JPH0239588B2 - Puranetariishikiseimakusochiniokerumakuatsushuseisochi - Google Patents
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- JPH0239588B2 JPH0239588B2 JP7514784A JP7514784A JPH0239588B2 JP H0239588 B2 JPH0239588 B2 JP H0239588B2 JP 7514784 A JP7514784 A JP 7514784A JP 7514784 A JP7514784 A JP 7514784A JP H0239588 B2 JPH0239588 B2 JP H0239588B2
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、プラネタリー式成膜装置における
膜厚修正装置に関する。
膜厚修正装置に関する。
「従来の技術」
特開昭58−131129号の公開特許公報には、自公
転するように配置された少くとも１つの基体ホル
ダと、基体ホルダに対向してこれと共に公転する
ように配置された公転型膜厚修正板とを有するプ
ラネタリー式成膜装置が開示されている。
転するように配置された少くとも１つの基体ホル
ダと、基体ホルダに対向してこれと共に公転する
ように配置された公転型膜厚修正板とを有するプ
ラネタリー式成膜装置が開示されている。
このプラネタリー式成膜装置は、自公転する基
体ホルダに定量の固定型膜厚修正板を組合わせた
プラネタリー式成膜装置の欠点を除去するために
開発されたものであつて、具体的には例えば、以
下に述べるように構成される。
体ホルダに定量の固定型膜厚修正板を組合わせた
プラネタリー式成膜装置の欠点を除去するために
開発されたものであつて、具体的には例えば、以
下に述べるように構成される。
すなわち、前記公開特許公報に開示のプラネタ
リー式成膜装置の１実施例を表わす第７図および
第８図において、符号１は、真空蒸着装置におけ
る蒸発源或いはスパツタリング装置におけるター
ゲツトのような粒子源を示す。符号２で示される
環状部材は、粒子源１を通る垂直軸線を中心とし
て回転（公転）するように配置され、この環状部
材２には、取付腕３を介して基体ホルダ組立体４
が取付けられる。図示の実施例では、３個の基体
ホルダ組体体４がほぼ等間隔で配列されている。
各基体ホルダ組立体４は、取付腕３に固定された
回転軸受５と、回転軸受５によつて回転可能に支
持される摩擦車６と、摩擦車６に固定取付けされ
た基体ホルダ７とからなる。摩擦車６は、粒子源
１を通る垂直軸線上に中心を有する円環状の摩擦
軌条８に常に摩擦接触する。環状部材２が粒子源
１を通る垂直軸線を中心として回転（公転）する
と、これと同時に、摩擦車６は摩擦軌条８との摩
擦接触によつて転動する。従つて、摩擦車６に固
定されている基体ホルダ７は、環状部材２と共に
前記垂直軸線を中心として公転しながら、それ自
身の自転軸線を中心として自転する。基体ホルダ
７の表面（第８図で右側の面）には、粒子源１か
ら飛来する粒子を沈積させて被膜として付着させ
るべき基体（図示なし）が取付けられる。
リー式成膜装置の１実施例を表わす第７図および
第８図において、符号１は、真空蒸着装置におけ
る蒸発源或いはスパツタリング装置におけるター
ゲツトのような粒子源を示す。符号２で示される
環状部材は、粒子源１を通る垂直軸線を中心とし
て回転（公転）するように配置され、この環状部
材２には、取付腕３を介して基体ホルダ組立体４
が取付けられる。図示の実施例では、３個の基体
ホルダ組体体４がほぼ等間隔で配列されている。
各基体ホルダ組立体４は、取付腕３に固定された
回転軸受５と、回転軸受５によつて回転可能に支
持される摩擦車６と、摩擦車６に固定取付けされ
た基体ホルダ７とからなる。摩擦車６は、粒子源
１を通る垂直軸線上に中心を有する円環状の摩擦
軌条８に常に摩擦接触する。環状部材２が粒子源
１を通る垂直軸線を中心として回転（公転）する
と、これと同時に、摩擦車６は摩擦軌条８との摩
擦接触によつて転動する。従つて、摩擦車６に固
定されている基体ホルダ７は、環状部材２と共に
前記垂直軸線を中心として公転しながら、それ自
