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JPH0266510A - 反射屈折縮小光学系，該光学系を有するリソグラフィー装置及びその操作方法 - Google Patents

反射屈折縮小光学系，該光学系を有するリソグラフィー装置及びその操作方法

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Publication number
JPH0266510A
JPH0266510A JP1180667A JP18066789A JPH0266510A JP H0266510 A JPH0266510 A JP H0266510A JP 1180667 A JP1180667 A JP 1180667A JP 18066789 A JP18066789 A JP 18066789A JP H0266510 A JPH0266510 A JP H0266510A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens group
optical system
beam splitter
corrected
aberration
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Granted
Application number
JP1180667A
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English (en)
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JPH07117648B2 (ja
Inventor
David M Williamson
デヴイツド・エム・ウイリアムスン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Biosystems Inc
Original Assignee
Perkin Elmer Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Perkin Elmer Corp filed Critical Perkin Elmer Corp
Publication of JPH0266510A publication Critical patent/JPH0266510A/ja
Publication of JPH07117648B2 publication Critical patent/JPH07117648B2/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、反射屈折光学的縮小光学系に関する。
［従来の技術］ 半導体製造装置の設計は、−層高密度の集積回路を製造
せんとする傾向によって益々必要になって米た。光学的
投影系においては像寸法の縮小は、理論的には系の短波
長で動作する能力のみによって制限される、換言すれば
投影光源をスペクトルのＵＶ範囲に近付ける程、像寸法
ま小さくなるはずである。しかしながら、実際には、像
寸法は光学系の解像力、即ち光学系が物体を光学系によ
って導入される収差を実質的に含まない像として伝送す
る能力によって制限される。高い解像力を維持すること
、即ち実質的に収差不含の光学系の問題点は、投影系が
縮小、即ち結像した際の物体の寸法の縮小の付加的な利
点を有するように設計される場合には一層悪化される。
［発明の構成］ 本発明は、光学系における驚異的進歩を提供しかつ０．
３５μｍより小さい解像力をもって保ＵＶでの動作を可
能にするものである。本発明は、付加的なコンパクトで
あると言う重要な利点を有する、即ち　０．４５の開口
数を有しかつ比較的大きい像野寸法をカバーするにもか
かわらず、長さが５０ｃｍ未満である。
本発明は、Ｄｙ５ｏｎによって記載された系［Ｊ。
Ｄｙ５ｏｎ、　”Ｕｎｉｔ　ｌＪａｇｎｉｆｉｃａｔｉ
ｏｎ　０ｐｔｉｃａｌ　ＳｙｓｔｅｍＷｉｔｈｏｕｔ　
５ｉｅｄｅｌ　Ａｂｅｒｒａｔｉｏｎｓ　　、Ｊ、　Ｏ
ｐｔ、　Ｓｏｃ。
Ａｍ、　４９（７）、　７１３−７１６　（１９５９）
参照］を基礎とした、Ｃ，Ｇ、　Ｗｙｎｎｅによる米国
特許第−−号明細書　（Ｃ，Ｇ−Ｗｙｎｎｅ、　　０ｐ
ｔｉｃａｌ　　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　　ａｎｄＴｅ
ｃｈｎｉｑｕｅｓ、　０ｒｉｅｌ　Ｐｒｅｓｓ、　Ｎｅ
