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JPH03100644A - Radiation image converting panel - Google Patents

Radiation image converting panel

Info

Publication number
JPH03100644A
JPH03100644A JP23885289A JP23885289A JPH03100644A JP H03100644 A JPH03100644 A JP H03100644A JP 23885289 A JP23885289 A JP 23885289A JP 23885289 A JP23885289 A JP 23885289A JP H03100644 A JPH03100644 A JP H03100644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
protective layer
image
radiation
panel
Prior art date
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Granted
Application number
JP23885289A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2835621B2 (en
Inventor
Masayuki Nakazawa
中沢 正行
Hisanori Tsuchino
久憲 土野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP23885289A priority Critical patent/JP2835621B2/en
Publication of JPH03100644A publication Critical patent/JPH03100644A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2835621B2 publication Critical patent/JP2835621B2/en
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  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance sharpness and durability by providing a stimulable phosphor layer on a base and shielding this layer with a protective layer body having >= 0.05mmPb lead equiv. CONSTITUTION:The stimulable phosphor layer 1 is provided on the base 3 and is shielded with the protective layer body 2 having >= 0.05mmPb lead equiv.. The protective layer body 2 which has >= 0.05mmPb led equiv. in X-ray absorptivity, good light transmittability and substantially zero moisture permeability and can be molded to a sheet shape is used and sheet glass contg. heavy metals, such as Pb, Ba, Ag, Au, Pt, and W and contg. Pb in particular is more preferable. The moisture-proofness and durability of the converting panel are improved in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尺性蛍光体層を有する放射線画像変換パネル
に関し、さらに詳しくは高鮮鋭性、防湿性放射線画像変
換パネルに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a radiation image conversion panel having a photometric phosphor layer, and more particularly to a high sharpness, moisture-proof radiation image conversion panel.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

病気診断に用いられるX線画像を得る従来のハロゲン化
銀感光材料に代って蛍光体層から直接画像を取出すX線
画像変換方法が工夫されている。
In place of conventional silver halide photosensitive materials for obtaining X-ray images used in disease diagnosis, an X-ray image conversion method has been devised to directly extract an image from a phosphor layer.

この方法は、輝尺性蛍光体層(以後輝尽層と略称)を有
する放射線画像変換パネル(以後変換パネルと略称)を
使用するもので、この変換パネルの輝尽層に被写体を透
過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対応
する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、しか
る後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによって
各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれを
光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を得
るものである。
This method uses a radiation image conversion panel (hereinafter referred to as conversion panel) that has a photometric phosphor layer (hereinafter referred to as photostimulation layer), and the radiation transmitted through the subject passes through the photostimulation layer of this conversion panel. to accumulate radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject to form a latent image, and then scan this photostimulation layer with photostimulation excitation light to emit the accumulated radiation energy of each part. This is converted into light, and an image is obtained using an optical signal based on the intensity of this light.

この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよい
し、CRT上に再生してもよい。
This final image may be reproduced as a hard copy or on a CRT.

この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能である
The conversion panel used in this radiation image conversion method stores radiation image information and then releases the stored energy by scanning the stimulated excitation light, so it can store radiation images again after scanning, and can be used repeatedly. It is possible.

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
、前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。
Therefore, it is desirable that the conversion panel has the ability to withstand repeated use for a long period of time or many times without deteriorating the quality of the obtained radiographic image. For this purpose, the stimulable layer of the conversion panel needs to be sufficiently protected from external physical or chemical stimulation.

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設け、変換パネル周縁を密閉し、輝尽層を保護する
方法がとられてきた。
In conventional conversion panels, in order to solve the above problems, a protective layer is provided to cover the photostimulable layer surface on the support of the conversion panel, and the periphery of the conversion panel is sealed to protect the photostimulable layer. I've been exposed to it.

更に防湿性を上げるために、従来の保護層より厚めの防
湿効果の大きい保護層体を用い、支持体と保護層体の間
に輝尽層を囲んでスペーサを接着、挟在させ密閉したシ
ェル型変換パネル(特願昭63−141522号)が提
案され、更に進んで前記スペーサの外側に防湿材を兼ね
る充填材を充填して防湿効果を高める方法(特願昭63
−141523号)が提示されている。
In order to further increase moisture resistance, we used a protective layer that is thicker than conventional protective layers and has a greater moisture-proofing effect, and a spacer was bonded and sandwiched between the support and the protective layer to surround the stimulable layer, resulting in a sealed shell. A type conversion panel (Japanese Patent Application No. 141522/1983) was proposed, and a method was further developed to increase the moisture-proofing effect by filling the outside of the spacer with a filler that also served as a moisture-proofing material (Japanese Patent Application No. 1983-141522).
-141523) is presented.

