JPH03125897A - 酸素濃度極低下雰囲気炉 - Google Patents
酸素濃度極低下雰囲気炉Info
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- JPH03125897A JPH03125897A JP1265688A JP26568889A JPH03125897A JP H03125897 A JPH03125897 A JP H03125897A JP 1265688 A JP1265688 A JP 1265688A JP 26568889 A JP26568889 A JP 26568889A JP H03125897 A JPH03125897 A JP H03125897A
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- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 title claims description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 title claims description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 21
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/02—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity of multiple-track type; of multiple-chamber type; Combinations of furnaces
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、炉内雰囲気の管理が行なわれる雰囲気炉で
あって、特にその酸素濃度を著しく低くすることのでき
る炉に関する。
あって、特にその酸素濃度を著しく低くすることのでき
る炉に関する。
リフロー炉、焼成炉、乾燥炉等では、炉内処環中に酸化
の影響を受けないようにするため、炉内への大気侵入遮
断及び十分な炉内雰囲気の管理が行なわれるタイプのも
のが開発されている。
の影響を受けないようにするため、炉内への大気侵入遮
断及び十分な炉内雰囲気の管理が行なわれるタイプのも
のが開発されている。
本出願人は該雰囲気炉の従来のタイプのものが現状では
、多量の雰囲気ガス供給を行なったとしても炉内の酸素
濃度が依然高いままのものであること(炉内全体に30
0〜50ON仝/winの流量でN2ガスを供給しても
炉内酸素濃度は500 ppmにも下げることができな
い)に鑑み。
、多量の雰囲気ガス供給を行なったとしても炉内の酸素
濃度が依然高いままのものであること(炉内全体に30
0〜50ON仝/winの流量でN2ガスを供給しても
炉内酸素濃度は500 ppmにも下げることができな
い)に鑑み。
少ない雰囲気ガス供給で炉内酸素濃度をこれまで以上に
大幅に低減化できる方法乃至炉構造の提案を行なった。
大幅に低減化できる方法乃至炉構造の提案を行なった。
その提案の技術内容は、炉内雰囲気の管理を行なうと共
に、炉内圧の高め誘導によって大気が侵入できないよう
にするものであるが、これだけでは不完全なので、各ゾ
ーン間及び炉内外で雰囲気的に流通できないようにこれ
らの間を完全に遮断し、被処理体の移動時にのみ一時的
にこの遮断を解くようにして大気の侵入をO近くに抑え
ようというものであり、その際の被処理体の移動につい
ても間欠送りとすることにより雰囲気的な遮断に影響を
及ぼさないようにしている。その結果、炉内酸素濃度を
これまで全く予期もし得なかった程度にまで低減化でき
るようになった(実施例中では炉内に80 NQ/mi
nの流量でN2ガスを供給した時炉内酸素濃度15pp
mを実現している)。
に、炉内圧の高め誘導によって大気が侵入できないよう
にするものであるが、これだけでは不完全なので、各ゾ
ーン間及び炉内外で雰囲気的に流通できないようにこれ
らの間を完全に遮断し、被処理体の移動時にのみ一時的
にこの遮断を解くようにして大気の侵入をO近くに抑え
