JPH03147546A - Optical memory element - Google Patents
Optical memory elementInfo
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- JPH03147546A JPH03147546A JP28832089A JP28832089A JPH03147546A JP H03147546 A JPH03147546 A JP H03147546A JP 28832089 A JP28832089 A JP 28832089A JP 28832089 A JP28832089 A JP 28832089A JP H03147546 A JPH03147546 A JP H03147546A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光等の光を照射して情報の記録、再生
及び消去を行う光メモリ素子に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical memory element that records, reproduces, and erases information by irradiating it with light such as a laser beam.
近年、情報の書換え、消去が可能な光メモリ素子、特に
、光磁気メモリ素子の研究開発が活発に行われている。2. Description of the Related Art In recent years, research and development of optical memory elements, in particular magneto-optical memory elements, in which information can be rewritten and erased has been actively conducted.
中でも記録媒体として希土類遷移金属非晶質合金薄膜を
用いたものは、記録媒体が粒界の影響を受けないこと及
び記録媒体の膜を大面積にわたって比較的容易に作成す
ることができることから注目を集めている。Among these, those using rare earth transition metal amorphous alloy thin films as recording media are attracting attention because the recording media are not affected by grain boundaries and the recording media film can be relatively easily formed over a large area. are collecting.
記録媒体として上記の希土類遷移金属非晶質合金薄膜を
使用した光磁気メモリ素子は、情報の再生に利用する磁
気光学効果(カー効果、ファラデー効果)が比較的小さ
いが、光学ヘッドの精密化を図るとともに、制御技術、
回路技術を駆使することにより、実用に適するS/N比
が得られるようになった。Magneto-optical memory devices that use the above-mentioned rare earth transition metal amorphous alloy thin films as recording media have relatively small magneto-optical effects (Kerr effect, Faraday effect) used for information reproduction, but it is important to improve the precision of the optical head. control technology,
By making full use of circuit technology, it has become possible to obtain an S/N ratio suitable for practical use.
第4図に従来の光磁気メモリ素子の一例を示す。この光
磁気メモリ素子は、ポリカーボネイト、アクリル等の透
明樹脂からなる透明基板21上に/1Nliからなる第
1の透明誘電体膜22(例えば、膜厚80nm)が形成
され、この第1の透明誘電体膜22上にGdTbFe、
TbFeCo、DyFeCoの合金薄膜等の希土類遷移
金属膜23(例えば、膜厚20nm)が形成されている
。FIG. 4 shows an example of a conventional magneto-optical memory element. In this magneto-optical memory element, a first transparent dielectric film 22 (for example, 80 nm thick) made of /1Nli is formed on a transparent substrate 21 made of a transparent resin such as polycarbonate or acrylic. GdTbFe on the body membrane 22,
A rare earth transition metal film 23 (eg, 20 nm thick) such as an alloy thin film of TbFeCo or DyFeCo is formed.
更に、希土類遷移金属膜23上にAffiN膜からなる
第2の透明誘電体膜24(例えば、膜厚25nm) 、
A/!膜からなる反射膜25(例えば、膜厚50nm)
及び樹脂からなる保護膜26が順次積層されている。Furthermore, a second transparent dielectric film 24 (for example, film thickness 25 nm) made of an AffiN film is formed on the rare earth transition metal film 23,
A/! Reflective film 25 (for example, film thickness 50 nm)
and a protective film 26 made of resin are sequentially laminated.
上記の光磁気メモリ素子では、希土類遷移金属膜23に
レーザ光を照射しながら所定の方向に外部磁場を印加す
ることにより、情報の記録及び消去が行われ、又、希土
類遷移金属膜23にレーザ光(直線偏光)を照射して、
反射光における偏光面の回転を検出することにより、情
報の再生が行われる。なお、記録膜としての希土類遷移
金属膜23の両側に第1及び第2の透明誘電体膜22・
24を設けると、上記反射光における偏光面の見掛けの
回転角が増加し、これにより、再生時のSZN比を向上
させることができる。In the above magneto-optical memory element, information is recorded and erased by applying an external magnetic field in a predetermined direction while irradiating the rare earth transition metal film 23 with a laser beam. By irradiating light (linearly polarized light),
Information is reproduced by detecting the rotation of the plane of polarization in the reflected light. Note that first and second transparent dielectric films 22 and 22 are disposed on both sides of the rare earth transition metal film 23 as a recording film.