前記のX線画像の光電変換パネル法の利便さが認識され
るに伴い、X線発生装置、被写体及びパネル処理装置の
三構成要素の中で、特にパネル処理装置群は、パネルへ
のX線照射、輝尽発光、輝尽光読取り、更に反復使用に
備える輝尽残留エネルギーの消去或は濁辺処理について
夫々に装置化が進み、かつパネルに対する各操作、処理
を集約し、また線源を含めた装置相互が制御機構で連結
されたコンパクトで小型の輝尽画像読取装置として、装
置にセットしたままのパネルを放射線画形成から輝尽画
像読出しまで一連して取扱うビルトインタイブにまとめ
られて来ている。
As the convenience of the above-mentioned photoelectric conversion panel method for X-ray images has been recognized, among the three components of the X-ray generation device, the subject, and the panel processing device, the panel processing device group in particular has become Devices have been developed for irradiation, photostimulated luminescence, photostimulated reading, and erasure of photostimulated residual energy in preparation for repeated use, or turbidity processing. It is a compact and small photostimulation image reading device in which the devices included in the device are connected to each other by a control mechanism, and has been assembled into a built-in type that handles the entire process from radiation image formation to photostimulation image readout using a panel that is still set in the device. ing.

更に、放射線画像の光電変換読取りは、保護層側から画
像放射線を輝尽層に照射し、再び保護層側から光電変換
読取りを行う方式に代って、輝尽画像装置に装着した変
換パネルに被写体の放射線画像を支持体側から入射させ
て輝尽層に写し取り、装着した変換パネルを取外すこと
なく、次いで光学的に充分に配慮して構成された保護層
体側から直に輝尽励起、輝尽画像の読出しに入る連続的
でかつ一方向性入射−読出し方式の輝尽画像装置が開発
されている。この方式によれば、操作時間の短縮と装置
の集約化、小型化が可能となる。
Furthermore, instead of the method of irradiating the image radiation onto the photostimulable layer from the protective layer side and then reading the photoelectrically converted image from the protective layer side, the photoelectric conversion reading of the radiation image is performed using a conversion panel attached to the photostim image device. A radiation image of the object is incident on the support side and transferred to the photostimulable layer, and then without removing the attached conversion panel, it is directly stimulated and excited from the protective layer side, which is constructed with sufficient optical consideration. A continuous and unidirectional incidence-readout method of photostimulation imaging apparatus has been developed for reading out the photochromic image. According to this method, it is possible to shorten operation time, consolidate the equipment, and downsize the equipment.

しかし前記のようにコンパクト化され利便なビルトイン
タイブ輝尽画像装置を用いる際に散乱X線による思わざ
る障碍が伏在していることが明らかになった。
However, it has become clear that when using the compact and convenient built-in photostimulation imaging device as described above, there is an unexpected problem due to scattered X-rays.

即ち被写体による乱射X線はグリッドによって除去され
るが、被写体画像をパネルに形成したX線は更にパネル
を貫通してその後部にある装置部材において反射後戻り
する後方散乱X線、或は二次X線を生じてパネルに再入
射し、画像に擾乱、即ち鮮鋭性、コントラスト、分解能
等々の劣化を与える。
In other words, the scattered X-rays emitted by the subject are removed by the grid, but the X-rays that form the subject image on the panel are further scattered as backscattered X-rays or secondary It creates lines that re-enter the panel and cause disturbances to the image, ie, deterioration of sharpness, contrast, resolution, etc.

これらの後方散乱もしくは二次X線は、カセットにパネ
ルを収納する方式では、従来のハロケン化銀X線フィル
ム用カセット同様、パネル裏面側にX線吸収板を設けれ
ば事足りる。しかし非カセット方式のビルトインタイブ
輝尽画像装置においては、装着したパネルの裏面に添え
てX線吸収板を設(すると、パネル輝尽層の輝尽励起、
輝尽画像読出しに邪魔になり吸収板を取払う機構を更に
設ける必要を生じ、輝尽画像装置の機能、効率を損い、
またコストアップを、招く。
In a system in which the panel is housed in a cassette, these backscattered or secondary X-rays can be absorbed by providing an X-ray absorbing plate on the back side of the panel, as in the conventional cassette for silver halide X-ray film. However, in a non-cassette type built-in photostimulation imaging device, an
It becomes necessary to further provide a mechanism for removing the absorbing plate which obstructs the reading of the photostimulated image, impairing the function and efficiency of the photostimulating image device.
It also increases costs.

