JPH03140677A - 弁、流体制御装置およびこれを含む流体逆流保護装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は流体管へ接続される少なくとも第１と第２のポ
ートを備えた弁体と、可動弁部材とを含み、この弁部材
は前記ポートを閉じる閉位置とポートが弁部材の通路を
経て連通ずる開位置とを有する、弁に関する。

この型式の弁の従来の実施例において、密封が不良にな
った場合でも流体は閉位置において２つのポート間を通
過できる。

本発明はこの欠点を持たない弁を見いだす問題を解決す
ることに関する。この目的で、本発明は同じ種類の弁で
あるも、弁の閉位置において第１と第２のポートを密封
する密封部域を備え、前記密封部域間で弁の閉位置に配
置され室を備え、この室は大気に通じ前記密封部域での
漏洩物を除去できる自由空気へ開口する通気口を備えた
弁を提案する。

部域の一つが漏洩すると、漏洩流体は室を通じて他方の
密封部域まで行き、次いでこれを通過して２つのポート
間を通る。しかし、室に設けた通気口により、室の流体
は大気圧にあり、第２密封部域を横断できず、室に収集
され、ここから通気口を介して除去される。通気口は好
ましくは弁の下部分にあり、而して流体はその底部に留
どまるごとができず、また弁を設置した区域で漏洩が現
れる危険に応じてドレンに至る弁から除去された漏洩流
体のために回収装置（１種の漏斗）を設けることができ
よう。

この種の弁は、成る状況では接続する必要があるも流体
が混合してはならない２つの回路を完全に孤立させるか
ら、安全の観点から特に有利である。

これらは例えば飲料水供給系および集中暖房設備の水回
路であり、これらは加熱回路が満たされているとき以外
は互いに孤立させねばならない。

水システムによる過充填を回避する必要があり、特に加
熱回路からの水が飲料水系へ入りこれを汚染するのを阻
止する必要がある。かかる事故が発生する危険は過充填
の際に加熱回路に生じる過大圧力があれば比較的に高い
。

上記弁は本発明の他の面を成す更に高度な流体制御装置
を提供すべく、あるいは本発明の他の面を成す流体の逆
流に対する保護装置を提供すべく相補手段に関連させる
ことができる。

上記後者の面における本発明の装置は、流体供給システ
ムと消費設備との間に配置される前述のような弁を設け
、前記第１ポートへ接続される供給管を設け、前記第２
ポートへ接続される設備管を設け、第１および第２ポー
トの少なくとも一つに逆止弁を配置し、供給側の方向に
閉じまたは設備側の方向に開き、第１または第２ポート
に装着した逆止弁の上流および下流で供給管および設備
管へ接続される弁の弁部材を制御するシステムを設け、
設備管の圧力が供給管の圧力よりも高いときに弁部材を
閉位置へ動かす手段を設けたことを特徴とする。

流体が設備側から供給側へ流動する傾向がある場合、設
備および／または供給ポート上の逆止弁が閉じ、設備管
の圧力が供給管の圧力よりも高くなり、これにより弁部
材が閉位置へ動く。

この場合、弁の特性が与えられると、装置は設備側を供
給側から離脱し、即ちその設備ポートおよびその供給ポ
ートはいずれも閉じられ、また閉鎖部域間に位置する装
置の部分が大気へ通じる。

本発明の保護装置は特に簡単、経済的な構造でその機能
を遂行する一方、たとえ逆止弁が１個しかない場合でも
特に高レベルの安全性を提供するという利点がある。万
一これが一部開位置で詰まると、流体はなおも弁を通っ
て供給側に到達せねばならない。

本発明の流体制御装置は、流体供給システムと消費設備
との間に配置される前述のような弁を設け、前記第１ポ
ートへ接続される供給管を設け、前記第２ポートへ接続
され、る設備管を設け、第１および第２ポートの少なく
とも一つに逆止弁を配置し、供給側の方へ閉じまたは設
備側の方へ開き、また好ましくは第１および第２ポート
の各々に逆止弁を設けたことを特徴とする。

この種の制御弁は弁部材の操作により供給側と設備側と
の間を連通しまたこれらを互いに孤立させる機能のみな
らず、閉位置における分離機能および開位置における逆
流に対する保護機能を有するから特に有利である。

開位置での安全性を増すために、弁体は有利には真空破
壊弁を装着するポートを含み、弁部材は弁の開位置で真
空破壊弁装着ポートを第１および第２ポートへ接続する
通路を含む。

この種の弁とその真空破壊弁（即ち一側が大気に連通し
た弁）とを有する制御装置では、通路は弁部材が第１お
よび第２ポート間の開位置にあるときかつ真空破壊弁が
開いたとき大気に通じる。

真空破壊弁は簡単であり、即ち弁の開位置において圧力
が大気圧よりも低いときに開く。弁が開位置にあるとき
、真空破壊弁は飲料水供給側に圧力降下が生じると開く
（先の例へ戻る）。

真空破壊弁は差動弁にすることもできる。即ち、これは
圧力差、好ましくは通路の圧力と供給管の圧力との差に
反応する。

より厳密には、この場合、逆止弁は第１ポートに装着さ
れ、真空破壊弁は前記逆止弁の上流で供給管へ接続され
、真空破壊弁は弁の開位置において通路の圧力が供給管
の圧力よりも高いときに開く手段を有する。

流体が設備側から供給側に向かう傾向があり、かつ設備
管に逆止弁がないか、または１個だけあるがこれが不良
である場合、供給管の逆止弁が閉じ、通路の圧力が供給
管の圧力よりも高くなり、これにより真空破壊弁が開か
れる。

供給管と設備管の圧力差に応答しかつ第１または第２ポ
ートに装着した逆止弁の上流および下流で管へ接続され
た差動真空破壊弁を使用することも可能である。

いずれの場合でも、差動真空破壊弁は圧力平衡が異常で
ある場合、特に（先の例へ戻って）飲料水供給側の圧力
降下に続いて、または加熱回路の異常圧力上昇に続いて
加熱回路の圧力が飲料水供給側の圧力よりも高くなる場
合、差動真空破壊弁が開く。

而して制御装置が設備管および供給管の逆止弁を含む場
合、不連続条件は流体の逆流を生じるような状況で弁の
開位置で適用する。故に、弁部材が閉位置にあるか開位
置にあるかに拘わらず、かかる逆流に対する保護が確保
される。

本発明の弁に意図される用途に応じて、弁は流体管へ接
続される２つのポートを有して、また真空破壊弁を装着
するポートを有してまたは有せずに製作される。

例えば体は流体管へ接続される第３ポートを含み、また
弁部材は弁の閉位置で第３ポートが閉じるようにかつ前
記第２ポートが前記第１または第３ポートと連通ずる開
位置を弁部材が閉位置の各側に有し、また一方第３また
は第１ポートが閉じるように形成された通路を含み、前
記室は、弁の閉位置において、第１および第３ポートを
密封する部域または第２および第３ポートを密封する部
域の一つの間で配置される。

