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JPH0281445A - semiconductor equipment - Google Patents

semiconductor equipment

Info

Publication number
JPH0281445A
JPH0281445A JP23177988A JP23177988A JPH0281445A JP H0281445 A JPH0281445 A JP H0281445A JP 23177988 A JP23177988 A JP 23177988A JP 23177988 A JP23177988 A JP 23177988A JP H0281445 A JPH0281445 A JP H0281445A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base plate
semiconductor chips
plate
semiconductor
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23177988A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kaneko
兼子 隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP23177988A priority Critical patent/JPH0281445A/en
Publication of JPH0281445A publication Critical patent/JPH0281445A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate high density mount of integrated circuit semiconductor chips by a method wherein the semiconductor chips are mounted in multilayer arrangement and the respective semiconductor chips are electrically connected to each other through through-holes formed in a plate held between the semiconductor chips. CONSTITUTION:Semiconductor chips 2 and 3 are die-bonded to both the surfaces 1a and 1b of a base plate 1 composed of a metal plate and other parts of the base plate surfaces are covered with SiO2 insulating films 20. A lead plate 6 and a lead plate 7 are connected to the bonding pads 2a of the chip 2 and the bonding pads 3a of the chip 3 respectively by intermetallic joint. The lead plates 6 and 7 are electrically connected to each other through conductive plugs 8 buried in through-holes 1c formed in the base plate 1. The SiO2 insulating films 20 are formed also on the inside surface of the through-holes 1c of the base plate 1 in which the conductive plugs 8 are buried to insulate the conductive plugs 8 from the base plate 1. With this constitution, the electrical connection between the bonding pads 2a and 3a of the semiconductor chips 2 and 3 can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特に詳細には、複数の集積
回路用半導体チップを多層に実装した半導体装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device, and particularly relates to a semiconductor device in which a plurality of integrated circuit semiconductor chips are mounted in multiple layers.

〔従来技術〕[Prior art]

近年、半導体集積回路の高集積化、ワンチップ化が進ん
できている。これは、半導体チップを収容した半導体素
子をプリント配線基板上に実装し、互いに複数組み合わ
せて使用すると、それらの電気接続ラインが長くなり、
信号伝達に遅れが生じてしまう点、また、装置全体が大
きくなってしまう点を考慮したためである。そこで、1
つの半導体チップのサイズを大きくして多くの集積回路
を詰め込みワンチップ化できるようにすることが考えら
れている。
In recent years, semiconductor integrated circuits have become highly integrated and integrated into one chip. This is because when semiconductor elements containing semiconductor chips are mounted on a printed wiring board and used in combination with each other, the electrical connection lines between them become long.
This was done in consideration of the fact that a delay would occur in signal transmission and that the overall size of the device would increase. Therefore, 1
Consideration is being given to increasing the size of a single semiconductor chip so that more integrated circuits can be packed into one chip.

また、ハイブリッド集積回路装置では、回路素子をセラ
ミック基板の両面に実装し、回路素子の高密度実装を図
っているものが知られている。
Furthermore, a hybrid integrated circuit device is known in which circuit elements are mounted on both sides of a ceramic substrate to achieve high-density mounting of the circuit elements.

〔発明の解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、半導体チップのチップサイズを拡大すると製造
歩留りが極端に低下し、このような半導体チップを実装
した半導体装置の価格が高くなってしまう。
However, when the chip size of a semiconductor chip is increased, the manufacturing yield is extremely reduced, and the price of a semiconductor device mounted with such a semiconductor chip becomes high.

また、上記のようなハイブリッド集積回路装置では、半
導体集積回路チップに比較して高機能化、高性能化、小
形化、低コスト化、量産性の点で問題があった。
Furthermore, the hybrid integrated circuit device described above has problems in terms of higher functionality, higher performance, smaller size, lower cost, and mass productivity than semiconductor integrated circuit chips.

そこで、小型で、多くの集積回路を実装でき、安価でか
つ信号ラインの長さを短くできる半導体装置が求められ
ている。
Therefore, there is a need for a semiconductor device that is small, can mount many integrated circuits, is inexpensive, and can shorten the length of signal lines.

本発明は上記課題を達成し、小型で多くの集積回路を実
装しかつ信号ラインを短くできる半導体装置を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to achieve the above-mentioned problems and to provide a semiconductor device that is small in size, can mount many integrated circuits, and can have short signal lines.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の半導体装置では、ベースプレートと、前記ベー
スプレートを挾み、前記ベースプレートの両面にダイボ
ンディングされた半導体チップとを含み、前記半導体チ
ップのボンディングパッド間の電気接続が、前記ベース
プレートに設けられた貫通穴を介して行われていること
を特徴とする。
The semiconductor device of the present invention includes a base plate and a semiconductor chip which is sandwiched between the base plate and die-bonded to both sides of the base plate, and the electrical connection between the bonding pads of the semiconductor chip is made through a through hole provided in the base plate. It is characterized by being carried out through a hole.

