JPH03150564A - Device for processing photosensitive material - Google Patents
Device for processing photosensitive materialInfo
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- JPH03150564A JPH03150564A JP29035089A JP29035089A JPH03150564A JP H03150564 A JPH03150564 A JP H03150564A JP 29035089 A JP29035089 A JP 29035089A JP 29035089 A JP29035089 A JP 29035089A JP H03150564 A JPH03150564 A JP H03150564A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は処理槽に収容される処理液で感光材料を処理す
る感光材料処理装置に係り、特に処理槽に補充液の補充
を行う補充装置を備えた感光材料処理装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing solution contained in a processing tank, and particularly to a replenishing device for replenishing a processing tank with a replenisher. The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus equipped with the following.
写真フィルム等の感光材料を処理する感光材料処理装置
は、現像液が収容された現像槽、定着液が収容された定
着槽等の各処理槽を備えており、感光材料は各処理槽の
現像液、定着液等の処理液へ浸漬されて現像処理を受け
るようになっている。A photosensitive material processing apparatus that processes photosensitive materials such as photographic film is equipped with processing tanks such as a developer tank containing a developer solution and a fixing tank containing a fixer solution. The film is immersed in a processing solution such as a fixing solution or a fixing solution to undergo development processing.
また感光材料処理装置には、各処理槽内にヒータが配設
されて処理液が設定温度(例えば現像液では35℃)に
維持されるようになっている。更に、感光材料処理装置
には各処理槽に対応して補充装置が設けられており、各
処理槽の処理液は、感光材料による持出し分に応じて補
充が行われたり、感光材料の感光層の成分が現像液中の
現像主薬等の成分と反応し、消費されることによって起
こる処理疲労による劣化を補うための補充(処理補充と
いう)や、空気中の酸素を吸収し、現像主薬が酸化する
ことによって起こる酸化疲労による劣化を補うための補
充(経時補充という)が行われるようになっている。Further, in the photosensitive material processing apparatus, a heater is provided in each processing tank to maintain the processing liquid at a set temperature (for example, 35° C. for a developer). Furthermore, the photosensitive material processing equipment is provided with a replenishment device corresponding to each processing tank, and the processing liquid in each processing tank is replenished according to the amount taken out by the photosensitive material, and the processing liquid in each processing tank is replenished according to the amount taken out by the photosensitive material. Replenishment (referred to as processing replenishment) is used to compensate for deterioration caused by processing fatigue caused by the components of the developer reacting with components such as the developing agent in the developer and being consumed. Replenishment (referred to as chronological replenishment) is now performed to compensate for the deterioration caused by oxidative fatigue caused by overheating.
ところが、例えば冬場等の環境温度が低い場合には補充
装置により補充される補充液の液温も低く (例えば朝
方ではO℃〜5℃程度)、補充液の補充により処理槽中
の処理液の補充液混入部分及びその周辺温度が低下する
。この結果、処理槽中の処理液を局部的に設定温度に維
持できず、感度、階調、ぬけ等において良好で安定した
処理ができないという問題があった。However, when the environmental temperature is low, such as in winter, the temperature of the replenisher refilled by the replenisher is also low (for example, around 0°C to 5°C in the morning), and the replenishment of the replenisher causes the processing liquid in the processing tank to drop. The temperature of the area where the replenisher is mixed and the surrounding area decreases. As a result, the processing liquid in the processing tank cannot be locally maintained at a set temperature, resulting in a problem that stable processing with good sensitivity, gradation, and shedding cannot be performed.
上記事実を考慮して、本発明は良好で安定した感光材料
の処理ができる感光材料処理装置を得ることが目的であ
る。In consideration of the above facts, an object of the present invention is to obtain a photosensitive material processing apparatus capable of processing photosensitive materials in a good and stable manner.
請求項(1)の発明は、処理槽に収容され所定温度に設
定される処理液で感光材料を処理する感光材料処理装置
であって、前記処理槽に補充液を補充する補充手段と、
前記補充液を前記処理槽に補充する前に前記補充液を加
熱する加熱手段と、を備えることを特徴とする
請求項(2)の発明は、前記処理槽の前記処理液中に配
置され、前記処理槽に案内される前記補充液を前記処理
液によって加熱する案内路を備えている。The invention according to claim (1) is a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing liquid stored in a processing tank and set at a predetermined temperature, comprising: a replenishing means for replenishing the processing tank with a replenisher;
The invention according to claim (2) is characterized in that the method further comprises a heating means for heating the replenisher before replenishing the replenisher into the processing tank, the replenisher being disposed in the processing liquid of the processing tank, A guide path is provided for heating the replenisher liquid guided to the processing tank with the processing liquid.
