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JPH0233848A - Secondary ion mass spectrometer - Google Patents

Secondary ion mass spectrometer

Info

Publication number
JPH0233848A
JPH0233848A JP63181904A JP18190488A JPH0233848A JP H0233848 A JPH0233848 A JP H0233848A JP 63181904 A JP63181904 A JP 63181904A JP 18190488 A JP18190488 A JP 18190488A JP H0233848 A JPH0233848 A JP H0233848A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion beam
ion
refractor
sample
mass spectrometer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63181904A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyasu Shichi
広康 志知
Sadao Nomura
野村 節生
Eisuke Mitani
三谷 英介
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63181904A priority Critical patent/JPH0233848A/en
Publication of JPH0233848A publication Critical patent/JPH0233848A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は二次イオン買電分析装置に係わり、特に試料の
微小部を精度よく分析できる二次イオン質量分析装置に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a secondary ion power purchase analyzer, and more particularly to a secondary ion mass spectrometer that can accurately analyze minute parts of a sample.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の二次イオン質量分析装置については、ザヒタチ 
サイエンティフィック インスツルメント ニュース 
27 (1984)第2348頁から第2354頁(T
HE HITACHI SCTENTIFICINST
RUMENT NEWS 27 (1984) PP2
348〜2354) L:、おいて論じられている。従
来の装置の動作について。
For conventional secondary ion mass spectrometers, see Zahitachi.
Scientific Instrument News
27 (1984) pp. 2348-2354 (T
HE HITACHI SCTENTIFICINST
RUMENT NEWS 27 (1984) PP2
348-2354) L:, discussed in . Regarding the operation of conventional equipment.

第2図をもちいて説明する。イオン源」−で生成したイ
オンを、イオン加速tf!1g17によりイオン源1に
高電圧を印加して、引き出し電極2との間に形成される
電界によって引き出して加速する。このようにして加速
した一次イオンビーム15を、イオンビーム屈折器6で
その経路を、例えば5゜屈折した後、レンズ電源21に
よって適当な電圧を印加した二組の静電レンズ8により
、試料10の表面に収束させる。試料10から放出され
た二次イオン16を、質量分離器11で質量分離する。
This will be explained using FIG. The ions generated by the ion source are accelerated by tf! A high voltage is applied to the ion source 1 by 1g17, and the ions are extracted and accelerated by an electric field formed between the ion source 1 and the extraction electrode 2. After the path of the primary ion beam 15 accelerated in this way is refracted by, for example, 5 degrees by the ion beam refractor 6, the sample 10 is converge on the surface of Secondary ions 16 emitted from the sample 10 are subjected to mass separation by a mass separator 11 .

以上の動作により試料10の表面の元素分析をすること
ができる。また偏向電pj49に偏向電源22より適当
な走査信号電圧を与えることにより、次イオンビーム1
5を試料上で走査させることができ、質量分離器11で
検出した二次イオン16の信号を輝度変調信号として、
CRT13に与えると、CRT画面上に二次イオン像を
得ることもできる。また一次イオンビーム14を同様に
試料上で走査させ、同時に質量分離された二次イオン強
度をモニタしておくと、スパッタ経過時間を試料10の
表面からの深さと置き換えることにより、深さ分析を高
精度で行うことができる。
The above operations allow elemental analysis of the surface of the sample 10. In addition, by applying an appropriate scanning signal voltage to the deflection voltage pj49 from the deflection power supply 22, the next ion beam 1
5 can be scanned on the sample, and the signal of the secondary ions 16 detected by the mass separator 11 is used as a brightness modulation signal.
When applied to the CRT 13, a secondary ion image can also be obtained on the CRT screen. Furthermore, if the primary ion beam 14 is similarly scanned over the sample and the intensity of the mass-separated secondary ions is monitored at the same time, depth analysis can be performed by replacing the elapsed sputtering time with the depth from the surface of the sample 10. It can be done with high precision.

ここでイオンビーム屈折器6の役割について説明する。Here, the role of the ion beam refractor 6 will be explained.