〔作用〕[Effect]

本発明の半導体装置では、集積回路用半導体チップを多
層に実装し、それらの半導体チップ間の電気接続をそれ
らの間に挾み込んだプレートに形成した貫通穴を介して
行うことにより、半導体チップの高密度実装を可能にし
ている。
In the semiconductor device of the present invention, semiconductor chips for integrated circuits are mounted in multiple layers, and electrical connections between the semiconductor chips are made through through holes formed in a plate sandwiched between them. enables high-density packaging.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面をり照しつつ本発明に従う実施例について説明
する。
Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

同一符号を付した要素は同一機能を有するため重複する
説明は省略する。
Elements with the same reference numerals have the same functions, so duplicate explanations will be omitted.

第1図は本発明に従う半導体装置の部分分解斜視図であ
り、第3図はその上面図、第2図は第3図のA−Aに沿
った断面図である。これらの図に示すように、本発明に
従う実施例の半導体装置では、ベースプレート1の両面
1a、lb上に半導体チップ2.3がそれぞれダイボン
ディングされている。このベースプレート1は金属プレ
ートであり、半導体チップ2.3がダイボンディングさ
れている領域以外の部分は5i02の絶縁膜20が被覆
されている。そして、このベースプレートコは半導体装
置パッケージ4内の凹部4aに挿入され、その凹部4a
の周囲より伸びるエツジ部4b上に支持されている。半
導体チップ3のボンディングパッド3aと電気的に接続
する半導体チップ2のボンディングパッド2a上には、
リードプレート6が回前接合されている。本発明では金
属間接合を利用して、上記リードプレート6と半導体チ
ップ2のボンディングパッド2aとを接続している。更
に、ベースプレート1の下面1bにダイボンディングさ
れた半導体チップ3のボンディングパッド3aにも同様
にリードプレート7が1妾続されている。そして、これ
らのリードプレート6.7はベースプレート1に形成さ
れた貫通穴ICに埋め込まれた導電枠8を介して電気的
に接続されている。この導電枠8とリードプレート6.
7との接続も先に説明した接続方法により接続する。な
お、この導電枠8が埋め込まれ−Cいるベースプレート
の貫通穴ICの内面にも5i02の絶縁膜20が形成さ
れ、ベースプレート1と導電枠8との絶縁を図っている
。このようにして、半導体チップ2のボンディングパッ
ド2aと半導体チップ3のボンディングパッド3aとの
電気接続が成されている。
1 is a partially exploded perspective view of a semiconductor device according to the present invention, FIG. 3 is a top view thereof, and FIG. 2 is a sectional view taken along line A--A in FIG. 3. As shown in these figures, in the semiconductor device of the embodiment according to the present invention, semiconductor chips 2.3 are die-bonded on both surfaces 1a and lb of the base plate 1, respectively. This base plate 1 is a metal plate, and a portion other than the region where the semiconductor chip 2.3 is die-bonded is covered with an insulating film 20 of 5i02. Then, this base plate is inserted into the recess 4a in the semiconductor device package 4, and the base plate is inserted into the recess 4a in the semiconductor device package 4.
It is supported on an edge portion 4b extending from the periphery of. On the bonding pad 2a of the semiconductor chip 2 that is electrically connected to the bonding pad 3a of the semiconductor chip 3,
The lead plate 6 is pre-bonded. In the present invention, the lead plate 6 and the bonding pads 2a of the semiconductor chip 2 are connected using metal-to-metal bonding. Furthermore, one lead plate 7 is similarly connected to the bonding pad 3a of the semiconductor chip 3 die-bonded to the lower surface 1b of the base plate 1. These lead plates 6.7 are electrically connected via a conductive frame 8 embedded in a through hole IC formed in the base plate 1. This conductive frame 8 and lead plate 6.
7 is also connected using the connection method described above. Incidentally, an insulating film 20 of 5i02 is also formed on the inner surface of the through hole IC of the base plate in which the conductive frame 8 is embedded, to insulate the base plate 1 and the conductive frame 8. In this way, the bonding pads 2a of the semiconductor chip 2 and the bonding pads 3a of the semiconductor chip 3 are electrically connected.

一方、半導体装置用パッケージ4の凹部4aの周囲には
、半導体チップ2.3の集積回路への信号の伝達、取り
出し、電源の供給のためのリード9が設けられている。
On the other hand, leads 9 are provided around the recess 4a of the semiconductor device package 4 for transmitting and extracting signals to and from the integrated circuit of the semiconductor chip 2.3, and for supplying power.

そして、このリード9は外部端子(図示せず)と電気的
に接続されている。
This lead 9 is electrically connected to an external terminal (not shown).

このリード9に接続する半導体チップ2.3のボンディ
ングパッド2b、2cには、それぞれリードプレート1
0.11が上記接合方法により接続され、更に、これら
のリードプレート10.11のそれぞれはリード9の両
面にいわゆるバンブ法により電気的に接続されている。
The bonding pads 2b and 2c of the semiconductor chip 2.3 connected to this lead 9 are connected to the lead plate 1, respectively.
0.11 are connected by the above-described joining method, and each of these lead plates 10.11 is electrically connected to both sides of the lead 9 by the so-called bump method.