ｗ　Ｃａ５ｔｌｅ　ｕｐｏｎＴｙｎｅ、　Ｅｎｇｌａｎ
ｄ　（１９６９）］によって記載された光学系に関する
。その大きな相異点は、本発明による光学系は、ｌ：ｌ
以外の縮小比で動作することにある。
本発明の１実施態様においては、屈折光学的縮小系は、
長い共役側端部から短い共役側端部に向かって、第１レ
ンズ群と、第２レンズ群とビームスプリッタと、第３レ
ンズ群と、収斂鏡と、第４レンズ群とからなる。該第は
物体面と像面が平行になるように配置されている。
該第は量端部がテレセントリックである。全ての反射成
分は同じ材料、石英ガラスからなっている。ビームスプ
リッタは、また石英ガラスからなるキューブである。
収斂鏡の低次のコマ収差及び球面収差は、第３レンズ群
によって補正される。全ての次数に対する非点収差は主
に第４群によって補正され、該群の空間はまた高い高次
のコマ収差及び歪曲収差を生じる。低次の歪曲収差は第
一に第２群と第４群との間で最適な屈折力を選択するこ
とにより補正される。
軸方向の色（焦点の色収差）は、視野湾曲の色収差に対
して平衡化されている。第２群の横方向の色（倍率の色
収差）は、第４群に対して平衡化されている。
もう１つの実施例においては、本発明は、長い共役側端
部から短い共役側端部に向かって、第１レンズ群と、薄
い傾斜したビームスプリッタと、第２レンズ群と、球面
鏡と、第３レンズ群とからなる屈折光学的縮小系である
。該第は、物体面と像面が平行になるように配置されて
おり、かつ短い共役側端部がテレセントリックである。
全ての屈折素子は同じ材料、石英ガラスからなっている
。収斂鏡の低次のコマ収差、球面収差及び湾曲収差は、
第２レンズ群によって補正される。全ての次数に対する
非点収差は主に第２及び３群によって補正される。第３
群の空間はまた高次のコマ収差及び歪曲収差を生じる。
第１及び第３群の低次の歪曲収差は互いに平衡化されて
いる。
残留軸方向色はまた視野湾曲の色収差に対して平衡化さ
れている。第１群の横方向色は、第３群に対して平衡化
されている。
本発明は一般に投影マイクロリソグラフィーで使用され
かつステップ−アンド−リピート、ステップ−アンド−
スキャン又は全視野走査系において使用することができ
る。
［実施例１ 次に、図示の実施例により本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の縮小光学系１０の第１実施例を示す
。その長い共役側端部から、該光学系は物体もしくはレ
ティクル面１１、シェル１２と正のレンズ１３とからな
る第１のレンズ群及び負のレンズ１４と正のレンズ１５
とからなる第２のレンズ群から構成されている。第１の
レンズ群と第２のレンズ群との間、即ちレンズ対１２．
１３とレンズ対１４．１５との間に偏向鏡１６が配置さ
れている。図面から明らかなように、偏向鏡１６はビー
ムの方向を９０°変化させかつその目的は光学系の全長
を短くするために物体面と像面を平行にすることにある
。
次に、ビームスプリッタキューブ１７が配置され、それ
に正のレンズ１８と負のレンズ１９からなる第３のレン
ズ群が引き続いている。このレンズ群構成は、しばしば
空隙ダブレットとして構成されてるいるのが有利である
。次に、凹面鏡２０が設けられている。最後に全体で正
の屈折力を有する第４のレンズ群は、正のレンズ２１、
僅かに負であるシェル２２並びに正のレンズ２３と２４
からなる。
レティクル又は長い共役側端部から系に入射するビーム
は第１群、即ちレンズ１２及び１３を通過し、偏向鏡１
６によって反射されかつ第２のレンズ群、即ちレンズ１
４及び１５、ビームスプリッタ１７、第３のレンズ群、
即ちレンズ１８及び１９を通過し、鏡２０によって反射
されて逆方向にレンズ１８及び１９を通過しかつビーム
スプリッタ１７によって、レンズ２１２２．２３及び２
４からなる第４レンズ群を通過するように反射され、か
つ像面又はウニ７％面２５に焦点が合わされる。
第１のシン４′群１２及び１３並びに第４のレンズ群２
１，２２．２３及び２４は、物体面１１と像面２５でそ
れぞれテレエントリツク系を構成する。
関連のあるＷｙｎｎｅ−Ｄｙｓｏｎ光学系におけると同
様に、球面鏡２０の視野湾曲及び非点収差は、屈折素子
の全屈折力に対して平衡化されているしかしながら、Ｗ
ｙｎｎｅ−Ｄｙｓｏｎ系とは異なり、鏡２０はｌ：１と
は異なった縮小比で動作する。
従って、球面収差及びコマ収差を導入し、これらは主に
空隙ダブレット（レンズ１８，１９；第３群）によって
、第３群と第４群との間の収斂ビームのにおけるビーム
スプリッタキューブからの著しい援助を伴って補正され
る。ｌ：１以外の縮小比から生じる別の問題点は、歪曲
収差が補正されるべきことにある、この補正は第一に第
２群と第４群との間の屈折力及び配置の最適な選択によ
り、第１群とビームスプリッタキューブからの若干の援
助を伴って達成されるオリジナルのＤｙ５ｏｎ系を有す
る問題点は、最後の光学的表面と像面との間に僅少の間
隙が存在することにある。このことはｗｙｎｎｅ系にお
いては、異なった反射率を有する第２の反射材料をを使
用することにより克服される。本発明においては、１種
類の材料のみを使用しかつ第４群内の空隙（２１／２４
）が同じ目的を達成する。付加的に、これらは高次のコ
マ収差及び歪曲収差補正を行いかつまたｌ：１以外の縮
小比によって所望される。
Ｗｙｎｎｅ−Ｄｙｓｏｎ系の実施態様は、高次の非点収
差により限界がある。本発明においては、この収差は最
初の２つの群、特にシェル２及び弱い負のレンズ１４に
よって補正される。主な低次の非点収差補正は、第４群
の屈折力により行われる。
大部分の縮小は球面鏡２０によって行われるので、色収
差は元々小さい。残留軸方向色（焦点の色収差）は補正
されないが、系のスペクトルバンド幅を２４０〜２５６
ナノメータに制限する視野湾曲の色収差に対してはむし
ろ平衡化されている。このことはむしろエキサイマーレ
ーザー源のために好適であり、かつまた濾波した水銀ア
ークの使用を可能にする。この範囲に互って、二次スペ
クトルは問題にならない、従って唯一の屈折材料を使用
するのが有利である。横方向の色（倍率の色収差）は、
第２群と第４群の間の屈折力の平衡化によって補正され
る。球面色収差（球面収差の色収差）は、第３群によっ
て最低にされる。
第１図の実施例は、直径３０ｍｍの像野をもって、縮小
比４／１５開口数　０．４５で作動するように設計され
ている。
第１表は、屈曲していない系で示した、第１の光学系の
構造データを示す例である。
第　　１　　表 半　　径 １　　　１５４．７２９ ２　　　１４７．８３６ ３　　　６４２．６９４ ４　　　−９３９゜００６ ５　　−２３６．１３２ ６　　−３４３．１２７ ７　　　６９４．２００ ８　　−３７０．９７６ ９　　平面 次の面へ　円直径 の距離 １７．４４２ １７．８６０ １７．４４２ ２４０．８３７ ２０．９３０ ８５．５４９ ２５．１１６ １７５．７２７ １２０．５５８ １２９．５６ １２６．７２ １２８．３６ １２９．４５ １４４゜９０ １５１．０８ １６７．１１ １６７．３７ １３０．０７ 材料 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス １０　　　平面 １１　　５４０．４１０ １２　−２９９．２９６ １３　−１８４．８４２ １４　２２１７．５１２ １５　−３０５．０４１ １６　２２１７．５＋２ １７　−１８４．８４２ １８　−２９９．２９６ １９　　５４０．４１０ ２０　　　平面 ２１　　　平面 ２２　　　平面 ２３　　９０．５５７ ２４　　１８４．４５０ ２５　　７５．５５６ ２６　　６４．５１２ ２７　　１１３．９０９ ２８　　８１３．０５９ ２９　　２１１．０５９ ２．０１６　　１１４．０３ １３．９５３　　　１１３．０３ ４．８４２　　　１１１．８６ ７．７５７　　１１１．０２ ８．１５５　　　１１０．４６ −８．１５５　　　１１３．２５ ７．７５７　　　１１２．３６ −４．８４２　　　１０８．１２ −１３．９５３　　１０７．９９ ２．０１６　　　１０６．８７ −５５．８１４　　　１０５．１３ ６１．３９５　　　９１．４６ １．１０１　　　　７６．４２ １１．１６３　　　７３．１３ ２．０１６　　　１１４．０３ １１．１６３　　　６６．１３ ５．２６２　　　５８．３９ ３２．２８９　　　５７．２３ １．１１６　　　４０．６７ ６．４５５　　　３９．１２ 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 平面　　　５．５８１　　３５．６４　　　空　気平面 ３０．３０ 第２図の実施例は、屈折光学的縮小系３ｏを示す。この
実施例は第１図の実施例に類似しているが、第１レンズ
群が排除されておりかつビームスプリッタキューブが薄
い傾斜したビームスプリッタによって置き換えられてい
る点で異なっている。第１レンズ群を排除することは、
不必要である物体又はレティクル面のテレセントリック
作用を排除することである。また、このような若干の屈
折素子の除去すること並びに薄いビームスプリッタを使
