JPH0275325A - 排ガス中の窒素酸化物除去装置 - Google Patents
排ガス中の窒素酸化物除去装置Info
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- JPH0275325A JPH0275325A JP63228950A JP22895088A JPH0275325A JP H0275325 A JPH0275325 A JP H0275325A JP 63228950 A JP63228950 A JP 63228950A JP 22895088 A JP22895088 A JP 22895088A JP H0275325 A JPH0275325 A JP H0275325A
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- Japan
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- exhaust gas
- signal
- ammonia
- amount
- flow rate
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、排ガス中の窒素酸化物除去装置における還元
剤制御装置に係り、特に排ガス中の窒素酸化物量が急増
した際にも好適な窒素酸化物除去が行なえるようになし
た排ガス中の窒素酸化物除去装置における還元剤制御装
置に関する。
剤制御装置に係り、特に排ガス中の窒素酸化物量が急増
した際にも好適な窒素酸化物除去が行なえるようになし
た排ガス中の窒素酸化物除去装置における還元剤制御装
置に関する。
排ガス中の窒素酸化物除去装置における還元剤としては
、一般にアンモニア（Ｎ）（３）が使用されるが、従来
装置を第２図に示す、第２図において、４０は窒素酸化
物（ＮＯｘ）を含有する未処理排ガス、４１は排ガス４
０の通過する通路、１．２．３．４は煙道４１内に設置
された窒素酸化物還元用触媒層であり、排ガス上流側よ
り１．２．３．４の各触媒層が直列に４段設置されてい
る。
、一般にアンモニア（Ｎ）（３）が使用されるが、従来
装置を第２図に示す、第２図において、４０は窒素酸化
物（ＮＯｘ）を含有する未処理排ガス、４１は排ガス４
０の通過する通路、１．２．３．４は煙道４１内に設置
された窒素酸化物還元用触媒層であり、排ガス上流側よ
り１．２．３．４の各触媒層が直列に４段設置されてい
る。
５は、これら触媒層の上流側に設置されたアンモニア注
入ノズル装置、７は排ガス流量検出器、８は排ガス流量
信号、９は排ガス中のＮＯｘ濃度検出器、１０はＮＯｘ
濃度信号、１１は乗算器、１２は総ＮＯｘ量信号、１３
はＮＯｘ量に対するアンモニア量のモル比設定器、１４
はモル比信号、１５は乗算器、１６はＮＨ３流量設定信
号、１７はＮＨ３流量検出器、１８はＮＨ３流量検出信
号、１９は演算器、２０は偏差信号、２２はＮＨ３流量
設定信号の変化量を算出するための微分器、２９はＮＨ
３流目先行信号、３０は演算器、３１はＮＨ３流量補正
信号である。Ｎｏｘ１１度や排ガス流量の変化は、総Ｎ
Ｏｘ量信号１２の変化となって乗算器１５に入力され、
Ｎ Ｈ３流量設定信号１６を変化させ、またその値の変
化速度は微分器２２で算出され、ＮＨ３流量先行信号２
９となり演算器３０よりＮＨ３流量補正信号３１として
演算器１９に送られ、演算器１９からＮＨ３流量に対す
る偏差信号２０がＮＨ３流量調整弁２１に送られ、上流
側ＮＨ３配管２７、上流側ＮＨ３注大ノズル５から噴射
されるＮＨ３が制御される。
入ノズル装置、７は排ガス流量検出器、８は排ガス流量
信号、９は排ガス中のＮＯｘ濃度検出器、１０はＮＯｘ
濃度信号、１１は乗算器、１２は総ＮＯｘ量信号、１３
はＮＯｘ量に対するアンモニア量のモル比設定器、１４
はモル比信号、１５は乗算器、１６はＮＨ３流量設定信
号、１７はＮＨ３流量検出器、１８はＮＨ３流量検出信
号、１９は演算器、２０は偏差信号、２２はＮＨ３流量
設定信号の変化量を算出するための微分器、２９はＮＨ
３流目先行信号、３０は演算器、３１はＮＨ３流量補正
信号である。Ｎｏｘ１１度や排ガス流量の変化は、総Ｎ
Ｏｘ量信号１２の変化となって乗算器１５に入力され、
Ｎ Ｈ３流量設定信号１６を変化させ、またその値の変