請求項(3)の発明は、前記補充液を収容する補充タン
クを備えており、前記加熱手段は前記補充タンク内の前
記補充液を加熱するヒータを備えている。The invention according to claim (3) includes a replenishment tank that stores the replenisher, and the heating means includes a heater that heats the replenisher in the replenishment tank.
請求項(1)の発明では、補充手段により処理槽に補充
される前に補充液が加熱手段によって加熱されて処理槽
に補充される。従って処理槽中の処理液が補充液の補充
により局部的に所定温度が低下されることが防止できる
。In the invention of claim (1), the replenisher is heated by the heating means and is replenished into the processing tank before being replenished into the processing tank by the replenishing means. Therefore, it is possible to prevent the predetermined temperature of the processing liquid in the processing tank from being locally lowered due to replenishment with the replenisher.
請求項(2)の発明では処理槽中の処理液自体で補充液
が加熱され、この加熱された補充液が処理槽に補充され
るようになっている。In the invention of claim (2), the replenisher is heated by the processing liquid itself in the processing tank, and the heated replenisher is replenished into the processing tank.
請求項(3)の発明では、補充タンク中にある補充液が
ヒータで加熱され、この加熱された補充液が処理槽に補
充されるようになっている。In the invention of claim (3), the replenisher in the replenishment tank is heated by a heater, and the heated replenisher is replenished into the processing tank.
上述のように、処理槽に補充される補充液による処理槽
中の処理液の温度低下が阻止できるので安定した感光材
料の処理ができるという優れた効果が得られる。As described above, since it is possible to prevent the temperature of the processing solution in the processing tank from decreasing due to the replenisher replenishing the processing tank, an excellent effect can be obtained in that stable processing of the photosensitive material can be achieved.
本発明の第1実施例について説明する。 A first embodiment of the present invention will be described.
第1図には本発明が適用された自動現像装置の概略構成
図が示されている。FIG. 1 shows a schematic diagram of an automatic developing apparatus to which the present invention is applied.
自動現像装置10は、フィルム12の挿入口14を備え
ると共に処理順序に従って配置された現像槽16、定着
槽I8、水洗槽20.乾燥部22及びフィルム受箱24
を備えている。The automatic developing device 10 includes an insertion port 14 for the film 12, and a developing tank 16, a fixing tank I8, a washing tank 20, . Drying section 22 and film receiving box 24
It is equipped with
現像槽16には現像液が収容されており、フィルム12
が現像液に浸漬されて現像されるようになっている。A developer is stored in the developer tank 16, and the film 12
is immersed in a developer to be developed.
この現像槽16には内部に現像液を加熱するためのヒー
タ50が配置されていると共に、現像槽16内の現像液
を攪拌するため循環ポンプ52が介在され現像槽16の
2ケ所で連通される管路54が設けられている。従って
、現像槽16内の現像液はヒータ50で加熱されると共
に、循環ポンプ52が作動されて攪拌され所定温度に維
持されるようになっている。A heater 50 for heating the developer is disposed inside the developer tank 16, and a circulation pump 52 is interposed to agitate the developer in the developer tank 16, communicating with each other at two locations in the developer tank 16. A conduit 54 is provided. Therefore, the developer in the developer tank 16 is heated by the heater 50, and the circulation pump 52 is operated to stir and maintain the developer at a predetermined temperature.
また現像槽16に対応して補充装置56が設けられてい
る。この補充装置56は、補充液を収容している補充タ
ンク58と、この補充タンク58と現像槽16とを連通
ずる管路60と、この管路60に介在され補充タンク5
8内の補充液を現像槽16へ補充するポンプ62と、を
備えている。Further, a replenishing device 56 is provided corresponding to the developer tank 16. This replenishment device 56 includes a replenishment tank 58 containing replenisher, a pipe line 60 that communicates the replenishment tank 58 and the developer tank 16, and a replenishment tank 58 that is interposed in the pipe line 60.
A pump 62 for replenishing the developer tank 16 with the replenisher in the developer tank 16 is provided.
管路60は、第1図に示されるように、ポンプ62と管
路60の現像槽16への吐出口との間の一部が現像槽1
6の現像液内に屈曲されて配管され現像液が加熱される
ようになっている。従って、ポンプ62が作動されると
、補充液が補充タンク58から管路60を介して現像槽
16へ補充されるが、その際、補充液は現像装置16内
の配管を介して現像液でこの現像液と同温度程度まで加
熱されるようになっている。As shown in FIG.