(発明の目的) 本発明の目的は、鮮鋭性が高く耐用性のよい放射線画像
変換パネルの提供にある。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel with high sharpness and good durability.

特に前記一方向性入射・読出し方式用の高鮮鋭性変換パ
ネルの提供にある。
In particular, the present invention provides a high sharpness conversion panel for the unidirectional incidence/readout method.

(発明の構成及び作用効果) 前お本発明の目的は、支持体上りこ輝尺性蛍光体層を設
け、鉛当量0 、05n+Pb以上の保護層体で掩蔽し
た放射線画像変換パネルによって達成される。
(Structure and Effects of the Invention) The object of the present invention is achieved by a radiation image conversion panel in which a support is provided with a photometric phosphor layer and covered with a protective layer having a lead equivalent of 0.05n+Pb or more. .

尚前記鉛当量とは、X線の減衰能力の鉛板厚み換算値で
ある。更に本発明においては、鉛当量amaPbの保護
層体とは、80KeVのX線の吸収率がatmの厚さの
鉛板の80KeVのX線の吸収率に等しいものを謂う。
Note that the lead equivalent is the value of the X-ray attenuation ability converted to the thickness of the lead plate. Further, in the present invention, a protective layer having a lead equivalent amaPb is one whose absorption rate of 80 KeV X-rays is equal to that of a lead plate having a thickness of atm.

次に本発明の詳細な説明するが、まず本発明のシェルを
変換パネルの態様例の1つを、第1図に断面図として示
した。
Next, the present invention will be described in detail. First, one embodiment of the shell conversion panel of the present invention is shown as a sectional view in FIG.

第1図において、lは輝尽層、2は本発明に係る保護層
体、3は支持体、4は低屈折率層、5はスペーサである
In FIG. 1, l is a photostimulable layer, 2 is a protective layer according to the present invention, 3 is a support, 4 is a low refractive index layer, and 5 is a spacer.

本発明による変換パネルは第2図に示す輝尽画像装置ブ
ロック図において4として示される;該変換パネルは、
支持体側を被写体M1即ち装置の外方に向け、保護層体
側を内方に向けてセットされる。
A conversion panel according to the present invention is designated as 4 in the photostimulator block diagram shown in FIG.
It is set with the support side facing the subject M1, that is, the outside of the apparatus, and the protective layer side facing inward.

尚第1図及び第2図の数字符号は全く独立に付しである
Note that the numerical symbols in FIGS. 1 and 2 are assigned completely independently.

本発明に係る輝尽画像装置を説明するブロック図、第2
図において、放射線発生源lは、放射線制御装置2によ
って制御されて、被写体(人体胸部等)Mに向けて放射
線を照射する。輝尽画像装置3は、被写体Mを挟んで放
射線発生源lと対向する面に上記したパネル4を備え、
そのパネル4は放射線発生源lからの照射放射線量に対
する被写体Mの放射線透過率分布に従ったエネルギーを
輝尽層に蓄積するとことで、そこに被写体Mの潜像を形
成する。
Block diagram illustrating the photostimulation apparatus according to the present invention, second
In the figure, a radiation source 1 is controlled by a radiation control device 2 to irradiate a subject M (such as a human chest) with radiation. The photosensitivity imaging device 3 includes the above-described panel 4 on the surface facing the radiation source 1 with the subject M in between,
The panel 4 forms a latent image of the subject M therein by accumulating energy in the photostimulable layer according to the radiation transmittance distribution of the subject M with respect to the radiation dose irradiated from the radiation source 1.

光ビーム発生部(ガスレーザ、固体レーザ、半導体レー
ザ等)5は、出射強度が制御された光ビームを発生し、
その光ビームは光学系を経由して走査器6に到達し、そ
こで偏向を受け、更に反射鏡7で光路を変更されて、画
像放射線をうけた位置にセットされたままパネル4に励
起走査光として導かれる。
A light beam generator (gas laser, solid-state laser, semiconductor laser, etc.) 5 generates a light beam with controlled output intensity,
The light beam reaches the scanner 6 via the optical system, where it is deflected, and the optical path is further changed by the reflector 7, and the excitation scanning beam is sent to the panel 4 while being set at the position where it received the image radiation. guided as.