この実施例は例えば第１ポートを飲料水供給管へ接続し
、第２ポートを使用者設備管へ接続し、第３ポートを井
戸へ接続した管へ接続することにより使用でき、弁の閉
位置において３本の管は遮断され、第１開位置において
供給管および設備管は連通ずる一方、井戸管は遮断され
、第２開位置において井戸管および設備管は連通ずる一
方、供給管は遮断される。故に設備管には弁の開位置に
おいてメインから、または井戸から供給される。

常に供給ポートと設備ポートとの間にある室は、供給ポ
ートと井戸ポートとの間にあれば、閉位置の供給側を、
これを汚染する恐れのある設備側のみならず井戸からも
保護する。

室が設備ポートと井戸ポートとの間にあれば、これらの
ポートが保護され、また全ポートが室により互いに分離
されていると、保護は全面的であり、流体は弁の１対の
流体ポート間を通ることができない。

本発明の特徴および利点は非限定例により添付図面に関
して行う各種実施例についての記載から明らかになろう
。

第１図、第２図に示す弁において、弁体は流体管へ接続
される第１と第２のポート２Ａ、２Ｂを持つ殻ケーシン
グ１であり、弁部材３はポート２Ａ、２Ｂと共軸状のス
リーブ４Ａ、４Ｂにより殻ケーシング内で回転するよう
に装着される。図示の位置において、弁部材はポートを
閉じる閉位置にあり、密封はスリーブ４Ａ、４Ｂと弁部
材との間の接触部域により提供される。スリーブは殻ケ
ーシングの内壁に関してかなり突出（この種の従来の殻
ケーシングと比較して）するから、密封部域５Ａ、５Ｂ
間の弁の閉位置に配置された室６を形成する殻ケーシン
グと弁部材との間にスペースがある。この室は、前述の
ように大気に通じて部域５Ａ、５Ｂの漏洩物を除去する
ためのポート７を備える。

図示の位置から４分の１回転することにより、弁部材は
開位置を占め、この位置では直径方向通路８がポート２
Ａ、２Ｂを連通させる。この働きは弁の頂点に位置して
弁部材３へ連結された制御ハンドホイール９を操作する
ことにより行われ、これを開位置または閉位置に正確に
位置させるために対接部材（図示せず）が設けられる。

弁部材を一方の位置から他方の位置へ動かすには８分の
１回転で充分であることに注目されたい。

室８の通気ロアは弁の底にあり、而して弁の底部分に流
体が残留しない。弁部材は球形（厳密には、部分球形）
であり、これを支持するためにラグ１０を設ける。

本発明の一好適特徴によると、スリーブ５Ａ。

５Ｂの厚みは通路８の直径に少なくとも等しいことに注
目されよう。

このことは、開位置と閉位置の間の変更を回避する利点
を有し、通路は室６に面すると同時にポートの一つに面
し、流体をポートから室へ流動させる。

この特徴はこの種の従来の弁の直径と比較して、通路に
特定の小さい直径を与えることにより顕著になる。

第３図、第４図に示す弁において、弁体は第１および第
２ポート１２Ａ、１２Ｂを側壁に形成したシリンダ１１
であり、ポートは相互に軸方向に偏倚し、流体管へ接続
され、また弁部材は前記シリンダ内でスライドするピス
トン１３であり、その側壁で、その通路の各オリフィス
の両側に環状溝を有し、谷溝にＯリングシール１４Ａな
いし１４Ｄが配置され、シリンダはその端が、唇シリン
ダ１４Ｅ、１４Ｆを備えた端片により閉じられる。

弁は閉位置に示され、この位置ではピストンがポート１
２Ａ、１２Ｂを閉鎖し、密封はポート１２Ａに対しては
０リングシール１４Ｂ、１４Ｃとシリンダの壁との間の
部域およびポート１２Ｂに対してはシール１４Ｄ、１４
Ｅに対応する部域１５Ｄ、１５Ｅにおいて得られる。シ
リンダ壁は室１６を形成するポート１２Ａ、１２Ｂ間の
環状凹所を有し、この室は弁の閉位置において、部域１
５Ｃ，１５Ｄ間に配置される。この室は前述のように大
気に通じて部域１５Ｇ、１５Ｄの漏洩物を除去するため
の通気口１７を備える。

これを左へ（第３図、第４図に見て）動かすことにより
、ピストンは開位置に置かれ、この位置で、軸方向部分
１８を２つの放射方向部分１８Ｂ。

１８Ｃへ結合して成る通路はポート１２Ａ、１２Ｂを連
通させる。この働きはラグ２２によりシリンダへ固定し
たブラケット２１内でスライドするロッド２０によりピ
ストン１３へ連結され弁と共軸状の制御ハンドル１９を
操作することにより行われる。ブラケットにはペッグ２
３が装着され、ベツグはロッド２０の溝２４と協働して
、第１にこれを傾斜方向に位置決めし、第２にペッグ２
４が溝の端に対接したときにピストンを軸方向に位置決
めし、弁の開位置は対接状態に図示した端と反対の端に
対接するペッグに対応する。

第５図ないし第７図に示す弁において、弁体はシリンダ
１０１であり、その側壁には流体管へ接続される第１、
第２ポートが直径方向に対向し、弁部材は前記シリンダ
内でスライドするピストン１０３である。シリンダは各
ポート１０２Ａ、１０２Ｂに対して、ポートと共軸状の
凹所を含み、この中には環状シール１０４Ａ、ｌ０４Ｂ
が配置きれ、これにポートが開口しピストン１０３が対
接スライドする。弁は閉位置に示され、この位置でピス
トンがポート１０２Ａ、１０２Ｂを閉じ、密封はシリン
ダ１０３の偏平部とシール１０４　Ａ。

１０４Ｂとの間の接触部域で得られる。シール１０１の
内壁はポート１０２Ａ、１０２Ｂの両側に環状凹所１０
６Ａ、１０６Ｂ、および凹所１０６Ａ、１０６Ｂが開口
する底部の縦方向凹所１０６Ｃ１更には大気へ通じる通
気口を含む。凹所１０６Ａないし１０６Ｃは而して前述
のように弁の閉位置において大気へ通じて漏洩物を除去
する部域１０５Ａ、１０５Ｂ間に配置された室を形成す
る。

ピストン１０３は右へ（第５図、第６図に見て）動かさ
れることにより開位置に置かれ、この位置でその直径方
向通路１０８がポート１０２Ａ、１０２Ｂを連通させる
。

第７図に示すように、製造を容易ならしめるために、シ
リンダ１０１は２個の半分体シリンダ１０１Ａ、ｌ０Ｉ
Ｂを互いに結合して成る。

第８図ないし第１０図に示す実施例では、シリンダ１０
１は流体管へ接続される第３ポート１０２Ｃを含み、こ
のポートはポート１０２Ａ、１０２Ｂに関して軸方向に
かつ凹所１０６Ｂの反対側で偏倚し、第３環状凹所１０
６Ｄは第３ポート１０２Ｃの反対側に形成され、ピスト
ンの通路は放射方向部分１０８Ｂへ結合された軸方向部
分１０８Ａへ結合される。