更に、リードプレート10.11はエツジ部1eに形成
された導電部1fにそれぞれ、上記接続方法により接続
されている。このようにして、半導体チップ2.3と外
部端子との電気的接続を図っている。
Further, the lead plates 10.11 are respectively connected to the conductive portions 1f formed on the edge portion 1e by the above connection method. In this way, electrical connection between the semiconductor chip 2.3 and the external terminals is achieved.

ここで、ベースプレート1は金属材料より構成しである
ので、熱伝導性がよく、放熱器としての機能も果たすの
である 更に、半導体チップ2.3のボンディングパッドと半導
体装置用パッケージに形成されたリードとを互いに正確
に接続するには、各リードプレートを正確に位置決めし
なければならない。そこで、これらのリードプレートを
フィルムキャリアに張り付け、いわゆるTAB法(Ta
pe AutomateBonding )を応用する
ことにより、容易に位置決めし、電気接続を行うことが
できる。
Since the base plate 1 is made of a metal material, it has good thermal conductivity and also functions as a heat sink. Each lead plate must be precisely positioned in order to accurately connect them to each other. Therefore, these lead plates were attached to a film carrier and the so-called TAB method (Ta
By applying pe Automate Bonding), positioning and electrical connections can be easily made.

本発明は上記実施例に限定されるものでなく、種々の変
形例が考えられ得る。
The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made.

具体的には、上記実施例では、半導体装置用パッケージ
のリードとリードプレートとの接続にバンブ法を利用し
ているが、この方法に限定されず、例えば、先に説明し
た金属間接合方法を利用してもよい。
Specifically, in the above embodiment, the bump method is used to connect the leads of the semiconductor device package and the lead plate, but the method is not limited to this method. For example, the metal-to-metal bonding method described earlier may be used. You may use it.

また更に、上記実施例では、ベースプレートの一方の而
に1つの半導体チップをダイボンディングする例につい
て説明しているが、複数の半導体チップをダイボンディ
ングし、互いに電気的に接続するようにしてもよい。
Furthermore, although the above embodiment describes an example in which one semiconductor chip is die-bonded to one side of the base plate, a plurality of semiconductor chips may be die-bonded and electrically connected to each other. .

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の半導体装置では、先に説明したように、半導体
チップを多層に実装しているので、半導体装置の小形化
、高機能化、低コスト化が実現できる。
As described above, in the semiconductor device of the present invention, since semiconductor chips are mounted in multiple layers, the semiconductor device can be made smaller, more highly functional, and lower in cost.

更に、このように半導体チップを複数実装できるので、
異なった機能の集積回路を有する半導体チップ、例えば
ゲートアレー素子、スタンダードセルとを複合実装した
り、上側にEFROMを、下側にロジック回路を有する
半導体チップを実装したりすると効果的である。
Furthermore, since multiple semiconductor chips can be mounted in this way,
It is effective to combine semiconductor chips with integrated circuits with different functions, such as gate array elements and standard cells, or to mount a semiconductor chip with an EFROM on the upper side and a logic circuit on the lower side.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に従う半導体装置に部分分解斜視図、
第2図は、第1図に示す半導体装置の断面図及び第3図
は、第1図に示す半導体装置の上面図である。 1・・・ベースプレート、2.3・・・半導体チップ、
2a、2b、3a、3b・・・ボンディングパッド、4
・・・半導体装置用パッケージ、4a・・・凹部、6.
7.10.11・・・リードプレート、9・・・リード
。 特許出願人  住友電気工業株式会社 代理人弁理士   長谷用  芳  樹間      
   寺   崎   史   朗第1図
FIG. 1 is a partially exploded perspective view of a semiconductor device according to the present invention;
2 is a sectional view of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a top view of the semiconductor device shown in FIG. 1. 1...Base plate, 2.3...Semiconductor chip,
2a, 2b, 3a, 3b... bonding pad, 4
. . . Package for semiconductor device, 4a . . . Recessed portion, 6.
7.10.11...Reed plate, 9...Reed. Patent applicant: Sumitomo Electric Industries, Ltd. Representative patent attorney Yoshiki Hase
Fumiaki Terasaki Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ベースプレートと、 前記ベースプレートを挾み、前記ベースプレートの両面
にダイボンディングされた半導体チップとを含み、 前記半導体チップのボンディングパッド間の電気接続が
、前記ベースプレートに設けられた貫通穴を介して行わ
れている半導体装置。 2、前記ベースプレートはリードフレームが装着された
パッケージ内に載置され、前記リードフレームの電気端
子と前記半導体チップのボンディングパッドとの電気接
続がバンプ法により成されている請求項1記載の半導体
装置。
[Claims] 1. A semiconductor chip sandwiching the base plate and die-bonded to both sides of the base plate, the electrical connection between the bonding pads of the semiconductor chip being provided on the base plate. A semiconductor device that is made through a through hole. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the base plate is placed in a package to which a lead frame is attached, and the electrical connection between the electrical terminal of the lead frame and the bonding pad of the semiconductor chip is made by a bump method. .
JP23177988A 1988-09-16 1988-09-16 semiconductor equipment Pending JPH0281445A (en)

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