JPH0264930A - Information recording medium - Google Patents
Information recording mediumInfo
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- JPH0264930A JPH0264930A JP63214852A JP21485288A JPH0264930A JP H0264930 A JPH0264930 A JP H0264930A JP 63214852 A JP63214852 A JP 63214852A JP 21485288 A JP21485288 A JP 21485288A JP H0264930 A JPH0264930 A JP H0264930A
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- Japan
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- recording
- recording medium
- information recording
- atomic
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- Pending
Links
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、情報の記録及び消去が可能な情報記録媒体に
関する。Detailed Description of the Invention [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to an information recording medium on which information can be recorded and erased.
(従来の技術)
近年、高密度に情報の記録が可能な情報記録媒体として
光ディスクが注目を浴びている。光ディスクはCD
(Compact Disc )に代表される再生専用
型、電子式文書ファイル等に使用されているいわゆるW
rite 0nce型及び情報の記録及び消去が可能な
イレーザブル型に分類される。現在、再生専用型光ディ
スクとWrite 0nce型光デイスクが既に実用化
され、広く利用されている。また、イレーザブル型光デ
ィスクは、静止画や動画のファイルやコンピュータのバ
ックアップメモリ等の用途に適していることから、最近
その開発が盛んになっている。(Prior Art) In recent years, optical discs have attracted attention as information recording media that can record information at high density. Optical disc is CD
The so-called W disc, which is used for playback-only types such as (Compact Disc), electronic document files, etc.
It is classified into rite 0nce type and erasable type which can record and erase information. Currently, read-only optical discs and write-once optical discs have already been put into practical use and are widely used. Further, erasable optical discs are suitable for uses such as still image and moving image files and computer backup memory, so their development has recently become active.
このイレーザブル型光ディスクはさらに大別すると光磁
気型と相変化型がある。光磁気型光ディスクは、レーザ
ービームの照射による加熱と磁場の印加により、垂直磁
化膜の一部のスピンを反転することによって情報を記録
し、また、レーザビームを照射することによって、この
再生光の磁気力効果を用いて、反転されたスピンの部分
を読み取ることにより記録された情報が再生される。Erasable optical disks can be further broadly divided into magneto-optical types and phase change types. Magneto-optical optical disks record information by reversing the spin of a part of the perpendicularly magnetized film by heating with laser beam irradiation and applying a magnetic field. Using magnetic force effects, the recorded information is reproduced by reading the portion of the reversed spins.
これに対して、相変化型光ディスクは、レーザービーム
の照射条件により記録膜の一部を非晶質化または結晶化
を行ない、対応する反射率の変化によりそれぞれ情報の
記録及び消去部として読み出す。On the other hand, in a phase-change optical disk, a portion of the recording film is made amorphous or crystallized depending on the laser beam irradiation conditions, and the information is read out as information recording and erasing sections based on a corresponding change in reflectance.
相変化型光ディスクは、光磁気型光ディスクと比べて磁
場を必要とせず、レーザービームの照射条件のみで選択
的に情報の記録、消去ができる。Compared to magneto-optical optical discs, phase-change optical discs do not require a magnetic field and can selectively record and erase information using only laser beam irradiation conditions.
また、磁気カー効果を利用した光磁気型ディスクは、再
生信号が小さいことに比べ、相変化型光ディスクでは大
きな信号再生できる。そのため、相変化型、光ディスク
は、次世代のイレーザブル光ディスクとして注目を浴び
てきた。Further, a magneto-optical disk that uses the magnetic Kerr effect has a small reproduction signal, whereas a phase change optical disk can reproduce a large signal. Therefore, phase change type optical disks have attracted attention as the next generation of erasable optical disks.
従来、結晶と非晶質との間の可逆的変化を行なわせる相
変化型光ディスクの記録膜としては、Te、Ge、Te
Ge、InSe、5bTe。Conventionally, recording films for phase-change optical discs that can reversibly change between crystalline and amorphous state have been made of Te, Ge, and Te.
Ge, InSe, 5bTe.