身の自転軸線を中心として自転する。基体ホルダ
７の表面（第８図で右側の面）には、粒子源１か
ら飛来する粒子を沈積させて被膜として付着させ
るべき基体（図示なし）が取付けられる。
かかるプラネタリー式成膜装置は、さらに、基
体ホルダ７の表面に対向して配置される公転型膜
厚修正板９を有し、これは、環状部材２（また
は、これと共に公転するけれども、自転はしない
部材、例えば取付腕３若しくは回転軸受５）に着
脱自在に取付けられた支持腕１０に固定される。
よつて、環状部材２が回転（公転）するときに、
公転型膜厚修正板９はこれと共に公転する。
体ホルダ７の表面に対向して配置される公転型膜
厚修正板９を有し、これは、環状部材２（また
は、これと共に公転するけれども、自転はしない
部材、例えば取付腕３若しくは回転軸受５）に着
脱自在に取付けられた支持腕１０に固定される。
よつて、環状部材２が回転（公転）するときに、
公転型膜厚修正板９はこれと共に公転する。
次に、第９図および第１０図を参照して、公転
型膜厚修正板９の形状について説明する。第９図
は、膜厚修正なしで成膜装置を作動させたときの
平均膜厚分布を曲線Ｓで示し、これは一般に実験
で求められる。第９図において、Tiは基体ホルダ
７の自転中心Ｏ（基体ホルダの自転軸線が基体ホ
ルダの表面と交差する点）から半径方向に沿つて
距離Xiの位置における膜厚Ｔの値を示し、Tpは
平均膜厚分布曲線Ｓにおける（基体ホルダ７の表
面内での）膜厚Ｔの最小値を示す。また、第１０
図に示されるように、公転型膜厚修正液９の周縁
上でその原点Ｏ（基体ホルダの自転軸線が公転型
膜厚修正板の面と交差する点。一般に公転型膜厚
修正板は基体ホルダに接近配置されるので、公転
型膜厚修正板９の原点と基体ホルダ７の自転中心
とを、同一と見なし符号Ｏで表わす。）から等距
離Xiに位置する２つの点PiおよびQiにおいて、Pi
ＯとQiＯのはさむ角度をθi度とする。かかる前提
のもとに、公転型膜厚修正板９の形状は、 Qi／360＝Ti−Tp／Ti (1) が満されるように決定される。
型膜厚修正板９の形状について説明する。第９図
は、膜厚修正なしで成膜装置を作動させたときの
平均膜厚分布を曲線Ｓで示し、これは一般に実験
で求められる。第９図において、Tiは基体ホルダ
７の自転中心Ｏ（基体ホルダの自転軸線が基体ホ
ルダの表面と交差する点）から半径方向に沿つて
距離Xiの位置における膜厚Ｔの値を示し、Tpは
平均膜厚分布曲線Ｓにおける（基体ホルダ７の表
面内での）膜厚Ｔの最小値を示す。また、第１０
図に示されるように、公転型膜厚修正液９の周縁
上でその原点Ｏ（基体ホルダの自転軸線が公転型
膜厚修正板の面と交差する点。一般に公転型膜厚
修正板は基体ホルダに接近配置されるので、公転
型膜厚修正板９の原点と基体ホルダ７の自転中心
とを、同一と見なし符号Ｏで表わす。）から等距
離Xiに位置する２つの点PiおよびQiにおいて、Pi
ＯとQiＯのはさむ角度をθi度とする。かかる前提
のもとに、公転型膜厚修正板９の形状は、 Qi／360＝Ti−Tp／Ti (1) が満されるように決定される。
上述した式(1)を満すように公転型膜厚修正板９
の形状が定められた場合には、基体ホルダ７が公
転型膜厚修正板９に対して１回転だけ自転する際
に、基体ホルダ７の表面上でその自転中心Ｏ（こ
れは前述したように公転型膜厚修正板９の原点と
一致すると見なすことができる）からXiの点で
は、膜厚が膜厚修正なしのときの値θi／360だけ
低減することは明らかであるから、式(1)によれ
ば、膜厚修正なしのときにTiであつた膜厚ＴがTi
×（Ti−Tp）／Tiだけ低減してTpになる。かくし
て、基体ホルダ７の全表面に渉つて膜厚がTpに
なるような膜厚修正が、公転型膜厚修正板９によ
つて達成される。
の形状が定められた場合には、基体ホルダ７が公
転型膜厚修正板９に対して１回転だけ自転する際
に、基体ホルダ７の表面上でその自転中心Ｏ（こ
れは前述したように公転型膜厚修正板９の原点と
一致すると見なすことができる）からXiの点で
は、膜厚が膜厚修正なしのときの値θi／360だけ
低減することは明らかであるから、式(1)によれ
ば、膜厚修正なしのときにTiであつた膜厚ＴがTi
×（Ti−Tp）／Tiだけ低減してTpになる。かくし
て、基体ホルダ７の全表面に渉つて膜厚がTpに
なるような膜厚修正が、公転型膜厚修正板９によ
つて達成される。
実際には、膜厚分布の指向性が大きい場合など
には、公転型膜厚修正板９が第１１図に示すよう
に多くの（図示の例では３つの）ブレード９ａ，
９ｂおよび９ｃからなるプロペラ型に分割され
る。これらブレードは原点（基体ホルダの自転中
心）の近くの中心部１１において互に連結され
る。なお、第１１図に図示される公転型膜厚修正
板９において、原点を中心とする半径Xiの円に沿
つた弧長PaiQai，PbiQbiおよびPciQciの和は第１０
図におけるPiQiに一致する。
には、公転型膜厚修正板９が第１１図に示すよう
に多くの（図示の例では３つの）ブレード９ａ，
９ｂおよび９ｃからなるプロペラ型に分割され
る。これらブレードは原点（基体ホルダの自転中
心）の近くの中心部１１において互に連結され
る。なお、第１１図に図示される公転型膜厚修正
板９において、原点を中心とする半径Xiの円に沿
つた弧長PaiQai，PbiQbiおよびPciQciの和は第１０
図におけるPiQiに一致する。
「発明が解決しようとする問題点」
上述したような公転型膜厚修正板９を有する前
記公開特許公報に開示のプラネタリー式成膜装置
は、それ以前の固転型膜厚修正板を備えたものよ
りも多くの点ですぐれているけれども、基板形状
に規制が大きい。第１０図に図示されたような公
転型膜厚修正板９を採用した場合には、特に基体
ホルダ７が大寸のときに、この公転型膜厚修正板
９を自転中心Ｏの付近まで広げるとその確実な支
持が困難になる。従つて、かかる場合には、自転
中心Ｏの近くでは膜厚修正が達成できない。ま
た、第１１図に示されているような公転型膜厚修
正板９を採用した場合には、基体ホルダの自転中
心の近くに中心軸１１が存するため、この個所で
は成膜が達成されず、膜厚がゼロになつてしま
う。
記公開特許公報に開示のプラネタリー式成膜装置
は、それ以前の固転型膜厚修正板を備えたものよ
りも多くの点ですぐれているけれども、基板形状
に規制が大きい。第１０図に図示されたような公
転型膜厚修正板９を採用した場合には、特に基体
ホルダ７が大寸のときに、この公転型膜厚修正板
９を自転中心Ｏの付近まで広げるとその確実な支
持が困難になる。従つて、かかる場合には、自転
中心Ｏの近くでは膜厚修正が達成できない。ま
た、第１１図に示されているような公転型膜厚修
正板９を採用した場合には、基体ホルダの自転中
心の近くに中心軸１１が存するため、この個所で
は成膜が達成されず、膜厚がゼロになつてしま
う。
よつて、この発明は、前記公開特許公報に開示
のプラネタリー式成膜装置の上述したような欠点
すなわち問題点を除去することを目的とする。
のプラネタリー式成膜装置の上述したような欠点
すなわち問題点を除去することを目的とする。
「問題点を解決するための手段」
上述した欠点を除去するため、すなわち問題点
を解決するため、この発明によれば、基体ホルダ
の自転中心の近くまで達しない公転型膜厚修正板
が使用され、さらに固定型膜厚修正板が前記自転
中心の公転軌道の近くに定置される。
を解決するため、この発明によれば、基体ホルダ
の自転中心の近くまで達しない公転型膜厚修正板
が使用され、さらに固定型膜厚修正板が前記自転
中心の公転軌道の近くに定置される。
「作用」
この発明によれば、基体ホルダの自転中心から
離れているところでは、公転型膜厚修正板によつ
て前記公開特許公報に開示のものと同様にして膜
厚修正が達成され、また基体ホルダの自転中心の
近くでは、基体ホルダの自転による効果が実際上
無視できるから、自転中心の公転軌道の近くに固
定型膜厚修正板を定置させるだけで、充分な膜厚
修正が達成できる。かくして、公転型膜厚修正板
を自転中心まで広げることなしに、大寸の基体ホ
ルダであつても実質上その全表面に渉つて膜厚を
修正された成膜が遂行できる。
離れているところでは、公転型膜厚修正板によつ
て前記公開特許公報に開示のものと同様にして膜
厚修正が達成され、また基体ホルダの自転中心の
近くでは、基体ホルダの自転による効果が実際上
無視できるから、自転中心の公転軌道の近くに固
定型膜厚修正板を定置させるだけで、充分な膜厚
修正が達成できる。かくして、公転型膜厚修正板
を自転中心まで広げることなしに、大寸の基体ホ
ルダであつても実質上その全表面に渉つて膜厚を
修正された成膜が遂行できる。
「実施例」
以下において、第１図から第６図を参照したが
ら、この発明の実施例について説明する。
ら、この発明の実施例について説明する。
この発明の実施例は、公転型膜厚修正板の形状
が第７図から第１１図を参照して前述した従来の
ものと異なつているという点並びにこの従来のも
のには包含されていなかつた固定型膜厚修正板が
包含されているという点を除き、第７図から第１
１図に図示の前記公開特許公報に開示されたプラ
ネタリー式成膜装置と同一に構成できるので、こ
の同一に構成できる点については「従来の技術」
見出しのもとに説明した事項をそのまま援用し、
ここでは説明を省略しまたは簡略にする。
が第７図から第１１図を参照して前述した従来の
ものと異なつているという点並びにこの従来のも
のには包含されていなかつた固定型膜厚修正板が
包含されているという点を除き、第７図から第１
１図に図示の前記公開特許公報に開示されたプラ
ネタリー式成膜装置と同一に構成できるので、こ
の同一に構成できる点については「従来の技術」
見出しのもとに説明した事項をそのまま援用し、
ここでは説明を省略しまたは簡略にする。
この発明によれば、第１図および第２図に示す
ように、環状部材２（または、これと共に公転す
るけれども自転はしない部材、例えば取付腕３若
しくは回転軸受５）に着脱自在に取付けられた支
持腕１０に固定されかつ基体ホルダ７の表面に対
向するように配置される公転型膜厚修正板９は、
基体ホルダ７の自転中心の近くまで達しないよう
な形状を有する。換言すれば、自転中心の近くで
切り欠かれている。この発明による膜厚修正装置
は、公転型膜厚修正板９以外に固定型膜厚修正板
１２を有し、これは基体ホルダ７の自転中心の公
転軌道１３の近くに位置し、例えば成膜装置のケ
ーシング（図示なし）などに支持部材１４によつ
て取付けられて定置される。
ように、環状部材２（または、これと共に公転す
るけれども自転はしない部材、例えば取付腕３若
しくは回転軸受５）に着脱自在に取付けられた支
持腕１０に固定されかつ基体ホルダ７の表面に対
向するように配置される公転型膜厚修正板９は、
基体ホルダ７の自転中心の近くまで達しないよう
な形状を有する。換言すれば、自転中心の近くで
切り欠かれている。この発明による膜厚修正装置
は、公転型膜厚修正板９以外に固定型膜厚修正板
１２を有し、これは基体ホルダ７の自転中心の公
転軌道１３の近くに位置し、例えば成膜装置のケ
ーシング（図示なし）などに支持部材１４によつ
て取付けられて定置される。
公転型膜厚修正板９は、第３図に示すように、
第１０図図示の形状において基体ホルダ７の自転
中心（この公転型膜厚修正板の原点）Ｏを中心と
する直径φの円の部分を切欠いた形状を有する。
このような公転型膜厚修正板によれば、第３図に
示すように、膜厚修正なしのときに曲線Ｓ（第９
図をも参照）で示されるような膜厚分布であつた
ものが、ｘ＞φ／２（ｘは自転中心Ｏからの距離）
では式(1)に関連して説明したような修正を受けて
一定の膜厚Tpになり、ｘ＜φ／２では全く修正
されずに膜厚分布Ｓのままで残り、かくして第４
図にＲで示されるような膜厚分布が得られる。
第１０図図示の形状において基体ホルダ７の自転
中心（この公転型膜厚修正板の原点）Ｏを中心と
する直径φの円の部分を切欠いた形状を有する。
このような公転型膜厚修正板によれば、第３図に
示すように、膜厚修正なしのときに曲線Ｓ（第９
図をも参照）で示されるような膜厚分布であつた
ものが、ｘ＞φ／２（ｘは自転中心Ｏからの距離）
では式(1)に関連して説明したような修正を受けて
一定の膜厚Tpになり、ｘ＜φ／２では全く修正
されずに膜厚分布Ｓのままで残り、かくして第４
図にＲで示されるような膜厚分布が得られる。
固定型膜厚修正板１２は、公転型膜厚修正板９
では修正されなかつたｘ＜φ／２の部分の修正を
なすためのものであつて、その際に注目すべき点
は、固定型膜厚修正板１２で修正すべき中域ｘ＜
φ／２が自転中心Ｏの近くに限定され、従つて自
転による膜厚への影響が無視でき、故に公転する
公転型膜厚修正板９の代りに定置の膜厚修正板１
２を採用しても修正効果に実質上変化が見られな
いということにある。
では修正されなかつたｘ＜φ／２の部分の修正を
なすためのものであつて、その際に注目すべき点
は、固定型膜厚修正板１２で修正すべき中域ｘ＜
φ／２が自転中心Ｏの近くに限定され、従つて自