The pipe is bent into the developer solution No. 6 and heated. Therefore, when the pump 62 is activated, the replenisher is refilled from the replenishment tank 58 to the developer tank 16 via the pipe line 60. It is heated to about the same temperature as this developer.
現像槽16には図示しない液面センサが設けられており
、この液面センサにより現像液のレベルが所定以下にな
ったことが検出された場合、図示しない制御装置により
ポンプ62を作動させて補充が行われるようになってい
る。The developer tank 16 is provided with a liquid level sensor (not shown), and when this liquid level sensor detects that the level of the developer has fallen below a predetermined level, a control device (not shown) operates the pump 62 to replenish the liquid. is now being carried out.
また現像槽16の写真フィルム12の挿入口14の近傍
にはフィルムの通過を検出する検出器15が設けられて
いる。Further, a detector 15 for detecting passage of the film is provided near the insertion opening 14 for the photographic film 12 in the developing tank 16.
検出器15が検出するフィルム景に応じて図示しない制
御装置によりポンプ62を作動させ補充(処理補充)が
行われるようになっている。また、図示しない制御装置
により所定時間ごとにポンプ62を作動させ補充(経時
補充)が行われるようになっている。Depending on the film scene detected by the detector 15, a control device (not shown) operates the pump 62 to perform replenishment (processing replenishment). Further, a control device (not shown) operates the pump 62 at predetermined time intervals to perform replenishment (replenishment over time).
また定着槽18には定着液が収容されており、現像され
たフィルム12が定着液に浸漬されて定着を受けるよう
になっている。Further, the fixing tank 18 contains a fixing solution, and the developed film 12 is immersed in the fixing solution to be fixed.
この定着槽18には内部に定着液を加熱するためのヒー
タ70が配置されていると共に定着槽18内の定着液を
攪拌するため、循環ポンプ72が介在され定着槽18の
2ケ所で連通される管路74が設けられている。従って
、定着槽18内の定着液はヒータ70で加熱されると共
に、循環ポンプ72が作動されて攪拌されて所定温度に
維持されるようになっている。A heater 70 for heating the fixing liquid is disposed inside the fixing tank 18, and a circulation pump 72 is interposed to agitate the fixing liquid in the fixing tank 18, which communicates with the fixing tank 18 at two locations. A conduit 74 is provided. Therefore, the fixing liquid in the fixing tank 18 is heated by the heater 70, and the circulation pump 72 is operated to stir it and maintain it at a predetermined temperature.
また定着槽18に対応して補充装置76が設けられてい
る。この補充装置76は補充液を収容している補充タン
ク78と、この補充タンク78と定着槽18とを連通ず
る管路80と、この管路80に介在され補充タンク78
内の補充液を定着槽18へ補充するポンプ82と、を備
えている。管路80は、ポンプ82と管路80の定着槽
18への吐出口との間の一部が定着槽18の定着液内に
屈曲されて配管され定着液で加熱されるようになってい
る。従って、ポンプ82が作動されると、補充液が補充
タンク78から管路80を介して定着槽18へ補充され
るが、その際、補充液は定着槽18内の配管を介して定
着液により、この定着液と同温度程度まで加熱されるよ
うになっている。Further, a replenishing device 76 is provided corresponding to the fixing tank 18 . This replenishment device 76 includes a replenishment tank 78 containing a replenisher, a pipe line 80 that communicates the replenishment tank 78 and the fixing tank 18, and a replenishment tank 78 that is interposed in the pipe line 80.
The fixing tank 18 is provided with a pump 82 for replenishing the fixing tank 18 with the replenishing liquid in the fixing tank 18. The pipe line 80 is arranged such that a part between the pump 82 and the outlet of the pipe line 80 to the fixing tank 18 is bent into the fixing liquid of the fixing tank 18 and heated by the fixing liquid. . Therefore, when the pump 82 is activated, the replenisher is refilled from the replenisher tank 78 to the fixer tank 18 via the pipe line 80; , is heated to about the same temperature as this fixer.
定着槽18には現像槽16の場合と同様の補充がポンプ
82が作動することによって行われるようになっている
。The fixing tank 18 is replenished in the same way as the developer tank 16 by operating a pump 82.
水洗槽20には、水洗水が収容されており、定着された
フィルム12が水洗水に浸漬されて水洗されるようにな
っている。The washing tank 20 contains washing water, and the fixed film 12 is immersed in the washing water and washed.
この水洗槽20に対応して補充装置90が設けられてい
る。この補充装置90は水洗水を収容している補充クン
ク92と、この補充タンク92と水洗槽20とを連通ず
る管路94と、この管路94に介在され補充タンク92
内の水洗水を水洗槽20へ供給するポンプ96と、を備
えている。従ってポンプ96が作動されると、水洗水が
補充タンク92から管路94を介して水洗槽20へ補充
されるようになっている。A replenishing device 90 is provided corresponding to this washing tank 20. This replenishment device 90 includes a replenishment tank 92 that accommodates flush water, a pipe line 94 that communicates this replenishment tank 92 and the flush tank 20, and a replenishment tank 92 that is interposed in this pipe line 94.
A pump 96 that supplies the washing water inside to the washing tank 20 is provided. Accordingly, when the pump 96 is activated, flushing water is replenished from the replenishment tank 92 to the flushing tank 20 via the conduit 94.
また水洗槽20には図示しない液面センサが配置されて
おり、この液面センサにより水洗槽20の水洗水の液面
レベルが所定以下になったことが検出された場合、ポン
プ96が作動されるようになっている。Further, a liquid level sensor (not shown) is disposed in the washing tank 20, and when this liquid level sensor detects that the level of the washing water in the washing tank 20 has fallen below a predetermined level, the pump 96 is activated. It has become so.
乾燥部22には、フィルム12を乾燥する乾燥室26が
備えられていると共に、この乾燥室26に連通ずる空気
導入ダクト28及び排気ダクト30が設けられている。The drying section 22 is equipped with a drying chamber 26 for drying the film 12, and is also provided with an air introduction duct 28 and an exhaust duct 30 that communicate with this drying chamber 26.
空気導入ダクト28にはファン32及びヒータ34が配
置され、ファン32により空気導入ダクト28内へ導入
された空気がヒータ34によって加熱されて乾燥風とさ
れ、この乾燥風が乾燥室26に供給され、その後、排気
ダクト30を介して外へ排気されるようになっている。A fan 32 and a heater 34 are arranged in the air introduction duct 28 , and the air introduced into the air introduction duct 28 by the fan 32 is heated by the heater 34 to become dry air, and this dry air is supplied to the drying chamber 26 . , and then exhausted to the outside via the exhaust duct 30.
従って、水洗槽20で水洗されて濡れた状態のフィルム
12は乾燥部22で乾燥風により乾燥されるようになっ
ている。フィルム受箱24では乾燥部22で乾燥された
フィルム12が順次収容されるようになっている。Therefore, the wet film 12 that has been washed with water in the washing tank 20 is dried by drying air in the drying section 22. In the film receiving box 24, the films 12 dried in the drying section 22 are sequentially stored.
なお、乾燥室26内には図示しない温度センサが配設さ
れており、この温度センサの乾燥室26内の温度検出に
より、ヒータ34をオン、オフして乾燥室26内の温度
を適温に維持するようになっている。Note that a temperature sensor (not shown) is disposed inside the drying chamber 26, and when the temperature sensor detects the temperature inside the drying chamber 26, the heater 34 is turned on and off to maintain the temperature inside the drying chamber 26 at an appropriate temperature. It is supposed to be done.
また、自動現像装置10にはフィルム12の処0
環ラインに沿って図示しないラックに軸支された複数の
搬送用ローラ36が配置されており、挿入口14から自
動現像装置IO内へ挿入されたフィルム12は搬送用ロ
ーラ36によって自動的に搬送されながら順次現像槽1
6、定着槽18、水洗槽20及び乾燥部22に送られて
各処理を受けた後フィルム受箱24に送られるようにな
っている。Further, in the automatic developing device 10, a plurality of conveying rollers 36 supported rotatably by a rack (not shown) are arranged along the processing line of the film 12, and are inserted into the automatic developing device IO from the insertion opening 14. The film 12 is automatically conveyed by the conveying roller 36 and sequentially transferred to the developing tank 1.
6, the film is sent to a fixing tank 18, a washing tank 20, and a drying section 22, where it undergoes various treatments, and then sent to a film receiving box 24.
次に本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.
自動現像装置lOには、図示しないメインスイッチが設
けられており、メインスイッチのオンにより、現像槽1
6のヒータ50が通電されると共に、循環ポンプ52が
作動されて現像液の温度が所定温度まで上昇される。ま
た定着槽18ではヒータ70が加熱されると共に、循環
ポンプ72が作動されて定着液の温度が所定温度まで上
昇される。更に乾燥部22ではヒータ34が通電される
と共に、ファン32が作動されて空気導入ダクト28内
に空気が導入され、その空気が加熱されて乾燥風として
乾燥室26に供給されて乾燥室26の温度が上昇される
。The automatic developing device 1O is provided with a main switch (not shown), and when the main switch is turned on, the developer tank 1 is turned on.
The heater 50 of No. 6 is energized, and the circulation pump 52 is activated to raise the temperature of the developer to a predetermined temperature. Further, in the fixing tank 18, a heater 70 is heated, and a circulation pump 72 is operated to raise the temperature of the fixing liquid to a predetermined temperature. Further, in the drying section 22 , the heater 34 is energized, and the fan 32 is operated to introduce air into the air introduction duct 28 , and the air is heated and supplied to the drying chamber 26 as drying air. The temperature is increased.
■
■
現像槽16の現像液及び定着槽18の定着液の温度と乾
燥室26の室内温度とが所定温度に達した時に自動現像
装置10はスタンバイ状態となる。■■ When the temperature of the developer in the developer tank 16 and the fixer in the fixer tank 18 and the indoor temperature of the drying chamber 26 reach a predetermined temperature, the automatic developing device 10 enters the standby state.
これらの温度状態は図示しない温度センサによって検出
されて必要に応じてヒータ50.70及び34がオン、
オフされるようになっている。These temperature states are detected by a temperature sensor (not shown), and the heaters 50, 70 and 34 are turned on and off as necessary.
It is set to be turned off.
このスタンバイ状態でフィルム12は自動現像装置10
で処理されることができる。即ち、挿入口14を介して
自動現像装置10に挿入されたフィルム12は搬送用ロ
ーラ36によって搬送されながら、現像槽16で現像液
により現像され、定着槽18で定着液により定着され、
水洗槽20での水洗水により水洗され、乾燥部22で乾
燥風により乾燥されて、フィルム受箱24に送り込まれ
る。このように自動現像装置10に挿入されたフィルム
12は搬送用ローラ36により搬送されながら自動現像
処理される。In this standby state, the film 12 is transferred to the automatic developing device 10.
can be processed with. That is, the film 12 inserted into the automatic developing device 10 through the insertion port 14 is developed with a developer in the developer tank 16 while being transported by the transport roller 36, and is fixed with a fixer in the fixing tank 18.
The film is washed with washing water in the washing tank 20, dried with drying air in the drying section 22, and sent to the film receiving box 24. The film 12 inserted into the automatic developing device 10 in this manner is automatically developed while being conveyed by the conveying rollers 36.
次に、自動現像装置10のフィルム12の処理中におい
て、図示しない液面センサにより現像槽16の液面レベ
ルが所定以下になった場合、フィ■
ルム12の処理量が所定量に達した場合(処理補充)、
また所定時間ごと(経時補充)に補充装置56が作動さ
れて補充タンク58内の補充液が現像槽16へ補充され
る。即ち、ポンプ62が作動されて補充液は補充タンク
58から管路60を介して吐出口より現像槽16に補充
される。この際、管路60はその一部が現像槽16の現
像液内に配管されているので、補充液がこの現像液で加
熱されて現像液の液温と略同温とされる。従って、現像
槽16の現像液は補充液が補充される部分で局部的に液
温が低下されることが防止される。Next, during the processing of the film 12 in the automatic developing device 10, if the liquid level in the developing tank 16 becomes below a predetermined level by a liquid level sensor (not shown), or if the amount of processed film 12 reaches a predetermined amount. (processing replenishment),
Further, the replenishing device 56 is operated at predetermined intervals (time-lapse replenishment) to replenish the developer tank 16 with the replenishing liquid in the replenishing tank 58. That is, the pump 62 is operated, and the replenisher is refilled from the replenishment tank 58 to the developer tank 16 from the discharge port via the conduit 60. At this time, since a part of the pipe line 60 is piped into the developer solution in the developer tank 16, the replenisher solution is heated by the developer solution and is brought to approximately the same temperature as the developer solution. Therefore, the temperature of the developer in the developer tank 16 is prevented from decreasing locally at the portion where the replenisher is replenished.
また、定着槽18においても、上記現像槽16の場合と
同様に、補充装置76が作動される。即ち、ポンプ82
が作動されて補充タンク78から管路80を介して補充
液が定着槽18へ補充される。この際、管路80はその
一部が定着槽18の定着液内に配管されているので、補
充液がこの定着液で加熱されて定着液の液温と略同温と
される。Further, in the fixing tank 18 as well, the replenishing device 76 is operated in the same manner as in the developer tank 16 described above. That is, pump 82
is activated, and the fixing tank 18 is replenished with the replenisher from the replenishment tank 78 via the conduit 80. At this time, since a part of the pipe line 80 is piped into the fixing liquid in the fixing tank 18, the replenishing liquid is heated by the fixing liquid and has a temperature substantially the same as that of the fixing liquid.
従って、定着槽18の定着液は補充液が補充される部分
で局部的に液温が低下されることが防止さ3
れる。Therefore, the temperature of the fixer in the fixer tank 18 is prevented from decreasing locally at the portion where the replenisher is replenished.
また、水洗槽において、図示しない液面センサにより水
洗水の液面レベルが所定以下になった場合も補充装置7
Gが作動される。即ちポンプ96が作動されて補充タン
ク92から水洗水が管路94を介して水洗水の補充が行
われる。In addition, in the washing tank, when the liquid level of the washing water becomes lower than a predetermined level by a liquid level sensor (not shown), the replenishing device 7
G is activated. That is, the pump 96 is operated and the washing water is supplied from the replenishment tank 92 through the pipe line 94 to replenish the washing water.
上述の如く、本実施例では補充液が加熱されて所定温度
付近まで上昇されて補充されるので、現像槽16内の現
像液及び定着槽18内の定着液が局部的に低下されるこ
とがなく、安定しだ液温か維持できる。従って、現像槽
16における現像処理では、フィルム12の感度及び階
調などの写真特性が安定し、また定着槽18における定
着処理では定着不良が生ぜず、安定した処理が行われる
ことになる。As described above, in this embodiment, the replenisher is heated to a temperature close to a predetermined temperature and then replenished, so that the developer in the developer tank 16 and the fixer in the fixer tank 18 may not be locally lowered. It can maintain a stable liquid temperature. Therefore, the developing process in the developing tank 16 stabilizes the photographic characteristics of the film 12, such as the sensitivity and gradation, and the fixing process in the fixing tank 18 does not cause fixing defects and is stable.
次に第2図を参照して第2実施例について説明する。Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.
本実施例にふいて、第1実施例と同じ部材、構成等には
第1実施例に用いた符号と同じ符号を付して説明を省略
する。In this embodiment, the same members, configurations, etc. as in the first embodiment are given the same reference numerals as those used in the first embodiment, and explanations thereof will be omitted.
4
本実施例においては現像槽16に補充液を供給する補充
装置156にはその補充タンク58内にヒータ110及
び液温センサ112が配設されている。従って、自動現
像装置10の図示しないメインスイッチがオンされると
、ヒータ110が加熱されて補充タンク58内の補充液
の液温を現像槽16の現像液の所定温度まで上昇させる
。補充液の液温が所定温度に達した時その液温が液温セ
ンサ112で検出されてヒータ110はオフされる。そ
して常時液温センサ112により補充液の液温が検出さ
れてふり、適切な液温範囲でヒータ112がオン、オフ
されて補充液の液温が所望の液温に維持されるようにな
っている。なお、本実施例では管路60は全路に亘って
現像槽16外に配管されている。4 In this embodiment, a heater 110 and a liquid temperature sensor 112 are disposed in the replenishment tank 58 of the replenishment device 156 that supplies replenisher to the developer tank 16. Therefore, when the main switch (not shown) of the automatic developing device 10 is turned on, the heater 110 is heated to raise the temperature of the replenisher in the replenishment tank 58 to a predetermined temperature of the developer in the developer tank 16. When the temperature of the replenisher reaches a predetermined temperature, the temperature of the replenisher is detected by the liquid temperature sensor 112 and the heater 110 is turned off. Then, the liquid temperature of the replenisher is constantly detected by the liquid temperature sensor 112, and the heater 112 is turned on and off within an appropriate liquid temperature range to maintain the liquid temperature of the replenisher at the desired liquid temperature. There is. In this embodiment, the entire pipe line 60 is arranged outside the developing tank 16.
また、定着槽18に補充液を補充する補充装置176に
はその補充タンク78内にヒータ120及び液温センサ
122が配設されている。従って、自動現像装置10の
図示しないメインスイッチがオンされると、ヒータ12
0が加熱されて補充り5
ンク78内の補充液の液温を定着槽18の定着液の所定
液温まで上昇させる。補充液の液温が所定温度に達した
時、その液温が液温センサ122で検出されてヒータ1
20はオフされる。そして、常時液温センサ122によ
り補充液の液温が検出されており、適切な液温範囲でヒ
ータ122がオン、オフされて補充液の液温か所望の液
温に維持されるようになっている。なお、管路80は全
路に亘って定着槽18外に配管されている。Further, a replenishing device 176 that replenishes the fixing tank 18 with replenishing liquid has a heater 120 and a liquid temperature sensor 122 disposed within the replenishing tank 78 . Therefore, when the main switch (not shown) of the automatic developing device 10 is turned on, the heater 12
The temperature of the replenisher in the tank 78 is raised to a predetermined temperature of the fixer in the fixing tank 18. When the liquid temperature of the replenisher reaches a predetermined temperature, the liquid temperature is detected by the liquid temperature sensor 122 and the heater 1
20 is turned off. The temperature of the replenisher is constantly detected by the liquid temperature sensor 122, and the heater 122 is turned on and off within an appropriate temperature range to maintain the temperature of the replenisher at a desired temperature. There is. Note that the entire pipe line 80 is piped outside the fixing tank 18.
他の構成については第1実施例と同様である。The other configurations are the same as those in the first embodiment.
本実施例においては補充装置156が作動された場合、
補充タンク58から現像槽16へ供給される補充液はこ
の補充タンク58内でヒータ110によりあらかじめ所
望温度まで加熱されているので、現像槽16内の現像液
が補充液の補充により局部的に低下されることが防止さ
れる。In this embodiment, when the replenishment device 156 is activated,
Since the replenisher supplied from the replenishment tank 58 to the developer tank 16 is heated in advance to a desired temperature by the heater 110 in the replenisher tank 58, the developer in the developer tank 16 is locally lowered due to replenishment of the replenisher. be prevented from being
補充装置176が作動された場合にも、補充タンク17
8から定着槽18へ補充される補充液は、この補充タン
ク58内でヒータ120によりあらかじめ所望温度まで
加熱されているので、定着槽6
18内の定着液が補充液の補充により局部的に低下され
ることが防止される。Also when the replenishment device 176 is activated, the replenishment tank 17
Since the replenisher refilled from the fixing tank 8 to the fixing tank 18 is heated in advance to a desired temperature by the heater 120 in the replenishing tank 58, the fixing fluid in the fixing tank 618 is locally lowered by replenishing the replenisher. be prevented from being
他の作用は第1実施例と同様であり説明を省略する。Other operations are the same as those in the first embodiment, and their explanation will be omitted.
次に、第3実施例について第3図を参照して述べる。Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.
本実施例において、第1実施例と同じ部材、構成等には
第1実施例に用いた符号と同じ符号を付して説明を省略
する。In this embodiment, the same members, configurations, etc. as in the first embodiment are given the same reference numerals as those used in the first embodiment, and explanations thereof will be omitted.
本実施例において、現像槽16に補充液を供給する補充
装置256の管路60にはポンプ62と管路60の吐出
口との間に逆止弁210が介在されていると共に、管路
60の吐出口は現像槽16の現像液中に設けられている
。従って、補充装置256が作動された場合、補充タン
ク58内の補充液は管路60及び逆止弁210を介して
現像槽16へ補充される。その際、補充液が第1実施例
と同様に現像槽16内の現像液で加熱されて所定温度ま
で上昇されているので、現像槽16の現像液の局部的温
度低下が防止される。なお、ポンプ7
62の作動が停止された場合、現像槽16内の現像液の
補充タンク58への逆流は逆止弁210により阻止され
ている。In this embodiment, a check valve 210 is interposed between the pump 62 and the discharge port of the pipe line 60 in the pipe line 60 of the replenishing device 256 that supplies replenisher to the developing tank 16. The discharge port is provided in the developer in the developer tank 16. Therefore, when the replenishment device 256 is activated, the replenisher in the replenishment tank 58 is replenished into the developer tank 16 via the pipe line 60 and the check valve 210. At this time, since the replenisher is heated by the developer in the developer tank 16 and raised to a predetermined temperature as in the first embodiment, a local temperature drop of the developer in the developer tank 16 is prevented. Note that when the operation of the pump 762 is stopped, the check valve 210 prevents the developer in the developer tank 16 from flowing back into the replenishment tank 58.
定着槽18への補充液を補充する補充装置276の管路
80にはポンプ82と管路80の吐出口との間に逆止弁
220が介在されていると共に、管路80の吐出口は定
着槽18の定着液中に設けられている。従って、補充装
置276が作動された場合、補充タンク78内の補充液
は管路80及び逆止弁220を介して定着槽18へ補充
される。A check valve 220 is interposed between the pump 82 and the outlet of the line 80 in the line 80 of the replenishing device 276 that replenishes the fixing tank 18 with the replenisher. It is provided in the fixing liquid of the fixing tank 18. Therefore, when the replenishment device 276 is activated, the replenisher in the replenishment tank 78 is replenished into the fixing tank 18 via the conduit 80 and the check valve 220.
