JPH03110554A - アミドフェノール類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は写真用薬品に供されるアミドフェノール類の製
造方法に関し、さらに詳しくは簡便かつ高収率で高純度
の目的物を得ることができるアミドフェノール類の製造
方法に関する。

〔従来の技術〕

一般にカラー写真用薬品として用いられるアミドフェノ
ール化合物を製造する場合は、アミノ化合物と酸ハライ
ドとの反応を利用するのが一般的である。例えば特開昭
６０−２４５４７号公報には５−アミノ−２−アミドフ
ェノールと酸ハライドとの反応例が記載されているが、
５−アミノ２−アミドフェノールをアセトニトリルと酢
酸エチルに懸濁させ、酸ハライドを１時間で滴下した後
、４時間加熱還流し、次いで冷却して結晶を濾取後、酢
酸エチル／ｎ−ヘキサンで再結晶して目的とするアミド
化合物を得ている。また特開昭６１−６９０６５号公報
では５〜アミノ−２−アミドフェノールをジメチルアセ
トアミドに溶解し、カルボン酸ハライドを滴下して反応
させ、その反応生成物を室温で撹拌後、水及び酢酸エチ
ルを添加し、目的とするアミドフェノール化合物を酢酸
エチルにより抽出し、この酢酸エチル層を水で洗浄後Ｎ
ａ縮し、更にこの濃縮物をメタノールに加熱溶解後、晶
析させることにより目的とするアミドフェノール化合物
を得ている。

しかし特開昭６０−２４５４７号公報に記載された製造
法は、反応時間が長くかつ高温反応であるため不純物が
副生じ、目的物の含量が低下するため再結晶が必要であ
ること、また反応で副生ずるＨＣＩガスの中和・除去が
行われていないため、晶析・濾過・乾燥などの後処理工
程で設備の腐食が問題となるし、目的物の収率も６０％
程度と低い。

また特開昭６１−６９０６５号公報に記載された製造法
は、反応生成物を水と酢酸エチルで抽出水洗して、まず
良溶媒のジメチルアセトアミドと酸分を除去し、次いで
酢酸エチル層を濃縮後貧溶媒のメタノールで置換晶析し
、目的とするアミド化合物を得ているが、この製造法で
は抽出時に中和を行っていないため酸分が残存し、後処
理工程で設備の腐食が生じること、さらに酢酸エチル層
の濃縮、貧溶媒への置換が必要なことから作業面で煩雑
である。また晶析濾液へのロスが大きく、収率も８４％
と低い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、アミノフェノール類とカルボン酸ハライドと
の反応により生成するアミドフェノール類を高純度かつ
高収率で得ることにあり、しかも反応時間が短く、かつ
簡便な操作と特別な反応容器を使用せずにアミドフェノ
ール類を得る、−船釣で大量生産に適した製造法の提供
にある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のアミドフェノール類の製造方法は、２−アミノ
フェノール類または５−アミノ−２−アミドフェノール
類とカルボン酸ハライドとを、水と混和しない有ｉ溶媒
を添加した極性溶媒及びアルカリ水溶液とからなる不均
一系中で反応させてアミドフェノール類を生成させた後
、分離した有機溶媒層に貧溶媒を加えてアミドフェノー
ル類を沈澱させることを特徴とする。

以下、本発明の詳細な説明する。

２−アミノフェノール類または５−アミノ−２−アミド
フェノール類は、下記式（１）で示されＸ （式中Ｒは、−ＮＨ！（・Ｍ）ｎ又は−Ｎ　ＨＣＯＲｔ
Ｗは、水素原子、 Ｘは、水素又はカシプリング離脱基、 Ｙは、上記Ｒが−ＮＨｚ　　ＣＭ）、基の時には、水素
、低級アルキル基又は −ＮＨＣＯＲ，、 上記Ｒが−ＮＨＣＯＲ１基の時には Ｎ　Ｈｚ　（・Ｍ）、。

Ｚは、水素又はハロゲン原子、 Ｒｚ、Ｒｘは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ
アルキル基、アリール基 又はへテロ環、 Ｍは、アミノ基と塩を作り得る酸、 ｎは、０又は１ を示す、） アミノフェノール類は、１つの水酸基と１つの遊離アミ
ノ基を有し、他に通常ベンゼン核に置換しうる一ＯＨ，
−ＮＨ！以外の任意の置換基を有していてもよい。アミ
ノ基は塩の形でもよく、Ｍは鉱酸又は有機酸である。