集光体8は、励起光が走査されるパネル4に近接して光
ファイバからなる集光端が位置され、上記光ビームで走
査されたパネル4からの潜像エネルギーにほぼ比例した
発光強度の輝尽光を読出す。
The condensing body 8 has a condensing end made of an optical fiber located close to the panel 4 scanned by the excitation light, and emits an emitted light whose intensity is approximately proportional to the latent image energy from the panel 4 scanned by the light beam. Read out the bright light.

9は集光体8かも導入された光から輝尽発光波長領域の
光のみを通過させるフィルタであり、そこを通過した光
はフォトマルlOに入射して、その入射光に対応した電
流信号に変換される。尚励起機構と集光機構は励起・読
出しユニットとして、パネル4の面に沿って移行する。
9 is a filter that allows only the light in the stimulated emission wavelength region to pass through from the light introduced into the condenser 8; the light that has passed through it enters the photomultiplier 1O, and is converted into a current signal corresponding to the incident light. converted. The excitation mechanism and the light collection mechanism move along the surface of the panel 4 as an excitation/readout unit.

7オトマル10からの出力電流は、電流/電圧変換器1
1で電圧信号に変換され、増幅器12で増幅された後、
A/D変換器13でデジダルデータに変換される。そし
て、このデジタルデータは画像メモリ14に順次記録さ
れる。15はCPUであり、メモリ14に格納された画
像情報に対して種々の画像処理(例えば、階調処理、周
波数処理、移動、回転、統計処理等)を施し、その処理
結果としての画像情報は、画像表示装置16で表示され
る。17はメモリ14内の画像情報を外部に伝送するた
めの、或は外部からの同様な情報を受は取るためのイン
ターフェースである。18は読取ゲイン調整回路であり
、この回路により、光ビーム発生部5の光ビーム強度調
整、7オトマル用高圧電源19の電源電圧調整によるフ
ォトマルのゲイン調整、電流/電圧変換器11と増幅器
12のゲイン調整、及びA/D変換器13の入力ダイナ
ミックレンジ調整が行われ、放射線画像情報の読出ゲイ
ンが総合的に調整される。
7 The output current from the automaton 10 is the current/voltage converter 1
After being converted into a voltage signal in step 1 and amplified in amplifier 12,
The A/D converter 13 converts the data into digital data. Then, this digital data is sequentially recorded in the image memory 14. 15 is a CPU, which performs various image processing (for example, gradation processing, frequency processing, movement, rotation, statistical processing, etc.) on the image information stored in the memory 14, and the image information as a result of the processing is , are displayed on the image display device 16. Reference numeral 17 denotes an interface for transmitting image information in the memory 14 to the outside or for receiving similar information from the outside. Reference numeral 18 denotes a reading gain adjustment circuit, and this circuit adjusts the light beam intensity of the light beam generator 5, adjusts the gain of the photomultiplier by adjusting the power supply voltage of the high voltage power supply 19 for the photomultiplier, and the current/voltage converter 11 and the amplifier 12. gain adjustment and input dynamic range adjustment of the A/D converter 13 are performed, and the readout gain of radiation image information is comprehensively adjusted.

本発明において用いられる保護層体としては、X線吸収
率が鉛当量0.05mn+Pb以上の、透光性がよく、
透湿性が実質ゼロであり、シート状に成形できるものが
使用される。
The protective layer used in the present invention has good translucency and has an X-ray absorption rate of lead equivalent of 0.05 mn+Pb or more.
The material used has virtually no moisture permeability and can be formed into a sheet.

そのようなものとしては、例えば、Pb、Ba、Ag、
Au。
Such materials include, for example, Pb, Ba, Ag,
Au.

pt、w等の重金属を含有する板ガラス、特にpbを含
有するものが好ましい。PbOとしてのwt%は、5〜
70wt%が適当であり、30〜60wt%が好ましい
Plate glasses containing heavy metals such as pt and w, particularly those containing PB, are preferred. The wt% as PbO is 5~
70 wt% is suitable, and 30 to 60 wt% is preferred.

また、前記含有される重金属は1種類でも複数でもよい
Moreover, the heavy metal contained may be one type or a plurality of types.

さらに、保護層体の表面に、MgF2等の反射防止層を
設けると、輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過する
とともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。
Furthermore, it is preferable to provide an anti-reflection layer such as MgF2 on the surface of the protective layer, since it allows stimulated excitation light and stimulated luminescence to pass through efficiently and reduces the decrease in sharpness.

また、保護層体の厚さは、50μm〜5mmであり、良
好な防湿性を得るためには、100μm〜3mmが好ま
しい。
Moreover, the thickness of the protective layer is 50 μm to 5 mm, and preferably 100 μm to 3 mm in order to obtain good moisture resistance.

支持体又は保護層体上に輝尽層を形成せしめた後、支持
体と保護層体の間に、輝尽層を取り囲むスペーサを設け
るが、そのようなスペーサとしては、輝尽層を外部雰囲
気から遮断した状態で保持することができるものであれ
ば特に制限されず、ガラス、セラミックス、金属、プラ
スチック等を用いることができる。
After forming the stimulable layer on the support or the protective layer, a spacer is provided between the support and the protective layer to surround the stimulable layer. There is no particular restriction on the material as long as it can be held in a state where it is shielded from the air, and glass, ceramics, metal, plastic, etc. can be used.

また、スペーサは、その透湿度が30g/m”・24h
r以下であることが好ましい、スペーサの厚さは、輝尽
層の厚さ以上の厚さであることが好ましく、スペーサの
幅は、主に、このスペーサと支持体及び保護層体との密
着部分の防湿性(前記透湿度)に関連して決定されるも
のであり、1〜30mmが好ましい。
In addition, the spacer has a moisture permeability of 30g/m"・24h
The thickness of the spacer, which is preferably less than It is determined in relation to the moisture resistance (moisture permeability) of the part, and is preferably 1 to 30 mm.

なお、スペーサと支持体及び保護層体との密着部分の透
湿度は、30g/m”・24hr以下であることが好ま
しい。
Note that the moisture permeability of the portion in close contact between the spacer, the support, and the protective layer is preferably 30 g/m''·24 hr or less.

ここでスペーサを支持体及び保護層体に密着させるには
、例えば接着剤等を用いるが、この接着剤としては防湿
性を有するものが好ましい。具体的には、エポキシ系樹
脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢
酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、
アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴム等の有
機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤、アルミナ、
シリカ等を主成分とする無機系接着剤等が挙げられる。
Here, an adhesive or the like is used, for example, to bring the spacer into close contact with the support and the protective layer, but it is preferable that the adhesive has moisture-proof properties. Specifically, epoxy resins, phenolic resins, cyanoacrylate resins, vinyl acetate resins, vinyl chloride resins, urethane resins,
Organic polymer adhesives such as acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin, olefin resin, chloroprene rubber, nitrile rubber, silicone adhesive, alumina,
Examples include inorganic adhesives containing silica or the like as a main component.

これらのなかでも半導体や電子部品の封止に用いられる
エポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れてい
るので好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く
好適である。
Among these, epoxy resins and silicone resins used for sealing semiconductors and electronic components are preferred because they have excellent moisture resistance, and epoxy adhesives are particularly preferred because they have low moisture permeability.

本発明の変換パネルにおいては、輝尽層と保護層体の間
に低屈折率層を有していると保護層体による鮮鋭性の低
下が抑制されるので好ましい。
In the conversion panel of the present invention, it is preferable to have a low refractive index layer between the photostimulable layer and the protective layer because deterioration in sharpness due to the protective layer is suppressed.

この低屈折率層はスペーサにより外部雰囲気から遮断さ
れた状態で存在するものであり、このように低屈折率層
を設けることにより保護層体の厚さを実質的により厚く
することができるために、変換パネルの防湿性及び耐久
性をいっそう向上させることができる。
This low refractive index layer exists in a state where it is shielded from the external atmosphere by a spacer, and by providing the low refractive index layer in this way, the thickness of the protective layer can be substantially increased. , the moisture resistance and durability of the conversion panel can be further improved.