ようというものであり、その際の被処理体の移動につい
ても間欠送りとすることにより雰囲気的な遮断に影響を
及ぼさないようにしている。その結果、炉内酸素濃度を
これまで全く予期もし得なかった程度にまで低減化でき
るようになった(実施例中では炉内に80 NQ/mi
nの流量でN2ガスを供給した時炉内酸素濃度15pp
mを実現している)。
上記のような構成を実際のりフロー炉等に適用した場合
、最近の表面実装技術で多く用いられるようになまた両
面実装に対応させて両面リフローを行なわせようとする
時に、その間欠送り装置としては次のような条件がある
。即ち、被処理体たるワークは上下両面とも炉内雰囲気
にさらさねばならないため、間欠送りを行なう装置は、
該ワーク上面はもちろん、その下面ともできるだけその
接触面積を小さくしなければならない。
、最近の表面実装技術で多く用いられるようになまた両
面実装に対応させて両面リフローを行なわせようとする
時に、その間欠送り装置としては次のような条件がある
。即ち、被処理体たるワークは上下両面とも炉内雰囲気
にさらさねばならないため、間欠送りを行なう装置は、
該ワーク上面はもちろん、その下面ともできるだけその
接触面積を小さくしなければならない。
一方、上記構成ではこれまでの−ところ、その間欠送り
装置にウオーキングビーム式のものが用いられている。
装置にウオーキングビーム式のものが用いられている。
該ウオーキングビームの構成は第5図(a)に示される
ように、平行に敷設された固定ビーム(80)数本と、
該固定ビーム(80)間に設けられ、スクエア状に往復
昇降する移動ビーム(81)数本とから成り、ワークX
は該移動ビーム(81)が上昇して水平方向に移動する
間その上に載せられて移動し、該ビーム(81)が下降
して元に戻る間は固定ビーム(80)上に載置されたま
ま動かず、それによって間欠送りがなされることになる
。従ってワーク又は搬送中、その下面が固定ビーム(8
0)又は移動ビーム(81)のし)ずれかに接触してそ
の部分は炉内雰囲気にさらされる機会が少なくなり、こ
の下面側を中心にリフローの不完全な部分が生ずること
になる。
ように、平行に敷設された固定ビーム(80)数本と、
該固定ビーム(80)間に設けられ、スクエア状に往復
昇降する移動ビーム(81)数本とから成り、ワークX
は該移動ビーム(81)が上昇して水平方向に移動する
間その上に載せられて移動し、該ビーム(81)が下降
して元に戻る間は固定ビーム(80)上に載置されたま
ま動かず、それによって間欠送りがなされることになる
。従ってワーク又は搬送中、その下面が固定ビーム(8
0)又は移動ビーム(81)のし)ずれかに接触してそ
の部分は炉内雰囲気にさらされる機会が少なくなり、こ
の下面側を中心にリフローの不完全な部分が生ずること
になる。
このような不利をできるだけ少なくするため、同図(b
)に示されるように、ワークXの幅に応じて平行に2本
の固定ビーム(80)を設置し、該ワークXをその両端
側下面でこのビーム(go) cこ接触支持せしめると
共に、移動ビーム(81))こついては該固定ビーム(
80)のすぐ脇に設置する構成を採り、それによってワ
ークXの下面側を広い範囲に亘って炉内雰囲気に触れる
ことができるようにすることも考えられる。
)に示されるように、ワークXの幅に応じて平行に2本
の固定ビーム(80)を設置し、該ワークXをその両端
側下面でこのビーム(go) cこ接触支持せしめると
共に、移動ビーム(81))こついては該固定ビーム(
80)のすぐ脇に設置する構成を採り、それによってワ
ークXの下面側を広い範囲に亘って炉内雰囲気に触れる
ことができるようにすることも考えられる。
しかし、IC,LSI等のチップ部品を表面実装する基
板が該ワークの場合、該ワークXの幅が狭く、又上記チ
ップ部品は通常ワークXの鵬いっばいまで実装されるた
め、固定ビーム(80)及び移動ビーム(81)の接触
幅分を余計にワークXに取ることは困難である。
板が該ワークの場合、該ワークXの幅が狭く、又上記チ
ップ部品は通常ワークXの鵬いっばいまで実装されるた
め、固定ビーム(80)及び移動ビーム(81)の接触
幅分を余計にワークXに取ることは困難である。
以上のことはりフロー炉の場合だけでなく、他の雰囲気
炉でも被処理体と炉内雰囲気の反応効率をより高めるた
めに被処理体両面が炉内雰囲気に触れることのできる構
成とする場合に大きな問題となる。
炉でも被処理体と炉内雰囲気の反応効率をより高めるた
めに被処理体両面が炉内雰囲気に触れることのできる構
成とする場合に大きな問題となる。
本発明は上記のような問題に鑑み創案されたもので、上
記炉構成を再度見直すことで被処理体の両面処理が可能
な雰囲気炉の構成をここに提供せんとするものである。
記炉構成を再度見直すことで被処理体の両面処理が可能
な雰囲気炉の構成をここに提供せんとするものである。
そのため本発明の酸素濃度極低下雰囲気炉番よ、複数の
ゾーンに区分けされた炉殻体と、各ゾーンに非酸化性又
は還元性雰囲気ガスを杉(給してこれらの・ゾーンの内
圧を高める雰囲気ガス供給装置と、少なくとも炉殻体の
出入口tこ設もtられて雰囲気の流通遮断を行なうシャ
ッタ装置と、炉入側とこれに続く炉内及び炉出側しこ被
処理体搬送用に夫々設置される搬送装置と、該搬送装置
による被処理体の搬送しこ伴って該被処理体搬送方向直
前にあるシャッタ装置を0■放せしめる制御装置とを有
しており、前記搬送装置のうち炉内に設置されるものは
被処理体下面両端(111で支持して該被処理体表裏面
を炉内雰囲気しこさらしながら連続的に送ること力1で
きる構成を有することを基本的特徴としてし)る。
ゾーンに区分けされた炉殻体と、各ゾーンに非酸化性又
は還元性雰囲気ガスを杉(給してこれらの・ゾーンの内
圧を高める雰囲気ガス供給装置と、少なくとも炉殻体の
出入口tこ設もtられて雰囲気の流通遮断を行なうシャ
ッタ装置と、炉入側とこれに続く炉内及び炉出側しこ被
処理体搬送用に夫々設置される搬送装置と、該搬送装置
による被処理体の搬送しこ伴って該被処理体搬送方向直
前にあるシャッタ装置を0■放せしめる制御装置とを有
しており、前記搬送装置のうち炉内に設置されるものは
被処理体下面両端(111で支持して該被処理体表裏面
を炉内雰囲気しこさらしながら連続的に送ること力1で
きる構成を有することを基本的特徴としてし)る。
即ち、炉内で被処理体両面をその雰囲気しこさらしなが
ら搬送するため番こ1±、少なくとも被処理体下面両端
側でこれを支持して運、5−形式のものであって、該被
処理体下面側カヘ略全面しこ近し)範囲で炉内雰囲気に
さらされるもの力1より)、このような搬送装置として
は、被処理体の路幅程度の間隔を開けて平行に配設され
たベルトコンベアやチェーンコンベア等を用いるものが
あるが、これらはいずれも連続送り形式のものである。
ら搬送するため番こ1±、少なくとも被処理体下面両端
側でこれを支持して運、5−形式のものであって、該被
処理体下面側カヘ略全面しこ近し)範囲で炉内雰囲気に
さらされるもの力1より)、このような搬送装置として
は、被処理体の路幅程度の間隔を開けて平行に配設され
たベルトコンベアやチェーンコンベア等を用いるものが
あるが、これらはいずれも連続送り形式のものである。
このような形式の搬送装置が炉内外を通じ連続的に設け
られていると、前記シャッタ装置による雰囲気の遮断が
困難になるので、搬送装置としては少なくとも炉入側、
炉内及び炉出側に夫々別体のものとして設け、炉内への
外気侵入遮断を確実に行なえるようにした。
られていると、前記シャッタ装置による雰囲気の遮断が
困難になるので、搬送装置としては少なくとも炉入側、
炉内及び炉出側に夫々別体のものとして設け、炉内への
外気侵入遮断を確実に行なえるようにした。
又、リフロー炉等雰囲気炉の種類によっては予熱・加熱
ゾーンと冷却ゾーンを連続的に設ける構成のものがある
が、その種の炉では熱効率上ゾーン毎に雰囲気の流通を
できるだけμ■止した方が良い。そのような炉では、炉
出入口部分だけでなく、炉殻体内部のゾーン間の1乃至
複数箇所にシャッタ装置を設け、ゾーン間の雰囲気の流
通を遮断するようにした。但し、その場合でも炉内搬送
装置がこれらのシャッタ装置の雰囲気遮断の邪魔になら
ないようにするため、炉内シャッタ装置で仕切られた前
後で該搬送装置は夫々別体のものとする必要がある。
ゾーンと冷却ゾーンを連続的に設ける構成のものがある
が、その種の炉では熱効率上ゾーン毎に雰囲気の流通を
できるだけμ■止した方が良い。そのような炉では、炉
出入口部分だけでなく、炉殻体内部のゾーン間の1乃至
複数箇所にシャッタ装置を設け、ゾーン間の雰囲気の流
通を遮断するようにした。但し、その場合でも炉内搬送
装置がこれらのシャッタ装置の雰囲気遮断の邪魔になら
ないようにするため、炉内シャッタ装置で仕切られた前
後で該搬送装置は夫々別体のものとする必要がある。
更に、炉入側と出側の搬送装置の搬送速度を炉内搬送装
置のそれより高めることにより、前記制御装置による炉
出入側のシャッタ装置の開放時間を短くし、大気の炉内
侵入をできるだけ抑えると良い。炉内搬送装置の搬送速
度は、被処理体と炉内雰囲気との接触による各種反応を
得るために通常緩やかにすることが多く、このような場
合は、上述した12送速度の調整は非常に有効である。
置のそれより高めることにより、前記制御装置による炉
出入側のシャッタ装置の開放時間を短くし、大気の炉内
侵入をできるだけ抑えると良い。炉内搬送装置の搬送速
度は、被処理体と炉内雰囲気との接触による各種反応を
得るために通常緩やかにすることが多く、このような場
合は、上述した12送速度の調整は非常に有効である。
以下本発明の具体的実施例につき説明する。
第1図は本発明の構成を有するリフロー炉の概略図であ
る。本炉は予備加熱ゾーン(la) (lb)、本加熱
ゾーン(2)及び冷却ゾーン(3)で炉殻体が構成され
ており、これらの各ゾーンで熱処理を行なう装置は後述
するワークXの両面リフローを行なうため、対流式のも
のが用いられている。
る。本炉は予備加熱ゾーン(la) (lb)、本加熱
ゾーン(2)及び冷却ゾーン(3)で炉殻体が構成され
ており、これらの各ゾーンで熱処理を行なう装置は後述
するワークXの両面リフローを行なうため、対流式のも
のが用いられている。
そのうち加熱ゾーン(la) (Ib) (2)はその
ゾーン内上部にパネル状遠赤外線セラミックヒータが又
その下部にはチューブ周囲にフィンの巻付けられたフィ
ン状ヒータが夫々備えられ、炉内雰囲気を加熱してこれ
を対流せしめ、該ゾーン内に搬送されてくる物を間接加
熱する構成が採用されている。又冷却ゾーン(3)はゾ
ーン内部に冷却ファンが備えられていて、ゾーン内の雰
囲気を循環させ該ゾーン内に搬送されてくる物に吹付け
ることで、これを冷却する構成を採る。
ゾーン内上部にパネル状遠赤外線セラミックヒータが又
その下部にはチューブ周囲にフィンの巻付けられたフィ
ン状ヒータが夫々備えられ、炉内雰囲気を加熱してこれ
を対流せしめ、該ゾーン内に搬送されてくる物を間接加
熱する構成が採用されている。又冷却ゾーン(3)はゾ
ーン内部に冷却ファンが備えられていて、ゾーン内の雰
囲気を循環させ該ゾーン内に搬送されてくる物に吹付け
ることで、これを冷却する構成を採る。
予備加熱ゾーン(1a)には上下に2箇所、予備加熱ゾ
ーン(1b)には下に1箇所、本加熱ゾーン(2)には
同じく上下に2箇所、そして冷却ゾーン(3)には上に
2箇所夫々ガス噴出孔(4)が設けられ、これらは雰囲
気ガス供給装置たるN3ガスボンベ(図示なし)に接続
されていて、各ゾーン内にN2ガスを供給する(そのガ
ス供給量を所定量以上にすれば後述するシャッタ装置の
構成と相俟って容易に内圧を正圧に保持できる)。
ーン(1b)には下に1箇所、本加熱ゾーン(2)には
同じく上下に2箇所、そして冷却ゾーン(3)には上に
2箇所夫々ガス噴出孔(4)が設けられ、これらは雰囲
気ガス供給装置たるN3ガスボンベ(図示なし)に接続
されていて、各ゾーン内にN2ガスを供給する(そのガ
ス供給量を所定量以上にすれば後述するシャッタ装置の
構成と相俟って容易に内圧を正圧に保持できる)。
又炉入側と出側及び本加熱ゾーン(2)と冷却ゾーン(
3)間には夫々シャッタ装置(5a)乃至(5c)が設
けられている。これらのシャッタ装置(5a)乃至(5
c)は扉体(50)がシリンダ(図示なし)により昇降
せしめられ、炉出入口開口部及び本加熱ゾーン(2)と
冷却ゾーン(3)間のゾーン出入ロ開ロ部を気密に閉塞
したり、開放したりできる構成となっている。尚、本実
施例では予備加熱ゾーン(la) (lb)間、予備加
熱ゾーン(1b)と本加熱ゾーン(2)間は、なるべく
炉内雰囲気の流通が少なくなるように仕切りId(10
)で絞られており、その開口部の間口は後述するワーク
Xが通り抜けできる程度の広さに調整されている。
3)間には夫々シャッタ装置(5a)乃至(5c)が設
けられている。これらのシャッタ装置(5a)乃至(5
c)は扉体(50)がシリンダ(図示なし)により昇降
せしめられ、炉出入口開口部及び本加熱ゾーン(2)と
冷却ゾーン(3)間のゾーン出入ロ開ロ部を気密に閉塞
したり、開放したりできる構成となっている。尚、本実
施例では予備加熱ゾーン(la) (lb)間、予備加
熱ゾーン(1b)と本加熱ゾーン(2)間は、なるべく
炉内雰囲気の流通が少なくなるように仕切りId(10
)で絞られており、その開口部の間口は後述するワーク
Xが通り抜けできる程度の広さに調整されている。
更に本実施例では、炉入側と、各ゾーン(1a)(lb
)内と炉出側に夫々別体の搬送装置(6a)乃至(6f
)が連続的に設置されており、その間でワークXを連続
して送ることができるようになっている。これらの搬送
装置(6a)乃至(6f)の詳細な構成を説明すれば以
下のようになる。即ち、該搬送装置(6a)乃至(6f
)は、第2図に示されるように、ワークXの幅に略近い
間隔を開けて設置される2条のチェーンコンベア(60
) (61)から成り、更に該チェーンコンベア(60
)(61)自身の各セルには相向いあう水平方向に突出
子(63)が夫々取付けられており、前記ワークXはそ
の下面両端部がこの突出子(63)の上に載肯されてチ
ェーンコンベア(60)(61)により搬送されること
になる。従って各ゾーン(la) (lb) (2)
(3)では、ワークXの下面も略その全部が炉内雰囲気
にさらされ、両面リフローが可能となる。又このように
搬送装置を炉入側・出側及び各ゾーン間で各別体の構成
とすることにより、シャッタ装置(5a)乃至(5c)
の雰囲気流通遮断が確実にできると共に、予備加熱ゾー
ン(la) (lb)間及び予備加熱ゾーン(1b)と
本加熱ゾーン(2)間の雰囲気流通を前述した仕切り壁
(1o)による開口部間口絞り構成と相俟ってより少な
くすることができ、各ゾーンの熱効率をより高め且つ本
加熱ゾーン(2)への大気侵入がより低く抑えられるこ
とになる。
)内と炉出側に夫々別体の搬送装置(6a)乃至(6f
)が連続的に設置されており、その間でワークXを連続
して送ることができるようになっている。これらの搬送
装置(6a)乃至(6f)の詳細な構成を説明すれば以
下のようになる。即ち、該搬送装置(6a)乃至(6f
)は、第2図に示されるように、ワークXの幅に略近い
間隔を開けて設置される2条のチェーンコンベア(60
) (61)から成り、更に該チェーンコンベア(60
)(61)自身の各セルには相向いあう水平方向に突出
子(63)が夫々取付けられており、前記ワークXはそ
の下面両端部がこの突出子(63)の上に載肯されてチ
ェーンコンベア(60)(61)により搬送されること
になる。従って各ゾーン(la) (lb) (2)
(3)では、ワークXの下面も略その全部が炉内雰囲気
にさらされ、両面リフローが可能となる。又このように
搬送装置を炉入側・出側及び各ゾーン間で各別体の構成
とすることにより、シャッタ装置(5a)乃至(5c)
の雰囲気流通遮断が確実にできると共に、予備加熱ゾー
ン(la) (lb)間及び予備加熱ゾーン(1b)と
本加熱ゾーン(2)間の雰囲気流通を前述した仕切り壁
(1o)による開口部間口絞り構成と相俟ってより少な
くすることができ、各ゾーンの熱効率をより高め且つ本
加熱ゾーン(2)への大気侵入がより低く抑えられるこ
とになる。
そして炉殻体の外部に前記シャッタ装置(5a)乃至(
5c)の開閉を制御する制御装置(7)が設けられてい
る。この制御装置(7)は、前記ワークXが炉内(予備
加熱ゾーン(la) )へ送られる時、本加熱ゾーン(
2)から冷却ゾーン(3)へ送られる時及び冷却ゾーン
(3)から炉外へ搬出される時に通る出入口のシャフタ
装ff(5a)乃至(5c)のみを開くように制御を行
なうもので、例えば炉入口直前にあるワークXが予備加
熱ゾーン(la)へ送られる時は、第3図(a)に示す
ように。
5c)の開閉を制御する制御装置(7)が設けられてい
る。この制御装置(7)は、前記ワークXが炉内(予備
加熱ゾーン(la) )へ送られる時、本加熱ゾーン(
2)から冷却ゾーン(3)へ送られる時及び冷却ゾーン
(3)から炉外へ搬出される時に通る出入口のシャフタ
装ff(5a)乃至(5c)のみを開くように制御を行
なうもので、例えば炉入口直前にあるワークXが予備加
熱ゾーン(la)へ送られる時は、第3図(a)に示す
ように。
シャッタ装@ (5a)のみを開け、1秒後に閉じる(
他のシャッタ装f!! (5b) (5c)は閉塞した
ままにされる)。該ワークXは予備加熱ゾーン(1a)
(1b)及び本加熱ゾーン(2)を搬送装置(6b)乃
至(6d)によって移動し、ここで所定の加熱処理を受
ける。そして次の冷却ゾーン(3)に該ワークXが送ら
れる時にも制御装置(7)は同図(b)に示されるよう
に、シャッタ装置(5b)のみを開け、1秒後に閉じる
。以上のような搬送装置(6a)乃至(6f)によるワ
ークXの送りと制御装置(7)によるシャッタ装置(5
a)乃至(5c)の開閉操作が繰り返され、ワークXの
両面は所定の熱処理を終了して炉外へ搬出される。上記
制御装置(7)によるシャッタ装! (5a)乃至(5
c)の開放タイミングは、該シャッタ装置(5a)乃至
(5c)直前にセンサを備えて搬送されてきたワークX
を感知することで行なっても良いし、シャッタ装置t
(5b)(5c)については搬送装置(6b) (6c
) (6d) (6e)の搬送距離と搬送スピードを予
め六方しておくことで、所定の時間間隔で開放せしめる
ようにしても良い。
他のシャッタ装f!! (5b) (5c)は閉塞した
ままにされる)。該ワークXは予備加熱ゾーン(1a)
(1b)及び本加熱ゾーン(2)を搬送装置(6b)乃
至(6d)によって移動し、ここで所定の加熱処理を受
ける。そして次の冷却ゾーン(3)に該ワークXが送ら
れる時にも制御装置(7)は同図(b)に示されるよう
に、シャッタ装置(5b)のみを開け、1秒後に閉じる
。以上のような搬送装置(6a)乃至(6f)によるワ
ークXの送りと制御装置(7)によるシャッタ装置(5
a)乃至(5c)の開閉操作が繰り返され、ワークXの
両面は所定の熱処理を終了して炉外へ搬出される。上記
制御装置(7)によるシャッタ装! (5a)乃至(5
c)の開放タイミングは、該シャッタ装置(5a)乃至
(5c)直前にセンサを備えて搬送されてきたワークX
を感知することで行なっても良いし、シャッタ装置t
(5b)(5c)については搬送装置(6b) (6c
) (6d) (6e)の搬送距離と搬送スピードを予
め六方しておくことで、所定の時間間隔で開放せしめる
ようにしても良い。
尚、炉内の踏送装置(6b)乃至(6e)の搬送スピー
ドは、炉内粕処理の効果を確実に付与できるようにする
ため、比較的緩やかなスピードとしているが、これに比
べ炉外に設置された搬送装置(6a)と(6f)のそれ
は、がなり遅いものに設定されている。これはワークX
が炉内へ進入する際及び炉外へ搬出される際のシャッタ
装置(5a)(5c)の開放時間を短くして大気の侵入
をできるだけ抑えるようにするためである。又このよう
な搬送スピードの調整は本加熱ゾーン(2)と冷却ゾー
ン(3)間でワークXが移動する時に行なっても良い。
ドは、炉内粕処理の効果を確実に付与できるようにする
ため、比較的緩やかなスピードとしているが、これに比
べ炉外に設置された搬送装置(6a)と(6f)のそれ
は、がなり遅いものに設定されている。これはワークX
が炉内へ進入する際及び炉外へ搬出される際のシャッタ
装置(5a)(5c)の開放時間を短くして大気の侵入
をできるだけ抑えるようにするためである。又このよう
な搬送スピードの調整は本加熱ゾーン(2)と冷却ゾー
ン(3)間でワークXが移動する時に行なっても良い。
即ち、ワークXが搬送装置(6d)で本加熱ゾーン(2
)中を移動してシャッタ装置(5b)直前にきた時に、
冷却ゾーン(3)側に搬送装置(6e)の搬送スピード
を上げる。そして該シャッタ装置(5b)が開放されワ
ークXが冷却ゾーン(3)側へ移動する時に搬送装置!
(6e)の搬送スピードが速いので該ワークXは速やか
に移動でき、その結果、シャッタ装置(5b)の開放時
間を短くして本加熱ゾーン(2)と冷却ゾーン(3)の
雰囲気の流通を低く抑えることができ、両ゾーンの熱処
理効率を更にアップせしめることができる。
)中を移動してシャッタ装置(5b)直前にきた時に、
冷却ゾーン(3)側に搬送装置(6e)の搬送スピード
を上げる。そして該シャッタ装置(5b)が開放されワ
ークXが冷却ゾーン(3)側へ移動する時に搬送装置!
(6e)の搬送スピードが速いので該ワークXは速やか
に移動でき、その結果、シャッタ装置(5b)の開放時
間を短くして本加熱ゾーン(2)と冷却ゾーン(3)の
雰囲気の流通を低く抑えることができ、両ゾーンの熱処
理効率を更にアップせしめることができる。
本発明者等は以上のような構成から成るリフロー炉を使
用して両面フリローを実施し、ワークX両面にLSI等
のチップ部品が表面実装された製品を得た。この時の製
品歩留りは酩500〜1000 ppmであり、大気中
で実施したときの歩留りが略2000 ppmに対して
良好で、両面リフローが実際のラインで実施可能なこと
が明らかとなった。又この際の全ゾーン(la)(lb
) (2)(3)に流したN2ガス(NZ純度99.9
99%)のガス流量と、本加熱ゾーン(2)における測
定酸素濃度の関係を求め、第4図のグラフ図を得た。
用して両面フリローを実施し、ワークX両面にLSI等
のチップ部品が表面実装された製品を得た。この時の製
品歩留りは酩500〜1000 ppmであり、大気中
で実施したときの歩留りが略2000 ppmに対して
良好で、両面リフローが実際のラインで実施可能なこと
が明らかとなった。又この際の全ゾーン(la)(lb
) (2)(3)に流したN2ガス(NZ純度99.9
99%)のガス流量と、本加熱ゾーン(2)における測
定酸素濃度の関係を求め、第4図のグラフ図を得た。
尚、この測定の際の炉条件は次の通りである。
ゾーン(Ia) (lb) (2) (3)の容量合計
0.32rn’各シヤツタ装置の開放時間 1
秒本実施例でも本出願人の既提案に係る炉の場合と略同
様、N2ガス流量を100 Nil/minにした時は
、本加熱ゾーン(2)中の酸素濃度はわずか20ppm
となり、従来のりフロー炉がN2ガスを300〜500
Nu/winと多量に流した時に高々500ppm程
度だったのに比べ、酸素濃度及び供給ガス量の低減化等
の面で顕著な効果を上げている。
0.32rn’各シヤツタ装置の開放時間 1
秒本実施例でも本出願人の既提案に係る炉の場合と略同
様、N2ガス流量を100 Nil/minにした時は
、本加熱ゾーン(2)中の酸素濃度はわずか20ppm
となり、従来のりフロー炉がN2ガスを300〜500
Nu/winと多量に流した時に高々500ppm程
度だったのに比べ、酸素濃度及び供給ガス量の低減化等
の面で顕著な効果を上げている。
尚、上記の実施例では詳述しなかったが、冷却ゾーン(
3)と炉出側の各搬送装置(6e)と(6f)の祁動系
を1つのもので共用させ、ワークXが冷却ゾーン(3)
にある時、搬送装置(6e)の搬送スピードを前述のよ
うに低めに設定し、又炉外へこれが搬出された時は搬送
装置(6f)の搬送スピードを高めに設定できるよう、
鎖駆動系の運転制御を行なうようにしても良い。
3)と炉出側の各搬送装置(6e)と(6f)の祁動系
を1つのもので共用させ、ワークXが冷却ゾーン(3)
にある時、搬送装置(6e)の搬送スピードを前述のよ
うに低めに設定し、又炉外へこれが搬出された時は搬送
装置(6f)の搬送スピードを高めに設定できるよう、
鎖駆動系の運転制御を行なうようにしても良い。
以上詳述したように、本発明の炉構成によれば、少ない
ガス使用量で炉中の酸素濃度を低減化せしめながらも両
面リフロー等の被処理体両面処理が確実に実施できるこ
とになるという優れた効果を有している。
ガス使用量で炉中の酸素濃度を低減化せしめながらも両
面リフロー等の被処理体両面処理が確実に実施できるこ
とになるという優れた効果を有している。
第1図は本発明の構成を有する両面リフロー炉の実施例
構成概略図、第2図は本実施例における搬送装置たるチ
ェーンコンベアの構成を示す斜視図、第3図(a)(b
)は本実施例におけるワークXの搬送状態とそれに伴っ
て制御回路に制御されるシャッタ装置の開閉状態を示す
説明図、第4図はこの両面リフロー炉のN2ガス流量と
本加熱ゾーンにおける酸素濃度の関係を示すグラフ図、
第5図(a)(b)は本出願人の既提案技術における搬
送装置の具体的構成を示す概略図である。 図中、(Ia)(Ib)は予備加熱ゾーン、(2)は本
加熱ゾーン、(3)は冷却ゾーン、(4)はガス噴出孔
、(5a) (5b) (5c)はシャッタ装置、(6
a) (6b)(6c) (6d) (6e) (6f
)は搬送装置、(7)は制御回路、Xはワークを各示す
。 第 2 図
構成概略図、第2図は本実施例における搬送装置たるチ
ェーンコンベアの構成を示す斜視図、第3図(a)(b
)は本実施例におけるワークXの搬送状態とそれに伴っ
て制御回路に制御されるシャッタ装置の開閉状態を示す
説明図、第4図はこの両面リフロー炉のN2ガス流量と
本加熱ゾーンにおける酸素濃度の関係を示すグラフ図、
第5図(a)(b)は本出願人の既提案技術における搬
送装置の具体的構成を示す概略図である。 図中、(Ia)(Ib)は予備加熱ゾーン、(2)は本
加熱ゾーン、(3)は冷却ゾーン、(4)はガス噴出孔
、(5a) (5b) (5c)はシャッタ装置、(6
a) (6b)(6c) (6d) (6e) (6f
)は搬送装置、(7)は制御回路、Xはワークを各示す
。 第 2 図
Claims (3)
- (1)複数のゾーンに区分けされた炉殻体と、各ゾーン
に非酸化性又は還元性雰囲気ガスを供給してこれらのゾ
ーンの内圧を高める雰囲気ガス供給装置と、少なくとも
炉殻体の出入口に設けられて雰囲気の流通遮断を行なう
シャッタ装置と、炉入側とこれに続く炉内及び炉出側に
被処理体搬送用に夫々設置される搬送装置と、該搬送装
置による被処理体の搬送に伴って該被処理体搬送方向直
前にあるシャッタ装置を開放せしめる制御装置とを有し