加速された一次イオンが真空中の残留ガス分子に衝突す
ると、残留ガス分子との間でチャージトランスファが行
われる。イオンは、電荷を失い高速中性粒子15となっ
て飛行を続ける。この中性粒子15はイオンビーム屈折
器6がなければ直進し、静電レンズ8の収束作用を受け
ずに、試料10に到達してイオンビームより大きな領域
を照射することになる。このような中性粒子15が試料
10に照射されると、イオンの照射の場合と同様に試料
10をスパッタして、二次イオン16を放出させる。こ
のような場合、(1)微小点分析、線分析、面分析の精
度を悪くする。(2)深さ方向分析の深さ分解能を低下
させる。などのため測定精度に重大な影響を与える。こ
の問題を解決するために、第2図に示したようにイオン
ビーム屈折器6を設けており、一次イオンビーム14の
みを屈折させ試料に照射させ、一方、中性粒子15は屈
折を受けずに直進し、試料を照射することが無いように
する。これにより高精度測定が可能となっている。ただ
し、イオンビーム屈折器を設けた場合の試料照射イオン
ビームは、イオンビーム屈折器を設けない場合に比べて
微小に細束化できない。
When the accelerated primary ions collide with residual gas molecules in a vacuum, charge transfer occurs between the accelerated primary ions and the residual gas molecules. The ions lose their charge and become high-speed neutral particles 15 and continue flying. Without the ion beam refractor 6, the neutral particles 15 would travel straight, reach the sample 10 without being subjected to the focusing action of the electrostatic lens 8, and irradiate a larger area than the ion beam. When the sample 10 is irradiated with such neutral particles 15, the sample 10 is sputtered to emit secondary ions 16 in the same manner as in the case of ion irradiation. In such a case, (1) the accuracy of minute point analysis, line analysis, and surface analysis will be degraded; (2) Decrease the depth resolution of depth direction analysis. etc., which seriously affects measurement accuracy. To solve this problem, an ion beam refractor 6 is provided as shown in FIG. 2, and only the primary ion beam 14 is refracted and irradiated onto the sample, while the neutral particles 15 are not refracted. Go straight ahead to avoid irradiating the sample. This allows for highly accurate measurements. However, when an ion beam refractor is provided, the ion beam irradiating the sample cannot be made into a finer beam than when no ion beam refractor is provided.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術は、イオンビーム屈折器において発生する
色収差によるイオンビームの収束特性の劣化については
配慮されていなかった。つまり一般にイオン源から引き
出されるイオンビーム数十eVのエネルギの広がりを持
ち、またイオンビーム屈折器で屈折される度合いはイオ
ンのもつエネルギによって異なるため、イオンビームは
屈折方向に広がる。イオンビー11屈折器の色収差によ
り一度拡がったビームを細束化しようとしCも、イオン
ビーム屈折器を使わない場合のイオンビームはどに微小
には刊束化できない。したがって最微小部を点分析する
能力は劣化し、二次イオン像観察においてはその解像力
が落ちるという問題があつた。しかしながら、前に述へ
たようにイオンビーム屈折器を使わない場合には、中性
粒子がさらに大きな領域を照射するという問題がある。
The above-mentioned conventional technology does not take into account the deterioration of the convergence characteristics of the ion beam due to chromatic aberration occurring in the ion beam refractor. In other words, the ion beam extracted from the ion source generally has an energy spread of several tens of eV, and the degree of refraction by the ion beam refractor varies depending on the energy of the ions, so the ion beam spreads in the direction of refraction. Even if an attempt is made to condense the beam once expanded due to the chromatic aberration of the ion beam refractor, the ion beam cannot be condensed into a fine beam unless the ion beam refractor is used. Therefore, the ability to point-analyse the smallest part deteriorates, and there is a problem in that the resolution decreases in secondary ion image observation. However, as mentioned above, when an ion beam refractor is not used, there is a problem in that the neutral particles irradiate a larger area.

本発明の目的は、上記したイオンビーム屈折器を設けた
場合でも、イオンビームの収束特性の劣化がなく、高空
間分解能の点分析および高解像度の二次イオン像が得ら
れる二次イオン質量分析装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a secondary ion mass spectrometer capable of obtaining high spatial resolution point analysis and high resolution secondary ion images without deteriorating the focusing characteristics of the ion beam even when the above-mentioned ion beam refractor is provided. The goal is to provide equipment.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、本発明の二次イオン質量分
析装置では、イオンビーム屈折器の前段にイオンビーム
収束レンズを設け、且つ該イオンビーム屈折器近傍にビ
ーム収束状況をモニタする手段を設けた。
In order to achieve the above object, in the secondary ion mass spectrometer of the present invention, an ion beam converging lens is provided upstream of the ion beam refractor, and means for monitoring the beam convergence status is provided near the ion beam refractor. Ta.

〔作用〕 イオンビーム屈折器の前段に設けたイオンビーム収束レ
ンズにより、イオンビームをイオンビーム屈折器の実効
的屈折点に収束させると、色収差(ビームを構成する各
イオンのエネルギが違うことによる屈折効果の違い)が
発生しない条件でビ−ムを屈折させることができる。こ
れを第3図および第4図を用いて説明する。第3図およ
び第4図において6はイオンビーム屈折器で、この場合
2枚の平板から成る静電偏向器より成る。第3図では個
々が持つエネルギが異なるイオンが異なる割合で屈折さ
れる軌跡A、B、Cを示している。
[Operation] When the ion beam is focused on the effective refraction point of the ion beam refractor by the ion beam converging lens installed in the front stage of the ion beam refractor, chromatic aberration (refraction caused by the difference in energy of each ion making up the beam) It is possible to refract the beam under conditions where no difference in effect occurs. This will be explained using FIGS. 3 and 4. In FIGS. 3 and 4, reference numeral 6 denotes an ion beam refractor, which in this case consists of an electrostatic deflector consisting of two flat plates. FIG. 3 shows trajectories A, B, and C in which ions having different energies are refracted at different rates.

しかし同図に示したように、もし屈折器に入射するイオ
ン線が実効的屈折支点Xをねらって入ってくると、屈折
された後の個々のイオンは、エネルギが違っても、3本
共実効的屈折支点Xから発射するように見える。したが
ってイオンビーム14を第4図のように、実効的屈折支
点Xに収束するように入射させると、屈折された後のイ
オンビームは全て実効的屈折支点Xから発射するように
見える。つまり屈折支点が新たな点源となり、エネルギ
のバラツキによってビームが広がる効果は打ち消されて
いる。この色収差消去条件にイオンビームを設定するた
めには、実効的屈折支点に収束することが必要で、監視
装置により収束状況をモニタしながらイオンビーム収束
レンズの焦点距離を変化させる。
However, as shown in the figure, if the ion beam entering the refractor is aimed at the effective refraction fulcrum It appears to be launched from the effective refraction fulcrum X. Therefore, when the ion beam 14 is made incident so as to be converged on the effective refraction fulcrum X as shown in FIG. 4, all of the ion beams after being refracted appear to be emitted from the effective refraction fulcrum X. In other words, the refraction fulcrum becomes a new point source, and the beam spreading effect due to energy variation is canceled out. In order to set the ion beam to this chromatic aberration elimination condition, it is necessary to converge the ion beam to an effective refraction fulcrum, and the focal length of the ion beam converging lens is changed while monitoring the convergence status with a monitoring device.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明の一実施例を第1図を用いて説明する。第1
図に示した装置では、第2図で示した従来装置に次の構
成要素を加えた。イオンビーム屈折器6の前段にイオン
ビーム収束レンズとして静電レンズ3、そのレンズ電源
18、偏向電極4、その偏向電源19、イオンビーム屈
折器6の入口にアーバチャ5、その斜め上方に二次電子
検出器7およびCRTl、2である。また本実施例では
、イオンビーム屈折器6は2枚の平板から成る静電偏向
器6より成る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. 1st
The device shown in the figure has the following components added to the conventional device shown in FIG. An electrostatic lens 3 is provided as an ion beam converging lens in the front stage of the ion beam refractor 6, its lens power source 18, deflection electrode 4, its deflection power source 19, an arbor 5 is provided at the entrance of the ion beam refractor 6, and a secondary electron is provided diagonally above the electrostatic lens 3. Detector 7 and CRT1,2. In this embodiment, the ion beam refractor 6 is composed of an electrostatic deflector 6 made up of two flat plates.

次に本実施例の動作について説明する。従来装置と同様
にしてイオン源1よりイオンを引き出し加速した後、偏
向電極4に偏向電源19より走査電圧信号を与え、一次
イオンビーム14を走査させる。ここでアパーチャ5よ
り放出される二次電子を二次電子検出器7により検出し
て、その信号を輝度変調信号としてCRT12人力する
と、アパーチャ5の二次電子像を得ることができる。こ
の二次電子像を観察しながら、レンズ電源8から静電レ
ンズ3に与える電圧をgaして一次イオンビーム14を
アパーチャ5上に収束させる。この後偏向電源4を切り
一次イオンビーム14の走査をやめる。すると一次イオ
ンビーム14はアパーチャ5の穴を通りぬけ、静電偏向
器6内に達する。
Next, the operation of this embodiment will be explained. After ions are extracted from the ion source 1 and accelerated in the same manner as in the conventional device, a scanning voltage signal is applied to the deflection electrode 4 from the deflection power source 19 to cause the primary ion beam 14 to scan. Here, if the secondary electrons emitted from the aperture 5 are detected by the secondary electron detector 7 and the signal is manually input to the CRT 12 as a brightness modulation signal, a secondary electron image of the aperture 5 can be obtained. While observing this secondary electron image, the primary ion beam 14 is focused onto the aperture 5 by applying a voltage of ga to the electrostatic lens 3 from the lens power source 8 . After that, the deflection power source 4 is turned off and scanning of the primary ion beam 14 is stopped. The primary ion beam 14 then passes through the hole of the aperture 5 and reaches the electrostatic deflector 6.

本実施例のように平行平板で静電偏向器6を構成した場
合には、静電偏向器6の色収差を打ち消す条件は静電偏
向器6内の中心点にイオンビームを収束させることであ
る。そこで静電レンズ3に与える電圧を微調整する。こ
の調整は静電偏向器6の中心点とアパーチャ5の距離が
短いため、比較的容易に行える。また51整量は静電レ
ンズの焦点距離と電圧との関係からあらかじめ計算され
ている。この後静電レンズ8により一次イオンビーム1
4を試料上で収束させる操作およびその後の分析に関し
ては、従来装置と同様である。
When the electrostatic deflector 6 is configured with a parallel plate as in this embodiment, the condition for canceling the chromatic aberration of the electrostatic deflector 6 is to focus the ion beam on the center point within the electrostatic deflector 6. . Therefore, the voltage applied to the electrostatic lens 3 is finely adjusted. This adjustment can be performed relatively easily because the distance between the center point of the electrostatic deflector 6 and the aperture 5 is short. Further, the 51 integer is calculated in advance from the relationship between the focal length of the electrostatic lens and the voltage. After this, the primary ion beam 1 is
4 on the sample and the subsequent analysis are the same as in the conventional apparatus.

本実施例によれば、試料上での最小一次イオンビーム径
はイオンビーム屈折器6のない装置で得られるイオンビ
ーム径と同程度で、イオンビーム屈折器を使う装置に比
べると約1/2に小さかった。したがって、先に述べた
高速の中性粒子による問題がなく、さらに高空間分解能
で微小部の分析を行うことができた。また本実施例にお
いては、イオンビーム屈折器6の上部に位置を合わせた
アパーチャを設け、この二次電子像を静電レンズ3の収
束条件の調整に使ったため、焦点調整と同時にイオンビ
ーム屈折器6に入るイオンビームの光軸が確認できる利
点もあった。
According to this embodiment, the minimum primary ion beam diameter on the sample is approximately the same as the ion beam diameter obtained with an apparatus without an ion beam refractor 6, and approximately 1/2 of that obtained with an apparatus using an ion beam refractor. It was small. Therefore, there was no problem caused by high-speed neutral particles mentioned above, and it was possible to analyze minute parts with even higher spatial resolution. In addition, in this embodiment, an aperture aligned with the upper part of the ion beam refractor 6 was provided, and this secondary electron image was used to adjust the convergence conditions of the electrostatic lens 3. There was also the advantage that the optical axis of the ion beam entering 6 could be confirmed.

また静電偏向器の中心点にイオンビームを収束させるこ
とは、該中心点に焦点調整検定用試料を設け、それに対
して上記実施例と同様に二次電子像を観察することによ
っても行うことができた。
The ion beam can also be focused on the center point of the electrostatic deflector by providing a focus adjustment test sample at the center point and observing the secondary electron image on it in the same manner as in the above embodiment. was completed.

ただしこの場合には、イオンビーム屈折器の動作中は該
試料をイオンビーム屈折器外部にとりだす必要があり、
極めて煩雑であった。
However, in this case, it is necessary to take out the sample outside the ion beam refractor while the ion beam refractor is in operation.
It was extremely complicated.

なお本実施例においては、イオンビーム屈折器として平
行平板型静電偏向器を用いたが、球面型静電偏向器ある
いは磁場偏向器など一般の屈折器でも良い。また本実施
例においてはイオンビーム屈折器の上部にアパーチャを
設けたがもちろん下部に設けても良い。また本実施例に
おいてはアノ(−チヤの二次電子像を用いたが、二次イ
オン像、吸収電流像および透過イオン像を観察するよう
にしても良い。
In this embodiment, a parallel plate electrostatic deflector is used as the ion beam refractor, but a general refractor such as a spherical electrostatic deflector or a magnetic field deflector may be used. Further, in this embodiment, the aperture is provided at the top of the ion beam refractor, but it may of course be provided at the bottom. Further, in this embodiment, an anno(-thia) secondary electron image is used, but a secondary ion image, an absorbed current image, and a transmitted ion image may also be observed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、イオン源付近で発生する高速の中性粒
子を試料に照射することがなく、かつイオンビーム屈折
器の色収差を打ち消すことができ、一次イオンビームの
収束特性の劣化がないので、次のような効果がある。
According to the present invention, the sample is not irradiated with high-speed neutral particles generated near the ion source, the chromatic aberration of the ion beam refractor can be canceled, and the convergence characteristics of the primary ion beam do not deteriorate. , has the following effects.

(1)高空間分解能の点分析および高解像度の二次イオ
ン像が得られる。
(1) High spatial resolution point analysis and high resolution secondary ion images can be obtained.

(2) *小点分析、線分析及び面分析において、高精
度の分析できる。
(2) *Highly accurate analysis is possible in small point analysis, line analysis, and area analysis.

(3)深さ分析において、高い深さ分解能の分析ができ
る。
(3) In depth analysis, analysis with high depth resolution is possible.

上記効果は、イオンビーム屈折器内での、イオンビーム
の収束状況をモニタできるような機構を設けたことによ
り、装置の操作性を高め且つイオンビーム屈折器の色収
差を打ち消す精度を高めたことにより得られた。
The above effects are achieved by providing a mechanism that can monitor the convergence status of the ion beam within the ion beam refractor, improving the operability of the device, and improving the accuracy of canceling out the chromatic aberration of the ion beam refractor. Obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示す全体構成図、第2図は
従来の装置の例を示す全体構成図、第3図はエネルギの
違ったイオンが屈折器に入射したときのイオンの軌跡を
示す図、第4図はイオンビームが屈折器の中心点に収束
するように入射したときのイオンビーム軌跡を示す図で
ある。 1・・・イオン源、2・・・引き出し電極、3・・・静
電レンズ、4・・・偏向電極、5・・・アパーチャ、6
・・・イオンビーム屈折器、7・・・二次電子検出器、
8・・・静電レンズ、9・・・偏向電極、10・・・試
料、11・・・質量分析器、12・・・CRT、13・
・・CRT、14・・・一次イオンビーム、15・・・
中性粒子、16・・・二次イオン、17・・・加速電源
、18・・・レンズ電源、19・・・偏向電源、20・
・・イオンビーム屈折器電源、21Z 1 阻 遁 2 目 遁 閃
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an overall configuration diagram showing an example of a conventional device, and FIG. 3 is an illustration of ions with different energies entering the refractor. FIG. 4 is a diagram showing the ion beam trajectory when the ion beam is incident so as to be converged on the center point of the refractor. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Ion source, 2... Extraction electrode, 3... Electrostatic lens, 4... Deflection electrode, 5... Aperture, 6
...Ion beam refractor, 7...Secondary electron detector,
8... Electrostatic lens, 9... Deflection electrode, 10... Sample, 11... Mass spectrometer, 12... CRT, 13...
...CRT, 14...Primary ion beam, 15...
Neutral particle, 16... Secondary ion, 17... Acceleration power source, 18... Lens power source, 19... Deflection power source, 20.
...Ion beam refractor power supply, 21Z 1. Distance 2. Flash

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一次イオンを発生するイオン源、発生した一次イオ
ンを微細なイオンビームに絞る収束レンズ系、それを偏
向するイオンビーム偏向系、イオンビームの照射を受け
る試料および試料より放出される二次イオンを質量分析
する質量分析器から成る二次イオン質量分析装置におい
て、イオン源と試料の間にイオンビームを屈折するイオ
ンビーム屈折器と、該イオンビーム屈折器の前段にイオ
ンビーム収束レンズを設け、この収束レンズの動作条件
を、該イオンビーム屈折器の色収差を打ち消すようにす
るため、該イオンビーム屈折器内でのイオンビームの収
束状況をモニタする手段を有することを特徴とする二次
イオン質量分析装置。 2、特許請求の範囲第1項において、上記イオンビーム
のモニタ手段は、上記イオンビーム屈折器の前段に配置
され、イオンビームを二次元的に走査するイオンビーム
走査偏向器と、イオンビーム屈折器の上面もしくは下面
に設けられた孔の開いた試料板と、イオンビームを走査
した時、該試料板の吸収電流像もしくは透過イオン像も
しくは二次粒子像を観察する観察手段を有して構成され
たことを特徴とする二次イオン質量分析装置。
[Claims] 1. An ion source that generates primary ions, a convergent lens system that focuses the generated primary ions into a fine ion beam, an ion beam deflection system that deflects the ion beam, a sample that is irradiated with the ion beam, and a sample that is irradiated with the ion beam. In a secondary ion mass spectrometer that consists of a mass spectrometer that performs mass analysis of emitted secondary ions, there is an ion beam refractor that refracts the ion beam between the ion source and the sample, and an ion beam refractor that refracts the ion beam between the ion source and the sample. A beam converging lens is provided, and the method includes means for monitoring the convergence status of the ion beam within the ion beam refractor in order to adjust the operating conditions of the convergent lens to cancel out chromatic aberration of the ion beam refractor. Secondary ion mass spectrometer. 2. In claim 1, the ion beam monitoring means includes an ion beam scanning deflector that is disposed upstream of the ion beam refractor and scans the ion beam two-dimensionally, and an ion beam refractor. It consists of a sample plate with holes provided on the top or bottom surface, and an observation means for observing an absorbed current image, transmitted ion image, or secondary particle image of the sample plate when the ion beam is scanned. A secondary ion mass spectrometer characterized by:
JP63181904A 1988-07-22 1988-07-22 Secondary ion mass spectrometer Pending JPH0233848A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63181904A JPH0233848A (en) 1988-07-22 1988-07-22 Secondary ion mass spectrometer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63181904A JPH0233848A (en) 1988-07-22 1988-07-22 Secondary ion mass spectrometer

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JPH0233848A true JPH0233848A (en) 1990-02-05

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ID=16108921

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JP63181904A Pending JPH0233848A (en) 1988-07-22 1988-07-22 Secondary ion mass spectrometer

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Country Link
JP (1) JPH0233848A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008511115A (en) * 2004-08-24 2008-04-10 セラ セミコンダクター エンジニアリング ラボラトリーズ リミテッド Directed multi-deflection ion beam milling of workpieces and their determination and control
US10287933B2 (en) 2013-12-27 2019-05-14 Nippon Piston Ring Co., Ltd. Assembly of internal combustion engine valve and valve seat

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JP2008511115A (en) * 2004-08-24 2008-04-10 セラ セミコンダクター エンジニアリング ラボラトリーズ リミテッド Directed multi-deflection ion beam milling of workpieces and their determination and control
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