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JPH03150297A - 透明なダイヤモンド薄膜およびそれの製造方法 - Google Patents

透明なダイヤモンド薄膜およびそれの製造方法

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JPH03150297A
JPH03150297A JP2239160A JP23916090A JPH03150297A JP H03150297 A JPH03150297 A JP H03150297A JP 2239160 A JP2239160 A JP 2239160A JP 23916090 A JP23916090 A JP 23916090A JP H03150297 A JPH03150297 A JP H03150297A
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diamond
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hydrogen
polycrystalline diamond
microns
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トーマス・リチャード・アンソニイ
James F Fleischer
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General Electric Co
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、蒸着技術に従って製造された透明な多結晶質
ダイヤモンド薄膜に関するものである。
更に詳しく言えば本発明は、モリブデンのごとき基体に
近接した加熱反応域内に特定の水素−メタン混合ガスを
導入することによって多結晶質ダイヤモンド薄膜を蒸着
させるための方法に関する。
ジャーナル・オブ・アメリカン・セラミックスツサエテ
イ(Journal of American Cer
amics So−cicty)の第72 [2]巻(
1989年)の71〜91頁に収載されたスピア(Sp
ear)の論文[未来のダイヤモンド−セラミック被膜
」中に述べられている通り、ダイヤモンドの単結晶薄膜
を成長させることは多くの電子工学用途および光学用途
にとって重要である。しかしながら、ダイヤモンド基体
上へのホモエピタキシャル成長を別にすれば、この目的
はまだ達成されていない、ケミカル・アンド−エンジニ
アリング・ニューズ(Cbe■icalsad EBj
ncerjB News)の1989年5月15日号の
38頁に収載されたビータ−・ケイ・バックマン(Pe
ter K、 lackmann)等の報告中には、蒸
着ダイヤモンド放熱板が開発されたことが述べられてい
る。それによれば、プラズマジェット蒸着法に従って4
 mmX 6 mmX 1■■までの多結晶質ダイヤモ
ンド材料が製造されたことが報告されている。
日本特許第85141697号明細書中には。
独立したダイヤモンド薄膜がスピーカの振動板として有
用であることが判明したと報告されている。
また、ニス・カワチ(S、 Kawacht)等の日本
特許第85 (60)−127292号明細書中には、
黒鉛基体上に厚さ10ミクロンのダイヤモンド薄膜を蒸
着させたことが報告されている。更にまた、ゲイ・フジ
イ(K、 Fujii)等の日本特許第85(60)−
186500号明細書中には、メタン一水素混合ガスを
用いて基体上に厚さ6.5ミクロンの透明な薄膜を形成
し得ることが記載されている。
蒸着技術に従って多結晶質ダイヤモンド薄膜を製造する
ために各種の方法が開発されているとは言え、50〜5
000ミクロンの厚さおよび10■を越える横方向寸法
を有する独立した透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜から
成る窓材を得ることは今なお要望されている。
発明の要約 本発明は、適当な基体(たとえば、モリブデン基体)に
近接したフィラメント加熱反応域内に一水素およびメタ
ンの全容積を基準として約1.5〜約2容量%のメタン