転による膜厚への影響が無視でき、故に公転する
公転型膜厚修正板９の代りに定置の膜厚修正板１
２を採用しても修正効果に実質上変化が見られな
いということにある。
固定型膜厚修正板１２は、一般に長方形の形状
を有し、ｘ＜φ／２の区域を修正できるようにす
るため、第２図に示されるように、前述した切り
欠き円の直径φに等しい高さを有し、公転軌道１
３の上方φ／２から下方φ／２まで上下に広がる
ように配置される。固定型膜厚修正板１２は、さ
らに、通常は公転軌道に沿つてわん曲配置され、
その長さをｌ、これを公転軌道１３の中心Ｐから
見た角度をθ〓度、公転軌道１３の半径をｒとした
ときに、ｌ従つてθ〓は次の式(2)を満すように選択
される。
を有し、ｘ＜φ／２の区域を修正できるようにす
るため、第２図に示されるように、前述した切り
欠き円の直径φに等しい高さを有し、公転軌道１
３の上方φ／２から下方φ／２まで上下に広がる
ように配置される。固定型膜厚修正板１２は、さ
らに、通常は公転軌道に沿つてわん曲配置され、
その長さをｌ、これを公転軌道１３の中心Ｐから
見た角度をθ〓度、公転軌道１３の半径をｒとした
ときに、ｌ従つてθ〓は次の式(2)を満すように選択
される。
ｌ／2πr＝θ〓／360＝T′i−Tp／T′i (2)
ただし、T′iは、第４図に示されるように、X′i
がＯとφ／２の間のときＳ曲線上での膜厚Ｔの任
意の値をそれぞれ表わす。このようにすれば、基
体ホルダ７が公転軌道に沿つて１公転する間にｘ
＜φ／２の範囲で膜厚が修正なしのときの値の
θ〓／360に低減することは明らかであるから、修
正なしのときにほぼT′iであつた膜厚が固定膜厚
修正板１２によつて低減して実質上Tpになるこ
とが判る。
がＯとφ／２の間のときＳ曲線上での膜厚Ｔの任
意の値をそれぞれ表わす。このようにすれば、基
体ホルダ７が公転軌道に沿つて１公転する間にｘ
＜φ／２の範囲で膜厚が修正なしのときの値の
θ〓／360に低減することは明らかであるから、修
正なしのときにほぼT′iであつた膜厚が固定膜厚
修正板１２によつて低減して実質上Tpになるこ
とが判る。
別の実施例として、次のようなものも考えられ
る。前記公開特許公報で開示されたものについて
前述した、第１０図の公転型膜厚修正板９を第１
１図に図示のようないくつかのブレードに分割し
た例と同様にして、第３図図示のこの発明による
公転型膜厚修正板９も、第３図に示されるような
いくつかの花びら型またはプロペラ型のブレード
９ａ，９ｂおよび９ｃに分割できる。ただし、こ
の場合には直径φの円の部分が切り欠かれている
から、実際には、各ブレード９ａ，９ｂおよび９
ｃが例えば第６図に示されるように細い連結部材
１５ａ，１５ｂによつて互に連結される。
る。前記公開特許公報で開示されたものについて
前述した、第１０図の公転型膜厚修正板９を第１
１図に図示のようないくつかのブレードに分割し
た例と同様にして、第３図図示のこの発明による
公転型膜厚修正板９も、第３図に示されるような
いくつかの花びら型またはプロペラ型のブレード
９ａ，９ｂおよび９ｃに分割できる。ただし、こ
の場合には直径φの円の部分が切り欠かれている
から、実際には、各ブレード９ａ，９ｂおよび９
ｃが例えば第６図に示されるように細い連結部材
１５ａ，１５ｂによつて互に連結される。
「発明の効果」
かくして、上述したような公転型膜厚修正板９
および固定型膜厚修正板１２を併用すれば、ｘが
φ／２より大の区域でもこれより小の区域でも膜
厚が実質上Tpになるような膜厚修正が達成でき
る。
および固定型膜厚修正板１２を併用すれば、ｘが
φ／２より大の区域でもこれより小の区域でも膜
厚が実質上Tpになるような膜厚修正が達成でき
る。
第１図はこの発明によるプラネタリー式成膜装
置における膜厚修正装置の実施例を一部断面で部
分的に表わす図、第２図は第１図に示される要素
を簡略に示す図、第３図はこの発明の実施例にお
ける公転型膜厚修正板の１例を示す図、第４図は
第３図の公転型膜厚修正板を使用したときの膜厚
分布を示す図、第５図は第３図の変型を示す図、
第６図は第５図の公転型膜厚修正板の実際の形を
示す図、第７図は従来のプラネタリー式成膜装置
の概略を示す斜視図、第８図は第７図の１部を拡
大して示す断面図、第９図は膜厚修正なしの平均
膜厚分布を示す図、第１０図および第１１図は従