化速度は微分器２２で算出され、ＮＨ３流量先行信号２
９となり演算器３０よりＮＨ３流量補正信号３１として
演算器１９に送られ、演算器１９からＮＨ３流量に対す
る偏差信号２０がＮＨ３流量調整弁２１に送られ、上流
側ＮＨ３配管２７、上流側ＮＨ３注大ノズル５から噴射
されるＮＨ３が制御される。
定常運転状態では、ＮＯｘ濃度９と未処理ガス量７の積
、すなわち総ＮＯｘ量信号１２に比例したＮＨ３ガスを
注入する。そのときの触媒層各段におけるＮＨ３ガス濃
度は、左下のグラフの実線で示すように、最終段の４段
目触媒層４の出口でＮＨ３ガスはほぼ零となるようにし
、脱硝装置で処理された出口排ガス中にＮＨ３ガスが残
留して２次公害を生じないようにしている。ところが、
排ガス中のＮＯｘ濃度や未処理排ガス量が急増した場合
は、ＮＨ３注入ノズル５からの注入量をそれに見合って
増加しても、点線で示すように排ガス中のＮ Ｈ３濃度
は、３段目触媒層３の後部では零となり、処理すべき排
ガス中に未反応のＮＯｘが残る。この原因の詳細につい
ては充分には解明されてないが、増加したＮＨ３が上流
側の触媒層１．２の触媒中に、未反応のＮＨ３として貯
えられるのではないかと考えられる。
、すなわち総ＮＯｘ量信号１２に比例したＮＨ３ガスを
注入する。そのときの触媒層各段におけるＮＨ３ガス濃
度は、左下のグラフの実線で示すように、最終段の４段
目触媒層４の出口でＮＨ３ガスはほぼ零となるようにし
、脱硝装置で処理された出口排ガス中にＮＨ３ガスが残
留して２次公害を生じないようにしている。ところが、
排ガス中のＮＯｘ濃度や未処理排ガス量が急増した場合
は、ＮＨ３注入ノズル５からの注入量をそれに見合って
増加しても、点線で示すように排ガス中のＮ Ｈ３濃度
は、３段目触媒層３の後部では零となり、処理すべき排
ガス中に未反応のＮＯｘが残る。この原因の詳細につい
ては充分には解明されてないが、増加したＮＨ３が上流
側の触媒層１．２の触媒中に、未反応のＮＨ３として貯
えられるのではないかと考えられる。
上記したように、従来装置においては排ガス量や排ガス
中のＮＯｘ濃度の増加による負荷の急激な増加時には、
ＮＯｘ除去率の低下と、それに伴う未反応ＮＯｘガスの
外気への排出という問題があった命 （課題を解決するための手段） 上記した従来技術の課題は、排ガス通路に触媒層を上流
側から下流側に複数段配置し、上記触媒層の上流側排ガ
ス中にアンモニアを注入するノズルを設けた排ガス中の
窒素酸化物除去装置において、前記複数段の触媒層の中
間段に下流側アンモニア注入ノズルを設け、負荷上昇時
には上流側アンモニア注入ノズルからのアンモニア注入
量よりも下流側アンモニア注入ノズルからのアンモニア
注入量を先行して増加させる調整装置を設けたことを特
徴とした排ガス中の窒素酸化物除去装置によって解決さ
れる。
中のＮＯｘ濃度の増加による負荷の急激な増加時には、
ＮＯｘ除去率の低下と、それに伴う未反応ＮＯｘガスの
外気への排出という問題があった命 （課題を解決するための手段） 上記した従来技術の課題は、排ガス通路に触媒層を上流
側から下流側に複数段配置し、上記触媒層の上流側排ガ
ス中にアンモニアを注入するノズルを設けた排ガス中の
窒素酸化物除去装置において、前記複数段の触媒層の中
間段に下流側アンモニア注入ノズルを設け、負荷上昇時
には上流側アンモニア注入ノズルからのアンモニア注入
量よりも下流側アンモニア注入ノズルからのアンモニア
注入量を先行して増加させる調整装置を設けたことを特
徴とした排ガス中の窒素酸化物除去装置によって解決さ
れる。
第２図に示す従来技術では、負荷の急激な増加により３
段目以降でのＮＨ３濃度はほぼ零となるが、本発明のご
とく負荷の急激な増加によりＮＨ３濃度がほぼ零となる
少し上流、すなわち例えば第２図の２段目触媒層２と３
段目触媒層３の間に、負荷の急激な上昇時にＮ１（３を
注入する下流側注入ノズル６を配置することによって、
残留Ｎ Ｈ３の不足は補えるようになり、未処理ガスの
排出、脱硝率の低下がない。
段目以降でのＮＨ３濃度はほぼ零となるが、本発明のご
とく負荷の急激な増加によりＮＨ３濃度がほぼ零となる
少し上流、すなわち例えば第２図の２段目触媒層２と３
段目触媒層３の間に、負荷の急激な上昇時にＮ１（３を
注入する下流側注入ノズル６を配置することによって、