そのような低屈折率層としては、空気、窒素、アルゴン
等の不活性な気体からなる層及び真空層などの屈折率が
実質的に1である層;エタノール(屈折率1.36)、
メタノール(屈折率1.33)及びジエチルエーテル(
屈折率1.35)等の液体からなる層にすることもでき
る。低屈折率層はこれ等以外にも、例えば、CaFz(
屈折率1−23〜1.26)、NazAIFs(屈折率
1.35)、ugF、 (屈折率1.38)、5i02
 (屈折率1.46)等の物質からなる層にすることも
できる。
Examples of such a low refractive index layer include a layer made of an inert gas such as air, nitrogen, and argon, and a layer having a refractive index of substantially 1, such as a vacuum layer; ethanol (refractive index 1.36);
Methanol (refractive index 1.33) and diethyl ether (
It can also be a layer made of a liquid with a refractive index of 1.35) or the like. In addition to these, the low refractive index layer may also be made of, for example, CaFz (
(Refractive index 1-23 to 1.26), NazAIFs (Refractive index 1.35), ugF, (Refractive index 1.38), 5i02
(refractive index: 1.46) or the like.

本発明により製造される変換パネルの低屈折率層として
は、気体層又は真空層であることが、鮮鋭性の低下を防
止する効果が高いことから好ましい。
As the low refractive index layer of the conversion panel manufactured according to the present invention, a gas layer or a vacuum layer is preferable because it is highly effective in preventing deterioration of sharpness.

低屈折率層の厚さは、0.05μm〜3IIIIfiま
でが実用的である。
The practical thickness of the low refractive index layer is 0.05 μm to 3IIIfi.

本発明において使用される輝尽性蛍光体は、最初の光も
しくは高エネルギー放射線が照射された後に、先約、熱
的、機械的、化学的又は電気的等の刺激(輝尽励起)に
より、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に
対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面か
ら好ましくは500nm以上の励起光によって輝尽発光
を示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体としては
、例えば特開昭48−80487号に記載されているB
aSO4二AX。
The stimulable phosphor used in the present invention is irradiated with first light or high-energy radiation, and then stimulated (stimulated excitation) thermally, mechanically, chemically, or electrically. It is a phosphor that exhibits stimulated luminescence corresponding to the amount of initial light or high-energy radiation irradiation, but from a practical standpoint, it is preferably a phosphor that exhibits stimulated luminescence by excitation light of 500 nm or more. As such a photostimulable phosphor, for example, B described in JP-A-48-80487 is used.
aSO42AX.

特開昭48−80489号に記載されているSrSO4
:AX%特開昭53−39277号のLi1B=07:
Cu、 Ag等、特開昭54−47883号のLtzO
・(B202)x :Cu及びLi、0・(B、01)
x:Cu、 Ag等、米国特許3,859.527号の
SrS:Ce、 SI+。
SrSO4 described in JP-A-48-80489
:AX% Li1B of JP-A-53-39277=07:
Cu, Ag, etc., LtzO of JP-A-54-47883
・(B202)x: Cu and Li, 0・(B, 01)
x: Cu, Ag et al., SrS of US Pat. No. 3,859.527: Ce, SI+.

SrS:Eu、 Sm%La、O!S:Eu、 S+s
及び (Zn、 Cd)  S :Mnで示される蛍光
体が挙げられる。
SrS:Eu, Sm%La, O! S: Eu, S+s
and (Zn, Cd) S :Mn.

また、特開昭55−12142号に記載されているZn
S :Cu、 Pb蛍光体、一般式BaO・xA12z
03:Euで示される■ アルミン酸バリウム蛍光体、及び一般式M O・xsi
O=:Aで示されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が
挙げられる。また、特開昭55−12143号に記載さ
れている一般式 %式%: で示されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式%式%: で示される蛍光体、特開昭55−12145号に記載さ
れている一般式 %式%: で示される蛍光体、特開昭55−84389号に記載さ
れている一般式 %式% で示される蛍光体、特開昭55−160078号に記載
されている一般式 %式%: で示される希土類元素付活2価金属フルオルハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、 CdS:A、 (Zn、 
Cd)S:A、S:A、ZnS:A、X及びCdS:A
、X’t’示される蛍光体、特開昭59−38278号
に記載されている下記いずれかの一般式 %式%: : で示される蛍光体、特開昭59−155487号に記載
されている下記いずれかの一般式 %式%: で示される蛍光体、特開昭61−72087号に記載さ
れている下記一般式 %式% : で示されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。
In addition, Zn described in JP-A No. 55-12142
S: Cu, Pb phosphor, general formula BaO x A12z
03: Barium aluminate phosphor represented by Eu and general formula M O xsi
Examples include alkaline earth metal silicate phosphors represented by O=:A. Furthermore, an alkaline earth fluorohalide phosphor with the general formula % formula % described in JP-A No. 55-12143, and a general formula % formula % described in JP-A-55-12144 : A phosphor represented by the general formula % formula % described in JP-A No. 55-12145: A phosphor represented by the general formula % formula % described in JP-A-55-84389. A rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor described in JP-A No. 55-160078, a rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor with the general formula ZnS:A, CdS:A, (Zn ,
Cd) S:A, S:A, ZnS:A, X and CdS:A
, Examples include phosphors represented by any of the following general formulas %: and alkali halide phosphors represented by the following general formula %: described in JP-A No. 61-72087. In particular, alkali halide phosphors are preferred because they facilitate the formation of a stimulable layer by methods such as vapor deposition and sputtering.

また、アルカリ土類フルオルハライド蛍光体、アルカリ
ハライド蛍光体は特に水分による劣化が著しく、本発明
による効果が大きい。
Furthermore, alkaline earth fluorohalide phosphors and alkali halide phosphors are particularly susceptible to significant deterioration due to moisture, and therefore the present invention is particularly effective.

しかし、本発明において用いられる輝尽性蛍光体は、前
述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射した
後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光体で
あればいかなる蛍光体であってもよい。
However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-mentioned phosphors, but can be any phosphor that exhibits stimulated luminescence when irradiated with radiation and then irradiated with stimulable excitation light. It may also be a phosphor.

本発明の方法においては、前記輝尽性蛍光体の層は、支
持体や保護層上に塗布法や気相成長法等を用いて形成せ
しめる。
In the method of the present invention, the layer of the stimulable phosphor is formed on the support or the protective layer using a coating method, a vapor deposition method, or the like.

そのような輝尽層は、前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若し″くは二つ以上の輝尽層から成る
輝尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含
まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なってい
てもよい。
Such a stimulable layer may be a stimulable layer group consisting of one or more stimulable layers containing at least one kind of the above-mentioned stimulable phosphors. The stimulable phosphors contained in the stimulable layer may be the same or different.

変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネルの
放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異
なるが、結着剤を含有しない場合10/J m〜’10
00p taの範囲、好ましくは20pra〜800μ
mの範囲から選ばれ、結着剤を含有する場合で20p 
ts〜1000μmの範囲、好ましくは50μI11〜
500μmの範囲から選ばれる。
The layer thickness of the stimulable layer of the conversion panel varies depending on the radiation sensitivity of the intended conversion panel, the type of stimulable phosphor, etc., but in the case of not containing a binder, it is 10/J m to '10.
00pta range, preferably 20pra to 800μ
m, and 20p if it contains a binder.
ts to 1000 μm, preferably 50 μI11 to
It is selected from a range of 500 μm.

本発明において使用される支持体としては各種の高分子
材料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。
Supports used in the present invention include various polymeric materials, glasses, ceramics, metals, and the like.

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムが挙げられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シート又は金属
板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シート又は金
属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化ガラスや
結晶化ガラスなどが挙げられる。またセラミックスとし
てはアルミナやジルコニアの焼結板などが挙げられる。
Examples of the polymeric material include films such as cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, triacetate, and polycarbonate. As a metal,
Examples include metal sheets or metal plates of aluminum, iron, copper, chromium, etc., or metal sheets or metal plates having a coating layer of the metal oxide. Examples of the glass include chemically strengthened glass and crystallized glass. Examples of ceramics include sintered plates of alumina and zirconia.

また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μ■〜5a+mであり、
取り扱いが容易であるという点及び良好な防湿性を得る
という点から、好ましくは200//1〜3+n+oで
ある。
In addition, the layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used, but is generally 80μ■ to 5a+m,
From the viewpoint of ease of handling and obtaining good moisture resistance, the range is preferably 200//1 to 3+n+o.

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尺性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。
The surfaces of these supports may be smooth or matte for the purpose of improving adhesion to the photometric phosphor layer. Further, the surface of the support may be an uneven surface, or may have a surface structure in which individual micro tile-like plates are closely arranged.

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層゛が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けて
もよい。
Furthermore, on these supports, a subbing layer may be provided on the side where the photostimulable layer is provided for the purpose of improving adhesion with the photostimulable layer, and if necessary, a light reflective layer, a light absorbing layer, etc. A layer etc. may be provided.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例により本発明の効果を示す。 Next, the effects of the present invention will be illustrated by examples.