を含有する水素−メタン混合ガスを導入することにより
、50ミクロン以上の厚さを有する透明な多結晶質ダイ
ヤモンド薄膜を該基体上に蒸着させ得るという発見に基
づいている。このようにすれば、意外にも、21〜32
CIl”の吸収帯を有する非付着性の透明な多結晶質ダ
イヤモンド薄膜を毎時約0.4〜1.0ミクロンの成長
速度で形成することができる。こうして得られた多結晶
質ダイヤモンド薄膜は、251を越える横方向寸法と共
に、少なくとも50ミクロンから5000ミクロン以上
にも達する厚さを有し得る。
発明の詳細な説明 本発明の一側面に従えば、(1)約20〜約200ミク
ロンの平均直径を有し、底面に対して垂直なく110)
方向を有し、かつダイヤモンド結晶粒界、炭素転位およ
び炭素空位の位lに存在するダングリング炭素結合を実
質的に飽和させるのに十分な10000 ppmまでの
化学結合した水素を含有する実質的に直立した柱状ダイ
ヤモンド結晶と、(b)前記柱状ダイヤモンド結晶同士
を隔離し、かつダイヤモンド結晶底面に対して70〜9
0の方位を有するダイヤモンド結晶粒界とから成ること
を特徴とする、少なくとも50ミクロンの厚さを有する
連続しかつ独立した実質的に透明な多結晶質ダイヤモン
ド薄膜が提供される。
本発明のもう1つの側面に従えば、基体の表面から約α
3〜約ICIIの距離に維持された加熱反応域内に活性
の炭素一水素基を生成するのに十分な約600〜約10
00℃の温度および約3〜約24Torrの圧力の下で
、水素およびメタンの全容積を基準として約1.5〜約
2容量%のメタンを含有する水素−メタン混合ガスを前
記加熱反応域内に導入するを特徴とする、非付着性の実
質的に透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜を基体上に成長
させるための方法が提供される。
本発明の透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜を製造するた
めに使用し得る典型的な装置が第1図に示されている。
かかる装置は、底板上に支持された金属フランジを有す
る石英製のベルジャ−を含んでいる。かかるベルジャ−
の内部には、フィラメントおよび数個の基体部材を保持
するための支持構造物が配置されている。
−層詳しく述べれば、石英製のベルジャ−10はたとえ
ば20〜30インチの高さおよび約4〜6インチの直径
を有するものであって、それの基部には金属フランジ1
1が設けられ、またそれの頂部にはガス人口12が設け
られている。金属フランジ11は、たとえばネオプレン
ゴムから成る封止材13上に載せられている。封止材1
3はたとえば鋼製の金属底板14によって支持されてい
て、かかる金属底板14には排気口15が設けられてい
る。
ベルジャ−lOの内部には、たとえばモリブデンから成
る数個の基体部材18および19並びにフィラメント2
0を保持するために役立つ延長部材lフ用の支持スタン
ド16が配置されている。
フィラメント20はねじ21によって金属プラグ22に
固定されていて、かかる金属プラグ22は延長部材24
によって支持された石英製の絶縁つば23を貫通してい
る。また。絶縁体27によって絶縁された金属棒が金属
底板14を貫通していて、金属プラグの接点25と金属
棒の接点26との間は電気的に接続されている。
次の第2図には、本発明の多結晶質ダイヤモンド薄膜を
楕成しかつ30として示されるような原子粒界によって
隔離された直径10〜200ミクロンの柱状ダイヤモン
ド結晶を光学顕微鏡により拡大して見た上面図が示され
ている。
次の第3および3A図には、本発明の多結晶質ダイヤモ
ンド薄膜の構造が−層詳しく示されている。第3図は多
結晶質ダイヤモンド薄膜の側断面図であり、また第3A
図はそれの一部分の拡大図である。図かられかる通り、
実質的に透明な柱状ダイヤモンド結晶は底面に対して垂
直なく110>方向を有している。ダングリング炭素結
合を飽和させる水素原子を含有したダイヤモンド結晶間
の粒界は、第3図中に40として示されており、また第
3A[中に41として示されている。ラマン分光分析、
赤外分光分析およびX線回折測定に基づけば、かかる粒
界における炭素原子の少なくと650%は正四面体を成
して結合しているものと考えられる。