5bSe等の半導体や半導体化合物が知られている。し
かしながら、Teは常温で結晶であることから、Teか
らなる記録膜は、非晶質の記録部分はすぐに結晶状態に
戻ってしまうという欠点がある。また、GeやTeGe
は溶融温度が高いため、レーザービームの照射により容
易に非晶質の記録マークを形成できないといった欠点が
ある。さらに、GeやGeの化合物からなる記録膜では
、サビやすいという欠点がある。Semiconductors and semiconductor compounds such as 5bSe are known. However, since Te is crystalline at room temperature, a recording film made of Te has the disadvantage that the amorphous recording portion quickly returns to the crystalline state. Also, Ge and TeGe
has a high melting temperature, so it has the disadvantage that amorphous recording marks cannot be easily formed by laser beam irradiation. Furthermore, recording films made of Ge or Ge compounds have the disadvantage of being susceptible to rust.
さらに、相変化型光ディスクの記録膜の組成として、I
nSe、5bTe、5bSeなどが発表されているが、
これらの記録膜は、上記のような欠点はないが、一般に
結晶化の速度(消去の速度)があまり速くないといった
欠点がある。イレーザブル光ディスクはハードディスク
等の磁気ディスクとの対比からデータの高速転送とオー
バーライド特性を要求されるでいる。そのため、高速消
去(高速結晶化)を必要とするが、上記のような2元素
材料では、この高速結晶化は達成できないため、上記の
材料に第3元、4元目の添加物を加えて結晶化速度を早
める開発が盛んに行われている。Furthermore, as the composition of the recording film of the phase change optical disk, I
Although nSe, 5bTe, 5bSe, etc. have been announced,
Although these recording films do not have the above-mentioned drawbacks, they generally have the drawback that the crystallization speed (erasing speed) is not very fast. Erasable optical disks are required to have high-speed data transfer and override characteristics in comparison with magnetic disks such as hard disks. Therefore, high-speed erasure (high-speed crystallization) is required, but this high-speed crystallization cannot be achieved with the two-element materials described above, so tertiary and quaternary additives are added to the above materials. Developments to speed up the crystallization rate are actively underway.
本発明者らの検討によれば、上記の材料以外で比較的高
速結晶化が可能な材料としてはI n5bTeがある。According to studies by the present inventors, In5bTe is a material that can be crystallized at a relatively high speed other than the above-mentioned materials.
InSb合金は、結晶とこの結晶とは異なる別の結晶と
の間で可逆的に相変化を行なうものであるが、結晶化速
度の最も速いIn5oSb、。の金属化合物組成では、
情報の消去が記録ができない。また、I n x S
b 10G−m (x < 50)の組成の記録膜で
は、情報の記録、消去は可能であるが、sbの偏析のた
めに結晶化速度が遅くなるという欠点がある。InSb alloy undergoes a reversible phase change between a crystal and another crystal different from this crystal, and In5oSb has the fastest crystallization rate. In the metal compound composition of
Information cannot be erased or recorded. Also, I n x S
A recording film having a composition of b 10G-m (x < 50) can record and erase information, but has the disadvantage that the crystallization rate is slow due to the segregation of sb.
本発明者らの検討によれば、この金属間化合物組成であ
るIn5゜Sb、。近辺のInSbに少量のTeを添加
したI n5bTe合金では、金属間化合物組成の高速
結晶化の特性を損なうことなく、また、Teの非晶質に
より記録信号を増大できるため、良好な情報の記録、消
去特性を示すことが確認されている。According to the studies of the present inventors, this intermetallic compound composition is In5°Sb. In the In5bTe alloy, which is made by adding a small amount of Te to InSb, good information recording is possible because the recording signal can be increased due to the amorphous nature of Te without impairing the high-speed crystallization characteristics of the intermetallic compound composition. , it has been confirmed that it exhibits erasing properties.