用することは、吸収が弱められるために、第２図の光学
系をより深いＵＶ内で使用することを可能にする。第２
図の実施例は、１９３±ｌｎｍで１点に集まる光源を用
いて４：１の縮小比で　０．４５の開口数で動作するよ
うに設計されており、がっ２０Ｘ５ｒＲｒＲの像野を有
している。
長い共役側端部から、即ち物体又はレティクル面３１か
ら出発して、第２図の光学系は、偏向鏡３２からなり、
該偏向鏡は物体面と像面が平行になるように、光線もし
くはビームを系に入射させる。偏向鏡３２の後方に、正
のレンズ３３、負のレンズ３４及び正のレンズ３５から
なる第１レンズ群、薄い平行面ビームスプリッタ３６、
唯一の負のレンズ３７からなる第２レンズ群、凹面鏡３
８、正のレンズ群３９、シェル４０、正のレンズ４１．
シェル４２及び正のレンズ４３からなる第３レンズ群が
配置されている。この最後の群は数ある機能の中でも像
面又はウェハ面４４にテレセントリック作用を提供する
。
第１レンズ群の第１レンズ３３は、ビームスプリッタ３
６への入射ビームを平行にする、さもなければこれは若
干の収差が発生する。
第１実施例におけるように、球面鏡３８の視野湾曲及び
非点収差は、屈折素子の全屈折力に対して平衡化されて
いる。鏡３８もまたｌ：ｌ以外の縮小比で動作する。従
って、これは球面収差及びコマ収差を導入し、これらは
主にレンズ３７によって補正される。歪曲収差は第一に
第１群と第２群の間の位置及び屈折力の最適な選択によ
って補正される。
第３群（レンズ３９〜４３）内の空間は、最後の光学面
と像面の間の有限空隙を可能にする。更に、これらは再
び１：１以外の縮小比によって所望される高次のコマ収
差及び歪曲収差補正を行う。
主な低次の非点収差補正は、第３群の屈折力から生じる
。第１実施例とは異なり、高次の非点収差補正は第３群
によって行われる、そのために該群は第１実施例の第４
群よりも１つ多い素子を有している。
残留軸方向色収差（焦点の色収差）は、再び視野湾曲の
色収差に対して平衡化されており、このことが系のスペ
クトル帯幅を１９２〜１９４ナノメータ範囲内に制限す
る。このスペクトル範囲は、石英ガラスの分散は波長が
短くなれば急速に増大するので、第１実施例よりも小さ
い。エキサイマーレーザー源にとってはまだ好適である
が、濾波した水銀アークは使用できない。
第２図の実施例の構造データは、以下の第２表に屈曲し
ていない系で示されている。
半　　径 ８０４．１３６ ６３８．５３５ ４９６．２２３ ２７８．０３３ ３４３．４３３ ８０３．７５５ 平面 平面 −４７８，４９６ −３７２，７７８ ４７８，４９６ 第　　２　　表 面距離　円直径 ２０１．８１ ２１．０００　２０２．０２ １２４．６４０　１８３．７９ １２．１５０　１７９．７４ ３２．３３６　１８０．９１ １８．３７５　１７９．００ ８８．７６７　１６７．３４ １８．１０３　１６５．７３ ７９．６５５　１５６．５５ ＋３．１２５　１５９．９６ ５．７３９　１６０．２５ ５．７９３　１５７．２６ 材料 石英ガラス 空気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 石英ガラス 空　　気 空　　気 ２３０．４０６　−１：Ｌ１２５　１４５．４０　　石
英カラス平面　　−６０，０００１１４，８３空気平面
　　−１９，６５５１０２，３７空気１１６．１３４　
　７３．４７０　　８０．７８　　　　空　　気１８０
．２６０　１２．２５０　７６．８８　　石英ガラス６
０．４］、９　　　１．０００　　７３．０３　　　　
空　　気５４．４３７　１１．５７２　６５．１５　　
石英ガラス９０．２１７　　　６．８５１　　６４．３
０　　　　空　　気２４７６．１８０　２６．０５２　
５３．２０　　石英ガラス１２９．６８９　　　４．５
５９　　５１．５７　　　　空　　気−１２８，９７１
１５，２３１４５，８３石英ガラス２４９．５１８　　
　１．４４８　　４２．１０　　　　空　　気−１，７
３０，３８２１５，５７０３３，５２石英ガラス平面　
　　１２．５００　２１．００　　　空ｉ前記に示した
２つの光学的縮小系の間の主な相異点は、一方は２４８
ｎｍで１．他方は１９３ｎｍで機能するように設計され
ている点にある。光学系は別の波長で作動するように変
更できるものと理解されるべきである。両者の系は著し
くコンパクトである、例えば第１図の光学系は　０．５
ｍ未満の長さを有する。物体領域を小さくすれば、系を
一層コンパクトに構成することができる。
これらの変更及びその他の変更は、前記の実施例の説明
を考慮すれば可能である。但し前記実施例は本発明を限
定するものではく、本発明は前記特許請求の範囲の記載
によってのみ制限される。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の光学系の第１実施例の暗示構成図及び
第２図は第２実施例の暗示構成図である。 １０．３０・・・光学的縮小系、１１・・・レティクル
又は物体面、１２．１３及び３３，３４．３５・・・第
１レンズ群、１４．１５及び３７・・・第２レンズ群、
１７．３６・・・ビームスプリッタ、１８．１９・・・
第３レンズ群、２０．３８・・・収斂鏡２１．２２．２
３．２４及び３９，４０，４１．４２．４３・・・・・
・第３レンズ群、４４・・・像又はウェハ面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、長い共役側端部から短い共役側端部に向かって、第
    １レンズ群と、ビームスプリッタと、第２レンズ群と、
    収斂鏡と、第３レンズ群とからなり、系に入射するビー
    ムが前記第１レンズ群、前記ビームスプリッタ、前記第
    ２レンズ群を通過し、かつ前記収斂鏡によって反射され
    て逆方向に第２レンズ群を通過しかつ前記ビームスプリ
    ッタによって前記第３レンズ群を通過せしめられること
    を特徴とする反射屈折光学的縮小光学系。 ２、前記第１レンズ群の屈折力が横方向の色及び歪曲収
    差補正のために第３レンズ群の屈折力に対して均衡化さ
    れている請求項１記載の光学系。 ３、鏡によって系に導入された収差が前記第１、第２、
    及び第３レンズ群によって補正されている請求項１記載
    の光学系。 ４、鏡によって系に導入された収差が第１、第２及び第
    ３レンズ群によって補正されている請求項２記載の光学
    系。 ５、低次のコマ収差及び球面収差が前記第２レンズ群に
    よって補正されている請求項４記載の光学系。 ６、高次のコマ収差及び高次の歪曲収差が前記第３レン
    ズ群によって補正されている請求項１記載の光学系。 ７、非点収差が主に前記第３レンズ群によって補正され
    る請求項６記載の光学系。 ８、前記第１、第２、第３レンズ群及び前記ビームスプ
    リッタが同じ材料からなる請求項７記載の光学系。 ９、前記材料が石英ガラスである請求項８記載の光学系
    。 １０、前記ビームスプリッタがキューブである請求項９
    記載の光学系。 １１、前記ビームスプリッタが傾斜した薄い平行プレー
    トである請求項９記載の光学系。 １２、前記第１レンズ群が、ビームが前記ビームスプリ
    ッタに入射する前方に該ビームを平行にする素子を有し
    ている請求項１１記載の光学系。 １３、前記第１レンズ群の前方に前記長い共役側端部に
    テレセントリック作用を及ぼすレンズ群が配置されてい
    る請求項１０記載の光学系。 １４、前記第３レンズ群が前記短い共役側端部にテレセ
    ントリック作用を及ぼす請求項１２記載の光学系。 １５、前記第３レンズ群が前記短い共役側端部にテレセ
    ントリック作用を及ぼす請求項１３記載の光学系。
JP1180667A 1988-07-15 1989-07-14 反射屈折縮小光学系，該光学系を有するリソグラフィー装置及びその操作方法 Expired - Lifetime JPH07117648B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/223,968 US4953960A (en) 1988-07-15 1988-07-15 Optical reduction system
US223968 1988-07-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0266510A true JPH0266510A (ja) 1990-03-06
JPH07117648B2 JPH07117648B2 (ja) 1995-12-18

Family

ID=22838740

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1180667A Expired - Lifetime JPH07117648B2 (ja) 1988-07-15 1989-07-14 反射屈折縮小光学系，該光学系を有するリソグラフィー装置及びその操作方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4953960A (ja)
EP (1) EP0350955B1 (ja)
JP (1) JPH07117648B2 (ja)
CA (1) CA1320375C (ja)
DE (1) DE68927423T2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5251070A (en) * 1991-09-28 1993-10-05 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
DE19546795A1 (de) * 1994-12-16 1996-06-20 Nikon Corp Katadioptrisches System und ein dieses benützendes Belichtungsgerät
US5796524A (en) * 1994-12-27 1998-08-18 Nikon Corporation Catadioptric optical system and exposure apparatus using the same
US5805334A (en) * 1996-05-20 1998-09-08 Nikon Corporation Catadioptric projection systems
JP2001154094A (ja) * 1999-11-12 2001-06-08 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 物理的ビームスプリッタを備えたカタジオプトリック対物レンズ
USRE37846E1 (en) 1995-01-06 2002-09-17 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus using the same
USRE38403E1 (en) 1994-11-10 2004-01-27 Nikon Corporation Projection optical system and projection exposure apparatus
USRE38421E1 (en) 1994-04-28 2004-02-10 Nikon Corporation Exposure apparatus having catadioptric projection optical system
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
US6995918B2 (en) 2000-02-16 2006-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus
US6995833B2 (en) 2003-05-23 2006-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7283294B2 (en) 2004-10-25 2007-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE36740E (en) * 1990-03-30 2000-06-20 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
US5220454A (en) * 1990-03-30 1993-06-15 Nikon Corporation Cata-dioptric reduction projection optical system
US5072104A (en) * 1990-06-04 1991-12-10 Litton Systems, Inc. Achromatic null lens
US5089913A (en) * 1990-07-11 1992-02-18 International Business Machines Corporation High resolution reduction catadioptric relay lens
US5402267A (en) * 1991-02-08 1995-03-28 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric reduction objective
NL194844C (nl) * 1991-02-08 2003-04-03 Zeiss Carl Fa Catadioptrisch reductie-objectief.