また、カルボン酸ハライドは下記式（ｎ）で示される。

Ｒ，ＣＯＸ　　　　　　　　　　　　・・・（Ｉ［）（
式中Ｒ１は、アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す。） カルボン酸ハライドに含まれる炭素数は１〜３０であり
、好ましくは式（Ｕ＞で示され、ハライドを構成するハ
ロゲン原子は塩素が好ましい。

Ｒ８のアルキル基は置換基を有していてもよい。

置換基は、カルボン酸ハライドとは反応しにくい置換基
であることが好ましい。これらの好ましい置換基の例は
、了り−ルオキシ基、了り−ル基、アリールチオ基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基である。

生成するアミドフェノール類は下記式（Ｉ［［）％式％ （式中Ｒ’　は、−ＮＨＣＯＲ，又は−Ｎ　ＨＣＯＲｔ
Ｙ″は、上記Ｒ″が−ＮＨＣＯＲ，の時には−ＮＨＣＯ
Ｒ，又は低級アルキル基 上記Ｒ゛が、−ＮＨＣＯＲｌの時には −ＮＨＣＯＲ，を示し、 他は上記式（＋）、（ＩＩ）と同じである。）で示され
る化合物である。

式（１）〜（Ｉ［Ｉ）について、さらに詳しく説明する
。これらの式中Ｒｔ、Ｒｊ又はＲ２のアルキル基は、直
鎖、分枝鎖、環状いずれでもよく、またＮ換アルキル基
をも包含する。ここで置換基としてはハロゲン原子（例
えば塩素原子、フッ素原子）、アルコキシ基（例えばメ
トキシ、プロポキシ、アミルオキシメトキシ、オクトキ
シ、ドデシルオキシ、シアミルシクロへキシルオキシ、
オクタデシルオキシ）、アルキルチオ基（例えばメチル
チオ、ブチルチオ、オクチルチオ、ドデシルチオ、オク
タデシルチオ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ
、アミルフェノキシ、シアミルフェノキシ、ペンタデシ
ルフェノキシ、ドデシルオキシフェノキシ、クロロテト
ラデシルフェノキシ、オクタデカンアミドフェノキシ、
Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイルフェノキ
シ、ジ（メトキシカルボニル）フェノキシ、ドデシルサ
クシンイミドフェノキシ）、カルボンアミド基（例えば
Ｎ−ブチルデカンアミド、シアミルフェノキシアセトア
ミド、オクタデシルオキシベンズアミド、ペンタデシル
フェノキシブタンアミド）、カルバモイル基（例えばＮ
、Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ヘキサデシルカルバ
モイル、Ｎ−テトラデシルオキシフェニルカルバモイル
、Ｎ−ブチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−シアミ
ルフェノキシフェニルカルバモイル）、アルコキシカル
ボニル基（例えばエトキシカルボニル、ドデシルオキシ
カルボニル、エトキシカルボニルペンタデシルオキシカ
ルボニル）、了り−ル基（例えばフェニル、トリデシル
カルボニルフェニル、Ｎ−テトラデシルスルフォニルフ
ェニル、シアミルフェノキシアセトアミドフェニル、ヘ
キサデシルオキシフェニル、エトキシカルボニルドデシ
ルオキシフェニル、メトキシカルポニルヘネイコサンア
ミドフェニル、オクタデシルサクシンイミドフェニル）
、複素環基（例えばＮ−ドデシルフェニルサクシンイミ
ド、ドデシルサクシンイミド、オクタデシルカルバモイ
ルフタリミド）等が挙げられる。

前記−綴代（ｆ）もしくは（ｉｌ＋）において、Ｒ２又
はＲ４で示されるアリール基は、置換了り−ル基をも包
含する。ここで置換基としてはアルキル基（例えばアミ
ル、オクタデシル）、アリール基（例えばフェニル、ト
リル）、アルコキシ基（例えばアミルオキシ）、アリー
ルオキシ基（例えばフェノキシ、アミルフェノキシ、シ
アミルフェノキシ）、カルボンアミド基（例えばアミル
フェノキシブタンアミド、アミルフェノキシベンズアミ
ド、ジ（メトキシカルボニル）フェニルカルバモイルペ
ンタンアミド、ジ（メトキシカルボニルメトキシ）ベン
ズアミド）、スルフアモイル基（例えばジ（メトキシカ
ルボニル）フェニルスルファモイル、オクタデシルスル
フ１モイル）等が挙げられる。

前記−綴代（１）もしくは（Ｉ［ｌ）において、Ｗ。

Ｙ及びＺは同一でも異なってもよく、各々、水素原子、
ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、アルキル
基（例えばメチル、オクチル、ペンタデシル）、アリー
ル基（例えばフェニル、アミルフェニル）、アルコキシ
基（例えばメトキシ、ドデシルオキシ）、カルボンアミ
ド基（例えばアセトアミド、ベンズアミド、ドデカンア
ミド、シアミルフェノキシアセトアミド、クロロスルホ
ニルベンズアミド、アミルベンズアミド、フリルアミド
、ジ（メトキシカルボニル）フェニルカルバモイルペン
タンアミド、ペンタデシルフェノキシブタンアミド、テ
トラフルオロプロパンアミド、パーフルオロオクタンア
ミド、ブチルヒドロキシフェノキシテトラデカンアミド
、ドデシルオキシフェノキシアセトアミド、ドデカフル
オロへブタンアミドベンズアミド）、スルホンアミド基
（例えばメチルスルホンアミド、ドデシルスルホンアミ
ド、フェニルスルホンアミド、Ｎ−ドデカンアミドフェ
ニルスルホンアミド）、カルバモイル基（例えばＮ、Ｎ
−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−ドデシル
カルバモイル、フェニルカルバモイル）、またはスルフ
ァモイル（メチルスルファモイル、オクチルスルファモ
イル、Ｎ、Ｎ−ジエチルスルファモイル、フェニルスル
ファモイル）を表す。

また前記−綴代（１）もしくは（ＩＩりにおいて、Ｘは
水素原子またはカンプリング離脱基を表す。

ここでカンプリング離脱基なる語は、写真用色形成カプ
ラーの分野において通常よく用いられる用語であって、
写真用色形成カプラーがカラー現像主薬（例えば芳香族
−級アミン現像主薬）の酸化生成物とカンプリングする
際、離脱し得る原子または基を包含する。カンプリング
離脱基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、
フッ素原子、ヨウ素原子）、アルコキシ基（例えばメト
キシ、プロポキシ、メトキシエトキシ、メチルスルファ
モイルエトキシ、Ｎ−プロピルアミノプロポキシ）、ア
リールオキシ基（例えばフェノキシ、エチルフェノキシ
、クロロフヱノキシ、ニトロフェノキシ、アミノフェノ
キシ、ブチルカルバモイルフェノキシ、エチルスルファ
モイルフェノキシ、フェニルスルホニルフェノキシ、ナ
フチルオキシ）、カルボニルオキシ基（例えばアセデル
オキシ、ブチロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、アミル
ベンゾイルオキシ、ステアロイルオキシ、エトキシカル
ボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、カルバモ
イルオキシ、メチルカルバモイルオキシ、フェニルカル
バモイルオキシ）、スルホニルオキシ基（例えばメチル
スルホニルオキシ、エトキシエチルスルホニルオキシ、
Ｎ−メチルアミノエチルスルホニルオキシ、メチルスル
ホニルプロピルスルホニルオキシ）、スルホンアミド基
（例えばエチルスルホンアミド、ブチルスルホンアミド
、ノニルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナ
フチルスルホンアミド）、アリールアゾ基（例えばフェ
ニルアゾ、ナフチルアゾ）、アルキルチオ基（例えばメ
チルチオ、オクヂルチオ）、アリールチオ基（例えばフ
ェニルチオ、ニトロフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（
例えばテトラゾリルチオ、ベンツチアゾリルチオ、ベン
ツオキサゾリルチオ）、ヘテロ環基（例えばトリアゾリ
ル、ベンツトリアゾリル）、環状イミド基（例えばサク
シンイミド、フタルイミド）等が挙げられる。

弐Ｎ）の中で、好ましい組み合わせは、Ｒ＝Ｎ＋（ｚ　
　（−Ｍ）、１ Ｗ＝Ｈ Ｘ＝０１、又はＯもしくはＮで離脱する離脱基Ｙ＝メチ
ル基又はエチル基 ｚ＝ｘ＝ｃ　Ｉ！ 又は Ｒ＝　−Ｎ　ＨＣＯＲｚ Ｗ＝Ｈ Ｘ＝ＣＺ、又はＯもしくはＮで離脱する離脱基Ｙ＝ＮＨ
，（−Ｍ）。

−Ｈ ある。

前記−綴代において、Ｒ＋、Ｒｚが無置換のアルキル基
、フッ素原子により部分的にもしくは完全に置換された
アルキル基、または次の一般式（ＩＶ）または（Ｖ）で
示される基である化合物は特に宵月である。

（式中、Ａはアルキル基、Ｒ８は水素原子またはアルキ
ル基を、Ｒ２及びＲ１は、同一でも異なってもよく、各
々、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を、ｎは
０または１を表す。）（Ｖ） （式中、Ｒ４及びＲ１は、同一でも異なってもよく、各
々アルキル基を表す、） 本発明で使用される極性溶媒とは、分子内部に固定的に
電子双極子をもつ液体であって、かなり大きな誘電率を
もつものをいい、−Ｃ式（Ｉ）で示される化合物を溶解
するものが望ましい。好ましくは２５℃において、比誘
電率εが１０〜２００の液体である。これらの液体は、
例えば化学便覧（改定３版、基礎編１１−５０２ページ
）Ｊ、Ａ。

Ｒｉｄｄｉｃｋ［“Ｏｒｇａｎｉｃ　　５ｏｌｖｅｎｔ
ｓ　　　（Ｊｏｈｎ　　Ｗｉｌｅｙ　　＆　　５ｏｎｓ
。

１９８６）により容易に特定できる。より好ましいεは
３０〜４０である。ジメチルホルムアミド（Ｎｏ、４４
２＞ＤＭＦ　　ε＝３６．７１、及びジメチルアセトア
ミド（Ｎｏ、４４５）ＤＭＡＣε＝３７．７８は最も好
ましい。

また極性溶媒は１種以上を混合して使用でき、この場合
には混合物のεが規定の範囲にあればよい。極性溶媒は
少なくとも１０容量％、好ましくは］、　５−１００容
量％使用する（内％）。

使用する因は一般式（＋）の化合物の０．１〜１００重
量部であり、好ましくは０．　１〜１０重量部であり、
特に好ましくは０．３〜２重量部である。

添加する有機溶媒としては、水と混和しない溶媒が好ま
しく、例えばトルエン、酢酸エチルであり、使用する量
は一般式（１）で示される化合物に対して０．１〜１０
０重量部であり、好ましくは１〜１０重量部、特に好ま
しくは１．５〜５重量部である。

また反応に使用するアルカリ化合物は、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウムいずれでもよく、水に対して溶
解していても、してなくともよい。

アルカリ化合物の使用量は、−綴代（１）で示される化
合物に対して０．５〜２当量であり、好ましくは当量で
ある。

また−綴代（１）で示される化合物がアミン塩であれば
、これをフリー化するための量の炭酸水素塩を添加する
ことが望ましい。この炭酸水素塩水溶液は、−度に添加
しても、滴下して添加してもよい。

貧溶媒とは、目的物たるアミド類を溶解しない又はほと
んど溶解しない溶媒である。

例えば低級アルコール類、ｎ−ヘキサン等の石油系溶媒
、アセトニトリル、水等がある。低級アルコール類は炭
素数１〜１０までのものであり、好ましくはメタノール
、エタノール、イソプロパツールであり、特に好ましく
はメタノールである。

使用にあたっては含水アルコール、含水アセトニトリル
の形で使用するとよく、アルコール及び水の量は、水と
混和しない有′ａ溶媒である酢酸エステル類のＯ，１〜
１０重量部であり、好ましくは０．３〜４重量部であり
、特に好ましくは０．３〜２重量部である。

本発明において、まず−綴代（１）に示すアミノフェノ
ール又はその鉱酸塩を、水と混和しない有機溶媒および
アルカリ水溶液を極性溶媒中に添加した不均一系中に添
加し、攪拌する。次いで、−綴代（ＩＩ）で示す酸ハラ
イドを添加して反応させる。酸ハライドの量はアミノフ
ェノールに対し０．５〜２．０当量であるが、コストメ
リット、反応性を考慮すると、１．０〜１．２当量であ
り、特に好ましくは「実質的に当モル」である１、　　
０〜１．０２当盪である。

また、反応温度は一２０°Ｃ〜４０℃が良く、好ましく
は０℃〜３０℃である。

反応時間は、酸ハライドの投入直後から１０時間程度ま
で問題はないが、生産性を考慮すると１時間以内が望ま
しい。

反応終了後、攪拌を止め２層に分離する水層を分液除去
し、有１ｔ９ン容媒層にアルコール類、水を添加し、目
的とするアミド化合物を沈澱させる。

本発明の方法により製造されるアミノフェノール類の具
体的化合物例を以下に示す。しかし本発明はこれら化合
物にのみ限定されるものではない。

（以下余白） 但し、 下表において （ｔ）ＣｓＨロア を示す。

（） 内のｎはアルキル基炭素数、 また （ｎ。

２） における２は、 （ｎ。

２） 基にお ける置換基Ｚを表す。

〔発明の作用及び効果〕

一般にこの種アミド化反応は短時間にほぼ定量的に進行
するが、反応を、水と混和しない有機溶媒を添加した有
機溶媒とアルカリ水溶液との不均一系中で行い、次いで
二層に分離した反応液における有機溶媒層に貧溶媒を添
加することにより、再結晶による副反応生成物の除去が
不要となり、単純な析出法により高純度で収率良く、目
的物を得ることができる。また脱酸のための抽出、中和
、分液操作やそれに伴う抽出溶媒の濃縮工程が不用とな
り、コストダウン効果が大きく、フェノール系シアンカ
プラーを大量生産するのに適した製造法となしうるちの
である。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の実施
の態様はこれにより限定されるものではない。

〔実施例１〕 ５−メチル−４，６−ジクロロ−２−〔α（２，４−ジ
ーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミド〕フェノ
ール（化合物１）の合成。

５−メチル−４，６−ジクロロ−２−アミノフェノール
塩酸塩１７．２ｇと、ジメチルアセトアミド１０端β、
酢酸エチル５０蒙βを２０％炭酸水素ナトリウム水溶液
７４−１に添加し、ｐＨ５゜７とし、窒素雰囲気上攪拌
した。

次にα−（２，４−ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）
ブタノイルクロリド２５．４ｇ　（１当量）を、１０℃
以下で３０分間かけて滴下した。

この後、加温溶解し、静置汲水層を捨て、メタノール８
０ｍ１を加え、更に水４０ｍ１を３５℃で加え、５℃で
１時間冷却し、濾別し、化合物１の白色結晶３６ｇ　（
ｙ＝９７％）を得た。

融点：１４９．５〜１５２℃ 元素分析値：実測値　Ｈ：　　　７．５１％Ｃ：　　　
６５．６５％ Ｎ：　　　　　２．８１　％ Ｃ１ｌ：１４．３０％ 計算値　Ｈ：　　　７．５４％ Ｃ：　　　６５．５８％ Ｎ：　　　　２゜　８３％ ＣＩ：１４．３４％ 〔実施例２〕 ５−エチル−４，６−ジクロロ−２−ヘキサテカノイル
アミドフェノール（化合物５）の合成５−エチル−４，
６−ジクロロ−２−アミノフェノール塩酸塩１８．２ｇ
を、ジメチルアセトアミド２０Ｉ１１１、酢酸エチル９
０ｍ１．８％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｆｆに
添加し、窒素雰囲気下、攪拌した。

次に、ヘキサデカノイルクロリド２０．６ｇ（１当りを
２０℃以下で１５分間かけて滴下した。３０分間反応後
、加温し、静置後、水層を分液除去する一方、有機溶媒
層にメタノール４０ｍ１を添加し、次いで３０℃で水３
０１１１１を滴下した。５℃に冷却して３０分間晶析し
、化合物５の白色結晶３２．２ｇ　（ｙ＝９８％）を得
た。

融点ニア７．５〜７９℃ 元素分析値：実測ｆｉＨ：　　　８．８０％Ｃ：　　６
５．０１％ Ｎ：　　　３．１２％ ０１：１５．９０％ 計算イ直　　Ｈ：　　　　　　８．８４　％Ｃ：　　　
　６４．８５　％ Ｎ：　　　　　　３．１５　％ Ｃ１：１５．９５　％ 〔実施例３〕 ２−（４−シアノフェニル）ウレイド−５〔α−（２，
４−ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ヘキシルアミド
シフエノール（化合物２１）の合成。

２−　（４−シアノフェニル）ウレイ１！−５−アミノ
フェノール３４．４ｇを、ジメチルアセトアミド３５ｍ
！、酢酸エチル１２０ｍ１．２０％炭酸水素ナトリウム
水溶液１４０＊ｆｆｉ中に加え、窒素雰囲気下撹拌し、
更にα−（２，４−ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）
ヘキサノイルクロリド４７．５ｇ　（１，０１当量）を
、２５℃以下、３０分間かけて滴下した。３０分間反応
させた後、加温溶解し、静置して水層を分液除去する一
方、有機溶媒層にメタノール２６０ｍｌを加え、次いで
水１５５ｍＡを３５℃で滴下した。このあと水冷後１．
濾別し、化合物２１の白色結晶７１．３ｇ（ｙ＝９１％
）を得た。

融点：１８５〜１８９．５℃ 元素分析値；実測値　Ｈニア、８２％ Ｃ：１２．０５％ Ｎ：９．４１％ 計算値　Ｈ：１．１４％ Ｃニア２．２１％ Ｎ：９．３５％ 出　　願　　人　富士写真フィルム株式会社に

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）２−アミノフェノール類または５−アミノ−２−
   アミドフェノール類とカルボン酸ハライドとを、水と混
   和しない有機溶媒を添加した極性溶媒及びアルカリ水溶
   液とからなる不均一系中で反応させてアミドフェノール
   類を生成させた後、分離した有機溶媒層に貧溶媒を加え
   てアミドフェノール類を沈澱させることを特徴とするア
   ミドフェノール類の製造方法。
2. （２）前記極性溶媒がジメチルアセトアミドまたはジメ
   チルフォルムアミドであり、また有機溶媒が酢酸エチル
   であり、更に貧溶媒が含水アルコールである請求項１記
   載のアミドフェノール類の製造方法。
3. （３）前記２−アミノフェノール類または５−アミノ−
   ２−アミドフェノール類が、下記式（ I ）で示され、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （式中Ｒは、−ＮＨ＿２（・Ｍ）＿ｎ又は−ＮＨＣＯＲ
   ＿２、Ｗは、水素原子、 Ｘは、水素又はカップリング離脱基、 Ｙは、上記Ｒが−ＮＨ＿２（Ｍ）＿ｎ基の時には、水素
   、低級アルキル基又は −ＮＨＣＯＲ＿３、 上記Ｒが−ＮＨＣＯＲ＿２基の時には −ＮＨ＿２（・Ｍ）＿ｎ、 Ｚは、水素又はハロゲン原子、 Ｒ＿２、Ｒ＿３は、同一でも異なっていてもよく、それ
   ぞれアルキル基、アリール基 又はヘテロ環、 Ｍは、アミノ基と塩を作り得る酸、 ｎは、０又は１ を示す。） また、前記カルボン酸ハライドが、下記式（II）で示さ
   れ、 Ｒ＿１ＣＯＸ・・・（II） （式中Ｒ＿１は、アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す
   。） 更に前記アミドフェノール類が下記式（III）で示され
   る化合物であることを特徴とする請求項１、または２記
   載のアミドフェノール類の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III） （式中Ｒ’は、−ＮＨＣＯＲ＿１又は−ＮＨＣＯＲ＿２
   Ｙ’は、上記Ｒ’が−ＮＨＣＯＲ＿１の時には−ＮＨＣ
   ＯＲ＿３又は低級アルキル基、 上記Ｒ’が、−ＮＨＣＯＲ＿２の時には −ＮＨＣＯＲ＿１を示し、 他は上記式（ I ）、（II）と同じである。）