しかしながら、このようなIn5bTe合金にも次のよ
うな欠点があった。すなわち、Teの添加量が5at%
を越えると、In5oSbsoの金属間化合物組成の高
速結晶化の特性が損なわれ、5bTeやInTe等の結
晶化加速度の遅い結晶相が表われるために、全体として
結晶化速度が遅くなる。However, such an In5bTe alloy also had the following drawbacks. That is, the amount of Te added is 5 at%
If the value exceeds 1, the high-speed crystallization property of the intermetallic compound composition of In5oSbso is impaired, and a crystal phase with a slow crystallization acceleration, such as 5bTe or InTe, appears, resulting in a slow crystallization rate as a whole.
一方、Teの添加量が5at%以内であれば、基本的に
は情報の記録、消去は可能であるが、信号量(反射率変
化量)としては小さく、特に高密度化、高速データ転送
速度化に伴ったディスクの高速回転時には感度不足とな
り、さらに信号量が低下してしまうという欠点があった
。On the other hand, if the amount of Te added is within 5 at%, it is basically possible to record and erase information, but the signal amount (change in reflectance) is small, especially for high density and high data transfer speeds. However, when the disk rotates at a high speed, the sensitivity becomes insufficient, and the signal amount further decreases.
(発明が解決しようとする課題)
従来の相変化型光ディスクにおいては、結晶化速度が遅
く、また、高密度化、高速データ転送速度化に伴ったデ
ィスクの高速回転時には感度不足となり、さらに信号量
が低下してしまうという問題点があった。(Problems to be Solved by the Invention) Conventional phase-change optical disks have a slow crystallization speed, and also lack sensitivity when disks rotate at high speeds due to increased density and data transfer speeds, and the signal amount also increases. There was a problem in that the value decreased.
本発明は、上記問題点を解消するために、結晶化速度が
速く、かつ高速回転時においても、検出される信号量が
増大し、消去特性も向上することができる情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an information recording medium that has a high crystallization speed, increases the amount of detected signals even during high-speed rotation, and has improved erasing characteristics. The purpose is to
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
本発明は上記目的を達成するために、第1の発明におい
ては、光ビームの異なる照射条件により第1の原子配列
と第2の原子配列との間で可逆的に相変化する記録膜が
、一般式
%式%
から成る4元合金膜からなることを特徴とするものであ
る。[Structure of the Invention (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a first atomic arrangement and a second atomic arrangement based on different irradiation conditions of a light beam. The recording film that undergoes a reversible phase change between .
また、第2の発明においては、光ビームの異なる照射条
件により第1の原子列と第2の原子配列との間で可逆的
に相変化する記録膜が、一般式%式%
0<a≦10原子%、0くb≦3原子%から成る4元合
金膜からなることを特徴とするものである。Further, in the second invention, the recording film whose phase changes reversibly between the first atomic array and the second atomic array under different irradiation conditions of the light beam has the general formula % 0<a≦ It is characterized by being made of a quaternary alloy film consisting of 10 atomic % and 0b≦3 atomic %.
(作用)
本発明の情報記録媒体においては、In5゜Sb、。の
近傍の性のInSb合金にTe及びSeを添加したIn
5bTeSi合金を用いているため、情報記録媒体の高
速回転時であっても記録信号が大きく、かつ消去の速度
が速い、記録、消去特性の優れた相変化型の情報記録媒
体を提供できる。(Function) In the information recording medium of the present invention, In5°Sb. InSb alloy with Te and Se added to
Since the 5bTeSi alloy is used, it is possible to provide a phase change type information recording medium with excellent recording and erasing characteristics, which has a large recording signal and a high erasing speed even when the information recording medium rotates at high speed.
本発明者の鋭敏なる検討の結果、Ins。Sb、。As a result of careful study by the inventor, Ins. Sb.
の近傍組成のI nSbにTe及びSiを添加したI
n5bTeS i合金からなる記録膜では、光ビームの
ある照射条件による情報の記録に対して、Teの非晶質
化により信号は増大する。また、光ビームの別の照射条
件による情報の消去に対しては、結晶化しやすいSLの
添加効果により速やかに結晶化が生ずることを発見した
。I which added Te and Si to I nSb with a composition close to
In a recording film made of n5bTeS i alloy, when information is recorded under certain conditions of irradiation with a light beam, the signal increases due to the amorphization of Te. Furthermore, it has been discovered that when information is erased under different irradiation conditions with a light beam, crystallization occurs quickly due to the effect of adding SL, which tends to crystallize.
(実施例)
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明による情報記録媒体は、第2図に示すように、基
板20、第1の保護膜21、記録膜22、第2の保護膜
23及びUV硬化膜24がこの順で積層された構成とな
っている。As shown in FIG. 2, the information recording medium according to the present invention has a structure in which a substrate 20, a first protective film 21, a recording film 22, a second protective film 23, and a UV cured film 24 are laminated in this order. It has become.
基板20は、ガラス、プラスチックまたはポリカーボネ
イトで形成されているものである。第1、第2の保護膜
21.23は、例えば5in2からなるものであり、記
録11!22へのレーザー照射時に、記録膜22が溶融
し穴を形成するのを防止するものである。また、UV硬
化膜24は取扱上で生ずる傷を防止しているものである
。また、記録膜22は、一般式
%式%
(但し、48≦X≦52原子%、0くy≦10原子%、
0くz≦7原子%)から成る4元合金膜、または、一
般式
%式%(
0<a≦10原子%、0くb≦3原子%)からなる4元
合金膜からなるものである。この記録膜22は、光ビー
ムの異なる照射条件により第1の原子配列と第2の原子
配列との間で可逆的に相変化するものである。The substrate 20 is made of glass, plastic, or polycarbonate. The first and second protective films 21 and 23 are made of, for example, 5 in 2 and are used to prevent the recording film 22 from melting and forming a hole when the recording film 11!22 is irradiated with a laser. Furthermore, the UV cured film 24 prevents scratches that may occur during handling. Further, the recording film 22 is formed using the general formula % (where 48≦X≦52 atomic %, 0xy≦10 atomic %,
0xz≦7 atomic%), or a quaternary alloy film consisting of the general formula % (0<a≦10 atomic%, 0xb≦3 atomic%). . This recording film 22 undergoes a reversible phase change between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement under different irradiation conditions of the light beam.
以下、上記情報記録媒体の具体的実施例につき、詳細に
説明するものとする。Hereinafter, specific examples of the above information recording medium will be described in detail.
(実施例−1)
第1図に示すスパッタ装置を用いて、第2図に示す情報
記録媒体を形成した。(Example 1) Using the sputtering apparatus shown in FIG. 1, an information recording medium shown in FIG. 2 was formed.
このスパッタ装置1は、回転基台2、バルブ4゜5、タ
ーゲット6−A、7−A、8−A、9−A。This sputtering apparatus 1 includes a rotating base 2, a valve 4.5, and targets 6-A, 7-A, 8-A, and 9-A.
電極6−B、7−B、8−B、9−B、電源6−C,7
−C,8−C,9−C,シャッター6−D。Electrodes 6-B, 7-B, 8-B, 9-B, power supplies 6-C, 7
-C, 8-C, 9-C, shutter 6-D.
7−D、8−D、9−Dから構成されている。It consists of 7-D, 8-D, and 9-D.
まず、回転基台2の上にポリカーボネート製の円盤状の
ディスク基板20をセットし、バルブ4を開にしてスパ
ッタ装置1を図示しないクライオポンプにより10−6
torrの真空まで引いた。First, a polycarbonate disk-shaped disk substrate 20 is set on a rotating base 2, a valve 4 is opened, and a cryopump (not shown) is used to move a sputtering apparatus 1 to a 10-6
The vacuum was pulled down to torr.
この状態で、バルブ5を開にしてArガスの流量で20
3CCM導入しながら、バルブ4の開閉を調整して装置
1内のA「ガス圧が5 m torrに設定し2は、光
ビームの異なる照射条件により第1の原子配列と第2の
原子配列との間で可逆的に相変化するものである。In this state, open the valve 5 and set the Ar gas flow rate to 20
While introducing 3CCM, adjust the opening and closing of the valve 4 to set the gas pressure in the device 1 to 5 m torr. It undergoes a reversible phase change between
以下、上記情報記録媒体の具体的実施例につき、詳細に
説明するものとする。Hereinafter, specific examples of the above information recording medium will be described in detail.
(実施例−1)
第1図に示すスパッタ装置を用いて、第2図に示す情報
記録媒体を形成した。(Example 1) Using the sputtering apparatus shown in FIG. 1, an information recording medium shown in FIG. 2 was formed.
このスパッタ装置1は、回転基台2、バルブ4゜5、タ
ーゲット6−A、7−A、8−A、9−A。This sputtering apparatus 1 includes a rotating base 2, a valve 4.5, and targets 6-A, 7-A, 8-A, and 9-A.
電極6−B、7−8,8−B、9−B、電源6−C,7
−C,8−C,9−C,シャッター6−D。Electrode 6-B, 7-8, 8-B, 9-B, power supply 6-C, 7
-C, 8-C, 9-C, shutter 6-D.
7−D、8−D、9−Dから構成されている。It consists of 7-D, 8-D, and 9-D.
まず、回転基台2の上にポリカーボネート製の円盤状の
ディスク基板20をセットし、バルブ4を開にしてスパ
ッタ装置1を図示しないクライオポンプにより10−6
torrの真空まで引いた。First, a polycarbonate disk-shaped disk substrate 20 is set on a rotating base 2, a valve 4 is opened, and a cryopump (not shown) is used to move a sputtering apparatus 1 to a 10-6
The vacuum was pulled down to torr.
この状態で、バルブ5を開にしてArガスの流量で20
8CCM導入しながら、バルブ4の開閉を調整して装置
1内のA「ガス圧が5 m torrに設定し8−D、
9−Dを同時に開にしくIn4ssb、2)g2Te5
Si、の組成の薄膜をSin、膜上に成膜し始めた。約
1分30秒の成膜でこの記録膜を約1000オングスト
ローム成膜した後、シャッタ7−D、8−D、9−Dを
閉にし、同時にR0Fパワー電源7−C,8−C,9−
CをOFFして成膜を終了した。In this state, open the valve 5 and set the Ar gas flow rate to 20
While introducing 8CCM, adjust the opening/closing of valve 4 to set the gas pressure in device 1 to 5 mtorr.
9-D should be opened at the same time In4ssb, 2) g2Te5
A thin film having a composition of Si was started to be formed on the Si film. After forming the recording film to a thickness of about 1000 angstroms in about 1 minute and 30 seconds, the shutters 7-D, 8-D, and 9-D are closed, and at the same time, the R0F power supplies 7-C, 8-C, and 9 are turned on. −
C was turned off to complete the film formation.
その後再度R,F、 t4a*6−CをONI;:し、
前と同じ行程でSiO□膜を1000オングストローム
の厚さでオーバーコートした。After that, turn on R, F, t4a*6-C again;
An SiO□ film was overcoated to a thickness of 1000 Å in the same step as before.
ディスク基板20上にSiO2(1000オングストロ
ーム) / (I nngsb52) 92T’e5
S 1s (1000オングストローム) /S i
02 (1000オングストローム)の構成で成膜
したこのサンプルは、スパッタ装置1を大気でリークし
た後、図示しないスピンコータによりUV硬化型の樹脂
を塗布し、UV照射装置によってUV光を照射してこれ
を硬化した。SiO2 (1000 angstroms) / (Inngsb52) 92T'e5 on the disk substrate 20
S 1s (1000 angstroms) /S i
This sample was formed into a film with a thickness of 0.02 (1000 angstroms) after leaking the sputtering device 1 to the atmosphere, applying a UV curable resin using a spin coater (not shown), and irradiating it with UV light using a UV irradiation device. Hardened.
このようにして作成したサンプルの構成が、第2図に示
すような情報記録媒体である。すなわち、このサンプル
では、円盤状のポリカーボネート製基板20上にSlO
□膜21が1000オングストローム、 (I n4
ssbs2) 9xTes S i3記録膜22が10
00オングストローム、5in2膜が1000オングス
トロームざらにUV硬化膜約5umが、この順で積層さ
れた構成となっている。The configuration of the sample created in this way is an information recording medium as shown in FIG. That is, in this sample, SlO is deposited on a disc-shaped polycarbonate substrate 20.
