13cmNM
R測定結果(低ppm範囲)である。なお、図中、各ピ
ークは、波線部の炭素原子に帰属できる。 第 1 図 第 図 4B 46 44 42 48 46 44
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔式中、R^1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレ
ン原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を
含む置換基を示し、mは1〜5の整数を示す。但し、m
が複数のときは、各R^1は同一でも異なるものであっ
てもよい。〕 で表わされる構造単位〔 I 〕および 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 〔式中、R^2、R^3、R^4は、それぞれ水素原子
あるいは炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、R
^2、R^3のうち少なくとも1つは炭素数1〜20の
アルキル基を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされる構造単位〔II〕(但し、前記構造単位〔
I 〕と同一の場合を除く)を有する重量平均分子量1,
000以上で10,000未満の共重合体であり、かつ
、その立体規則性が主としてシンジオタクチック構造で
あるスチレン系低分子量共重合体。 - (2)請求項1記載の共重合体を主成分とする樹脂用配
合剤。 - (3)触媒成分として、(A)遷移金属成分および(B
)有機アルミニウム化合物と縮合剤との接触生成物を用
い、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) 〔式中、R^1は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、セレ
ン原子、ケイ素原子および錫原子のいずれか1種以上を
含む置換基を示し、mは1〜5の整数を示す。但し、m
が複数のときは、各R^1は同一でも異なるものであっ
てもよい。〕 で表わされるスチレン系モノマーおよび 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔IV〕 〔式中、R^2、R^3、R^4は、それぞれ水素原子
あるいは炭素数1〜20のアルキル基を示す。但し、R
^2、R^3のうち少なくとも1つは炭素数1〜20の
アルキル基を示す。また、nは1〜3の整数を示す。〕 で表わされるオルト置換スチレン系モノマー(但し、前
記一般式〔III〕で表わされるスチレン系モノマーと同
一の場合を除く)を共重合することを特徴とする請求項
1記載のスチレン系低分子量共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29109089A JPH03153713A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | スチレン系低分子量共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を主成分とする樹脂用配合剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29109089A JPH03153713A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | スチレン系低分子量共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を主成分とする樹脂用配合剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03153713A true JPH03153713A (ja) | 1991-07-01 |
Family
ID=17764317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29109089A Pending JPH03153713A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | スチレン系低分子量共重合体およびその製造方法ならびに該共重合体を主成分とする樹脂用配合剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03153713A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5446117A (en) * | 1993-08-19 | 1995-08-29 | Queen's University At Kingston | Process for producing amorphous syndiotactic polystyrene |
-
1989
- 1989-11-10 JP JP29109089A patent/JPH03153713A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5446117A (en) * | 1993-08-19 | 1995-08-29 | Queen's University At Kingston | Process for producing amorphous syndiotactic polystyrene |
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