JPH03130280A - 4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法 - Google Patents
4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法Info
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真用化合物(例えば3−アリールオキシカテ
コール類)の中間体として有用な4−アリールオキシ−
1,3−ベンゾジオキソール類の製造方法に関するもの
である。
コール類)の中間体として有用な4−アリールオキシ−
1,3−ベンゾジオキソール類の製造方法に関するもの
である。
(従来の技術と発明が解決しようとする課題)3−アリ
ールオキシカテコール類は写真用化合物の中間体として
有用な化合物である。例えばこの写真用の用途について
は特開昭61−53643号、同63−136046号
に記載されている。さらに3−アリールオキシカテコー
ル類は防腐剤、防錆剤、保恒剤、医薬品または染料など
の中間体として用途が見込まれる化合物である。
ールオキシカテコール類は写真用化合物の中間体として
有用な化合物である。例えばこの写真用の用途について
は特開昭61−53643号、同63−136046号
に記載されている。さらに3−アリールオキシカテコー
ル類は防腐剤、防錆剤、保恒剤、医薬品または染料など
の中間体として用途が見込まれる化合物である。
3−アリールオキシカテコール類の合成中間体として特
開昭63−17850号、同63−136046号に記
載の化合物が知られている。
開昭63−17850号、同63−136046号に記
載の化合物が知られている。
しかしながらこれら特許に記載の化合物は原料のへロニ
トロベンゼンからアリールオキシカテコールに至るまで
の反応工程数が多(、全合成収率が低いという欠点があ
った。またこれらの化合物が写真用化合物の合成中間体
として用いられる場合、用途が発色機構に関与するため
特に純度の点が問題とされ、そのため合成段階から各反
応原料は高純度のものが必要とされている。しかし、高
純度の原料を必要とすることは工業的生産上コストの上
昇をもたらし、この点から経済性の面でも十分満足しつ
る製造方法の開発が要求される。したがって本発明は少
ない工程数、高収率で安価に目的物を得ることができる
、アリールオキシカテコール類の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
トロベンゼンからアリールオキシカテコールに至るまで
の反応工程数が多(、全合成収率が低いという欠点があ
った。またこれらの化合物が写真用化合物の合成中間体
として用いられる場合、用途が発色機構に関与するため
特に純度の点が問題とされ、そのため合成段階から各反
応原料は高純度のものが必要とされている。しかし、高
純度の原料を必要とすることは工業的生産上コストの上
昇をもたらし、この点から経済性の面でも十分満足しつ
る製造方法の開発が要求される。したがって本発明は少
ない工程数、高収率で安価に目的物を得ることができる
、アリールオキシカテコール類の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明者は上記従来方法の欠点を克服し、3−アリール
オキシカテコール類を少ない工程数で高収率で安価に合
成しつる方法を開発するための研究を重ねた結果、原料
として反応混合物を用いる、以下に述べる式(I)で表
わされる化合物を経由する方法によって上記の問題点が
解決できることを見い出した。
オキシカテコール類を少ない工程数で高収率で安価に合
成しつる方法を開発するための研究を重ねた結果、原料
として反応混合物を用いる、以下に述べる式(I)で表
わされる化合物を経由する方法によって上記の問題点が
解決できることを見い出した。
本発明の目的は、式(II )で表わされるカルボン酸
を式(II+ )で表わされる化合物と反応させ、次い
で、生成した反応混合物を式(1■)で表わされる化合
物と反応させることにより、式(I)で表わされる4−
アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキソール類を得る
ことを特徴とするベンゾジオキソール類の製造方法によ
り達成された。
を式(II+ )で表わされる化合物と反応させ、次い
で、生成した反応混合物を式(1■)で表わされる化合
物と反応させることにより、式(I)で表わされる4−
アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキソール類を得る
ことを特徴とするベンゾジオキソール類の製造方法によ
り達成された。
式(I)
(式中、R’ R2は水素原子、炭素数6〜10の芳
香族基または炭素数1〜6の脂肪族基を示す。またR1
とR2とが結合していてもよくその場合R1とR2の炭
素数の和は1〜12である。
香族基または炭素数1〜6の脂肪族基を示す。またR1
とR2とが結合していてもよくその場合R1とR2の炭