□The film 21 has a thickness of 1000 angstroms, (I n4
ssbs2) 9xTes Si3 recording film 22 is 10
The structure is such that a 5in2 film of 1000 angstroms and a UV cured film of about 5 um are laminated in this order.
次に、上記の作製条件と全く同様の作製条件にて、記録
膜のみTeと81の量を変化させてサンプルを作製した
。これらのサンプルにおける記録膜の組成は次の通りで
ある。Next, samples were fabricated under exactly the same fabrication conditions as above, with only the recording film varying the amounts of Te and 81. The compositions of the recording films in these samples are as follows.
■(I n4asbsz) esTes +■(I n
4ssbsz) 5tTetos ii *■(I n
4ss bs2) ssT e tos i 7 。■(I n4asbsz) esTes +■(I n
4ssbsz) 5tTetos ii *■(I n
4ss bs2) ssT e tos i 7.
■ (I n4ssbsz) 94T’e’S
S L & 。■ (I n4ssbsz) 94T'e'S
S.L.&.
■(I n4ssbsz) 5zTes S i3 。■(I n4ssbsz) 5zTes S i3.
■(1n 4sS b 52) 90T e t。■(1n 4sS b 52) 90T e t.
このようにして作製したサンプルを勤評価装置にかけて
評価した。The samples thus prepared were evaluated using a performance evaluation device.
回転数200Orpmで、半径約55mmの位置にて、
次に示す処理を行い、各サンプルを評価した。At a rotation speed of 200 rpm, at a radius of about 55 mm,
Each sample was evaluated by performing the following processing.
(1)初期結晶化
成膜直後の記録膜は非晶質であるから、10mW連続発
光の光ビームにより1トラック分結晶化させる。この時
、結晶化が完了するまでの間、同じトラックを何回でも
レーザー照射する。(1) Initial Crystallization Since the recording film immediately after film formation is amorphous, it is crystallized for one track by a continuous light beam of 10 mW. At this time, the same track is irradiated with the laser any number of times until crystallization is completed.
(2)記録
レーザパワー15mw、周波数3 M Hz 、デユー
ティ50%のパルスレーザ光にて、上記結晶化した記録
膜のトラック上に非晶質状態の記録ピットを形成する。(2) Recording pits in an amorphous state are formed on the tracks of the crystallized recording film using a pulsed laser beam having a recording laser power of 15 mw, a frequency of 3 MHz, and a duty of 50%.
(3)消去
初期化と同じlQmwの連続発光の光ビームを1トラッ
ク分を1回転照射し、上記非晶質ピットを結晶に戻して
消去する。(2)と(3)の工程の後で、0.8mwの
連続発光のレーザー光にて再生して、非晶質状態の記録
ピットからの再生信号の大きさ及び消去後の消去残り信
号の大きさをオシロスコープ上で測定した。この測定結
果を第3図に示す。(3) Erasing A continuous light beam of lQmw, which is the same as that used in the initialization, is irradiated once for one track to return the amorphous pits to crystals and erase them. After the steps (2) and (3), reproduction is performed using a continuous laser beam of 0.8 mw, and the magnitude of the reproduced signal from the amorphous recording pit and the remaining erased signal after erasing are measured. The size was measured on an oscilloscope. The measurement results are shown in FIG.
第3図(a)は、In4asbs2の金属間化合物組成
の近傍組成のInSbに、Te添加量を5at%で固定
した時のSi添加量に対する記録ビットからの再生信号
の大きさと消去後の消し残り信号の大きさを示している
。Figure 3(a) shows the magnitude of the reproduced signal from the recorded bit and the remaining amount after erasure with respect to the amount of Si added when the amount of Te added is fixed at 5 at% to InSb with a composition close to the intermetallic compound composition of In4asbs2. Indicates the magnitude of the signal.