実施例1 鉛当量0.45mPbの厚さ2.0+amの実施例の鉛
ガラス板(PbO56vt%)を、また比較例として鉛
当量0.02+mmPbの厚さ1.7mmの硼珪酸ガラ
ス板(PbO; i wt%以下)を夫々保護層体とし
た変換パネルを作成した。
Example 1 A lead glass plate (PbO 56 vt%) of the example with a lead equivalent of 0.45 mPb and a thickness of 2.0 am was used, and a borosilicate glass plate (PbO; 1.7 mm thick with a lead equivalent of 0.02 + mmPb) as a comparative example. i wt% or less) as a protective layer.

前記2つの変換パネルの保護層体側に、後方散乱生成部
材として、厚さ20a+mのAρブロックを置いた後方
散乱生成のAff区画とAI2ブロックを置かないブラ
ンク区画を並設し、80KeVpのX線を支持体側から
照射し、輝尽光発生強度を読取り、ブランク区画に対す
るAI2区画の増分(%)を求めた。
On the protective layer side of the two conversion panels, an Aff section for backscattering generation in which an Aρ block with a thickness of 20a+m is placed as a backscattering generation member and a blank section in which no AI2 block is placed are arranged side by side, and X-rays of 80 KeVp are emitted. Irradiation was performed from the support side, the intensity of photostimulated light generation was read, and the increase (%) in the AI2 section relative to the blank section was determined.

実施例においては増分1.5%に止まり、比較例におい
ては9%に上った。
In the example, the increase was only 1.5%, and in the comparative example, it increased to 9%.

即ち本発明により、後方散乱による障碍はI/6に制御
することができた。
That is, according to the present invention, the disturbance caused by backscattering could be controlled to I/6.

実施例2 鉛当量0.In+a+Pb、厚さ2.0mmの鉛ガラス
板(PbO;15冒t%)を保護層体とし実施例1と同
様にブランク区画に対するAI1区画の増分を求めた所
、後方散乱による増分は4.6%に止り、障碍を約半分
に減すことができた。
Example 2 Lead equivalent: 0. Using In+a+Pb, a 2.0 mm thick lead glass plate (PbO; 15%) as a protective layer, the increment of the AI1 section relative to the blank section was determined in the same manner as in Example 1, and the increment due to backscattering was 4.6. %, and we were able to reduce the number of disabilities by about half.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の放射線画像変換パネルの実施例の断
面図である。 l・・・輝尽層  2・・・保護層体 3・・・支持体  4・・・低屈折率層5・・・スペー
サ 第2図は本発明の一実施例の輝尽画像装置の構成のブロ
ック図である。 l・・・放射線発生源  2・・・放射線制御装置3・
・・放射線画像情報記録読取装置 4・・・放射線画像変換パネル 5・・・光ビーム発生部  6・・・走査器′7・・・
反射鏡  8・・・集光体  9・・・フィルタ10・
・・フォトマル  11・・・電流/電圧変換器12・
・・増幅器 14・・・画像メモリ 17・・・インターフ 19・・・高圧電源 13・・・A/D変換器 15・・・CPU エース  18・・・ゲイ 16・・・表示器 ン調整回路
FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the radiation image conversion panel of the present invention. l...Photostimulation layer 2...Protective layer 3...Support 4...Low refractive index layer 5...Spacer FIG. 2 shows the structure of a photostimulation image device according to an embodiment of the present invention. FIG. l... Radiation source 2... Radiation control device 3.
...Radiation image information recording/reading device 4...Radiation image conversion panel 5...Light beam generating section 6...Scanner '7...
Reflector 8... Concentrator 9... Filter 10.
...Photomaru 11...Current/voltage converter 12.
...Amplifier 14...Image memory 17...Interface 19...High voltage power supply 13...A/D converter 15...CPU Ace 18...Gay 16...Display adjustment circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体上に輝尺性蛍光体層を設け、鉛当量0.05mm
Pb以上の保護層体で掩蔽した放射線画像変換パネル。
A photometric phosphor layer is provided on the support, and the lead equivalent is 0.05 mm.
A radiation image conversion panel covered with a protective layer made of Pb or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1241684A3 (en) * 2001-03-12 2004-05-06 Eastman Kodak Company Computer radiographic oncology portal imaging

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