24 increases the apparent rotation angle of the plane of polarization in the reflected light, thereby improving the SZN ratio during reproduction.
以上では、片面のみを使用する光磁気メモリ素子につき
述べたが、両面を使用する場合は、片面使用型の光磁気
メモリ素子を2枚貼り合わせれば良い。In the above, a magneto-optical memory element using only one side has been described, but when using both sides, it is sufficient to bond two single-sided magneto-optical memory elements together.
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、上記の構成において、透明基板21としては
工業的に安価に製造可能な樹脂基板が多用されている。[Problems to be Solved by the Invention] Incidentally, in the above configuration, as the transparent substrate 21, a resin substrate that can be industrially manufactured at low cost is often used.
しかしながら、このように樹脂基板を使用した場合、記
録及び消去時に希土類遷移金属膜23がキュリー温度(
130〜200 ’C程度)付近まで上昇させられると
、希土類遷移金属膜23の熱が第1の透明誘電体膜22
を通して透明基板21に伝わり、この熱により透明基板
21に変形が生じがちになる。そのため、長期間の間に
は透明基板21の表面に凹凸が生じたり、透明基板21
が歪みを受けて湾曲することがある。このように透明基
板21が変形すると、記録、消去の感度及び再生信号品
質等に悪影響が与えられるものである。なお、以上のよ
うな問題に関しては、特開昭62−114141号公報
でも述べられている。However, when a resin substrate is used in this way, the rare earth transition metal film 23 reaches the Curie temperature (
When the temperature is raised to around 130-200'C, the heat of the rare earth transition metal film 23 is transferred to the first transparent dielectric film 22.
The heat is transmitted to the transparent substrate 21 through the heat, and the transparent substrate 21 tends to be deformed due to this heat. Therefore, over a long period of time, unevenness may occur on the surface of the transparent substrate 21.
may be distorted and curved. If the transparent substrate 21 is deformed in this way, it will adversely affect recording and erasing sensitivity, reproduction signal quality, and the like. Incidentally, the above-mentioned problems are also discussed in Japanese Patent Laid-Open No. 114141/1983.
本発明に係る光メモリ素子は、上記の課題を解決するた
めに、透明基板上に透明誘電体膜を介して記録膜を形成
した光メモリ素子において、上記透明誘電体膜は互いに
熱伝導率の異なる複数の層からなり、かつ、熱伝導率の
より小さい層が透明基板側に、熱伝導率のより大きい層
が記録膜側に配置されていることを特徴とするものであ
る。In order to solve the above problems, an optical memory element according to the present invention is an optical memory element in which a recording film is formed on a transparent substrate through a transparent dielectric film, and the transparent dielectric film is formed of a plurality of transparent dielectric films having mutually different thermal conductivities. It is characterized in that the layer with lower thermal conductivity is placed on the transparent substrate side, and the layer with higher thermal conductivity is placed on the recording film side.
上記の構成によれば、透明基板と記録膜との間の透明誘
電体膜を熱伝導率の異なる複数の層として形成し、透明
基板側に熱伝導率の小さい層を設けたので、記録、消去
時に記録膜の温度が上昇しても記録膜からの熱が透明誘
電体膜における熱伝導率の小さい層に遮断されて透明基
板に伝わりにくくなる。そのため、透明基板の表面に凹
凸が生じたり、透明基板が湾曲する等の変形は生じにく
くなる。又、記録膜側には、透明誘電体膜における相対
的に熱伝導率の大きい層を配置したので、記録膜の熱は
この熱伝導率の大きい層に拡散することができる。According to the above structure, the transparent dielectric film between the transparent substrate and the recording film is formed as a plurality of layers having different thermal conductivities, and the layer with low thermal conductivity is provided on the transparent substrate side, so that recording, Even if the temperature of the recording film increases during erasing, the heat from the recording film is blocked by the layer of low thermal conductivity in the transparent dielectric film, making it difficult for it to be transmitted to the transparent substrate. Therefore, deformation such as unevenness on the surface of the transparent substrate or bending of the transparent substrate is less likely to occur. Further, since a layer of a transparent dielectric film having a relatively high thermal conductivity is arranged on the recording film side, the heat of the recording film can be diffused to this layer having a high thermal conductivity.
本発明の一実施例を第1図乃至第3図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。An embodiment of the present invention will be described below based on FIGS. 1 to 3.
第1図に示すように、光メモリ素子としての光磁気メモ
リ素子はポリカーボネイト又はアクリル等の透明樹脂か
らなる透明基板1を備えている。As shown in FIG. 1, a magneto-optical memory element as an optical memory element includes a transparent substrate 1 made of a transparent resin such as polycarbonate or acrylic.
透明基板l上には第1の透明誘電体膜2(例えば、膜厚
80nm)が形成され、第1の透明誘電体15!2上に
記録膜として、GdTbFe、TbFeCo、DyFe
Coの合金薄膜等の希土類遷移金属膜3(例えば、膜厚
20 nm)が形成されている。更に、希土類遷移金属
膜3上に/IN膜等からなる第2の透明誘電体膜4(例
えば、膜厚25nm)が積層されている。A first transparent dielectric film 2 (for example, 80 nm thick) is formed on the transparent substrate l, and a recording film of GdTbFe, TbFeCo, DyFe is formed on the first transparent dielectric 15!2.
A rare earth transition metal film 3 (eg, 20 nm thick) such as a Co alloy thin film is formed. Furthermore, a second transparent dielectric film 4 (eg, 25 nm thick) made of a /IN film or the like is laminated on the rare earth transition metal film 3.
又、第2の透明誘電体膜4上にはAffi膜等からなる
反射膜5(例えば、膜厚50nm)が形成され、反射)
115上にシリコーン樹脂又は紫外線硬化型樹脂がコー
ティングされて硬化されることにより保護膜6が設けら
れている。なお、光磁気メモリ素子を両面使用型とする
場合は、上記した片面使用型の光磁気メモリ素子を2枚
貼り合わせれば良い。Further, a reflective film 5 (for example, film thickness 50 nm) made of an Affi film or the like is formed on the second transparent dielectric film 4 to provide a reflection).
A protective film 6 is provided by coating 115 with silicone resin or ultraviolet curing resin and curing it. When the magneto-optical memory element is of a double-sided type, it is sufficient to bond two of the above-mentioned single-sided type magneto-optical memory elements.
上記第1の透明誘電体膜2は2つの層2a・2bから構
成されている。そのうち、透明基板l側に位置する第1
層2aは屈折率が大きく、熱伝導率の比較的小さい材料
、例えば、Y2O3により安定化された安定化ジルコニ
ア(ZrO2・Y2Ch : Yttria 5tb
ilized Zirconia )により形成される
。その場合、例えば、ZrO,にY2O。The first transparent dielectric film 2 is composed of two layers 2a and 2b. Among them, the first one located on the transparent substrate l side.
The layer 2a is made of a material having a high refractive index and a relatively low thermal conductivity, for example, stabilized zirconia stabilized by Y2O3 (ZrO2.Y2Ch: Yttria 5tb).
ilized Zirconia). In that case, for example, ZrO, Y2O.
を10mo l e%添加した安定化ジルコニア薄膜を
5〜75nmの膜厚で形成する。A stabilized zirconia thin film to which 10 mol % of is added is formed to have a thickness of 5 to 75 nm.
一方、希土類遷移金属膜3例の第2層2bは、第1層2
aより熱伝導率が大きい材料、例えば、AfNにより形
成される。この第2層2bの膜厚は5〜75nmの範囲
とし、第1の透明誘電体膜2全体として80nm程度の
膜厚になるように設定する。On the other hand, the second layer 2b of the three rare earth transition metal films is the same as the first layer 2b.
It is made of a material having a higher thermal conductivity than a, for example, AfN. The thickness of the second layer 2b is in the range of 5 to 75 nm, and the thickness of the first transparent dielectric film 2 as a whole is set to be about 80 nm.
第1表に各種材料からなる透明誘電体膜の屈折率及び熱
伝導率を示す。同表から明らかなように、第1層2aを
構成する安定化ジルコニア(ZrO2・y、o、 )の
熱伝導率は、第2Jii2 bを構成するAINの熱伝
導率よりかなり小さく、従って、記録又は消去時にレー
ザ光の照射により希土類遷移金属膜3がキュリー温度付
近まで昇温されても、希土類遷移金属膜3の熱は第1層
2aにより遮断され、樹脂製の透明基板1には伝わりに
くくなる。これにより、透明基板lの変形は生じにくく
なるので、記録又は消去の感度の低下又は再生信号品質
の低下等は緩和される。Table 1 shows the refractive index and thermal conductivity of transparent dielectric films made of various materials. As is clear from the same table, the thermal conductivity of stabilized zirconia (ZrO2.y, o, Or even if the temperature of the rare earth transition metal film 3 is raised to near the Curie temperature by irradiation with laser light during erasing, the heat of the rare earth transition metal film 3 is blocked by the first layer 2a and is difficult to be transmitted to the resin transparent substrate 1. Become. As a result, deformation of the transparent substrate l becomes less likely to occur, so that deterioration in recording or erasing sensitivity or deterioration in reproduced signal quality is alleviated.
第3図に本実施例の光磁気メモリ素子と第4図に示す従
来の光磁気メモリ素子についてそれぞれBER(ビット
エラー率)を測定した結果を示す、同図中Iは本実施例
の光磁気メモリ素子におけるBRRの初期値BER(0
)に対するt時間経過後のBER(t)の比、つまり、
BERの増加率の推移を示し、同図中■は従来例におけ
るBERの増加率を示している。同図から明らかなよう
に、本実施例の光磁気メモリ素子では時間が経過しても
BERは殆ど増加しないが、従来例の光磁気メモリ素子
では時間の経過とともにBERが増加することが分かる
。これは、本実施例では希土類遷移金属膜3からの熱が
第1層2aにより遮断されるので透明基板1の変形が生
じにくいのに対し、従来例では、前述のように、希土類
遷移金属膜23(第4図)からの熱により透明基板21
に変形が生じるためであると考えられる。FIG. 3 shows the results of measuring the BER (bit error rate) of the magneto-optical memory element of this example and the conventional magneto-optical memory element shown in FIG. 4, where I indicates the magneto-optical memory element of this example. The initial value of BRR in the memory element BER(0
) to BER(t) after t time elapsed, that is,
The graph shows the change in the rate of increase in BER, and in the figure, ■ indicates the rate of increase in BER in the conventional example. As is clear from the figure, in the magneto-optical memory element of this example, the BER hardly increases with the passage of time, but in the magneto-optical memory element of the conventional example, the BER increases with the passage of time. This is because, in this embodiment, the heat from the rare earth transition metal film 3 is blocked by the first layer 2a, so that deformation of the transparent substrate 1 is less likely to occur, whereas in the conventional example, as described above, the heat from the rare earth transition metal film 3 is blocked by the first layer 2a. Transparent substrate 21 due to heat from 23 (Fig. 4)
This is thought to be due to deformation occurring in the .
次に、透明基板1上に安定化ジルコニア(ZrO2・Y
ZOl)からなる第1の透明誘電体膜2における第1層
2aを形成する手順を説明する。Next, stabilized zirconia (ZrO2/Y
The procedure for forming the first layer 2a of the first transparent dielectric film 2 made of ZOl will be described.
第1層2aは例えば、第2図に示すようなスパッタリン
グ装置IOを使用し、スパッタリング法により形成され
る。スパッタリング装置10は、ペルジャー11内に基
板ホルダー12により透明基板lを保持してなり、透明
基板1と対向する位置にはZrからなるターゲット13
が支持台14上に配置されて、シールド15により保護
されている。又、Zrからなるターゲット13上には金
属イツトリウム(Y)からなるペレット16・・・が複
数個配置され、ターゲット13と透明基板1間には開閉
自在なシャッター17が設けられている。The first layer 2a is formed, for example, by a sputtering method using a sputtering apparatus IO as shown in FIG. The sputtering apparatus 10 includes a transparent substrate 1 held in a Pel jar 11 by a substrate holder 12, and a target 13 made of Zr at a position facing the transparent substrate 1.
is placed on a support stand 14 and protected by a shield 15. Further, a plurality of pellets 16 made of metal yttrium (Y) are arranged on the target 13 made of Zr, and a shutter 17 that can be opened and closed is provided between the target 13 and the transparent substrate 1.
上記のスパッタリング装置10を使用し、Ar及び0□
の混合雰囲気中でスパッタリングを行った。それにより
、透明基板1上に形成された第1層2aは、ZrO,中
にY2O3が3.9〜20.0male%添加された状
態で結晶が立方晶になり、屈折率として2.0〜2.2
の値が得られ、バルク結晶及び焼成により得られる性質
と同等であることが分かった。Using the above sputtering apparatus 10, Ar and 0□
Sputtering was performed in a mixed atmosphere. As a result, the first layer 2a formed on the transparent substrate 1 is made of ZrO with 3.9 to 20.0 male% of Y2O3 added thereto, and the crystal becomes a cubic crystal, with a refractive index of 2.0 to 2.0. 2.2
values were obtained and were found to be equivalent to the properties obtained by bulk crystal and calcination.
なお、以上では、ZrO□中にY2O3を添加した安定
化ジルコニアを示したが、Y2O3に代えてYb20:
l 、Smz Ot 、MgO1CaO1Gd203
、Tbz O,等をZrO,中に添加しても同様の効果
が得られるものであり、Y2O3に限定されるものでは
ない。又、第1層2aとして、ジルコニアを使用しても
良い。In addition, although stabilized zirconia in which Y2O3 was added to ZrO□ was shown above, Yb20:
l , Smz Ot , MgO1CaO1Gd203
, Tbz O, etc. can be added to ZrO to obtain the same effect, and is not limited to Y2O3. Furthermore, zirconia may be used as the first layer 2a.
又、第1の透明誘電体膜2における第2層2bとしては
、AINを例示したが、AIN以外に、その特性を前記
の第1表に示すS iz Na 、S iC等を使用す
ることができる。Further, as the second layer 2b in the first transparent dielectric film 2, AIN is illustrated as an example, but in addition to AIN, S iz Na, S iC, etc. whose characteristics are shown in Table 1 above can also be used. can.
なお、以上では、第1の透明誘電体膜2を2層で構成し
たが、第1の透明誘電体膜2は3層以上としても良い。Although the first transparent dielectric film 2 is made up of two layers in the above example, the first transparent dielectric film 2 may be made up of three or more layers.
又、第2の透明誘電体膜4は省略して第1の透明誘電体
膜2のみを設けるようにしても良い。又、上記実施例で
は、反射光に基づいて情報の再生を行うようにしたが、
透過光に基づいて再生を行うように構成しても良い。Further, the second transparent dielectric film 4 may be omitted and only the first transparent dielectric film 2 may be provided. Further, in the above embodiment, information is reproduced based on reflected light.
It may also be configured to perform reproduction based on transmitted light.
本発明に係る光メモリ素子は、以上のように、透明基板
上に透明誘電体膜を介して記録膜を形成した光メモリ素
子において、上記透明誘電体膜は互いに熱伝導率の異な
る複数の層からなり、かつ、熱伝導率の小さい層が透明
基板側に配置されている構成である。As described above, the optical memory element according to the present invention is an optical memory element in which a recording film is formed on a transparent substrate via a transparent dielectric film, and the transparent dielectric film is composed of a plurality of layers having mutually different thermal conductivities. , and a layer with low thermal conductivity is arranged on the transparent substrate side.
これにより、透明基板と記録膜との間の透明誘電体膜を
熱伝導率の異なる複数の層として形成し透明基板側に熱
伝導率の小さい層を設けたので、記録、消去時に記録膜
の温度が上昇しても記録膜からの熱が透明誘電体膜にお
ける熱伝導率の小さい層に遮断されて透明基板に伝わり
にくくなる。その結果、透明基板の表面に凹凸が生じた
り、透明基板が湾曲する等の変形は生じにく(なる。As a result, the transparent dielectric film between the transparent substrate and the recording film is formed as multiple layers with different thermal conductivities, and a layer with low thermal conductivity is provided on the transparent substrate side, so that the recording film can be heated during recording and erasing. Even if the temperature rises, heat from the recording film is blocked by a layer of low thermal conductivity in the transparent dielectric film, making it difficult for it to be transmitted to the transparent substrate. As a result, deformations such as unevenness on the surface of the transparent substrate and bending of the transparent substrate are less likely to occur.
第1図乃至第3図は本発明の一実施例を示すものである
。
第1図は光磁気メモリ素子を示す概略縦断面図である。
第2図はスパッタリング装置の説明図である。
第3図は経過時間のビットエラー率の増加率との関係を
示すグラフである。
第4図は従来の光磁気メモリ素子を示す概略縦断面図で
ある。
lは透明基板、2は第1の透明誘電体膜、2aは第1層
(熱伝導率の小さい層)、2bは第2層(熱伝導率の大
きい層)、3は希土類遷移金属膜(記録膜)である。
】 1 図1 to 3 show one embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a magneto-optical memory element. FIG. 2 is an explanatory diagram of the sputtering apparatus. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the elapsed time and the rate of increase in the bit error rate. FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view showing a conventional magneto-optical memory element. 1 is a transparent substrate, 2 is a first transparent dielectric film, 2a is a first layer (layer with low thermal conductivity), 2b is a second layer (layer with high thermal conductivity), 3 is a rare earth transition metal film ( recording film). ] 1 Figure
Claims (1)
た光メモリ素子において、 上記透明誘電体膜は互いに熱伝導率の異なる複数の層か
らなり、かつ、熱伝導率のより小さい層が透明基板側、
熱伝導率のより大きい層が記録膜側に配置されているこ
とを特徴とする光メモリ素子。[Claims] 1. In an optical memory element in which a recording film is formed on a transparent substrate via a transparent dielectric film, the transparent dielectric film is composed of a plurality of layers having mutually different thermal conductivities, and The layer with the smaller ratio is on the transparent substrate side,
An optical memory element characterized in that a layer with higher thermal conductivity is arranged on the recording film side.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28832089A JPH03147546A (en) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Optical memory element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28832089A JPH03147546A (en) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Optical memory element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03147546A true JPH03147546A (en) | 1991-06-24 |
Family
ID=17728655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28832089A Pending JPH03147546A (en) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Optical memory element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03147546A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5472758A (en) * | 1992-08-07 | 1995-12-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium for short-wavelength of laser beam and read/write/erase method using the medium |
US5712833A (en) * | 1993-12-28 | 1998-01-27 | Ogihara; Noriyuki | Durable magneto-optical disk having a rare earth-transition amorphous magneto-optical layer |
-
1989
- 1989-11-02 JP JP28832089A patent/JPH03147546A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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