この測定結果から、Teが5at%のみを添加し、Si
の入っていない場合は消去残り信号が非常に大きいのに
対して、Siの添加量が増えるに従って、消去残り信号
が小さくなり、Stを3at%添加したものでは、完全
に消去ができていることが判明した。From this measurement result, it was found that only 5 at% of Te was added and Si
In the case without St, the erased residual signal is very large, but as the amount of Si added increases, the erased residual signal decreases, and in the case of 3 at% St added, complete erasure is achieved. There was found.
また記録ビットからの再生信号もSt添加により徐々に
増大していることが判明した。It was also found that the reproduction signal from the recorded bits gradually increased due to the addition of St.
第3図(b)は、Teの添加量を10at%で固定した
時のStの添加量に対する記録信号の大きさと消去残り
を示したものである。この測定結果からもわかる通り、
Teが10at%のみではほとんど信号は消えていない
が、Siを3at%添加すると完全に消えている。しか
しながら、さらにStの量を増加させると、逆に消え残
り信号は大きく、また、記録ビットからの再生信号は小
さくなっている。FIG. 3(b) shows the magnitude of the recording signal and the amount of erased data remaining with respect to the amount of St added when the amount of Te added is fixed at 10 at %. As can be seen from this measurement result,
When Te is added at only 10 at%, the signal hardly disappears, but when Si is added at 3 at%, it disappears completely. However, when the amount of St is further increased, the residual signal becomes larger and the reproduced signal from the recorded bit becomes smaller.
これらの実験事実から明らかなように、Teの添加量は
10a t%以下、Seの添加量は7at%以下が好適
であることが判明した。As is clear from these experimental facts, it has been found that the amount of Te added is preferably 10 at% or less, and the amount of Se added is preferably 7 at% or less.
(実施例−2)
(実施例−1)で作製したサンプルと全く同様の層構成
で、InSbの合金の組成のみをIns。(Example-2) The layer structure was exactly the same as that of the sample produced in (Example-1), but only the composition of the InSb alloy was Ins.
sb、、及びIn52Sb4aに替えて、サンプルを作
製した。これらのサンプルの各層の厚みは全て(実施例
−1)で作製したサンプルと同様にした。Samples were prepared by replacing sb, and In52Sb4a. The thickness of each layer of these samples was the same as that of the sample prepared in (Example-1).
Te及びSiの添加量も(実施例−1)で作製したサン
プルと全く同じにした。The amounts of Te and Si added were also exactly the same as in the sample prepared in (Example-1).
これらのサンプルに対して、(実施例−1)と同じ条件
で動的評価を行なったところ、第3図(a)、(b)に
示す結果と全く同様の結果を得た。When these samples were subjected to dynamic evaluation under the same conditions as in Example 1, results completely similar to those shown in FIGS. 3(a) and 3(b) were obtained.
(実施例−3)
(実施例−2)と同様にして、(実施例−1)で作製し
たサンプルと全く同じ層構成でInSb合金の組成のみ
I n4.s b55+ I n、sS b45に替
えてTe、Stを添加したサンプルを作製し、(実施例
−1)と同様の動的評価を行なった。(Example-3) In the same manner as (Example-2), the layer structure was exactly the same as that of the sample produced in (Example-1), but only the composition of the InSb alloy was In4. Samples were prepared in which Te and St were added in place of s b55+ I n and sS b45, and the same dynamic evaluation as in Example 1 was performed.
その結果、金属間化合物の組成であるIn5゜Sb、。As a result, the composition of the intermetallic compound is In5°Sb.
から大きく外れているこのような組成のInSbに対し
ては、TeとSeの添加効果は全く見られなかった。For InSb having such a composition that deviates greatly from the above, no effect of adding Te and Se was observed at all.
以上の結果から、本発明によるIn5bTeSi合金膜
の適性組成は、一般式で
(I nx S b+oo−x ) +00−y−m
Tey S l zとしたとき、その含有量は、それぞ
れ48≦X≦52at%、0くy≦10at%、0くz
≦7at%であることが判明した。From the above results, the appropriate composition of the In5bTeSi alloy film according to the present invention is expressed by the general formula (Inx S b + oo-x ) +00-y-m
When Tey S l z, the content is 48≦X≦52at%, 0kuy≦10at%, 0kuz, respectively.
It was found that ≦7at%.
すなわち、この組成範囲のにIn5bTeSi合金膜に
おいては、InSb金属間化合物組成近傍のInSbに
まずTeを添加することにより記録時のTeの非晶質化
により、検出される信号量を増大させることができるも
のである。また、情報の消去時には、Stの高速結晶化
性のために、合金全体としての消去特性も向上し、情報
記録媒体の高速回転時に良好な特性を示すものである。That is, in an In5bTeSi alloy film in this composition range, by first adding Te to InSb with a composition near the InSb intermetallic compound composition, it is possible to increase the detected signal amount by making Te amorphous during recording. It is possible. Furthermore, when erasing information, due to the high-speed crystallization property of St, the erasing properties of the alloy as a whole are improved, and it exhibits good properties when the information recording medium is rotated at high speed.
[発明の効果]
以上説明したように本発明の情報記録媒体においては、
結晶化速度が速く、また、高速回転時においても、良好
な記録、消去特性を得ることができるものである。[Effects of the Invention] As explained above, in the information recording medium of the present invention,
It has a high crystallization speed and can provide good recording and erasing characteristics even during high-speed rotation.
第1図は本発明における情報記録媒体を作製する4元ス
パッタ装置の概略構成図、第2図は本発明における情報
記録媒体の層構成の一実施例を示す断面図、第3図は本
発明の情報記録媒体の記録膜に用いられる金属間化合物
組成近傍の組成のInSbに対してTeとSiを添加し
た時の添加効果を示した測定図である。
20 基板
22 記録膜FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a four-source sputtering apparatus for producing an information recording medium according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of an information recording medium according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram according to the present invention. FIG. 2 is a measurement diagram showing the addition effect when Te and Si are added to InSb having a composition near the intermetallic compound composition used in the recording film of the information recording medium. 20 Substrate 22 Recording film
Claims (1)
り第1の原子配列と第2の原子配列との間で可逆的に相
変化する、一般式 (In_xSb_1_0_0_−_x)_1_0_0_
−_y_−_zTe_ySi_z48≦x≦52原子%
、0<y≦10原子%、0<z≦7原子% で表わされる4元合金膜からなる記録膜と、を具備した
ことを特徴とする情報記録媒体。(2)基板と、 この基板上に設けられ、光ビームの異なる照射条件によ
り第1の原子配列と第2の原子配列との間で可逆的に相
変化する、一般式 (In_4_8Sb_5_2)_1_0_0_−_a_
−_bTe_aSi_b0<a≦10原子%、0<b≦
3原子% で表わされる4元合金膜からなる記録膜と、を具備した
ことを特徴とする情報記録媒体。(1) A substrate, and a general formula (In_xSb_1_0_0_-_x)_1_0_0_ which is provided on this substrate and whose phase changes reversibly between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement depending on different irradiation conditions of the light beam.
-_y_-_zTe_ySi_z48≦x≦52 atomic%
, 0<y≦10 at.%, and 0<z≦7 at.%. (2) a substrate, which is provided on this substrate and has a general formula (In_4_8Sb_5_2)_1_0_0_-_a_ which reversibly changes phase between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement under different irradiation conditions of the light beam;
−_bTe_aSi_b0<a≦10 atomic%, 0<b≦
1. An information recording medium comprising: a recording film made of a quaternary alloy film expressed as 3 atomic %.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63214852A JPH0264930A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63214852A JPH0264930A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264930A true JPH0264930A (en) | 1990-03-05 |
Family
ID=16662615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63214852A Pending JPH0264930A (en) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | Information recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0264930A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095479A (en) * | 1990-08-13 | 1992-03-10 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
| US5418030A (en) * | 1992-06-12 | 1995-05-23 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for making |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP63214852A patent/JPH0264930A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095479A (en) * | 1990-08-13 | 1992-03-10 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
| US5418030A (en) * | 1992-06-12 | 1995-05-23 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for making |
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