DE4203464B4 (de) * 1991-02-08 2007-02-01 Carl Zeiss Smt Ag Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
JP2830492B2 (ja) 1991-03-06 1998-12-02 株式会社ニコン 投影露光装置及び投影露光方法
US5668673A (en) * 1991-08-05 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
JP3085481B2 (ja) * 1991-09-28 2000-09-11 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系、及び該光学系を備えた露光装置
JP3235077B2 (ja) * 1991-09-28 2001-12-04 株式会社ニコン 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法
US5212593A (en) * 1992-02-06 1993-05-18 Svg Lithography Systems, Inc. Broad band optical reduction system using matched multiple refractive element materials
JP2750062B2 (ja) * 1992-12-14 1998-05-13 キヤノン株式会社 反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置
EP0604093B1 (en) * 1992-12-24 1997-11-19 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
US5537260A (en) * 1993-01-26 1996-07-16 Svg Lithography Systems, Inc. Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture
US5323263A (en) * 1993-02-01 1994-06-21 Nikon Precision Inc. Off-axis catadioptric projection system
US5636066A (en) * 1993-03-12 1997-06-03 Nikon Corporation Optical apparatus
JP3635684B2 (ja) * 1994-08-23 2005-04-06 株式会社ニコン 反射屈折縮小投影光学系、反射屈折光学系、並びに投影露光方法及び装置
JPH06310400A (ja) * 1993-04-12 1994-11-04 Svg Lithography Syst Inc 軸上マスクとウェーハ直線配列システム
US5854671A (en) * 1993-05-28 1998-12-29 Nikon Corporation Scanning exposure method and apparatus therefor and a projection exposure apparatus and method which selectively chooses between static exposure and scanning exposure
US6157497A (en) * 1993-06-30 2000-12-05 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5602619A (en) * 1993-09-22 1997-02-11 Nikon Precision, Inc. Scanner for step and scan lithography system
US5515207A (en) * 1993-11-03 1996-05-07 Nikon Precision Inc. Multiple mirror catadioptric optical system
US5638218A (en) * 1993-12-07 1997-06-10 Nikon Corporation Catadioptric projection apparatus
DE4417489A1 (de) * 1994-05-19 1995-11-23 Zeiss Carl Fa Höchstaperturiges katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Miktrolithographie
US5559338A (en) * 1994-10-04 1996-09-24 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet optical imaging system for microlithography and/or microfabrication
US5488229A (en) * 1994-10-04 1996-01-30 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet microlithography system
JPH08203812A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
US5585972A (en) * 1995-02-15 1996-12-17 Ultratech Stepper, Inc. Arbitrarily wide lens array with an image field to span the width of a substrate
US5650877A (en) * 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
DE19616922A1 (de) * 1996-04-27 1997-10-30 Zeiss Carl Fa Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv
US5757493A (en) * 1996-10-16 1998-05-26 Tropel Corporation Interferometer with catadioptric imaging system having expanded range of numerical aperture
JPH1184248A (ja) * 1997-09-12 1999-03-26 Nikon Corp 反射屈折縮小光学系
US5929978A (en) * 1997-12-11 1999-07-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
EP1059550A4 (en) 1998-12-25 2003-03-19 Nikon Corp REFRACTION REFLECTION IMAGE FORMING SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM
EP1115019A3 (en) * 1999-12-29 2004-07-28 Carl Zeiss Projection exposure lens with aspheric elements
US6995930B2 (en) 1999-12-29 2006-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with geometric beam splitting
US6480330B1 (en) 2000-02-24 2002-11-12 Silicon Valley Group, Inc. Ultraviolet polarization beam splitter for microlithography
US7414785B2 (en) * 2000-02-24 2008-08-19 Asml Holding N.V. Ultraviolet polarization beam splitter with minimum apodization
JP2003532281A (ja) 2000-04-25 2003-10-28 エーエスエムエル ユーエス，インコーポレイテッド 照明偏光の制御を備えた光学縮小システム
KR100783669B1 (ko) * 2000-04-25 2007-12-07 에이에스엠엘 유에스, 인크. 바이어스에 의해 유도된 레티클 회절을 제거한 광학 축소시스템
RU2160915C1 (ru) * 2000-05-15 2000-12-20 Общество с ограниченной ответственностью "ВЕСТТРЭЙД ЛТД" Зеркально-линзовая уменьшающая оптическая система (варианты)
US6486940B1 (en) 2000-07-21 2002-11-26 Svg Lithography Systems, Inc. High numerical aperture catadioptric lens