その際、補充液が第1実施例と同様、定着槽18内の定
着液で加熱されて所定温度まで上昇されているので、定
着槽18の定着液の局部的温度低下が防止される。なお
、ポンプ82の作動が停止された場合、定着槽18内の
定着液の補充タンク78への逆流は逆止弁220により
阻止されている。At this time, as in the first embodiment, since the replenisher is heated by the fixer in the fixer tank 18 and raised to a predetermined temperature, a local temperature drop of the fixer in the fixer tank 18 is prevented. Note that when the operation of the pump 82 is stopped, the check valve 220 prevents the fixing fluid in the fixing tank 18 from flowing back into the replenishment tank 78 .
他の構成、作用は第1実施例と同様であるので説明を省
略する。The other configurations and operations are the same as those in the first embodiment, so their explanations will be omitted.
な右、第3実施例において管路60.80の各吐出口は
現像液及び定着液中に開口し、管路60、8
80の全路を現像槽16及び定着槽18外に配設し、補
充タンク58.78内に第2実施例と同様にヒータ11
0と液温センサ112、ヒータI20と液温センサ12
2を設けた構造であってもよい。As shown on the right, in the third embodiment, each outlet of the pipes 60 and 80 opens into the developer and fixer, and all of the pipes 60 and 880 are disposed outside the developer tank 16 and the fixer tank 18. , a heater 11 is installed in the replenishment tank 58, 78 as in the second embodiment.
0 and liquid temperature sensor 112, heater I20 and liquid temperature sensor 12
2 may be provided.
上記実施例では、フィルムを現像する自動現像装置につ
いて説明したが、本発明は平版印刷版を現像処理するた
めの平版印刷版処理装置等の他の感光材料を処理する感
光材料処理装置にも適用できる。In the above embodiment, an automatic developing device for developing a film has been described, but the present invention can also be applied to a photosensitive material processing device for processing other photosensitive materials, such as a planographic printing plate processing device for developing a planographic printing plate. can.
第1図は本発明が適用された自動現像装置の第1実施例
の概略構成図、第2図は第2実施例に係る自動現像装置
の概略構成図、第3図は第3実施例に係る自動現像装置
の概略構成図である。
5G、76.156.176.256.276・・・補
充装置、
60.80・・・管路、
110.120・・・ヒータ。FIG. 1 is a schematic diagram of a first embodiment of an automatic developing device to which the present invention is applied, FIG. 2 is a schematic diagram of an automatic developing device according to a second embodiment, and FIG. 3 is a diagram of a third embodiment of the automatic developing device. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of such an automatic developing device. 5G, 76.156.176.256.276...Replenishment device, 60.80...Pipeline, 110.120...Heater.
Claims (3)
感光材料を処理する感光材料処理装置であって、前記処
理槽に補充液を補充する補充手段と、前記補充液を前記
処理槽に補充する前に前記補充液を加熱する加熱手段と
、を備えることを特徴とする感光材料処理装置。(1) A photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing liquid stored in a processing tank and set at a predetermined temperature, the apparatus comprising a replenishing means for replenishing the processing tank with a replenisher, and a replenishing means for replenishing the replenisher into the processing tank. A photosensitive material processing apparatus comprising: heating means for heating the replenisher before replenishing the replenisher.
置され、前記処理槽に案内される前記補充液を前記処理
液によって加熱する案内路を備えている請求項(1)記
載の感光材料処理装置。(2) The heating means is provided with a guide path that is disposed in the processing liquid of the processing tank and heats the replenisher liquid guided to the processing tank with the processing liquid. Photosensitive material processing equipment.
を備えており、前記加熱手段は前記補充タンク内の前記
補充液を加熱するヒータを備えている請求項(1)記載
の感光材料処理装置。(3) The photosensitive material processing according to claim 1, wherein the replenishment means includes a replenishment tank that stores the replenisher, and the heating means includes a heater that heats the replenisher in the replenishment tank. Device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29035089A JPH03150564A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Device for processing photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29035089A JPH03150564A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Device for processing photosensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03150564A true JPH03150564A (en) | 1991-06-26 |
Family
ID=17754910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29035089A Pending JPH03150564A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Device for processing photosensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03150564A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580479A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heater for photosensitive material processor |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP29035089A patent/JPH03150564A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0580479A (en) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Heater for photosensitive material processor |
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