<010>、<110>およびくl11〉方向を区別し
ながら原子の結晶面を表わすミラー指数に関する詳しい
説明は、ローレンス・エィチ・ヴアンヴラック(Law
rence H,VanVIack)著[エレメント−
オブ・マテリアル・サイエンス(Ele■eator 
Mlaterial Science>1<第2版、1
964年。
アディソンーウィズレー・パブリッシング・カンパニー
発行、マサチューセッツ州レディング市)の65〜69
頁に見出される。
炭素原子と水素原子との正四面体結合に関連して混成軌
道説および分子幾何学を解説している化学結合および化
学構造の詳しい説明は、アーネスト・グリスウ才ルド(
Eraest Griswold)著「ケミカルボンデ
ィング・アンド・ストラクチャー(Chemical 
Bonding and Structure)) (
1968年、レイセオンーエデユケーシヨンカンパニー
発行)中に見出される。
下記の諸式は、本発明方法の実施に際して加熱されたタ
ングステンフィラメント上で水素およびメタンが解離す
る機序を示している。
CH4(g)十ローCHn(ad)     (1)C
H4(ad)= CHs(ad)+ H(ad)   
(2)CHt(ad)= CHz(ad)+ H(ad
)   D)CH2(ad)= CH(ad)+ H(
ad)   (4)CH(ad)= C(ad)+ H
(ad)     (5)C(シd)= C(g)+0
       (6)CH(ad)= CH(g)+0
     (7)CH2(ad)= CHz(g)+0
    (8)CH1(ad)−CHs(g)+0  
  (9)C(礁d)=口+C(フィラメント中)  
      (10)Hz(g)+ 20= 2 H(
ad)     (11)H(ad)= H(g)+口
       (12)(注》口=表面の空位 (g)−気体状の化学種 (ad)=表面に吸着した化学種 上記のごとき機序は、基体上において透明なダイヤモン
ド薄膜が成長する過程に間する1つの可能な説明を示す
ものである。
ダイヤモンドおよびダイヤモンド類似の薄膜に関する第
1回国際ECSシンポジウム(ロサンゼルス、1989
年5月7〜12日)の議事録中に収載されたジ−エィチ
・ワイルド(Cb、冒i14)等の論文rCVDダイヤ
モンドの光学的特性および構造の決定J中に記載されて
いる通り、本発明の方法に従って製造された多結晶質ダ
イヤモンド薄膜が赤外およびラマン分光分析法並びにX
線回折法の使用によって研究された。厚さ400ミクロ
ンの独立した多結晶質ダイヤモンド薄膜の吸収スペクト
ルによれば、かかる薄膜は約5000 PFM+の水素
濃度を有することが確認された。また、ラマン分光分析
の結果、かかる多結晶質ダイヤモンド薄膜は高いレベル
の正四面体炭素原子を含有する点で黒鉛とは著しく異な
ることが確認された。更にまた、X線回折測定によれば
、本発明の方法に従って製造された多結晶質ダイヤモン
ド薄膜は(110)面が結晶成長方向に対して垂直であ
るような優先配列を有すること、かつまたダイヤモンド
結晶粒界が底面に対して70〜90°の方位を有するこ
とが判明した。
本発明の方法に従って製造された多結晶質ダイヤモンド
薄膜は、各種の窓材や半導体用放熱体のごとき用途にお
いて使用することができる。
当業者が本発明の実施を一層明確に理解し得るようにす
るため、以下に実施例を示す、この実施例は例示を目的
としたものであって、本発明の範囲を制限するものと解
すべきでない。
実施例 第1図に示されたような装置内に、(大気圧条件下で測
定して)1.75容量%のメタンおよび9&25容量%
の水素から成る混合ガスを導入した。
かかる混合ガスの流量は毎分約400CII3に維持さ
れた。装置内には、1”Aインチ×にインチ×9インチ
の寸法を有する2枚のモリブデン基体並びに0.030
インチの直径および91hインチの長さを有する#21
8タングステンフィラメントが使用された。タングステ
ンフィラメントは約2020〜2040℃の温度に維持
された。約30日問にわたった蒸着期間中、フィラメン
トとモリブデン基体との間には約7〜8履層の互層が維
持された。
蒸着期間中における基体の温度は約800℃であったと
推定される。
30日の蒸着期間の終了後、装置を室温にまで放冷した
。かかる冷却期間中に、約500ミクロンの厚さおよび