来の装置における公転型膜厚修正板の例をそれぞ
れ示す図である。 図面において、７は基体ホルダ、９は公転型膜
厚修正板、１２は固定型膜厚修正板、１３は自転
中心の公転軌道、Ｏは自転中心を示す。
置における膜厚修正装置の実施例を一部断面で部
分的に表わす図、第２図は第１図に示される要素
を簡略に示す図、第３図はこの発明の実施例にお
ける公転型膜厚修正板の１例を示す図、第４図は
第３図の公転型膜厚修正板を使用したときの膜厚
分布を示す図、第５図は第３図の変型を示す図、
第６図は第５図の公転型膜厚修正板の実際の形を
示す図、第７図は従来のプラネタリー式成膜装置
の概略を示す斜視図、第８図は第７図の１部を拡
大して示す断面図、第９図は膜厚修正なしの平均
膜厚分布を示す図、第１０図および第１１図は従
来の装置における公転型膜厚修正板の例をそれぞ
れ示す図である。 図面において、７は基体ホルダ、９は公転型膜
厚修正板、１２は固定型膜厚修正板、１３は自転
中心の公転軌道、Ｏは自転中心を示す。
Claims (1)
- １ 自公転するように配置された少くとも１つの
基体ホルダと、基体ホルダに対向してこれと共に
公転するように配置された公転型膜厚修正板とを
有するプラネタリー式成膜装置において、基体ホ
ルダの自転中心の近くまで達しない公転型膜厚修
正板を使用し、前記自転中心の公転軌道の近くに
固定型膜厚修正板を定置させたことを特徴とする
膜厚修正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7514784A JPH0239588B2 (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Puranetariishikiseimakusochiniokerumakuatsushuseisochi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7514784A JPH0239588B2 (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Puranetariishikiseimakusochiniokerumakuatsushuseisochi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60218470A JPS60218470A (ja) | 1985-11-01 |
| JPH0239588B2 true JPH0239588B2 (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=13567797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7514784A Expired - Lifetime JPH0239588B2 (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Puranetariishikiseimakusochiniokerumakuatsushuseisochi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0239588B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2783001B1 (fr) * | 1998-09-04 | 2000-11-24 | Essilor Int | Procede pour le traitement sous vide d'un quelconque substrat courbe, notamment un verre de lunettes, et cache propre a la mise en oeuvre d'un tel procede |
-
1984
- 1984-04-16 JP JP7514784A patent/JPH0239588B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60218470A (ja) | 1985-11-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |