[go: up one dir, main page]

JPH0310151A - 物体検査装置 - Google Patents

物体検査装置

Info

Publication number
JPH0310151A
JPH0310151A JP1144797A JP14479789A JPH0310151A JP H0310151 A JPH0310151 A JP H0310151A JP 1144797 A JP1144797 A JP 1144797A JP 14479789 A JP14479789 A JP 14479789A JP H0310151 A JPH0310151 A JP H0310151A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
measured
rays
ray source
image signals
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1144797A
Other languages
English (en)
Inventor
Moritoshi Ando
護俊 安藤
Satoshi Iwata
敏 岩田
Shinji Suzuki
伸二 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1144797A priority Critical patent/JPH0310151A/ja
Publication of JPH0310151A publication Critical patent/JPH0310151A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔目次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術      (第9〜11図)発明が解決し
ようとする課題 課題を解決するための手段 作用 実施例 本発明の原理説明  (第1〜7図) 本発明の一実施例  (第8図) 発明の効果 〔概要〕 被測定対象物の三次元状態をX線を用いて検知する物体
検査装置に関し、 物体の三次元状態を非接触、非破壊で高速かつ高精度で
検知可能な物体検査装置を提供することを目的とし、 検査箇所を有する被測定対象物52にX線を放射し透過
させるX線源41と、前記被測定対象物を透過したX線
を検知する検知手段42と、前記検査箇所と前記X線源
との距離を検出する距離検出手段68と、前記被測定対
象物52を所定速度で移動させる移動手段56と、前記
検知手段42により検知されたX線に対応する画像信号
を記憶する記憶手段70〜73と、前記距離検出手段6
8の出力に基づいて前記記憶手段70〜73により記憶
された前記画像信号のうち、前記被測定対象物52の検
査箇所を異なる方向から透過したX線に対応する前記画
像信号を抽出する抽出手段74と、前記抽出手段74に
より抽出された同一検査箇所の画像信号のうち、その最
大値に基づいて前記被測定対象物の検査箇所を検査する
検査手段76と、を備えて構成する。
〔産業上の利用分野] 本発明は、物体検査装置に係り、詳しくは、被測定対象
物の三次元状態をX線を用いて検知する物体検査装置に
関する。
電子計算機の高速化が進むとともに、電子部品の検査に
おいても、従来の外観だけでなく物体内部の状態を知る
必要がでてきている。例えば、電子計算機においては、
従来のプラスチックにかわり、セラミック基板が使用さ
れるようになってきている。この製造においては、セラ
ミック基板に形成された電気導通孔(以下、バイアホー
ル(■IA  HOLE)という)の内部検査が必要と
なっている。
〔従来の技術〕
セラミック多層板は、複数枚のグリーンシートを積層し
、焼結して製造される。バイアホールは各層間の導通を
とるために設けられたものであり、第9図に示すように
バイアホール1.2はグリーンシート3に貫通孔4をあ
け、このなかに銅ペーストを充填したものである。バイ
アホールに必要な条件は、各層間の導通をとるために、
第9図に示すバイアホール2のように、銅ペーストが基
材表面まで達していることが挙げられ、バイアホールの
欠陥は、バイアホール1のように中にボイド(中空)5
があるものなどである。この欠陥は、外観ではなく内部
の状態を知らねば検知できない。
また、もう一つの分野は、表面実装プリント板の半田内
部検査である。半田の外観検査は、従来は目視により行
われてきたが、表面実装技術が進展するとともに、半田
付けをリードの裏側で行うようになり外観検査が困難と
なっている。例えば、第10図に示すようにICピン6
.7の裏側につけられた半田の有無は、上から見ただけ
では検出できない、第10図に示すICピン6は半田8
が正常につけられたもの、ICピン7は半田がつけられ
なかった欠陥状態のものを示す。このような分野では、
物体の裏側にある対象を計測する必要がある。
そのため従来では、対象物の外部にX線源を設け、その
透過したX線をX線カメラで検出してその透過量により
半田の有無、多寡を計測する方法がとられている。
〔発明が解決しようとする課題] しかしながら、このような従来の物体検査装置にあって
は、単にX線を用いるだけでの態様であったため、第1
1図に示すように検査したい対象物(プリント配線板)
の裏側に半田9があるとX線10.11を透過させてそ
のX線の透過量をX線カメラ12.13で検出しようと
しても正常の場合と同じ透過量となり、欠陥か正常かの
判別ができないという問題点があった。
そこで本発明は、検査対象としない物体の影響を受ける
ことなく、被測定対象物の三次元状態を非接触、非破壊
で高速かつ高精度で検知可能な物体検査装置を提供する
ことを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明による物体検査装置は上記目的達成のため、検査
箇所を有する被測定対象物52にX線を透過させるX線
を放射するX線源41と、前記被測定対象物を透過した
X線を検知する検知手段42と、前記検査箇所と前記X
線源との距離を検出する距離検出手段68と、前記被測
定対象物52を所定速度で移動させる移動手段56と、
前記検知手段42により検知されたX線に対応する画像
信号を記憶する記憶手段70〜73と、前記距離検出手
段68の出力に基づいて前記記憶手段70〜73により
記憶された前記画像信号のうち、前記被測定対象物52
の検査箇所を異なる方向から透過したX線に対応する前
記画像信号を抽出する抽出手段74と、前記抽出手段7
4により抽出された同一検査箇所の画像信号のうち、そ
の最大値に基づいて前記被測定対象物の検査箇所を検査
する検査手段76と、を備えている。
〔作用〕
本発明では、X線源とX線を検知する検知手段との間に
置かれた被測定対象物が移動手段により所定速度で動か
され、異なる方向から被測定対象物の検査箇所にX線が
照射される。そして、検査箇所を異なる方向から検知し
た画像信号のみが抽出され、その最大値に基づいて被測
定対象物の検査箇所の欠陥の有無が判別される。
したがって、検査箇所以外に半田等があっても、これら
半田等に影響されることなく目的とする検査箇所のX線
透過量を得ることができ、高速かつ高精度で被測定対象
物の検査箇所の欠陥の有無が検査可能になる。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
原且説凱 本発明は、X検出透過量の多寡により、物体内部の空隙
を検査する際、検査しようとする箇所を多方向から照射
し、それぞれの透過量の内、裏の影響を受けない信号だ
けを選択しようとするものである。
第1〜7図は本発明の詳細な説明するための図である。
以下、半田計測を行う場合を例に採り本発明の詳細な説
明する。第1図において、21は表面実装プリント板、
22は例えば銅製リード、23.24は表面実装プリン
ト板21の裏パターンにつけられた半田、25.26.
27は部品である。まず、検査しようとする点A(検査
箇所)を通るようにX線@、 (a −d ) 31〜
34と検知器35〜38とを設置する。
各検出器35〜38が検出した信号のうち、最大値が裏
の影響を受けない信号とみなせる。すなわち、もし表面
実装プリント板21の裏に半田23.24や部品25〜
27があると、そこでは、X線が吸収されるため、透過
が小さくなる。したがって、各X線源(a−d)31〜
34からの透過量のうち、最大値が、裏パターンの影響
を受けないものである。これを実現するためには、第1
図に示すように照射角度を多数にすれば、どこかの照射
線が表の半田だけを透過するように設置できる。ここで
、照射角度が異なると、銅製リード22を透過する長さ
が異なるが、銅は半田に比較してX線の吸収量が約1/
10と少ないため、その影響は無視できる(表1参照)
表  1 本発明では、上記原理を一つのX線源と、一つのX線用
カメラを用いて実現しようとするものである。すなわち
、第2図に示すように一つのX線源41に対し一つの二
次元のX線検知器(検知手段)42を設け、検査対象と
するプリント板(被測定対象物)43を一定速度で移動
させると、各点では、異なる方向から照射を受ける。例
えば、第3図に示すように観測したい点(検査箇所)4
4が1.2.3.4と移動するとき、裏パターン45も
同時に移動する。このそれぞれで、透過画像を検知する
と、4の場合のみ裏と表パターンとが分離できている。
第2図の構成では、各画面を蓄えるフレームメモリと各
画面から同一地点の透過量を計算し、読み出す回路が必
要である。第4図はその概念を示すブロック図であり、
この図において、各点1〜4を透過したX線量を検出し
た検出画像信号は画像信号セレクタ46を介して最大値
検出回路47に入力され、最大値検出回路47で各点1
〜4点の最大値が検出される。検出された最大値(この
例では4の場合の値)は透過率決定回路48により同一
地点の透過量が計算され、判別回路49で表面のX線透
過量分布が計算されて欠陥の有無が判別される。
また、第5図に示すように、プリント板43の表と裏で
は画像の位置が異なるので、第6図に示すようにそれぞ
れ表と裏との場所を選ぶと表および裏それぞれの透過量
を計測することができる。
この計測においては、X線源41と被測定対象物(プリ
ント板43)との距離の計測が重要である。
すなわち、第7図(a)(b)に示すように、X線′6
1.41と被測定対象物との距離りがh′に変化すると
、検査点44と、X線源41と被測定対象物との法線と
の距離もdからd′へと変化する。そこで、光学的な方
法で、X線源41と検査点44との距離を計測する必要
がある。
二災施旦 以下、上記基本原理に基づいて実施例を説明する。第8
図は本発明に係る物体検査装置の一実施例を示す図であ
り、第1〜7図に示した原理説明と同一構成部分には同
一番号を付している。
第8図において、51は物体内部観測装置(物体検査装
置)、52は部品53〜55が取り付けられたプリント
板(被測定対象物)、56はプリント板52を搭載し、
X−Y軸方向に移動可能な移動テーブル(移動手段)で
ある。一方、57はレーザであり、レーザ57からの光
ビーム(レーザ光)はレンズ58.59を通して回転ミ
ラー60で反射した後、照明用対物レンズ61に入射し
、プリント仮52上に斜めからライン状に照射する。プ
リント板52からの反射光は検知用対物レンズ61を通
った後、ビームスプリッタ63によってフォトディテク
タ64.65に結像する。フォトディテクタ64.65
としては、例えばCCDあるいはTVカメラが用いられ
る。フォトディテクタ64.65の検知画像は図示しな
いA/D変換器によってA/D変換され、高さ検出回路
66に入力される。高さ検出回路66は入力された検知
画像に基づいてプリント板52の高さを検出し、その検
出信号は基材高さ検出回路67に入力され、基材高さ検
出回路67で検出したい箇所の高さが検出される。上記
レーザ57、レンズ58.59、回転ミラー60、照明
用対物レンズ61、検知用対物レンズ62、ビームスプ
リッタ63、フォトディテクタ64.65、高さ検出回
路66および基材高さ検出回路67は全体として距離検
出手段68を構成する。
X線検出器42により検出した画像出力は増幅器69に
入力され、増幅器69で増幅してフレームメモリ(記憶
手段)70〜73に一時的に記憶される。各フレームメ
モリ70〜73に記憶された画像出力はアドレス選択回
路(抽出手段)74に人力され、アドレス選択回路74
は基材高さ検出回路67により検出された検査対象とX
線源41との距離データに基づいて検出したい部分の座
標を計算し、各フレームメモリ70〜73から該当アド
レスの観測値を読み出す。読み出された観測値はX線断
面画像処理回路75に入力され、X線断面画像処理回路
75で観測値のうち最も大きな透過量を判別する。判別
結果は欠陥判別回路(検査手段)76に入力され、欠陥
判別回路76は最大透過量を所定値と比較し、透過量が
所定値から、ある許容範囲外の値となった場合には欠陥
と判別する。
次に、作用を説明する。
X線源41によりプリント板52の上方からプリント板
52にX線を照射するとともに、移動テーブル56を一
定速度で所定方向に移動させる。検知側ではプリント板
52の下方にX線検出器42を置き、X線の透過量を検
知する。検知した信号は増幅器69で増幅後、フレーム
メモリ70〜73に入力され、順次記憶される。
一方、距離検出手段68による光学的な方法(三角測量
法)で検査対象とX線源41との距離が計測され、この
結果を基にして、アドレス選択回路74で検出したい部
分の座標が計算され、各フレームメモリ70〜73から
観測値が読み出される。そして、それらの値のうち最も
大きな透過量がその座標のX線透過量となる。次に、欠
陥判別回路76で予め決められた透過量との比較を行い
、透過量が所定値より大きすぎた場合には、欠陥と判定
される。
以上述べたように、本実施例では検査したい対象物の裏
側に半田、部品等があっても、これらの部材の影響を受
けることなく検査箇所のみ欠陥を確実に判別することが
でき、しかも、一つのX線源41と、一つのX線検出器
42とを用いて、板状対象物の三次元状態を高速かつ高
精度で検知することができる。
なお、本実施例では、プリント板52の半田の欠陥の有
無を判別する例であるが、プリント板52の半田だけで
なく、セラミック基板のバイアホール検査にも適用可能
であることは言うまでもない。
〔発明の効果〕
本発明によれば、検査対象としない物体の影響を受ける
ことなく被測定対象物の三次元状態を非接触、非破壊で
高速かつ高精度で検知可能な物体検査装置を実現するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1〜7図は本発明の詳細な説明するための図であり、 第1図はその原理説明図、 第2図はその一つのX線源と一つのX線カメラを用いて
実現する場合の原理説明図、 第3図はその原理説明図、 第4図はそのブロック構成図、 第5図はそのプリント板の表と裏の画像を検出する場合
の原理説明図、 第6図は第5図により検出された検出画面を示す図、 第7図はそのX線源と検査対象との距離を説明するため
の図、 第8図は本発明に係る物体検査装置の一実施例を示す全
体構成図、 第9〜11図は従来の物体検査装置を示す図であり、 第9図はそのバイアホールの状態を示す図、第10図は
その半田の付着状態を説明するための図、 第11図はその問題点を説明するための図である。 21・・・・・・表面実装プリント板、22・・・・・
・i同型リード、 23.24・・・・・・半田、 25〜27・・・・・・部品、 31〜34・・・・・・X線源、 35〜38・・・・・・検出器、 41・・・・・・X線源、 42・・・・・・X線検出器(検知手段)、43・・・
・・・プリント板(被測定対象物)、44・・・・・・
観測したい点(検査箇所)、45・・・・・・裏パター
ン、 46・・・・・・画像信号セレクタ、 47・・・・・・最大値検出回路、 48・・・・・・透過率決定回路、 49・・・・・・判別回路、 51・・・・・・物体内部観測装置(物体検査装置)、
52・・・・・・プリント板(被測定対象物)、53〜
55・・・・・・部品、 56・・・・・・移動テーブル(移動手段)、57・・
・・・・レーザ、 58.59・・・・・・レンズ、 60・・・・・・回転ミラー 61・・・・・・照射用対物レンズ、 62・・・・・・検知用対物レンズ、 63・・・・・・ビームスプリッタ、 64.65・・・・・・フォトディテクク、66・・・
・・・高さ検出回路、 67・・・・・・基材高さ検出回路、 68・・・・・・距離検出手段、 69・・・・・・増幅器、 70〜73・・・・・・フレームメモリ(記憶手段)、
74・・・・・・アドレス選択回路(抽出手段)、75
・・・・・・X線断面画像処理回路、76・・・・・・
欠陥判別回路(検査手段)第 図 第 図 第 図 本発明のプリント仮の表と裏の画像を 検出する場合の原理説明図 第5図 !、2.3.4 一上面(同一アドレス) 1′、2′、3′、4′ 一下面洞一アドレス) 原理説明の第5図によ引支出された検出画面を示す図第
6図 第 7 図 欧陥〕 ぽ常〕 従来のバイアホールの状態を示す図 第 図 第 0 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 検査箇所を有する被測定対象物(52)にX線を放射し
    透過させるX線源(41)と、 前記被測定対象物を透過したX線を検知する検知手段(
    42)と、 前記検査箇所と前記X線源との距離を検出する距離検出
    手段(68)と、 前記被測定対象物(52)を所定速度で移動させる移動
    手段(56)と、 前記検知手段(42)により検知されたX線に対応する
    画像信号を記憶する記憶手段(70)〜(73)と、 前記距離検出手段(68)の出力に基づいて前記記憶手
    段(70)〜(73)により記憶された前記画像信号の
    うち、前記被測定対象物(52)の検査箇所を異なる方
    向から透過したX線に対応する前記画像信号を抽出する
    抽出手段(74)と、 前記抽出手段(74)により抽出された同一検査箇所の
    画像信号のうち、その最大値に基づいて前記被測定対象
    物の検査箇所を検査する検査手段(76)と、 を備えたことを特徴とする物体検査装置。
JP1144797A 1989-06-07 1989-06-07 物体検査装置 Pending JPH0310151A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1144797A JPH0310151A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 物体検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1144797A JPH0310151A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 物体検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0310151A true JPH0310151A (ja) 1991-01-17

Family

ID=15370684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1144797A Pending JPH0310151A (ja) 1989-06-07 1989-06-07 物体検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0310151A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5594768A (en) * 1994-05-12 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Laminograph and inspection and repair device using the same
US7680623B2 (en) 2004-12-21 2010-03-16 National University Corporation Gunma University Measuring system, computing device and computer readable medium having program executing to perform measuring a region-in-object
JP2017032285A (ja) * 2015-07-29 2017-02-09 株式会社日立ハイテクサイエンス X線透過検査装置及びx線透過検査方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5594768A (en) * 1994-05-12 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Laminograph and inspection and repair device using the same
US7680623B2 (en) 2004-12-21 2010-03-16 National University Corporation Gunma University Measuring system, computing device and computer readable medium having program executing to perform measuring a region-in-object
JP2017032285A (ja) * 2015-07-29 2017-02-09 株式会社日立ハイテクサイエンス X線透過検査装置及びx線透過検査方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3026981B2 (ja) 潜在的歪曲プリント回路板点検のための補償システム
US5815275A (en) Method and system for triangulation-based, 3-D imaging utilizing an angled scanning beam of radiant energy
US6671397B1 (en) Measurement system having a camera with a lens and a separate sensor
KR100796113B1 (ko) 범프 형상 계측 장치 및 그 방법
JPH11316112A (ja) 集積回路の交差光軸検査システム
US4941256A (en) Automatic visual measurement of surface mount device placement
JP4434417B2 (ja) プリント配線板の検査装置
JPH10300448A (ja) プリント回路板アセンブリの検査装置及び方法
JP2006090740A (ja) 配線基板の検査方法、配線基板の製造方法及び配線基板の検査装置
JPH0499950A (ja) 半田付検査装置
JP2011158363A (ja) Pga実装基板の半田付け検査装置
JP4825643B2 (ja) プリント基板の穴充填部欠陥検査システム及び欠陥検査方法
WO2021079541A1 (ja) 外観検査装置及び、不良検査方法
JPH0310151A (ja) 物体検査装置
JP2000009452A (ja) 表面の凹凸検査方法および装置
JPH07117388B2 (ja) 外観検査方法
KR20040096277A (ko) 메탈 마스크 검사 장치 및 그의 검사 방법
JP3225067B2 (ja) リード測定方法
JPH0611321A (ja) 半田印刷検査方法
CN112474384A (zh) 一种印制电路板的检测设备及方法
JP3006566B2 (ja) リード曲がり検査装置
JPH0739997B2 (ja) 半田付け部の外観検査方法
JPH0894332A (ja) 電子基板上の実装部品検査装置
JP2525261B2 (ja) 実装基板外観検査装置
Koezuka et al. Visual inspection system using multidirectional 3-D imager