基体と同等の横方法寸法を有する透明な多結晶質ダイヤ
モンド薄膜が基体から分離した。
こうして得られたダイヤモンド薄膜は、1332Cl+
−”に強いピークを有するラマンスペクトルによって示
されるごとく、良好な結晶性を有することが判明した。
かかるダイヤモンド薄膜はまた、赤外分光分析によって
示されるごとく、1600〜2650c11−”の範囲
内にダイヤモンド固有の2光子吸収を有することも判明
した。
上記の実施例は、本発明の方法に従って多結晶質ダイヤ
モンド薄膜を製造する際に使用し得る極めて多数の変動
要因の若干例を示すものに過ぎない、実際には、この実
施例に先立つ説明中に示されているごとく、遥かに広い
範囲の条件、装置構成および材料を使用し得ることを理
解すべきである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の多結晶質ダイヤモンド薄膜を製造する
ために使用し得る典型的な装置の略図、第2図は本発明
の多結晶質ダイヤモンド薄膜を構成する柱状ダイヤモン
ド結晶を光学謂微鏡により拡大して見た上面図、第3図
は本発明の多結晶質ダイヤモンド薄膜の側断面図、そし
て第3A図は第3図の一部分の拡大図である。 図中、10はベルジャ−,11は金属フランジ、12は
ガス入口、13唸封止材、14は金属底板、15は排気
口、16は支持スタンド、17は延長部材、18および
19は基体部材、20はフィラメント、22は金属プラ
グ、23は絶縁つば、そして24は延長部材を表わす。 袷許出麺人ゼネラル・17番リック・カンパニイ龍人 
(763uI 生沼徳二 F16. 2 FI6.J、:。 Vノ ′11 手6龜禎1正書C方式) %式%[] 1、事件の表示 平成2年特許願第239160号 2、発明の名称 透明なダイヤモンド薄膜およびそれの製造方法3、補正
をする者 住 所  〒107東京都港区赤坂1丁目14番14号
 ″[−・、、、、グア5.4□工、。8□    円 平成2年11月13日(発送日 平成2年11月27E
1)6、補正の対象 4、図面の簡単な説明 7、補正の内容 明細書第14頁9〜10行の記載を下記のとおり改める

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)底面に対して垂直な〈110〉方向を有し、
    かつダイヤモンド結晶粒界、炭素転位および炭素空位の
    位置に存在するダングリング炭素結合を実質的に飽和さ
    せるのに十分な10000ppmまでの化学結合した水
    素を含有する実質的に直立した柱状ダイヤモンド結晶と
    、(b)前記柱状ダイヤモンド結晶同士を隔離し、かつ
    ダイヤモンド結晶底面に対して70〜90゜の方位を有
    するダイヤモンド結晶粒界とから成ることを特徴とする
    、少なくとも50ミクロンの厚さを有する連続しかつ独
    立した実質的に透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜。 2、500ミクロンの厚さを有する請求項1記載の実質
    的に透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜。 3、500〜5000ミクロンの厚さを有する請求項1
    記載の実質的に透明な多結晶質ダイヤモンド薄膜。 4、基体の表面から約0.3〜約1cmの距離に維持さ
    れた加熱反応域内に活性の炭素−水素化学種を生成する
    のに十分な約600〜約1000℃の温度および約3〜
    約24Torrの圧力の下で、水素およびメタンの全容
    積を基準として約1.5〜約2容量%のメタンを含有す
    る水素−メタン混合ガスを前記加熱反応域内に導入する
    を特徴とする、非付着性の実質的に透明な多結晶質ダイ
    ヤモンド薄膜を基体上に成長させるための方法。 5、前記基体がモリブデン基体である請求項4記載の方
    法。
JP23916090A 1989-09-14 1990-09-11 透明なダイヤモンド薄膜およびそれの製造方法 Expired - Lifetime JP3176614B2 (ja)

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