DE10104177A1 (de) 2001-01-24 2002-08-01 Zeiss Carl Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
DE10117481A1 (de) 2001-04-07 2002-10-10 Zeiss Carl Katadioptrisches Projektionsobjektiv
US7136220B2 (en) * 2001-08-21 2006-11-14 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
TW575904B (en) * 2001-08-21 2004-02-11 Asml Us Inc Optical projection for microlithography
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20170028451A (ko) 2004-05-17 2017-03-13 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US7511798B2 (en) * 2004-07-30 2009-03-31 Asml Holding N.V. Off-axis catadioptric projection optical system for lithography
US7324185B2 (en) 2005-03-04 2008-01-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8248577B2 (en) 2005-05-03 2012-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP6819773B2 (ja) 2016-09-06 2021-01-27 株式会社ニコン 反射屈折等倍アフォーカル瞳孔リレー及びこれを採用した光学撮影系

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2801570A (en) * 1952-05-29 1957-08-06 Centre Nat Rech Scient Mirror type optical objectives for microscopes
US3256766A (en) * 1960-11-28 1966-06-21 Aga Ab Coaxial telescope for use in a rangefinder
NL6701520A (ja) * 1967-02-01 1968-08-02
DE6944528U (de) * 1968-11-15 1970-02-12 Nat Res Dev Optische einrichtung mit einem konkavspiegel und mit einem korrekturteil
FR2134272B1 (ja) * 1971-04-29 1975-02-21 Cerco
US4108539A (en) * 1976-11-18 1978-08-22 Hewlett-Packard Company Reflecting lens system
US4302079A (en) * 1980-04-10 1981-11-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photolithographic projection apparatus using light in the far ultraviolet
GB8612609D0 (en) * 1986-05-23 1986-07-02 Wynne C G Optical imaging systems

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5251070A (en) * 1991-09-28 1993-10-05 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
USRE39296E1 (en) * 1993-03-12 2006-09-19 Nikon Corporation Catadioptric projection systems
USRE39024E1 (en) 1994-04-28 2006-03-21 Nikon Corporation Exposure apparatus having catadioptric projection optical system
USRE38421E1 (en) 1994-04-28 2004-02-10 Nikon Corporation Exposure apparatus having catadioptric projection optical system
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
USRE38403E1 (en) 1994-11-10 2004-01-27 Nikon Corporation Projection optical system and projection exposure apparatus
US5668672A (en) * 1994-12-16 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric system and exposure apparatus having the same
DE19546795A1 (de) * 1994-12-16 1996-06-20 Nikon Corp Katadioptrisches System und ein dieses benützendes Belichtungsgerät
US5796524A (en) * 1994-12-27 1998-08-18 Nikon Corporation Catadioptric optical system and exposure apparatus using the same
USRE37846E1 (en) 1995-01-06 2002-09-17 Nikon Corporation Projection optical system and exposure apparatus using the same
US5805334A (en) * 1996-05-20 1998-09-08 Nikon Corporation Catadioptric projection systems
JP2001154094A (ja) * 1999-11-12 2001-06-08 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 物理的ビームスプリッタを備えたカタジオプトリック対物レンズ
US7092168B2 (en) 2000-02-16 2006-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus
US7075726B2 (en) 2000-02-16 2006-07-11 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus
US6995918B2 (en) 2000-02-16 2006-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus
US7239453B2 (en) 2000-02-16 2007-07-03 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus
US7053986B2 (en) 2003-05-23 2006-05-30 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US6995833B2 (en) 2003-05-23 2006-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7283294B2 (en) 2004-10-25 2007-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method

Also Published As

Publication number Publication date
EP0350955A3 (en) 1991-07-24
DE68927423T2 (de) 1997-03-06
CA1320375C (en) 1993-07-20
EP0350955B1 (en) 1996-11-06
US4953960A (en) 1990-09-04
DE68927423D1 (de) 1996-12-12
EP0350955A2 (en) 1990-01-17
JPH07117648B2 (ja) 1995-12-18

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JPH0525087B2 (ja)

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