閉位置（第９図）において、直径部分１０８のオリフィ
スは環状凹所１０６Ｂと整合し、放射方向部分のオリフ
ィスは凹所１０６Ａと整合する。

３個のポート１０２Ａないし１０２Ｃは故に閉じられ、
密封はポート１０２Ａ、ｌ０２Ｂに対しては部域１０５
Ａ、１０５Ｂにおいて、またポート１０２Ｃに対しては
部域１０５Ｃにおいて得られ、またシール１０４Ａ、１
０４Ｂと同様のシール１０４Ｃがこのポートに設けられ
る。

この閉位置の各側に、ピストン１０３は開位置を有し、
この位置ではボーｌ−１０２Ｂがポート１０２Ａと連通
ずる一方、ポート１０２Ｃが閉−じ（第１０図）または
ポート１０２Ｂがポート１０２Ｃと連通する一方、ポー
ト１０２Ａが閉じる（第８図）。

弁はハンドル１９を操作してポート１０２Ａ　（、また
はｌ０２Ｂ）と１０２０との間の偏倚距離の半分に等し
い距離だけ、所要の開位置に適するよう右または左へ動
かすことにより、閉位置から開位置の一つへ切り換えら
れる。

ブラケット２１はばね負荷された割り出しボール２６を
含み、ロッド２０は中距離位置に対応穴２７を組み入れ
る。ボール２６が穴２７に入っているとき、弁は閉じら
れ、またベツグ２３が溝２４の端と対接しているとき、
弁は開いている。

シール１０４Ａないし１０４Ｃと同様であるも中央穴を
持たないバッド１０９Ａ、ｌ０９Ｂが設けられ、これは
弁の各開位置の通路の未使用オリフィスを密封する。

第１１図ないし第１４図に示す第１図、第２図の弁の他
の実施例において、殻ケーシング１は流４１へ接続され
るポート２Ｃを含み、第１および第３ポート２Ａ、２Ｃ
は第１直径上で直径方向に対向し、第２ポートは前記第
１直径の横方向の直径上に配置される。ポート２Ｃのス
リーブ４ｃが設けられ、また弁部材３の通路８ＡはＬ字
形である。

閉位置（第１１図、第１２図）において、通路のオリフ
ィスは第２、第１ポート２Ｂ、２Ａ間、および第２、第
３ポート２Ｂ、２Ｃ間に配置される。

３個のポート２Ａないし２Ｃが閉じられ、密封はそれぞ
れの弁部材とスリーブとの接触により得られる。この位
置において、室は第１および第２ポートを密封する部域
５Ａ、５Ｂの間、第１および第３ポートを密封する部域
５Ａ、５Ｃの間、および第２および第３ポートを密封す
る部域５Ｂ。

５Ｃの間にあることに注目されよう。閉位置の各側で、
弁部材３は開位置を有し、この位置ではポート２Ｂはポ
ート２Ｃが閉じている（第１３図）間にポート２Ａまた
はボーート２Ｃと連通し、またはポート２Ａが閉じてい
る（第１４図）間にボ−ト２Ｃと連通ずる。

弁は制御ハンドル９を操作して弁部材を所要の開位置に
応じて一方または他方に８分の１回転することにより、
閉位置から開位置の一つへ切り換えられる。第８図ない
し第１０の弁のシステムと均等な割り出し装置２８が設
けられ、而して弁部材がその各開位置で対接部に対接し
、中距離で、即ちその閉位置で割り出される。

上述した各弁において、弁部材は弁体へ開口した少なく
とも第１および第２ポートと通じてオリフィスの縁と運
動時に接触状態に留どまるように弁体に装着されること
に注目されよう。このことは流体に存在する粒子が弁部
材とオリフィスの縁との間に捕捉されるのを阻止し、弁
が閉じるのを阻止するという利点を有し、この利点は第
２５図ないし第２７図に関して後述するように流体の逆
流に対して保護する装置におけるように、弁を自動的に
閉じるべき場合に特に有益である。

上述した弁は可逆性である。即ち、流体は弁を通じてい
ずれの方向にも流動できる。故に、流体が両方向に流動
できる回路の間にこの弁を取り付けることができる。

故に流体が一方向のみに流れるべき回路間で、例えば飲
料水供給側と消費設備側との間で、制御装置として弁を
使用すべきであれば、逆止手段を付加する必要があり、
供給管は第１ポート２Ａ。

１２Ａまたは１０２Ａへ接続され、設備管は第２ポート
２Ａ、１２Ｂまたは１０２Ｂへ接続され、設備側が飲料
水部を汚染する可能性がある。

而して、第３ポート２Ｃを例えば井戸へ接続した第１１
図ないし第１４図に示す流体制御装置において、逆止弁
２９Ｂをポート２Ｂ　（設備側）へ取り付け、設備側の
方へ開口させる。故に流体は弁の開位置において設備側
の方へのみ流動できる。

即ち、第１開位置（第１３図）においては供給側から設
備側の方へ、または第２開位置（第１４図）においては
井戸から設備側の方へ流動できる。

供給メインへの逆流の危険を回避するために、供給側へ
閉じた逆止弁２９Ａがポート２Ａ（供給側）に設けられ
る。設備側からの逆流の阻止は而して２重の安全性を持
つ。要求される安全条件に応じて、井戸の方へ閉じる逆
止弁をポート２Ｃに設け、またはポート２Ａ、２Ｂまた
は２Ｃに１つの弁を設けることができる。

第８図ないし第１Ｏ図に示す弁は同様の方法で使用でき
、そのポート１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃはポート２
Ａ、２Ｂ、２Ｃに対応し、またこの弁は１個以上の逆止
弁と組み合わせることができる。

両実施例において、弁の閉位置では室６．１０６Ａない
し１０６Ｄは対応密封部域間に置かれているから設備側
の水または井戸の水が供給側（ポート２Ａまたは１０２
Ａ）へ入るのを阻止できること、および井戸（ポート２
Ｃまたは１０２Ｃ）は設備側（ポート２Ｂまたは１０２
Ｂ）から孤立していることに注目されよう。

、２つの開位置間の閉位置を通ることが必要であるとい
う事実により、弁部材３または１０３の通路の少なくと
も一つのオリフィスは室６または１０６Ａないし１０６
Ｄに開口することになり、その結果そこに入れられた液
は大気へ通気され、室に収集され、そのオリフィスから
流れ出る。故に通路の残留液は弁へ接続された回路を汚
染しない。

第１図ないし第７図の２ポート弁は第１ポート２Ａ、１
２Ａまたは１０２Ａへ接続した供給管と第２ポート２Ｂ
、１２Ｂまたは１０２Ｂへ接続された設備管との間で使
用でき、第１および第２ポートの少なくとも一つに装着
した供給側に閉じ設備側に開く逆止弁と組み合わせ、ま
たは好ましくは第１および第２ポートの各々の逆止弁と
組み合わせ、安全性を２重にすることができる。

第１５図の操作装置の弁形酸部分は第１図および第２図
の弁と同様であるが、その異なる点は、その殻ケーシン
グが真空破壊弁装着用のポート２Ｄを含み、このポート
は第１および第２ポート２Ａ、２Ｂを配置した直径に対
して横方向の直径上に配置され、対応スリーブを設け、
通路を丁字形とし、即ち通路は直径部分８に加えて横方
向にその中心へ接続する放射方向部分８Ｂを含むことで
ある。弁の閉位置において、放射方向部分８Ｂのオリフ
ィスはポート２Ｄとポート２Ａまたは２Ｂとの間に配置
され、故に３個のポート２Ａ、２Ｂ。

２Ｄは閉じられ、密封は弁部材とスリーブとの接触によ
り得られる。部分８Ｂのオリフィスをポート２Ａ、２Ｄ
の間に置くべきとき反時計方向に、またはポート２Ｂ、
２Ｄを選択すべきとき時計方向に８分の１回転すること
により、弁部材は第１５図に示す開位置に置かれ、この
位置で真空破壊弁装着ポート２Ｄがポート２Ａ、２Ｂへ
接続される。

第１図、第２図の弁におけるように、開閉位置に対応す
る制御ハンドホイールおよび対接部材を含む手段に作用
することにより、弁が操作される。

図示の流体制御装置は供給メインと消費設備との間に取
り付けられ、供給管はポート２Ａへ、設備管はポート２
Ｂへ接続される。

・流体制御装置は供給メインと消費設備との間に取り付
けられ、供給管はボー）２Ａへ接続され、設備管はポー
ト２Ｂへ接続される。これは弁に加えて、第１、第２ポ
ートの各々に装着され、供給メインの方へ閉じ、設備側
の方へ開く逆止弁２９Ａ、２９Ｂ、およびポート２Ｄに
装着される簡単な真空破壊弁４０を含む。弁４０は大気
の方に閉じる逆止弁であり、体１４０を含み、弁座１４
０を有する弁部材１４２が星形支持具１４１により体１
４０内に装着される。

大気圧に関して上流管に圧力降下があり、弁２９Ａがな
く、または弁があるが不良である場合、通路の圧力が大
気圧よりも低くなり、真空破壊弁が開き、通路が大気圧
に通じる。

第１６図ないし第１８図に示す実施例において、ポート
２Ｄに装着された真空破壊弁４１は、逆止弁２９Ａの上
流で供給管３０Ａへ管３１により接続され、弁の開位置
において弁の通路の圧力が供給管の圧力よりも高い場合
に弁を開く手段を含む。

第１７図ないし第１８図は真空破壊弁４１を詳細に示す
。これは通気ポート３４を選択的に閉じる弁部材３３を
含み、弁の開位置において弁部材の通路８．８Ｂが通気
ポーート３４に開口し、また弁部材３３へ結合されたピ
ストン７１を配置した管３２により供給管３８へ接続さ
れるシリンダ７０を含み、ピストン７１は弁部材３３の
面部域Ｓ２と同様の面部域Ｓｔを有し、而して通路の圧
力が供給管の圧力よりも高いとき、ピストン７１は右側
の半断面で示すように、弁部材は通気ポート３４を開く
位置を占める。通気はポート７４を通じて開口する室７
３と室６とを接続する管７２（第１８図参照）を通じて
行われる。

流体が設備側から供給側へ流れる傾向があれば、また弁
２９Ｂがな（（これは不可欠のものでないから）または
弁があるも不良であれば、弁２９Ａが閉じ、通路８．８
Ｂの圧力は管３０Ａの圧力よりも高くなり、弁４１が開
き、通路を大気に通気する。

真空破壊弁４１は弁部材３３がポート３４へ開口する位
置へピストン７１を押圧するばね７５を含み、而して真
空破壊弁が開くが、ただし供給管の圧力は通路の圧力よ
りもなおも高（、このことは例えば０．２バールの安全
マージンがあることを意味する。

更に、弁２９Ａを校正し、而して例えば弁２９Ａの人口
側と出口側との間に０．４バールの圧力差があるとき弁
部材３３がポート３４を閉じる位置へピストン７１が動
くまで弁２９Ａが開かないようにするのが好ましい。。

これは供給側から設備側へ流体の流動が始まるとき真空
破壊弁を通じる漏洩を阻止する。

第１９図、第２０図に示す実施例では、ポート２Ｄに装
着した真空破壊弁３１は管３２Ａにより供給管３０Ａへ
、また管３２Ｂにより設備管３０Ｂへ逆止弁２９Ａまた
は２９Ｂの上流または下流で接続され、また設備管３０
Ｂの圧力が供給管３０Δの圧力よりも高い場合にこの弁
を開く手段を有する。弁部材３３はこの場合シリンダ３
５へ接続され、このシリンダは弁部材のロッド３７の横
方向に配置されこのロッドへ結合された膜３・６により
、室３８Ａ、３８Ｂに分割され、これらの室は供給管お
よび設備管へ管３２Ａおよび管３２Ｂにより接続される
。設備管３０Ｂの圧力が供給管３０Ａの圧力よりも高い
場合、右側の半断面図に示すように、膜は弁部材３３が
通気ポート３４を開く位置を占める。

流体が設備側から供給側へ流れる傾向があれば、弁２９
Ａおよび／または２９Ｂが閉じ、管３０Ｂの圧力が管３
０Ａの圧力よりも高くなり、弁３１が開き、通路を大気
へ通気する。

弁部材３１のばね３９は弁部材４Ｉのばねに匹敵し、弁
２９Ａは好ましくは第１６図ないし第１８図の装置の弁
と同様の方法でこのばねに関して校正される。

もし弁２９Ｂがあれば、弁４１は必要でないならば、即
ち弁２９Ｂが不良のときだけ、設備管の圧力上昇に応答
しないという利点がある。

あるいは、ピストン７１の代わりに膜を真空破壊弁に使
用し、また膜３６の代わりにピストンを真空破壊弁３１
に使用できる。

第２１図に示す操作装置の弁形酸部分は、流体管へ接続
される第１、第２および竿３ポート２Ａ。

２Ｂ、２Ｃ１対応スリーブ４Ｄを持つ真空破壊弁を装着
するポート２Ｄを持つ殻ケーシングを含む。

第１および第２ポート２Ａ、２Ｂは第１直径上で対向し
、第３ボーＢｃおよび真空破壊弁装着用ポート２Ｄは第
１直径の横方向の直径上で直径方向に対向する。弁部材
の通路は放射方向部分８Ｂを中心へ横方向に接続した直
径方向部分８を持つ丁字形である。

弁の閉位置において、放射方向部分８Ｂのオリフィスは
真空破壊弁装着用ポート２Ｄと第２ポート２Ｂとの間に
配置され、直径部分８のオリフィスの一つはポート２Ａ
、２Ｂの間に配置され、他のオリフィスはポート２Ｂ、
２Ｃの間に配置される。４つのポート２Ａｌ　２Ｄは閉
じられ、密封は弁部材とスリーブとの間の接触により行
われる。

この位置において、弁のポートを閉じる１対の密封部域
間に位置する室６の少なくとも一部があることに注目さ
れよう。

この閉位置の各側で、弁部材３は開位置を有し、この位
置において時計方向回転によりポート２Ｂはポート２Ａ
、２Ｄと連通する一方、ポート２Ｃが閉じ（この位置は
第２１図に示された位置である）ま・たは反時計方向回
転によりポート２Ｂがホト２Ｃ１２Ｄと連通ずる一方、
ポート２Ａが閉じる。

閉位置から開位置の一つへ動くための必要な８分の１回
転は第１２図に示したものと同様の制御および割り出し
手段を操作することにより行われる。

第１１図ないし第１４図の弁の使用に関する上記説明の
部分はこの弁にも同様に適用でき、この部分は第１５図
ないし第２０図の弁と、ポート２Ａ、２Ｂの逆止弁およ
びポート２Ｄの真空破壊弁との組み合わせに関する。

第２２図は第３図、第４図の弁の改変例を示す部分横断
面図であり、真空破壊弁を取り付けることができる。

シリンダ１１は第１ポート１２Ａの軸線と同じシリンダ
の横方向平面に含まれた軸線上で心出しされた真空破壊
弁装着用ポート１２Ｄを含み、またピストンの通路は側
面に形成された環状溝２５を含み、これは通路の放射方
向部分１８Ｂの軸線を含むピストンの横方向平面上に心
出しされる。

而して、第２２図に示す開位置において、真空破壊弁装
着用ポートはポート１２Ａ、１２Ｂへ接続される。この
種の弁は第１５図ないし第２０図に関して前述した弁と
同様の方法で使用され、ポート１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｄ
はそれぞれポート２Ａ。

２Ｂ、２Ｄに対応する。

第２３図は第５図ないし第７図の弁および第８図ないし
第１０図の弁に関する部分横断面図であり、真空破壊弁
をこれに取り付けうるようにした改変例を示す。

第５図ないし第７図の弁の場合、シリンダ１０１は真空
破壊弁を第１および第２ポート１０２Ａ。

１０２Ｂに関して軸方向に偏倚して装着するポート１０
２Ｄを含み、またンール１０４Ａ、ＩＯＢと同様のシー
ル１０４Ｄをポート１０２０に設け、ピストンは直径部
分１０８へ接続した軸方向部分１０８Ａを有する通路を
組み入れ、この通路に放射方向部分１０８Ｂが接続され
、この放射方向部分のオリフィスは第２３図に示す弁の
開位置でボ−ト１０２Ｄと整合し、この位置で真空破壊
弁を装着するポートがポート１０２Ａ、１０２Ｂへ接続
される。この種の弁は第２２図の弁と同様の方法で使用
される。

第８図ないし第１Ｏ図の弁の場合、シリンダ１０１はシ
ール１０４Ｄにより置き換えられるパッドｌ０ＩＡの場
所に追加のポート１０２Ｄを含む。

而して第１０図のものに対応する図示の開位置において
、真空破壊弁を装着するポートは第１および第２ポート
１０２Ａ、１０２Ｂと連通ずる。この弁は第２１図のも
のと同様の方法で使用されるが、真空破壊弁は第８図に
対応する開位置において通路へ接続されない。

第２４図は第８図ないし第１０図の弁の他の改変例を示
し、通路を真空破壊弁へ接続するのを可能にし、この改
変例は使用者の要求により、第２３図に示すものと組み
合わせることができる。ポート１０２Ｄ’　はシール１
０４Ｄ’　により置き換えられるパッド１０９Ｂの代わ
りに設けられる。

第２５図に示す流体逆流保護装置は第１図、第２図の弁
に対応する弁を含むが、制御ハンドホイールを持たない
。これは流体供給メインと消費設備との間に置かれ、供
給管３０Ａは第１ポート２人へ接続され、設備管３０Ｂ
は第２ポート２Ｂへ接続される。この保護装置は管３０
Ａ、３０Ｂへ管４２Ａ、４２Ｂにより接続される弁の弁
部材３を制御するシステム４３を含み、更には設備管３
０Ｂの圧力が供給管３０Ａの圧力よりも高い場合、弁部
材を閉位置へ動かす手段を含む。故に、制御システムは
この場合に供給側を設備側から離脱する。

制御システム４３は供給管３０Ａおよび設備管３０Ｂと
連通ずる室４７Ａまたは４７Ｂ内で動く而４６Ａまたは
４６Ｂを各端に有するピストン４５が内部で動くシリン
ダ４４を含み、ピストンは弁部材と共軸状のビニオン４
８およびピストンへ取り付けたラック４９により弁部材
へ接続される。

而４６Ａ、４６Ｂは面積が等しく、而して設備管の圧力
が供給管の圧力よりも高いとき、第２５図に示すように
、ピストンは一つの位置を占め、この位置では弁部材が
閉位置にある。図示の位置は極限閉位置であり、この位
置では弁部材は４分の１回転しているが、閉位置を選択
するには遥かに小さい回転で充分である。

制御システムは好ましくはピストン４５を一つの位置へ
押圧するばね５０を含み、この位置では弁の弁部材は閉
位置、即ち第５図の左へ向かい、而して供給管の圧力と
設備管の圧力との差が、真空破壊弁３１．４１のばねに
関して前述したのと同様の安全マージンに対応する所定
の下限以下に低下すると、弁部材が閉位置へ動く。

更に、逆流の傾向があるときに大きい圧力差を発生する
ために、第１または第２ポートに少なくとも一つの逆止
弁を設け、供給側に向かって閉じ、設備側に向かって開
き、この場合第１および第２ポート５１Ａ、５１Ｂの各
々に弁があり、安全性を増す。

室４７Ｂの凹所８０はたとえ管４２Ｂが開口した壁へ対
接する場合でも而４６Ｂへ圧力を付与するのを可能にす
る。

ピストン４５と室４７Ａ、４７Ｂ間のシールに関して、
筒状シール５２Ａ、５２Ｂを用いる代わりに、膜を設け
て摩擦を減じるのが有利であることに注目されよう。

面４６Ａ、４６Ｂのような面をピストン１３の端に設け
ることにより第３図、第４図の弁を同様の方法で制御す
ることも可能であり、室４７Ａ。

４７Ｂに対応する室はシリンダ１１に設けられる。

同じことは、第２６図、第２７図に示すように、第５図
ないし第７図の弁にも適用でき、この場合室５５Ａ、５
５Ｂは室４７Ａ、４７Ｂに対応し、ばね５６はばね５０
に対応する。

勿論、本発明は記述され図示された実施例に限定されず
、当業者に想到できる総ての変化例を含む。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の２ポート弁のそれぞれ第２図
の１−１線および第１図のｌｌ−１１線で断面した平面
図および立面図で、弁体は殻ケーシングであり、弁部材
は回転する。第３図、第４図は閉位置における本発明の
２ポート弁のそれぞれ第４図のＩＩＩ−Ｘｌｌ線および
第３図のＩＶＩＶ線で断面した平面図および立面図で、
弁体はシリンダであり、弁部材はピストンである。第５
図は閉位置にある本発明の他の２ポート弁の立面図で、
弁体はシリンダであり、弁部材はピストンである。第６
図、第７図はそれぞれ第５図、第６図（７）Ｖ　Ｉ　−
Ｖ　Ｉ線、ＶＩＩ−ＶＩＩ線でとった横断面図で、ラグ
２２は第７図に示されていない。 第８図ないし第１Ｏ図はそれぞれ第１開位置、閉位置、
第２開位置にある第５図ないし第７図の弁の３ボ一ト実
施例の第６図と同様の図である。第１１図、第１２図は
第１図、第２図の弁の３ポ一ト実施例、および２つの逆
上弁を含む本発明の流体＄ＩＩ御装置の第１２図のＸ　
Ｉ　−Ｘ　Ｉ線、第１１図のＸ１ｌ−Ｘｌｌ線で断面し
た平面図および立面図で、３ポート弁は閉位置に示され
ている。第１３図、第１４図はこの弁の２つの開位置の
模式図である。第１５図は第１図と同様に流体制御弁を
示し、これは真空破壊弁を装着するポートを備えた第１
図、第２図の弁の他の実施例、各流体ポート上の逆止弁
および簡単な真空破壊弁を含む。第１６図は第１５図の
弁の他の実施例を第１５図と同様の方法で示し、真空破
壊弁は通路の圧力と供給管の圧力との差に応答する差動
弁であり、図の左部分は真空破壊弁の閉じた状態、右部
分はその開いた状態を示す。第１７図は真空破壊弁の拡
大詳細図である。第１８図は第１６図のＸＶＩＩＩ−Ｘ
Ｖ　Ｉ　Ｉ　Ｉ線における部分断面拡大立面図である。 第１９図、第２０図は第１５図、第１７図と同様の方法
で流体制御装置の他の実施例を示し、真空破壊弁は供給
管と設備管との圧力の差に応答する。第２１図は真空破
壊弁を装着するポートを含む弁の他の実施例を示す第１
１図と同様の図である。第２２図は真空破壊弁を装着す
るポートを備えた第３図、第４図の弁の他の実施例の部
分図である。第２３図は第５図ないし第７図の弁または
第８図ないし第１０図の弁を示す同様の図である。第２
４図は第８図ないし第１０図の弁を示す同様の図である
。第２５図、第２６図は流体の逆流に対する保護装置を
示し、これは第１図、第２図の弁または第５図ないし第
７図の弁であって制御ハンドホイールまたはハンドルを
持たない弁、管間の圧力の差によりその弁部材を制御す
るシステム、および各流体ポート上の逆止弁を含む。第
２７図は第２６図７７）ＸＸＶ　Ｉ　Ｉ　−ＸＸＶ　Ｉ
　Ｉ線における横断面図である。 ２Ａ、２Ｂ、、、第１および第２ポート、　５Ａ、５Ｂ
、、９部域、　６１０．室、　７０．。 通気用ポート。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、流体管へ接続される少なくとも第１と第２のポート
   を備えた弁体と、可動弁部材とを含み、この弁部材は前
   記ポートを閉じる閉位置とポートが弁部材の通路を経て
   連通する開位置とを有する、弁において、弁の閉位置に
   おいて第１と第２のポート（２Ａ、２Ｂ；１２Ａ、１２
   Ｂ；１０２Ａ、１０２Ｂ）を密封する密封部域を備え、
   前記密封部域間で弁の閉位置に配置され室（６；１６；
   １０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ）を備え、この室は大気
   に通じて前記密封部域での漏洩物を除去するために自由
   空気へ開口する通気口（７、１７、１０７）を備えた弁
   。 ２、前記弁体は真空破壊弁を装着するポート（２Ｄ、１
   ２Ｄ、１０２Ｄ）を有し、弁部材（３、１３、１０３）
   は前記弁の開位置で前記真空破壊弁装着用ポートを前記
   第１および第２ポートへ接続する通路を有することを特
   徴とする請求項１記載の弁。 ３、前記弁体は流体管へ接続される第３ポート（２Ｃ、
   １２Ｃ、１０２Ｃ）を有し、弁部材は通路を有し、この
   通路により弁の閉位置で第３ポートが閉じまた弁部材は
   閉位置の各側に開位置を有しこの開位置で前記第２ポー
   ト（２Ｂ、１２Ｂ、１０２Ｂ）はそれぞれ第１または第
   ３ポートと連通する一方、第３または第１ポートは閉じ
   られ、前記室（６、１６；１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６
   Ｃ）は少なくとも第１および第３ポートを密封する密封
   部域間または第２および第３ポートを密封する部域間で
   弁の閉位置に配置されることを特徴とする請求項１また
   は２記載の弁。 ４、弁部材（３、１３、１０３）は弁体（１、１１、１
   ０１）に装着されるに当たり、少なくとも第１および第
   ２ポートが弁体へ開口するオリフィスの縁と運動時に接
   触状態に留どまるようにされたことを特徴とする前記請
   求項のいずれか一つに記載の弁。 ５、前記弁体は殻体ケーシング（１）であり、前記弁部
   材は殻体ケーシング内で回動しこのケーシング内にポー
   トと共軸状のスリーブ（４Ａ、４Ｂ）により装着され、
   前記室（６）は前記スリーブが殻体ケーシングの内壁に
   関して突出するということに起因し殻体ケーシングと弁
   部材との間のスペースであることを特徴とする請求項１
   記載の弁。 ６、前記スペース（４Ａ、４Ｂ）は弁部材の通路の直径
   と少なくとも等しい厚みを有することを特徴とする請求
   項５記載の弁。 ７、前記殻体ケーシング（１）は流体管へ接続されるべ
   きポートとして前記第１および第２ポート（２Ａ、２Ｂ
   ）のみを有し、これらのポートは直径方向に対向し、ま
   た前記弁部材（３）は直径方向通路（８）を有すること
   を特徴とする請求項５または６記載の弁。 ８、前記殻体ケーシングは更に前記第１および第２ポー
   ト（２Ａ、２Ｂ）を配置した直径を横切る直径に配置し
   た真空破壊弁装着用のポート（２Ｄ）を有し、弁部材の
   通路はＴ字形であり、更に前記直径方向通路（８）の中
   心へ横方向に接続する放射方向部分（８Ｂ）を含み、前
   記放射方向部分のオリフィスは真空破壊弁装着用ポート
   と前記第１および第２ポート（２Ａ、２Ｂ）の一つとの
   間で弁の閉位置に配置されたことを特徴とする請求項７
   記載の弁。 ９、前記殻体ケーシングは流体管へ接続されるポートと
   して前記第１および第２ポート（２Ａ、２Ｂ）および第
   ３ポート（２Ｃ）を含み、第１および第３ポート（２Ａ
   、２Ｃ）は第１直径上に直径方向に対向し、第２ポート
   （２Ｂ）前記第１直径の横方向の直径上に配置され、弁
   部材（３）の通路はＬ字形であり、通路の各オリフィス
   は第２ポート（２Ｂ）と第１または第３ポート（２Ａ、
   ２Ｃ）との間で弁の閉位置に配置されたことを特徴とす
   る請求項５または６記載の弁。 １０、前記殻体ケーシング（１）は流体管へ接続される
   ポートとして第１および第２ポート（２Ａ、２Ｂ）およ
   び第３ポート（２）および真空破壊弁装着用ポート（２
   Ｄ）を含み、第１および第２ポートは第１直径上で直径
   方向に対向し、第３ポートは前記第１直径の横方向の直
   径上で真空破壊弁装着用ポートと直径方向に対向し、弁
   部材（３）の通路はＴ字形であり直径方向部分（８）を
   有し、この直径部分の中心へ放射方向部分（８Ｂ）が横
   方向に接続され、放射方向部分のオリフィスは真空破壊
   弁装着用ポート（２Ｄ）と第２ポート（２Ｂ）との間で
   弁の閉位置に配置され、直径方向部分の第１オリフィス
   は第１ポートと真空破壊弁装着用ポートとの間に配置さ
   れ、直径方向部分の第２オリフィスは第２および第３ポ
   ート（２Ｂ、２Ｃ）間に配置されたことを特徴とする請
   求項５またはまたは６記載の弁。 １１、前記弁体はシリンダ（１１）であり、前記弁部材
   は前記シリンダ内でスライドするピストン（１３）であ
   り、前記室（１６）は前記第１および第２ポート（１２
   Ａ、１２Ｂ）間のシリンダの内壁の環状凹所であり、こ
   れらのポートは前記シリンダの側壁に形成され互いに軸
   方向に偏倚したことを特徴とする請求項１記載の弁。 １２、前記ピストンはその通路の各オリフィスの両側に
   Ｏリングシール（１４Ａ、１４Ｄ）を含むことを特徴と
   する請求項１１記載の弁。 １３、前記シリンダは流体管へ接続されるポートとして
   前記第１および第２ポート（１２ａ、１２ｂ）を含み、
   前記ピストンは２つの放射方向部分（１８Ｂ、１８Ｃ）
   を接続した軸方向部分（１８Ａ）を有する通路を含むこ
   とを特徴とする請求項１１または１２記載の弁。 １４、前記シリンダは更にシリンダの横方向の同じ平面
   に含まれた軸線上に心出しされた真空破壊弁横着用のポ
   ート（１２Ｄ）を含み、ピストンの通路は側面に形成さ
   れかつ放射方向部分（１８Ｂ）の内の一放射方向部分の
   軸線を含むピストンの横方向の平面上で心出しされた環
   状溝（２５）を含み、放射方向部分は弁の開位置におけ
   る第１ポート（１２Ａ）へ接続したことを特徴とする請
   求項１３記載の弁。 １５、前記体は流体管へ接続される第１および第２ポー
   ト（１０２Ａ、１０２Ｂ）を直径方向に対向した側壁を
   有するシリンダ（１０１）であり、前記弁部材は前記シ
   リンダ内でスライドするピストン（１０３）であり、前
   記室は第１および第２ポートの各側でシリンダの内壁の
   環状凹所（１０６Ａ、１０６Ｂ）、および環状凹所（１
   ０６Ａ、１０６Ｂ）および通気オリフィス（１０７）が
   開口する底部の縦方向凹所（１０６Ｃ）を含むことを特
   徴とする請求項１記載の弁。 １６、シリンダ（１０１）は第１および第２ポートのた
   めのシール（１０４Ａ、１０４Ｂ）を含み、このシール
   に対接してスライドすることを特徴とする請求項１５記
   載の弁。 １７、前記シリンダ（１０１）は流体管へ接続されるポ
   ートとして前記第１および第２ポート（１０２Ａ、１０
   ２Ｂ）のみを含み、前記ピストン（１０３）は直径方向
   通路（１０８）を含むことを特徴とする請求項１５また
   は１６記載の弁。 １８、前記シリンダ（１０１）は第１および第２ポート
   （１０２Ａ、１０２Ｂ）に関して軸方向に偏倚した真空
   破壊弁装着用ポート（１０２Ｄ）を含み、ピストンは放
   射方向部分（１０８Ｂ）を接続した軸方向部分（１０８
   Ａ）へ接続した直径方向部分（１０８）を有する通路を
   含み、前記放射方向部分のオリフィスは真空破壊弁装着
   用ポート（１０２Ｄ）に面し、直径方向部分のオリフィ
   スは弁の開位置において第１および第２ポート（１０２
   Ａ、１０２Ｂ）に面することを特徴とする請求項１７記
   載の弁。 １９、前記シリンダは流体管へ接続されるポートとして
   前記第１および第２ポート（１０２Ａ、１０２Ｂ）およ
   びこれに対して軸方向に偏倚した第３ポート（１０２Ｃ
   ）を含み、これは第１および第２ポートを包囲するシリ
   ンダの側壁の第１環状凹所に対してそれらと対向し、第
   ３ポートの他側に第３環状凹所（１０６Ｄ）を形成し、
   ピストンの通路は放射方向部分（１０８Ｂ）を接続した
   軸方向部分（１０８Ａ）を接続した直径方向部分（１０
   ８）を含み、直径方向部分のオリフィスは前記第１環状
   凹所（１０６Ｂ）に面し、放射方向部分のオリフィスは
   弁の閉位置において第１および第２ポートに関して第１
   環状凹所と対向して位置し、弁の各側に閉位置を有しこ
   の閉位置では第２ポート、第１および第３ポートに連通
   する一方、第３および第１ポートが閉じられることを特
   徴とする請求項１５または１６記載の弁。 ２０、前記シリンダ（１０１）は第１および第２ポート
   に関して第３ポートに対向した真空破壊弁装着用ポート
   （１０２Ｄ）を含み、これは弁の開位置においてピスト
   ンの通路の放射方向部分のオリフィスであり、前記開位
   置において第１および第２ポートは連通したことを特徴
   とする請求項１９記載の弁。 ２１、前記シリンダは前記第３ポートに直径方向に対向
   する真空破壊弁装着用ポート（１０２Ｄ′）を含むこと
   を特徴とする請求項１９または２０記載の弁。 ２２、流体供給システムと消費設備との間に配置される
   請求項１ないし２１のいずれか一つに記載の弁を設け、
   前記第１ポート（２Ａ、１２Ａ、１０２Ａ）へ接続され
   る供給管（３０Ａ）を設け、前記第２ポート（２Ｂ、１
   ２Ｂ、１０２Ｂ）へ接続される設備管（３０Ｂ）を設け
   、第１および第２ポートの少なくとも一つに逆止弁を配
   置し、供給側の方へ閉じ、設備側の方へ開くことを特徴
   とする流体制御装置。 ２３、流体供給システムと消費設備との間に配置される
   請求項２、８、１０、１４、１８、２０または２１記載
   の弁を設け、前記第１ポート（２Ａ、１２Ａ、１０２Ａ
   ）へ接続される供給管（３０Ａ）を設け、前記第２ポー
   ト２Ｂ、１２Ｂ、１０２Ｂ）へ接続される設備管（３０
   Ｂ）を設け、真空破壊弁（２Ｄ、１２Ｄ、１０２Ｄ）を
   装着する前記ポートに真空破壊弁（３１、４０、４１）
   を装着し、前記第１および第２ポートの少なくとも一つ
   に逆止弁（２９Ａ、２９Ｂ）を装着し、供給側の方へ閉
   じ、設備側の方へ開くことを特徴とする流体制御装置。 ２４、前記真空破壊弁（４０）は弁の開位置において通
   路の圧力が大気圧よりも低いときに開くための手段を含
   むことを特徴とする請求項２３記載の装置。 ２５、前記第１ポートに逆止弁（２９Ａ）を装着し、前
   記真空破壊弁（４１）は第１ポートに装着した逆止弁（
   ２９Ａ）の上流で供給管（３０Ａ）へ接続され、真空破
   壊弁（４１）は弁の開位置において通路の圧力が供給管
   の圧力よりも高いときに開く手段を含むことを特徴とす
   る請求項２３記載の装置。 ２６、前記真空破壊弁は弁の開位置で弁部材の通路が開
   口する大気へ通じるポート（３４）を選択的に閉じる弁
   部材（３３）、および供給管へ接続されるシリンダ（７
   ０）を含み、このシリンダ内には前記弁部材（３３）へ
   結合されかつ弁部材の面部域（５２）と同様の面部域（
   ５１）を有するピストン（７１）または膜が配置され、
   ピストンまたは膜は通路の圧力が供給管の圧力よりも高
   いときに弁部材が通気ポートを開く位置を占めることを
   特徴とする請求項２５記載の装置。 ２７、前記真空破壊弁（４１）は弁部材（３３）が大気
   へ通じるポート（３４）を開く位置へ前記膜または前記
   ピストン（７１）を押圧するばね（７５）を含むことを
   特徴とする請求項２６記載の装置。 ２８、第１ポート（２Ａ、１２Ａ、１０２Ａ）の逆止弁
   （２９Ａ）は弁部材が大気に通じるポートを閉じる位置
   へ前記膜または前記ピストン（７１）が動いた後にのみ
   開くように校正されたことを特徴とする請求項２７記載
   の装置。 ２９、前記真空破壊弁（３１）は第１または第２ポート
   の逆止弁の上流または下流で上記供給および設備管（３
   ０Ａ、３０Ｂ）へ接続され、弁は設備管（３０Ｂ）の圧
   力が供給管（３０Ａ）の圧力よりも高いときに開く手段
   を含むことを特徴とする請求項２３記載の装置。 ３０、前記真空破壊弁は大気へ通じるポート（３４）を
   選択的に開く弁部材（３３）およびシリンダ（３５）を
   含み、このシリンダは弁部材のロッド（３７）の横方向
   に配置されかつロッドへ結合された膜（３６）またはピ
   ストンにより２つの室（３８Ａ、３８Ｂ）に分割され、
   前記室は供給管（３０Ａ）および設備管（３０Ｂ）へそ
   れぞれ設備され、膜（３６）またはピストンは、設備管
   の圧力が供給管の圧力よりも高い場合に、弁部材（３３
   ）が大気へ通じるポート（３４）を開く位置を占めるこ
   とを特徴とする請求項２９記載の装置。 ３１、前記逆止弁（３１）は弁部材（３３）が大気に通
   じるポート（３４）を開く位置へ前記膜（３６）または
   前記ピストンを押圧するばね（３９）を含む請求項３０
   記載の装置。 ３２、逆止弁（２９Ａ）は第１ポート（２Ａ、１２Ａ、
   １０２Ａ）上に装着された請求項３１記載の装置におい
   て、逆止弁（２９）は弁部材が大気へ通じるポートを閉
   じる位置へ前記膜（３６）または前記ピストンが動いた
   後にのみ開くように校正されたことを特徴とする装置。 ３３、流体供給システムと消費設備との間に配置される
   請求項１、７、８、１３、１４、１７または１８記載の
   弁を設け、前記第１ポート（２Ａ、１２Ａ）へ接続され
   る供給管（３０Ａ）を設け、前記第２ポート（２Ａ、１
   ２Ａ）へ接続される設備管（３０Ｂ）を設け、前記第１
   および第２ポートの少なくとも一つに逆止弁を装着し、
   供給側の方へ閉じ、設備側の方へ開き、第１または第２
   ポートに装着した逆止弁（２９Ａ、２９Ｂ）の上流およ
   び下流で供給管および設備管へ接続される弁の弁部材（
   ３、１３）を制御するシステム（４３）を設け、設備管
   の圧力が供給管の圧力よりも高いときに弁部材を閉位置
   へ動かす手段を設けたことを特徴とする流体の逆流に対
   する保護装置。 ３４、前記制御システム（４３）は供給管および設備管
   にそれぞれ連通する室（４７Ａ、４７Ｂ）の各面（４６
   Ａ、４６Ｂ）を各端に有する可動ピストン（４５）を収
   納したシリンダ（４４）を含み、ピストンは弁の弁部材
   （３、１３、１０３）へ結合され、また設備管（３０Ｂ
   ）の圧力が供給管（３０Ａ）の圧力よりも高いときに、
   弁部材が閉位置にある位置を占めることを特徴とする請
   求項３３記載の装置。 ３５、前記制御シリンダ（４３）は弁部材が閉位置にあ
   る位置へピストン（４５）を押圧するばね（５０）を含
   み、而して弁部材は供給管の圧力と設備管の圧力との差
   が所定の下限以下に降下すると閉位置へ動くことを特徴
   とする請求項３４記載の装置。