素数の和は1〜12である。
R3はアミノ基または炭素数1〜20のアルキルアミノ
基もしくはアルコキシ基を示す。R4は炭素数6〜10
の、アリール基または炭素数1〜10のアルキル基を示
す。R5はベンジル基を示す。) 式(II) R’ Co、H (R’は式(I)と同義である。) 式(III) Pxn (XはCβまたはB である。) 式(IV ) rを表わし、 nは3または5 (式中、R’ R2、R”、R’は式(I)と同義で
ある。) 以下に本発明について詳しく説明する。
基もしくはアルコキシ基を示す。R4は炭素数6〜10
の、アリール基または炭素数1〜10のアルキル基を示
す。R5はベンジル基を示す。) 式(II) R’ Co、H (R’は式(I)と同義である。) 式(III) Pxn (XはCβまたはB である。) 式(IV ) rを表わし、 nは3または5 (式中、R’ R2、R”、R’は式(I)と同義で
ある。) 以下に本発明について詳しく説明する。
式(I)においてR1またはR2が芳香族基を表わすと
き、代表的な例としてはフェニル基が挙げられ、このと
きフェニル基同士が連結したときの具体例を示すと、 が挙げられる(なお、R6は水素原子または置換基を示
す。)。またR1またはR2が脂肪族基を表わすとき代
表的な例としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチルまたはシクロヘキシルが挙げられ、R’
とR2とが連結して環を形成したときの例として、 が挙げられる。これらのうちで好ましい置換基は第1表
に示すものである。
き、代表的な例としてはフェニル基が挙げられ、このと
きフェニル基同士が連結したときの具体例を示すと、 が挙げられる(なお、R6は水素原子または置換基を示
す。)。またR1またはR2が脂肪族基を表わすとき代
表的な例としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチルまたはシクロヘキシルが挙げられ、R’
とR2とが連結して環を形成したときの例として、 が挙げられる。これらのうちで好ましい置換基は第1表
に示すものである。
第1表
このうち特に好ましいものはNo、1.2.3と8であ
る。
る。
式(I)においてR3がアルキルアミノ基を表わすとき
具体的な例としてはメチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、ブチルアミノ、ヘキシルアミノ、デシルア
ミノ、イコシルアミノ、イソプロピルアミノ、イソブチ
ルアミノ、5ec−ブチルアミノ、t−ブチルアミノ、
ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ
が挙げられる。R3がアルコキシ基を表わすとき具体的
にはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブトキシ、
ヘキシルオキシ、デシルオキシ、イコシルオキシ、イソ
プロピルオキシ、インブチルオキシ、58C−ブチルオ
キシ、t−ブチルオキシが挙げられる。これらのうち好
ましい置換基は炭素数が2ないし7のものであり、特に
好ましくはプロピルアミノ基、プロピルオキシ基である
。
具体的な例としてはメチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、ブチルアミノ、ヘキシルアミノ、デシルア
ミノ、イコシルアミノ、イソプロピルアミノ、イソブチ
ルアミノ、5ec−ブチルアミノ、t−ブチルアミノ、
ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ
が挙げられる。R3がアルコキシ基を表わすとき具体的
にはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブトキシ、
ヘキシルオキシ、デシルオキシ、イコシルオキシ、イソ
プロピルオキシ、インブチルオキシ、58C−ブチルオ
キシ、t−ブチルオキシが挙げられる。これらのうち好
ましい置換基は炭素数が2ないし7のものであり、特に
好ましくはプロピルアミノ基、プロピルオキシ基である
。
式(I)においてR4がアリール基を表わすとき代表例
としてはフェニル、l−ナフチル、4−シアノフェニル
、4−クロロフェニル、ペンタフルオロフェニルが挙げ
られる。R4がアルキル基を表わすとき代表例としては
メチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イソプ
ロピル、1−ブチル、トリフルオロメチル、ヘプタフル
オロプロピルまたはウンデカフルオロペンチルが挙げら
れる。中でも好ましくはパーフルオロアリール基または
パーフルオロアルキル基であり、特に好ましくはパーフ
ルオロアルキル基である。また置換基R4はさらに八日
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、水酸基等で置換されていてもよ(
、そのときにはR4の炭素数が10を越えてもよい。
としてはフェニル、l−ナフチル、4−シアノフェニル
、4−クロロフェニル、ペンタフルオロフェニルが挙げ
られる。R4がアルキル基を表わすとき代表例としては
メチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イソプ
ロピル、1−ブチル、トリフルオロメチル、ヘプタフル
オロプロピルまたはウンデカフルオロペンチルが挙げら
れる。中でも好ましくはパーフルオロアリール基または
パーフルオロアルキル基であり、特に好ましくはパーフ
ルオロアルキル基である。また置換基R4はさらに八日
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホンアミド
基、カルバモイル基、水酸基等で置換されていてもよ(
、そのときにはR4の炭素数が10を越えてもよい。
R6は水素原子、八日基、シアノ基、ニトロ基、アルコ
キシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル
アミノ基が挙げられる。好ましいR6は水素原子である
。
キシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル
アミノ基が挙げられる。好ましいR6は水素原子である
。
以下に式(I)で表わされる化合物の具体例を示す。た
だし本発明はこれらに限定されるわけではない。
だし本発明はこれらに限定されるわけではない。
式(III )においてXは塩素原子または臭素原子を
表わし、nは3または5を表わす。好ましくはPCO2
またはP B r xであり、特に好ましくはPC忍、
である。
表わし、nは3または5を表わす。好ましくはPCO2
またはP B r xであり、特に好ましくはPC忍、
である。
前記式(I)で表わされる本発明の化合物は、下記のス
キームlに示される合成工程によって製造される。
キームlに示される合成工程によって製造される。
スキーム1
(スキームlにおいて式(Vl)のYはハロゲン原子(
例えば、塩素、臭素、ヨウ素)を示し、式(IV )〜
(Vl)におけるR’、R” R3R’ R’の意
味は式(I)で示したものと同義である。) 次にスキーム1について詳述する。
例えば、塩素、臭素、ヨウ素)を示し、式(IV )〜
(Vl)におけるR’、R” R3R’ R’の意
味は式(I)で示したものと同義である。) 次にスキーム1について詳述する。
まず前記式(I)で表わされる化合物は式(V)で表わ
される化合物と式(VT)で表わされる化合物から式(
IV )で表わされる化合物を経由して合成することが
できる。
される化合物と式(VT)で表わされる化合物から式(
IV )で表わされる化合物を経由して合成することが
できる。
式(IV)で表わされる化合物は式(V)で表わされる
化合物の金属塩と式(Vl)で表わされる化合物を反応
させることにより得られる。式(V)で表わされる化合
物の金属塩としてはアルカリ金属の塩が好ましくカリウ
ム塩、ナトリウム塩などが挙げられる。反応溶媒として
は非プロトン性溶媒が好ましくアニソール、キシレン、
ブロモベンゼン、ジグライム、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどが用いられる。反応温度は8
0℃から180℃の範囲、より好ましくは120℃から
180℃の範囲が短時間で目的物を得るのに適している
。
化合物の金属塩と式(Vl)で表わされる化合物を反応
させることにより得られる。式(V)で表わされる化合
物の金属塩としてはアルカリ金属の塩が好ましくカリウ
ム塩、ナトリウム塩などが挙げられる。反応溶媒として
は非プロトン性溶媒が好ましくアニソール、キシレン、
ブロモベンゼン、ジグライム、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどが用いられる。反応温度は8
0℃から180℃の範囲、より好ましくは120℃から
180℃の範囲が短時間で目的物を得るのに適している
。
式(I)で表わされる化合物は式(H)で表わされるカ
ルボン酸と式(III ”)で表わされる化合物を反応
させ生成した反応混合物を精製、分離を行うことなく式
(rv)で表わされる化合物と反応させることによって
得られる。式(II)で表わされるカルボン酸と式(I
II)で表わされる化合物の反応溶媒としては非プロト
ン性溶媒が用いられ、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロロエタンなど)、酢酸エチル、ア
セトニトリル、テトラヒドロフランなどが用いられ、ジ
メチルホルムアミドやジメチルアセトアミドなどが補助
溶媒として加えられることもある。
ルボン酸と式(III ”)で表わされる化合物を反応
させ生成した反応混合物を精製、分離を行うことなく式
(rv)で表わされる化合物と反応させることによって
得られる。式(II)で表わされるカルボン酸と式(I
II)で表わされる化合物の反応溶媒としては非プロト
ン性溶媒が用いられ、ハロゲン系溶媒(塩化メチレン、
クロロホルム、ジクロロエタンなど)、酢酸エチル、ア
セトニトリル、テトラヒドロフランなどが用いられ、ジ
メチルホルムアミドやジメチルアセトアミドなどが補助
溶媒として加えられることもある。
反応温度は式(II)のカルボン酸の種類によって異な
るが、−50℃〜150℃の間で行われ、好ましくは一
20℃〜100℃の間であり、特に好ましくは20℃〜
90℃である。反応時間は好ましくは5分〜3時間、よ
り好ましくはlO分〜2時間である。最適時間は、原料
(II)の消失を薄層クロマトグラフィー、又は液体ク
ロマトグラフィーにより検出して、この原料が約90〜
100%消失した時間を選ぶことができる。また反応生
成物の量の時間変化をガスクロマトグラフィーにより追
跡してその最大量となる時間を最適時間としてもよい。
るが、−50℃〜150℃の間で行われ、好ましくは一
20℃〜100℃の間であり、特に好ましくは20℃〜
90℃である。反応時間は好ましくは5分〜3時間、よ
り好ましくはlO分〜2時間である。最適時間は、原料
(II)の消失を薄層クロマトグラフィー、又は液体ク
ロマトグラフィーにより検出して、この原料が約90〜
100%消失した時間を選ぶことができる。また反応生
成物の量の時間変化をガスクロマトグラフィーにより追
跡してその最大量となる時間を最適時間としてもよい。
式(II )で表わされるカルボン酸と式(III )
で表わされる化合物のモル比は、n:1から1:n
の間で用いられ、好ましくはnilがら1:2の間であ
る。ここでnは式(III )と同義である。
で表わされる化合物のモル比は、n:1から1:n
の間で用いられ、好ましくはnilがら1:2の間であ
る。ここでnは式(III )と同義である。
このようにして得られた式(II )で表わされるカル
ボン酸と式(III )で表わされる化合物の反応物(
以下この反応物をAと呼ぶ)を式(IV )で表わされ
る化合物と反応させる。この反応混合物は出発原料カル
ボン酸に対応の反応性誘導体、例えば酸ハロゲン化物、
活性エステルなどを含む。Aと式(EV )で表わされ
る化合物の反応は、反応物Aに式(IV )で表わされ
る化合物をそのまま、もしくは溶媒に溶かすがeAさせ
たものを加えてもよい。また式(IV )で表わされる
化合物を溶媒に溶かすか懸濁させた液にAを加えてもよ
い。ここで用いられる溶媒は式(II)で表わされるカ
ルボン酸と式(III)で表わされる化合物の反応のと
ころで記した溶媒が挙げられる。反応温度は一50℃か
ら150℃の間で行われ、好ましくは一20℃から10
0℃であり、より好ましくは0℃から90℃の間である
。反応時間は好ましくは109〜6時間、より好ましく
は20分〜3時間である。最適時間は、原料消失および
/又は生成物の増加を追跡して定めることができる。
ボン酸と式(III )で表わされる化合物の反応物(
以下この反応物をAと呼ぶ)を式(IV )で表わされ
る化合物と反応させる。この反応混合物は出発原料カル
ボン酸に対応の反応性誘導体、例えば酸ハロゲン化物、
活性エステルなどを含む。Aと式(EV )で表わされ
る化合物の反応は、反応物Aに式(IV )で表わされ
る化合物をそのまま、もしくは溶媒に溶かすがeAさせ
たものを加えてもよい。また式(IV )で表わされる
化合物を溶媒に溶かすか懸濁させた液にAを加えてもよ
い。ここで用いられる溶媒は式(II)で表わされるカ
ルボン酸と式(III)で表わされる化合物の反応のと
ころで記した溶媒が挙げられる。反応温度は一50℃か
ら150℃の間で行われ、好ましくは一20℃から10
0℃であり、より好ましくは0℃から90℃の間である
。反応時間は好ましくは109〜6時間、より好ましく
は20分〜3時間である。最適時間は、原料消失および
/又は生成物の増加を追跡して定めることができる。
反応物Aの使用量は式(II )で表わされるカルボン
酸に対応の酸ハロゲン化物と式(IV )で表わされる
化合物のモル比で表わして1:5から5:1の間であり
、好ましくは1:2から2.5:1の間であり、特に好
ましくは1:1.2から2:lの間である。
酸に対応の酸ハロゲン化物と式(IV )で表わされる
化合物のモル比で表わして1:5から5:1の間であり
、好ましくは1:2から2.5:1の間であり、特に好
ましくは1:1.2から2:lの間である。
また式(IV)で表わされる化合物とAとの反応におい
て塩基は加えても加えなくてもよいが、加えた方が好ま
しい。塩基としてはトリエチルアミンやN−メチルモル
ホリンのような3級アミンやピリジンやルチジン、4−
ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類の他イミダ
ゾールなどが用いられる。中でも好ましい塩基はピリジ
ンとイミダゾールである。
て塩基は加えても加えなくてもよいが、加えた方が好ま
しい。塩基としてはトリエチルアミンやN−メチルモル
ホリンのような3級アミンやピリジンやルチジン、4−
ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類の他イミダ
ゾールなどが用いられる。中でも好ましい塩基はピリジ
ンとイミダゾールである。
本発明において式(IV)の化合物として下記の化合物
を使用しても式(I)に相当する目的物が得られる。
を使用しても式(I)に相当する目的物が得られる。
(発明の効果)
本発明の方法は4−アリールオキシ−1,3−ペンゾジ
オキソール類の安価で高収率な合成法を提供するもので
ある。この4−アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキ
ソールは従来技術の欄で述べたように写真用化合物3−
アリールオキシカテコール類の合成中間体として重要な
化合物であり、本合成法を経由する合成ルートを用いる
ことにより3−アリールオキシカテコールを少ない工程
数で、高収率に低コスト合成できるという工業的に極め
て優れた効果を奏する。
オキソール類の安価で高収率な合成法を提供するもので
ある。この4−アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキ
ソールは従来技術の欄で述べたように写真用化合物3−
アリールオキシカテコール類の合成中間体として重要な
化合物であり、本合成法を経由する合成ルートを用いる
ことにより3−アリールオキシカテコールを少ない工程
数で、高収率に低コスト合成できるという工業的に極め
て優れた効果を奏する。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。
本発明はこれらによって限定されるものではない。
(P、Qはいずれも置換されていてもよいフェニル基ま
たは水素原子であり、共に水素原子であることはない。
たは水素原子であり、共に水素原子であることはない。
RI R2、R3、R5は式(IV)と同義である。)
実施例1
例示化合物(I)−(1)の合成
(B)
ヘプタフルオロ酪酸(2,57g)と三塩化リン(1,
65g)をアセトニトリル(20TIlill)中50
℃で30分間反応させた。その液Aを(B)(6,18
g)とピリジン(1,98g)のアセトニトリル(20
TnR)懸濁液に加え1時間反応させた。その後酢酸エ
チル(30Tnfりを加え、混合液をIN塩酸と水、食
塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮
後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル−ヘキサンl:3)にて精製することにより例
示化合物(1)−(1)をアモルファスとして7.0g
(86%収率)得た。
65g)をアセトニトリル(20TIlill)中50
℃で30分間反応させた。その液Aを(B)(6,18
g)とピリジン(1,98g)のアセトニトリル(20
TnR)懸濁液に加え1時間反応させた。その後酢酸エ
チル(30Tnfりを加え、混合液をIN塩酸と水、食
塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮
後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル−ヘキサンl:3)にて精製することにより例
示化合物(1)−(1)をアモルファスとして7.0g
(86%収率)得た。
’)INMR(CDCfiS) δ値(TMS基準)
0.95(3H)、 1.55(2H)、 3.35
(2H)、 5.25(2)1)、 6.05(ill
)、 7.10(1111,7,20(l)l)、
7.30〜7.60(15+1>、 7.80(01
1゜8.20(IH)、 8.75(11() I)l
)m 、 IR(KBr) y 1220゜1500、
1550.1600.1620.1740. :140
0 cm−’また1本実施例の原料として(B)のベン
ジルエーテル体の代りにジフェニルメチルエーテル体ま
たはトリフェニルメチルエーテル体を使用しても、(I
)−(1)に対応する化合物が得られる。
0.95(3H)、 1.55(2H)、 3.35
(2H)、 5.25(2)1)、 6.05(ill
)、 7.10(1111,7,20(l)l)、
7.30〜7.60(15+1>、 7.80(01
1゜8.20(IH)、 8.75(11() I)l
)m 、 IR(KBr) y 1220゜1500、
1550.1600.1620.1740. :140
0 cm−’また1本実施例の原料として(B)のベン
ジルエーテル体の代りにジフェニルメチルエーテル体ま
たはトリフェニルメチルエーテル体を使用しても、(I
)−(1)に対応する化合物が得られる。
実施例2
例示化合物(1)−(l l)の合成
(C)
化合物1の中の(B)の代りに(C)を6.17g用い
た以外は実施例1と同じ操作で合成を行った。その結果
(1)−(11)が6.84g (84%収率)アモル
ファスとして得られた。
た以外は実施例1と同じ操作で合成を行った。その結果
(1)−(11)が6.84g (84%収率)アモル
ファスとして得られた。
’HNMRCCDCI2 s) δ値(TMS基準)
1.0(3H)。
1.0(3H)。
1.75(2H)、 4.20(2H)、 5.25(
21()、 7.25〜7.65(17H)、 7.
75(LH)、 8.20(IH)、 8.80(
1)1) ppm。
21()、 7.25〜7.65(17H)、 7.
75(LH)、 8.20(IH)、 8.80(
1)1) ppm。
IR(KBr) y 1210.1550.160
0.1720.1740゜3410 cm−’ 実施例3 例示化合物(I)−(1)の合成 ン(1,79g)をアセトニトリル(20d)中50℃
で30分間反応させた。その液Aを(B)(6,18g
)とイミダゾール(2,04g)(7)酢酸エチル(2
0d)懸濁液に加え1時間反応させた。その後は実施例
1と同様の処理を施すことにより(I)−(1)をアモ
ルファスとして7.73g (95%収率)得た。
0.1720.1740゜3410 cm−’ 実施例3 例示化合物(I)−(1)の合成 ン(1,79g)をアセトニトリル(20d)中50℃
で30分間反応させた。その液Aを(B)(6,18g
)とイミダゾール(2,04g)(7)酢酸エチル(2
0d)懸濁液に加え1時間反応させた。その後は実施例
1と同様の処理を施すことにより(I)−(1)をアモ
ルファスとして7.73g (95%収率)得た。
ヘプタフルオロ酪酸(2,78g)と三塩化リ80
化合物(I)−(1)(74,9g)をジメチルアセト
アミド(100TI1g)、酢酸エチル(200d)中
10%Pd/C(3、7g)の存在下水素圧20kg/
err?、85℃で2時間反応させた。その後室温に冷
やし反応液をセライトを通してろ過、濃縮を行うことに
より化合物(■)をジメチルアセトアミド溶液として得
た。この溶液に水冷下化合物(■)(28,6g)の酢
酸エチル(50mlり溶液を加え1時間反応させた後さ
らに酢酸エチル(300m[りを加え希釈した。
アミド(100TI1g)、酢酸エチル(200d)中
10%Pd/C(3、7g)の存在下水素圧20kg/
err?、85℃で2時間反応させた。その後室温に冷
やし反応液をセライトを通してろ過、濃縮を行うことに
より化合物(■)をジメチルアセトアミド溶液として得
た。この溶液に水冷下化合物(■)(28,6g)の酢
酸エチル(50mlり溶液を加え1時間反応させた後さ
らに酢酸エチル(300m[りを加え希釈した。
この溶液を水(20o輔x3回)で洗浄し有機層を濃縮
して得られる粗結晶をアセトニトリル(250ynfl
りから再結晶することにより化合物(IX)を61.5
g(化合物(I)−(1)から83%収率(270℃で
分解)で得た。
して得られる粗結晶をアセトニトリル(250ynfl
りから再結晶することにより化合物(IX)を61.5
g(化合物(I)−(1)から83%収率(270℃で
分解)で得た。
化合物(IX)(40,0g) 、化合物(X)(58
,0g)およびトリフェニルホスフィン(26,0g)
をテトラヒドロフラン(800ml)中速流下5時間反
応させた。その後水(約2ρ)、酢酸エチル(約2j2
)を加え2回抽出し、10%炭酸水素ナトリウム水溶液
で3回洗浄した後10%塩酸水溶液で洗い水洗して中和
した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで十分乾燥し
、減圧上酢酸エチルを留去した。残留物をアセトニトリ
ル(150m)−ヘキサン(35能)から晶析させるこ
とにより化合物(XI)を13.0g(融点136〜1
38℃)得た。この化合物(刈)は特願昭62−819
62号、同62−117635号、同62−26584
5号、同63−51283号、同63−110050号
に記載されたような性能を何する有用な化合物である。
,0g)およびトリフェニルホスフィン(26,0g)
をテトラヒドロフラン(800ml)中速流下5時間反
応させた。その後水(約2ρ)、酢酸エチル(約2j2
)を加え2回抽出し、10%炭酸水素ナトリウム水溶液
で3回洗浄した後10%塩酸水溶液で洗い水洗して中和
した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで十分乾燥し
、減圧上酢酸エチルを留去した。残留物をアセトニトリ
ル(150m)−ヘキサン(35能)から晶析させるこ
とにより化合物(XI)を13.0g(融点136〜1
38℃)得た。この化合物(刈)は特願昭62−819
62号、同62−117635号、同62−26584
5号、同63−51283号、同63−110050号
に記載されたような性能を何する有用な化合物である。
(応用例2)
例示化合物(1) −(1)よりシアンカプラーの中間
体(■)その後水(30mfりにより反応液を水洗し、
有機層にヘキサン(50Tnlll>を加え、析出した
結晶をろ取することにより化合物(Xll)の粗結晶を
14.9g得た。この結晶をジメチルアセトアミド(2
0ml)と酢酸エチル(40mfりに溶かし10%Pd
−C(0,84g)の存在下水素圧25kg/ctrr
、85℃で1時間反応させた後酢酸エチルを減圧上留去
することにより化合物(■)をジメチルアセトアミド溶
液として得た。この化合物は応用例1に示した方法を用
いてさらに化合物(■)、(X)と反応させることによ
りシアンカプラー(Xl)へと導くことができる。
体(■)その後水(30mfりにより反応液を水洗し、
有機層にヘキサン(50Tnlll>を加え、析出した
結晶をろ取することにより化合物(Xll)の粗結晶を
14.9g得た。この結晶をジメチルアセトアミド(2
0ml)と酢酸エチル(40mfりに溶かし10%Pd
−C(0,84g)の存在下水素圧25kg/ctrr
、85℃で1時間反応させた後酢酸エチルを減圧上留去
することにより化合物(■)をジメチルアセトアミド溶
液として得た。この化合物は応用例1に示した方法を用
いてさらに化合物(■)、(X)と反応させることによ
りシアンカプラー(Xl)へと導くことができる。
Claims (1)
- (1)式(II)で表わされるカルボン酸を式(III)で
表わされる化合物と反応させ、次いで、生成した反応混
合物を式(IV)で表わされる化合物と反応させることに
より、式( I )で表わされる4−アリールオキシ−1
,3−ベンゾジオキソール類を得ることを特徴とするベ
ンゾジオキソール類の製造方法。 式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2は水素原子、炭素数6〜10の
芳香族基または炭素数1〜6の脂肪族基を示す。またR
^1とR^2とが結合していてもよくその場合R^1と
R^2の炭素数の和は1〜12である。 R^3はアミノ基または炭素数1〜20のアルキルアミ
ノ基もしくはアルコキシ基を示す。R^4は炭素数6〜
10の、アリール基または炭素数1〜10のアルキル基
を示す。R^5はベンジル基を示す。) 式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (R^4は式( I )と同義である。) 式(III) PX_n (XはClまたはBrを表わし、nは3または5である
。) 式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^5は式( I )
と同義である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26825489A JPH03130280A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | 4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26825489A JPH03130280A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | 4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03130280A true JPH03130280A (ja) | 1991-06-04 |
Family
ID=17456025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26825489A Pending JPH03130280A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | 4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03130280A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6482953B1 (en) * | 2001-12-03 | 2002-11-19 | Eastman Kodak Company | 2-benzyloxy-4-nitro-5-substituted-acylanilide compounds and method of using them |
US10689371B2 (en) | 2018-04-18 | 2020-06-23 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
US11919912B2 (en) | 2018-05-21 | 2024-03-05 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
-
1989
- 1989-10-17 JP JP26825489A patent/JPH03130280A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6482953B1 (en) * | 2001-12-03 | 2002-11-19 | Eastman Kodak Company | 2-benzyloxy-4-nitro-5-substituted-acylanilide compounds and method of using them |
US10689371B2 (en) | 2018-04-18 | 2020-06-23 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
US11274095B2 (en) | 2018-04-18 | 2022-03-15 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
US11919912B2 (en) | 2018-05-21 | 2024-03-05 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
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