ており、前記搬送装置のうち炉内に設置されるものは被
処理体下面両端側で支持して該被処理体表裏面を炉内雰
囲気にさらしながら連続的に送ることができる構成を有
することを特徴とする酸素濃度極低下雰囲気炉 - (2)前項記載の酸素濃度極低下雰囲気炉において、炉
殻体のゾーン間の1乃至複数にも前記シャッタ装置を設
けると共に、このシャッタ装置で仕切られた前後で炉内
の前記搬送装置を夫々別体のもので構成することを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の酸素濃度極低下雰囲
気炉。 - (3)特許請求の範囲第1項乃至第2項記載の酸素濃度
極低下雰囲気炉において、炉入側と出側の搬送装置の搬
送速度を炉内搬送装置のそれより高めることにより、前
記制御装置による炉出入側のシャッタ装置の開放時間を
短くした特許請求の範囲第1項乃至第2項記載の酸素濃
度極低下雰囲気炉。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1265688A JPH03125897A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 酸素濃度極低下雰囲気炉 |
US07/490,768 US5044944A (en) | 1989-10-12 | 1990-03-08 | Furnace of decreasing oxygen concentration to ultra low amount |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1265688A JPH03125897A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 酸素濃度極低下雰囲気炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03125897A true JPH03125897A (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=17420623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1265688A Pending JPH03125897A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 酸素濃度極低下雰囲気炉 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5044944A (ja) |
JP (1) | JPH03125897A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001527202A (ja) * | 1997-12-22 | 2001-12-25 | コーニング インコーポレイテッド | セラミックハニカム体の焼成方法及び焼成に用いられるトンネルキルン |
Families Citing this family (19)
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AU682531B2 (en) * | 1994-10-05 | 1997-10-09 | Ab Jafs Export Oy Holimesy | Method and device for melting metal, especially non-ferrous metal |
JP3120695B2 (ja) * | 1995-05-19 | 2000-12-25 | 株式会社日立製作所 | 電子回路の製造方法 |
JP3011366B2 (ja) * | 1995-10-26 | 2000-02-21 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 膜形成素材を含む基板の焼成方法および装置 |
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WO2006075803A1 (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Yokota Technica Limited Company | リフロー炉 |
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ITTO20130270A1 (it) * | 2013-04-03 | 2014-10-04 | Itt Italia Srl | Metodo ed impianto per effettuare trattamenti termici di elementi frenanti, in particolare pastiglie freno |
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-
1989
- 1989-10-12 JP JP1265688A patent/JPH03125897A/ja active Pending
-
1990
- 1990-03-08 US US07/490,768 patent/US5044944A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5044944A (en) | 1991-09-03 |
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