残留Ｎ Ｈ３の不足は補えるようになり、未処理ガスの
排出、脱硝率の低下がない。
本発明の実施例を第１図により説明する。第２図に示し
た従来技術との相違点は、触媒層２と３の間に下流側ア
ンモニア注入ノズル６を設置し、ＮＨ３配管２８を接続
している。また、乗算器１５からの出力信号であるＮＨ
３流量設定信号１６は、演算器１９と微分器２２に送ら
れるようになっている。微分器２２からはＮ）１３流量
設定値変化信号２３が出力され、換算変換器２４に入り
、２４からＮＨ３補充信号２５が出力され、ＮＨ３補充
補充弁整弁２６御するようになっている。−方、演算器
１９にはＮＨ３流量検出信号１８とＮＨ３流量設定信号
１６が入力され、両信号の差が演算され、偏差信号２０
が１９より発信され、ＮＨ３流量調整弁２１の開度を制
御する。
た従来技術との相違点は、触媒層２と３の間に下流側ア
ンモニア注入ノズル６を設置し、ＮＨ３配管２８を接続
している。また、乗算器１５からの出力信号であるＮＨ
３流量設定信号１６は、演算器１９と微分器２２に送ら
れるようになっている。微分器２２からはＮ）１３流量
設定値変化信号２３が出力され、換算変換器２４に入り
、２４からＮＨ３補充信号２５が出力され、ＮＨ３補充
補充弁整弁２６御するようになっている。−方、演算器
１９にはＮＨ３流量検出信号１８とＮＨ３流量設定信号
１６が入力され、両信号の差が演算され、偏差信号２０
が１９より発信され、ＮＨ３流量調整弁２１の開度を制
御する。
排ガス流量、また排ガス中のＮＯｘ濃度が上昇して脱硝
装置の負荷が上昇したときは、下流側ＮＨ３配管２８の
Ｎ）１３補充調整２６を信号２５によって制御し、下流
側ＮＨ３注入ノズル６へのＮＨ３量を増加させる。これ
により、触媒層各段におけるＮＨ３ガス濃度は、第１図
左下方の点線で示すようになり、２段目触媒層２と３段
目触媒層３の間にノズル６からＮＨ３量が追加され、３
段目触媒層以降の下流域のＮＨ３量が増加され、Ｎ０ｘ
と反応して４段目触媒層出口においては流出する排ガス
中の残留ＮＨ３量はほぼ零になる。なお、第２図と重複
する部分については、第２図の説明で述べたので説明を
省略する。
装置の負荷が上昇したときは、下流側ＮＨ３配管２８の
Ｎ）１３補充調整２６を信号２５によって制御し、下流
側ＮＨ３注入ノズル６へのＮＨ３量を増加させる。これ
により、触媒層各段におけるＮＨ３ガス濃度は、第１図
左下方の点線で示すようになり、２段目触媒層２と３段
目触媒層３の間にノズル６からＮＨ３量が追加され、３
段目触媒層以降の下流域のＮＨ３量が増加され、Ｎ０ｘ
と反応して４段目触媒層出口においては流出する排ガス
中の残留ＮＨ３量はほぼ零になる。なお、第２図と重複
する部分については、第２図の説明で述べたので説明を
省略する。
本発明によれば、負荷の急激な増加時にも、脱硝装置内
のＮＨ３の不足を生ずることなく、未処理のＮＯｘガス
を排出することがないので、窒素酸化物除去率の低下を
防ぐことができる。
のＮＨ３の不足を生ずることなく、未処理のＮＯｘガス
を排出することがないので、窒素酸化物除去率の低下を
防ぐことができる。
第１図は、本発明の詳細な説明図、第２図は、従来技術
の説明図である。 １．２．３．４・・・脱硝装置内の触媒層、５・・・上
流側アンモニア注入ノズル、６・・・下流側アンモニア
注入ノズル、７・・・排ガス流量検出器、９・・・ＮＯ
Ｘ濃度検出器、１１・・・乗算器、１２・・・総ＮＯｘ
量信号、１３・・・モル比設定器、１５・・・乗算器、
１６・・・ＮＨ３流ｉｔ設定信号、１７・・・ＮＨ３流
量検出器、１９・・・演算器、２０・・・偏差信号、２
１・・・ＮＨ３流量調整弁、２２・・・微分器、２３・
・・ＮＨ３流量設定値変化信号、２４・・・換算変換器
、２５・・・ＮＨ３補充信号、２６・・・ＮＨ３禎充調
整弁、２７・・・上流側ＮＨ３配管、２８・・・下流側
ＮＨ３配管、４０・・・未処理排ガス、４１・・・排ガ
ス通路。 代理人 弁理士 川 北 武 長 ７：排ガス流量検出器 ８：排ガス流量信号 ９：ＮＯ翼濃度検出器 １０：ＮＯｘ濃度信号 】】：乗算器 】２：総ＮＯｘ量信号 １３：モル比設定器 １４：モル比信号 １５：乗算器 １８： ＮＨ，流麗検出信号 １９：演算器 ２２：微分器 Ｎ）ｌＬ− ピ目土■
の説明図である。 １．２．３．４・・・脱硝装置内の触媒層、５・・・上
流側アンモニア注入ノズル、６・・・下流側アンモニア
注入ノズル、７・・・排ガス流量検出器、９・・・ＮＯ
Ｘ濃度検出器、１１・・・乗算器、１２・・・総ＮＯｘ
量信号、１３・・・モル比設定器、１５・・・乗算器、
１６・・・ＮＨ３流ｉｔ設定信号、１７・・・ＮＨ３流
量検出器、１９・・・演算器、２０・・・偏差信号、２
１・・・ＮＨ３流量調整弁、２２・・・微分器、２３・
・・ＮＨ３流量設定値変化信号、２４・・・換算変換器
、２５・・・ＮＨ３補充信号、２６・・・ＮＨ３禎充調
整弁、２７・・・上流側ＮＨ３配管、２８・・・下流側
ＮＨ３配管、４０・・・未処理排ガス、４１・・・排ガ
ス通路。 代理人 弁理士 川 北 武 長 ７：排ガス流量検出器 ８：排ガス流量信号 ９：ＮＯ翼濃度検出器 １０：ＮＯｘ濃度信号 】】：乗算器 】２：総ＮＯｘ量信号 １３：モル比設定器 １４：モル比信号 １５：乗算器 １８： ＮＨ，流麗検出信号 １９：演算器 ２２：微分器 Ｎ）ｌＬ− ピ目土■
Claims (1)
- （１）排ガス通路に触媒層を上流側から下流側に複数段
配置し、上記触媒層の上流側排ガス中にアンモニアを注
入するノズルを設けた排ガス中の窒素酸化物除去装置に
おいて、前記複数段の触媒層の中間段に下流側アンモニ
ア注入ノズルを設け、負荷上昇時には上流側アンモニア
注入ノズルからのアンモニア注入量よりも下流側アンモ
ニア注入ノズルからのアンモニア注入量を先行して増加
させる調整装置を設けたことを特徴とした排ガス中の窒
素酸化物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228950A JP2725797B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 排ガス中の窒素酸化物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228950A JP2725797B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 排ガス中の窒素酸化物除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0275325A true JPH0275325A (ja) | 1990-03-15 |
| JP2725797B2 JP2725797B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=16884399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63228950A Expired - Fee Related JP2725797B2 (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 排ガス中の窒素酸化物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2725797B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59225726A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-18 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア接触還元脱硝装置 |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP63228950A patent/JP2725797B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59225726A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-18 | Babcock Hitachi Kk | アンモニア接触還元脱硝装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2725797B2 (ja) | 1998-03-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |