JPH0232059A - インダゾール誘導体 - Google Patents
インダゾール誘導体Info
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- JPH0232059A JPH0232059A JP17876288A JP17876288A JPH0232059A JP H0232059 A JPH0232059 A JP H0232059A JP 17876288 A JP17876288 A JP 17876288A JP 17876288 A JP17876288 A JP 17876288A JP H0232059 A JPH0232059 A JP H0232059A
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- JP
- Japan
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- formula
- compound
- group
- lower alkyl
- hydrogen
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- Pending
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、抗細胞活性を有する新規インダゾール誘導体
に関する。
に関する。
従来の技術
インダゾールの3位がビニレン(−[H=CH−)を介
してカルボキシル、アセチル、ベンゾイル等である化合
物がKhim、 Geterosikl、 5oedi
n、、 7゜957(+978) Cケミカル・アブ
ストラクツ(c、 A、 )89゜163493q(1
978) 〕に開示されている。
してカルボキシル、アセチル、ベンゾイル等である化合
物がKhim、 Geterosikl、 5oedi
n、、 7゜957(+978) Cケミカル・アブ
ストラクツ(c、 A、 )89゜163493q(1
978) 〕に開示されている。
発明が解決しようとする課題
本発明は、本発明にかかわる化合物が抗細胞活性を有す
るという新しい知見のもとに、新規インダゾール誘導体
を提供することにある。
るという新しい知見のもとに、新規インダゾール誘導体
を提供することにある。
課題を解決するための手段
本発明は式(1)
(式中、Rは、水素、置換もしくは非置換の低級アルキ
ル、−(C)+2)。NR’R’ (式中、R1およ
びR2は、同一または異なって水素、置換もしくは非置
換の低級アルキル、低級アルカノイルおよび隣接する窒
素原子と共に複素環を形成する基からなる群から選ばれ
、nは1〜6の整数を表わす)、−(CH2)、、N(
CH2)、NR’R’ C式中、R3は、水素、低級
アルキルおよび低級アルカノイルからなる群から選ばれ
、mは1〜6の整数を表わし、R1、R2おおよびnは
前記と同義である)およびトリチルからなる群から選ば
れる基を表わし、 それぞれ同一または異なって、水素、ハロゲン、低級ア
ルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシル、ニトロ、ニ
トロソ、カルボキシル、低級アルコキシ力ルポニノb、
−NR1R” (式中、RIMおよびR2aは、前記R
’およびR2の定義と同義である)、0([:Hz)n
’NR”R2責式中、口2は前記nの定義と同義であり
、RIMおよびR2aは前記と同義である)およびQ’
、 02および03のオルト位の任意の2つが一同一ま
たは異なって水素、低級アルキルおよび一緒になって炭
素数4〜5のアルキレンからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる〕、ピリジルおよび および低級アルコキシルからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる基を表わし、 Xは水素、低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、低
級アルコキシル、ニトロ、ニトロソ、−NR1bR2b
(式中、Rlbおよび1t2bは前記R1およびR2の
定義と同義である)および−0(C1lz)n5NR1
bR2b(式中、nbは前記nの定義と同義であり、[
llbおよびR2bは前記と同義である)からなる群か
ら選ばれる基を表わす) で表されるインダゾール誘導体〔以下、化合物(1)と
いう。他の式番号の化合物についても同様である〕およ
びその薬理上許容される塩に関する。
ル、−(C)+2)。NR’R’ (式中、R1およ
びR2は、同一または異なって水素、置換もしくは非置
換の低級アルキル、低級アルカノイルおよび隣接する窒
素原子と共に複素環を形成する基からなる群から選ばれ
、nは1〜6の整数を表わす)、−(CH2)、、N(
CH2)、NR’R’ C式中、R3は、水素、低級
アルキルおよび低級アルカノイルからなる群から選ばれ
、mは1〜6の整数を表わし、R1、R2おおよびnは
前記と同義である)およびトリチルからなる群から選ば
れる基を表わし、 それぞれ同一または異なって、水素、ハロゲン、低級ア
ルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシル、ニトロ、ニ
トロソ、カルボキシル、低級アルコキシ力ルポニノb、
−NR1R” (式中、RIMおよびR2aは、前記R
’およびR2の定義と同義である)、0([:Hz)n
’NR”R2責式中、口2は前記nの定義と同義であり
、RIMおよびR2aは前記と同義である)およびQ’
、 02および03のオルト位の任意の2つが一同一ま
たは異なって水素、低級アルキルおよび一緒になって炭
素数4〜5のアルキレンからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる〕、ピリジルおよび および低級アルコキシルからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる基を表わし、 Xは水素、低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、低
級アルコキシル、ニトロ、ニトロソ、−NR1bR2b
(式中、Rlbおよび1t2bは前記R1およびR2の
定義と同義である)および−0(C1lz)n5NR1
bR2b(式中、nbは前記nの定義と同義であり、[
llbおよびR2bは前記と同義である)からなる群か
ら選ばれる基を表わす) で表されるインダゾール誘導体〔以下、化合物(1)と
いう。他の式番号の化合物についても同様である〕およ
びその薬理上許容される塩に関する。
式(I)の6基の定義における低級アルキルとは、炭素
数1〜6の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、1−プロピル、n−ブチ
ル、1−ブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチルお
よびヘキシル等を包含し、置換低級アルキルにおける置
換基とはヒドロキシルおよびハロゲンがあげられる。
数1〜6の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、1−プロピル、n−ブチ
ル、1−ブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチルお
よびヘキシル等を包含し、置換低級アルキルにおける置
換基とはヒドロキシルおよびハロゲンがあげられる。
低級アルカノイルは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状
のアルカノイル基、例えばホルミル、アセチル、n−プ
ロピオニル、l−プロピオニル、ローブチリル、1−ブ
チリル、t−ブチリル、n−ペンタノイル等およびトリ
フルオロアセチル等を包含する。
のアルカノイル基、例えばホルミル、アセチル、n−プ
ロピオニル、l−プロピオニル、ローブチリル、1−ブ
チリル、t−ブチリル、n−ペンタノイル等およびトリ
フルオロアセチル等を包含する。
低級アルコキシルおよび低級アルコキシカルボニルにお
けるアルコキシルは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状
の例えばメトキシ、エトキシ、n−ブロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、ブトキシ、S−ブトキシ、t
−ブトキシおよびn−へキシルオキシ等を包含する。
けるアルコキシルは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状
の例えばメトキシ、エトキシ、n−ブロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、ブトキシ、S−ブトキシ、t
−ブトキシおよびn−へキシルオキシ等を包含する。
また、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各
原子が包含され、隣接する窒素原子と共に形成される複
素環としては、5〜7員環の脂環式複素環、例えばピロ
リジン、ピペリジン、N置換もしくは非置族のピペラジ
ン、モルホリン、チオモルホリンおよびN−置換もしく
は非置換のホモピペラジン等が包含され、置換基として
は前記したと同義の低級アルキルまたは低級アルカノイ
ルがあげられる。
原子が包含され、隣接する窒素原子と共に形成される複
素環としては、5〜7員環の脂環式複素環、例えばピロ
リジン、ピペリジン、N置換もしくは非置族のピペラジ
ン、モルホリン、チオモルホリンおよびN−置換もしく
は非置換のホモピペラジン等が包含され、置換基として
は前記したと同義の低級アルキルまたは低級アルカノイ
ルがあげられる。
化合物(1)の薬理上許容される塩は、薬理上許容され
る酸付加塩が包含され、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩あるいはシュウ酸塩、酢
酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン
酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等のを機酸塩があげられる
。
る酸付加塩が包含され、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩あるいはシュウ酸塩、酢
酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン
酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等のを機酸塩があげられる
。
以下、化合物(1)の製造法を説明する。しかし、化合
物(1)の製造法はそれらに限定されるものではない。
物(1)の製造法はそれらに限定されるものではない。
化合物(1)において、Rが水素の化合物(■l)およ
び水素以外の基である化合物(1−2>は、次の反応工
程に従い製造することができる。
び水素以外の基である化合物(1−2>は、次の反応工
程に従い製造することができる。
(■
Cト■0
□
(i、H=CHΔr
(式中、R’は前記したRの定義で水素以外の基を表わ
し、11a1はハロゲンを、R4は低級アルキルまたは
ベンジルをそれぞれ表わし、八1、XおよびRは前記と
同義である) ここで、Halで表わされるハロゲンは塩素、臭素およ
びヨウ素が、R4で表わされる低級アルキルはメチル、
エチルおよびn−プロピル等がそれぞれ例示される。
し、11a1はハロゲンを、R4は低級アルキルまたは
ベンジルをそれぞれ表わし、八1、XおよびRは前記と
同義である) ここで、Halで表わされるハロゲンは塩素、臭素およ
びヨウ素が、R4で表わされる低級アルキルはメチル、
エチルおよびn−プロピル等がそれぞれ例示される。
化合物(II−2)は、公知の方法〔例えば、J、 八
m、 Chem、 Soc、、74. 2009(
1952) ; C,八、、 87゜18451
0 (1977)等〕あるいはそれに準じて合成される
化合物(II−1)と1〜5当量の化合物(I)もしく
はその酸付加塩(前記したと同様の塩が例示される;以
下の記載においても同様である)とを当量〜過剰の塩基
の存在下、不活性な溶媒中、通常室温〜70℃で、1−
10時間反応することにより得ることができる。適当な
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化銀等の無機塩基、あ
るいはソジウムメトキシド、ソジウムエトキシド、ポタ
シウムt−ブトキシド、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基が、適当な不活性溶媒としては、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、ジクロルメタンあるいはメタノール
、エタノール、l−プロパツール、t−ブタノール等の
低級アルコール類がそれぞれ用いられる(工程1)。
m、 Chem、 Soc、、74. 2009(
1952) ; C,八、、 87゜18451
0 (1977)等〕あるいはそれに準じて合成される
化合物(II−1)と1〜5当量の化合物(I)もしく
はその酸付加塩(前記したと同様の塩が例示される;以
下の記載においても同様である)とを当量〜過剰の塩基
の存在下、不活性な溶媒中、通常室温〜70℃で、1−
10時間反応することにより得ることができる。適当な
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化銀等の無機塩基、あ
るいはソジウムメトキシド、ソジウムエトキシド、ポタ
シウムt−ブトキシド、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基が、適当な不活性溶媒としては、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、ジクロルメタンあるいはメタノール
、エタノール、l−プロパツール、t−ブタノール等の
低級アルコール類がそれぞれ用いられる(工程1)。
化合物(1−1)または(1−2)は、それぞれ対応す
る化合物(I[−1)または(II−2)から得ること
ができる。反応は、化合物(n−1)または(II−2
)と公知の方法〔例えば、J、 Org。
る化合物(I[−1)または(II−2)から得ること
ができる。反応は、化合物(n−1)または(II−2
)と公知の方法〔例えば、J、 Org。
Che+n、、26.5243(1961)等〕あるい
はそれに準じて合成される化合物(■)1〜2当量とを
、化合物(TV)と当量の塩基の存在下、不活性な溶媒
中、通常冷却〜室温、好ましくは一40〜25℃で行い
、0.5〜lO時間で終了する。適当な塩基としては、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、ソジウトメトキシ
ド、ソジウムエトキシド、ボタシウム1−ブトキシド、
n−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド等が、適当な不活性溶媒としては、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、メタノール、エタノ
ール、1−プロパツール、t−ブタノール等がそれぞれ
使用される(工程2および3)。
はそれに準じて合成される化合物(■)1〜2当量とを
、化合物(TV)と当量の塩基の存在下、不活性な溶媒
中、通常冷却〜室温、好ましくは一40〜25℃で行い
、0.5〜lO時間で終了する。適当な塩基としては、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、ソジウトメトキシ
ド、ソジウムエトキシド、ボタシウム1−ブトキシド、
n−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド等が、適当な不活性溶媒としては、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、メタノール、エタノ
ール、1−プロパツール、t−ブタノール等がそれぞれ
使用される(工程2および3)。
また、化合物(1−2)は、化合物(I−1)と化合物
(III)より、工程1と同様の方法に準じて製造する
こともできる(工程4)。
(III)より、工程1と同様の方法に準じて製造する
こともできる(工程4)。
これらの製造方法により得られる化合物(Hにおいて、
定義した基が実施方法の条件下に変化するか、または方
法を実施するのに不適切な場合、有機化学で常用される
手段、例えば官能基の保護、脱保護〔例えば、Prot
ective Groups in OrganicS
ynthesis、 T、 Green著、John
Willey & 5onsInc、(1981))等
に付すことにより容易に実施することができる。
定義した基が実施方法の条件下に変化するか、または方
法を実施するのに不適切な場合、有機化学で常用される
手段、例えば官能基の保護、脱保護〔例えば、Prot
ective Groups in OrganicS
ynthesis、 T、 Green著、John
Willey & 5onsInc、(1981))等
に付すことにより容易に実施することができる。
また、ここに得られる化合物(1)の中には、これらを
合成中間体として、さらに新規な化合物(1)を得るこ
ともできる。
合成中間体として、さらに新規な化合物(1)を得るこ
ともできる。
例えば、式(1)の定義において、O’、 Q2および
03の中で少くとも1つく以下、総称してQということ
がある)および/またはXがアミノ(NL)である化合
物N a)は、対応する基がニトロである化合物(1b
)を還元することによっても得ることができる。
03の中で少くとも1つく以下、総称してQということ
がある)および/またはXがアミノ(NL)である化合
物N a)は、対応する基がニトロである化合物(1b
)を還元することによっても得ることができる。
反応は、化合物(I b)を低級アルコール中、5〜1
5%のパラジウム/炭素および4〜20当量のヒドラジ
ン水和物の存在下、室温〜90℃で通常1〜10時間で
終了する。溶媒として用いられる低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、n−プロパツール、1−
プロパツール、エチレングリコール等があげられる。
5%のパラジウム/炭素および4〜20当量のヒドラジ
ン水和物の存在下、室温〜90℃で通常1〜10時間で
終了する。溶媒として用いられる低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、n−プロパツール、1−
プロパツール、エチレングリコール等があげられる。
また別の方法として化合物(I a)は、化合物N b
)を低級アルコール/塩酸中で、1〜3倍重量の鉄粉の
存在下に、室温〜90℃で5分〜2時間反応することに
よっても得ることができる。使用される塩酸は、2〜1
2規定で化合物(Ib)の4〜20倍量用いられる。低
級アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−
プロパツール、1−プロパツール等が使用できる。
)を低級アルコール/塩酸中で、1〜3倍重量の鉄粉の
存在下に、室温〜90℃で5分〜2時間反応することに
よっても得ることができる。使用される塩酸は、2〜1
2規定で化合物(Ib)の4〜20倍量用いられる。低
級アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−
プロパツール、1−プロパツール等が使用できる。
Qおよ[/4たl;!l(、−NHR”lバーN(R5
)2〔式中、R5は式(1)で定義した低級アルキルま
たは低級アルカノイルと同義である〕である化合物(I
c)は、対応するアミノ体(Ia)もしくはその酸付加
塩と1〜10当量の次式で示される化合物(V) R’−Hal (V) (式中、R5およびHatは前記と同義である)とを、
当量〜過剰の塩基の存在下、不活性溶媒中、0〜60℃
で通常1〜20時間反応することにより得ることもでき
る。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ト
リエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、酸化銀等が、不活性溶媒としては、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロ7ラン、
クロロホルム、ジクロルメタン等が用いられる。
)2〔式中、R5は式(1)で定義した低級アルキルま
たは低級アルカノイルと同義である〕である化合物(I
c)は、対応するアミノ体(Ia)もしくはその酸付加
塩と1〜10当量の次式で示される化合物(V) R’−Hal (V) (式中、R5およびHatは前記と同義である)とを、
当量〜過剰の塩基の存在下、不活性溶媒中、0〜60℃
で通常1〜20時間反応することにより得ることもでき
る。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ト
リエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、酸化銀等が、不活性溶媒としては、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロ7ラン、
クロロホルム、ジクロルメタン等が用いられる。
Qおよび/またはXが、 0(Cl12)nNR’R2
(式中、R’、 R’およびnは前記と同義である)で
ある化合物(Id)は、対応する基がヒドロキシルであ
る化合物(Ie)と1〜2当Mの次式で示される化合物
(VT)もしくはその酸付加塩 Hal ([:)lx)nNR’R’ (Vl)
(式中、R1、R2、Halおよびnは前記と同義であ
る)とを、当量〜過剰の塩基の存在下に不活性溶媒中、
室温〜70℃でO15〜10時間反応することにより得
ることもできる。塩基としては、水素化ナトリウム、n
−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、炭酸カリウム、炭酸すトリウ!、等が用いられ
、不活性溶媒志j5ては、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、テ)・うしドロフラン、ジク℃1ル
メタン、エーテル等が用いられる。
(式中、R’、 R’およびnは前記と同義である)で
ある化合物(Id)は、対応する基がヒドロキシルであ
る化合物(Ie)と1〜2当Mの次式で示される化合物
(VT)もしくはその酸付加塩 Hal ([:)lx)nNR’R’ (Vl)
(式中、R1、R2、Halおよびnは前記と同義であ
る)とを、当量〜過剰の塩基の存在下に不活性溶媒中、
室温〜70℃でO15〜10時間反応することにより得
ることもできる。塩基としては、水素化ナトリウム、n
−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、炭酸カリウム、炭酸すトリウ!、等が用いられ
、不活性溶媒志j5ては、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、テ)・うしドロフラン、ジク℃1ル
メタン、エーテル等が用いられる。
Qがカルボキンルである化合物(I f)は、対応する
基が低級アルコキシカルボニルである化合物(Ig)を
加水分解することによって得ることもできる。反応は、
化合物(Ig)を1〜10規定の水酸化すl□ IJウ
ノ、または水酸化カリウl、水溶液中、あるいはこれら
アルカリ水溶液とメタノールまたはエタノールとの混合
溶媒中、通常室温〜70℃で行なわれ、0.5〜lO時
間で終了ずろ。
基が低級アルコキシカルボニルである化合物(Ig)を
加水分解することによって得ることもできる。反応は、
化合物(Ig)を1〜10規定の水酸化すl□ IJウ
ノ、または水酸化カリウl、水溶液中、あるいはこれら
アルカリ水溶液とメタノールまたはエタノールとの混合
溶媒中、通常室温〜70℃で行なわれ、0.5〜lO時
間で終了ずろ。
上述1−だ製造法におりる中間体および目的化合物は、
有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、抽出、
乾怪、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付し
て単離精製することができる。
有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、抽出、
乾怪、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付し
て単離精製することができる。
また中間体においては、特に精製することなく次の反応
に供することも可能である。
に供することも可能である。
化合物(1)の塩を取得したいときは、化合物(+)が
塩の形で得られる場合にはそのまま精製すればよく、ま
た遊離の形で得ら才する場合には通常の方法により塩を
形成させればよい。
塩の形で得られる場合にはそのまま精製すればよく、ま
た遊離の形で得ら才する場合には通常の方法により塩を
形成させればよい。
また、化合物(1)およびその薬理」二許容される塩は
、水あるいは各種溶媒の付加物の形で存在することもあ
るが、これら伺加物も本発明に包含される。
、水あるいは各種溶媒の付加物の形で存在することもあ
るが、これら伺加物も本発明に包含される。
以上の製造法によって得られる化合物(I)においては
、ビニレン基(−F”H=[:H−)に関しY0体と2
体の幾何異性体が存在し、上記の製造法においては通常
それらの混合物を与える場合が多い。
、ビニレン基(−F”H=[:H−)に関しY0体と2
体の幾何異性体が存在し、上記の製造法においては通常
それらの混合物を与える場合が多い。
それらの混合物は、有機合成化学において通常行われる
方法、例えば、各種クロマトグラフィ再結晶等により分
離可能である場合もある。
方法、例えば、各種クロマトグラフィ再結晶等により分
離可能である場合もある。
なお本発明は、化合物(1)において、1″、記のE/
Zl性体に限らず、すべての可能な立体異性体およびそ
れらの混合物も包含される。
Zl性体に限らず、すべての可能な立体異性体およびそ
れらの混合物も包含される。
各製造法によって得られる化合物(+>の具体例を第1
表に示す。
表に示す。
第
表
CI−13
(CII3) 2NCIl□0112
(CL) 2NCLCII2
(CL) 2NCII□C112
トI
−く○汗OCH。
べo、7
ベ○、、、−CO,l:H。
1′9.>
(CI+3> 2NCI(、C1+。
(○、″N
(CI+、) 2N(:112CI+2I]
にCに−0CI+。
(CL)JCH,CH2
一:○゛辷N02
(CH3) 、NC11,CI+。
一′○ゝ−N口
\−−/
(C11,) 、NCII、CH2
(C113> 211CII、CH。
ト(
JC舛[1
\−)
0、 C1(。
イづ<o×c++。
\OCI+。
CR3
X0CH。
CI+。
(CsHs) 3C
DC1+3
OCI+。
ゝOCH。
’ QC)13
(ΣN
べ、Q、’+ OCII 3
ゝOCI+。
(C113) 2NCH2CH2
−CL
CH3
一2″○ン
一゛・。[:L
ゝOCR。
C)13
一の”;−NO3
(CL) 2NCII2CH2
(CII+> 2NCH2CI□
トI
(CII3) 2NCH2C11□
ゼCレーOH
CI(。
(C)13) JCH,CH。
イ0”;−o++
イ叶
べΩ/−OH
()io+2c++。
(CL) 、NC112cH。
(Il’ll、) 、N[l+21”+12CH。
(CI、l) 2MCII□[112
1■
1」
I(
■(
”OCH3
O
ト
1qン
ゝOCI+。
−て又−0C1liCIIJ (C113) zべ○>
−0CtlzCIItCIIaN (CH3) 2−〇
と0CI(−CtlJ (C1l−) 2イ0.−co
□11 +011 づン[1CLC)I、N (CH,) 2+11J 次に、化合物(1)の癌細胞に対する抗細胞活性につい
て試験例で示す。
−0CtlzCIItCIIaN (CH3) 2−〇
と0CI(−CtlJ (C1l−) 2イ0.−co
□11 +011 づン[1CLC)I、N (CH,) 2+11J 次に、化合物(1)の癌細胞に対する抗細胞活性につい
て試験例で示す。
試験例
(1) 1.11’:F 7細胞
96穴マイクロタイタープレー1・の各式に、RPMI
−IG40培地(Gibcn Sf製) 、10%牛脂
児血清、lojAg/mlインシュリンおよび10−’
Mエストラジオールからなる培地(以下、培地A、!:
いう)で4.5 X 10’個/ m lに調製したM
CF 7細胞を0.1…1ずつ分注した。該プレートを
炭酸ガスインキュベータ内で37℃、20時間培養後、
これに培地へにより適宜希釈した検体(試験化合物)を
0.05mjずつ加え、炭酸ガスインキュベータ内で3
7℃、72時間培養した。培養土浦を除去後、残渣に培
地Aおよび0.02%ニュートラルレッドからなる培地
を0.1mlずつ加え、37℃で1時間炭酸ガスインキ
コベータ内で培養し、細胞を染色した。
−IG40培地(Gibcn Sf製) 、10%牛脂
児血清、lojAg/mlインシュリンおよび10−’
Mエストラジオールからなる培地(以下、培地A、!:
いう)で4.5 X 10’個/ m lに調製したM
CF 7細胞を0.1…1ずつ分注した。該プレートを
炭酸ガスインキュベータ内で37℃、20時間培養後、
これに培地へにより適宜希釈した検体(試験化合物)を
0.05mjずつ加え、炭酸ガスインキュベータ内で3
7℃、72時間培養した。培養土浦を除去後、残渣に培
地Aおよび0.02%ニュートラルレッドからなる培地
を0.1mlずつ加え、37℃で1時間炭酸ガスインキ
コベータ内で培養し、細胞を染色した。
培養」1清を除去後、残渣を生理食塩水で1回洗浄した
。ついで0.001規定塩酸/30%エタノールで色素
を抽出後、マイクロプレートリーグ−により550nm
の吸光度を測定した。無処理細胞と既知濃度の検体で処
理した細胞の吸光度を比較することにより細胞の増殖を
50%阻害する検体濃度(IC3゜)を算出した。その
結果を第2表に示す。
。ついで0.001規定塩酸/30%エタノールで色素
を抽出後、マイクロプレートリーグ−により550nm
の吸光度を測定した。無処理細胞と既知濃度の検体で処
理した細胞の吸光度を比較することにより細胞の増殖を
50%阻害する検体濃度(IC3゜)を算出した。その
結果を第2表に示す。
(2) He L a S s細胞
96穴マイクロタイタープレートの各式にMEM培地(
日永製薬製)および2mMグルタミンからなる培地で3
X10’個/mlに調製したHeLa5.細胞を0.1
mlず・つ分注した。以下、前記!JCF7細胞の場合
と同様にしてIns。を算出した。その結果を第2表に
示す。
日永製薬製)および2mMグルタミンからなる培地で3
X10’個/mlに調製したHeLa5.細胞を0.1
mlず・つ分注した。以下、前記!JCF7細胞の場合
と同様にしてIns。を算出した。その結果を第2表に
示す。
第 2 表
*:未実施
第2表に見られるように、化合物(I)は優れた抗細胞
活性を示し、抗腫瘍剤としての用途が期待される。
活性を示し、抗腫瘍剤としての用途が期待される。
以下に実施例を、また得られた化合物の物理化学的性質
を第4−1表および第4−2表に示す。
を第4−1表および第4−2表に示す。
なお、実施例番号は化合物番号に対応している。
実施例1゜
1−(2−ジメチルアミノエチル) −3−(2−フェ
ニルエチニル)−LH−インダゾール3−ホルミル−1
−(2−ジメチルアミノエチル)−18−インダゾール
1.60 gとベンジル亜リン酸ジエチルエステル1.
85 gをジメチルホルムアミド30m1に溶解し、攪
拌しながら水素化ナトリウム(60%油状物)0.34
gを少量ずつ加え更に1.5時間室温で攪拌した。反応
終了後、少量の飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えた後、
反応液を減圧下に濃縮した。得られた油状物に水を加え
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸す) IJウムで乾燥し
た。減圧下に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メ
タノール(30: 1 v/v)を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
、標記化合物1.56g(72,7%)を得た。これを
酢酸エチル160m1に溶かし1.15規定の塩化水素
−エーテル溶液7.5mlを加え塩酸塩とした。
ニルエチニル)−LH−インダゾール3−ホルミル−1
−(2−ジメチルアミノエチル)−18−インダゾール
1.60 gとベンジル亜リン酸ジエチルエステル1.
85 gをジメチルホルムアミド30m1に溶解し、攪
拌しながら水素化ナトリウム(60%油状物)0.34
gを少量ずつ加え更に1.5時間室温で攪拌した。反応
終了後、少量の飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えた後、
反応液を減圧下に濃縮した。得られた油状物に水を加え
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸す) IJウムで乾燥し
た。減圧下に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メ
タノール(30: 1 v/v)を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
、標記化合物1.56g(72,7%)を得た。これを
酢酸エチル160m1に溶かし1.15規定の塩化水素
−エーテル溶液7.5mlを加え塩酸塩とした。
実施例1と同様の方法で得られる化合物およびその収率
を第3−1表に示す。
を第3−1表に示す。
第3
1表
実施例45゜
5−アミノ−3−〔2−、(4−エトキシ−2−オキソ
−28−1−ベンゾピラン−7−イル)エチニル] −
1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダゾール 化合物370.70gと10%パラジウム/炭素0.0
45gとをエタノール15n1に懸濁させ50℃でヒド
ラジン1水和物0.45m1を加えた。さらに70℃ま
で加熱し3時間攪拌した後、熱時不溶物を戸別した。冷
却後析出した沈澱を戸数し、さらにクロロホルム−メタ
ノール(9: I V/V)を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムタロマドグラフィーで@製することにより、
標記化合物0.54g (82,8%)を得た。これを
常法により塩酸塩とした。
−28−1−ベンゾピラン−7−イル)エチニル] −
1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダゾール 化合物370.70gと10%パラジウム/炭素0.0
45gとをエタノール15n1に懸濁させ50℃でヒド
ラジン1水和物0.45m1を加えた。さらに70℃ま
で加熱し3時間攪拌した後、熱時不溶物を戸別した。冷
却後析出した沈澱を戸数し、さらにクロロホルム−メタ
ノール(9: I V/V)を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムタロマドグラフィーで@製することにより、
標記化合物0.54g (82,8%)を得た。これを
常法により塩酸塩とした。
実施例45と同様の方法で得られる化合物およびその収
率を第3−2表に示す。
率を第3−2表に示す。
第3−2表
実施例48゜
3− (2−(4−アミノフェニル)エチニル〕−1−
(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 化合物31.22gと鉄粉1.22 gをエタノール2
0m1に懸濁させ攪拌しながら、4規定塩酸6mlを加
えた。この溶液を80℃で15分攪拌し、冷却後10規
定水酸化ナトリウム6mlおよびジクロルメタン50m
1を加え不溶物を戸別した後、水を加えて抽出した。ジ
クロルメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタノール(
15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトクラフィーで精製することにより標記化合物
0.83 g(74,7%)を得た。これを常法により
塩酸塩とした。
(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 化合物31.22gと鉄粉1.22 gをエタノール2
0m1に懸濁させ攪拌しながら、4規定塩酸6mlを加
えた。この溶液を80℃で15分攪拌し、冷却後10規
定水酸化ナトリウム6mlおよびジクロルメタン50m
1を加え不溶物を戸別した後、水を加えて抽出した。ジ
クロルメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタノール(
15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトクラフィーで精製することにより標記化合物
0.83 g(74,7%)を得た。これを常法により
塩酸塩とした。
実施例49゜
3− C2−(2−アミノフェニル)エチニル〕1−(
2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 実施例48と同様の方法により収率51,8%で標記化
合物を得た。
2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 実施例48と同様の方法により収率51,8%で標記化
合物を得た。
実施例50゜
3− C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニル]−
1−(2−ジメチルアミノエチル) −18インダゾー
ル エタンチオール0.29m1のジメチルホルムアミド7
ml溶液に水素化す) IJウム(60%油状物)0、
16 gを加え5分間攪拌した。そこへ化合物20、5
0 gのジメチルホルムアミド8ml溶液を加え100
℃で7.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和硫酸ナト
リウム水溶液を加え減圧下に濃縮した。
1−(2−ジメチルアミノエチル) −18インダゾー
ル エタンチオール0.29m1のジメチルホルムアミド7
ml溶液に水素化す) IJウム(60%油状物)0、
16 gを加え5分間攪拌した。そこへ化合物20、5
0 gのジメチルホルムアミド8ml溶液を加え100
℃で7.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和硫酸ナト
リウム水溶液を加え減圧下に濃縮した。
得られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出、塩化ア
ンモニウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタ
ノール(15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより標
記化合物0.34 g (77,3%)を得た。これを
常法により塩酸塩にした。
ンモニウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタ
ノール(15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより標
記化合物0.34 g (77,3%)を得た。これを
常法により塩酸塩にした。
実施例51゜
3− C2−(4−1:)’ロキシフェニル)エチニル
)−1−メチル−IH−インダゾール実施例50と同様
の方法により収率80.5%で標記化合物を得た。
)−1−メチル−IH−インダゾール実施例50と同様
の方法により収率80.5%で標記化合物を得た。
実施例52゜
3−[:2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチニ
ル]−1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダ
ゾール 化合物60.50gをテトラヒドロフラン5ml、水2
.0mlおよび濃塩酸4.5mlの溶液に溶解し、50
℃で2.5時間攪拌した。反応液は水に注入し、2規定
水酸化ナトリウムでpH9に調整し、クロロホルムで抽
出した。クロロホルム層は塩化アンモニウム水溶液で洗
條後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、つい−Cj減圧a、
縮1.た1、得られた残渣をクロロポルムーメタノール
(9: IV/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより標記化合物0
.31g(69,6%)を得た。
ル]−1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダ
ゾール 化合物60.50gをテトラヒドロフラン5ml、水2
.0mlおよび濃塩酸4.5mlの溶液に溶解し、50
℃で2.5時間攪拌した。反応液は水に注入し、2規定
水酸化ナトリウムでpH9に調整し、クロロホルムで抽
出した。クロロホルム層は塩化アンモニウム水溶液で洗
條後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、つい−Cj減圧a、
縮1.た1、得られた残渣をクロロポルムーメタノール
(9: IV/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより標記化合物0
.31g(69,6%)を得た。
、、れを常法により塩酸塩と17だ。
実施例1)3゜
3−[2−(2−ヒドロキシ−5−メト手シフSニル)
エチニル:] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−
111−インダゾール エタンチオール1.27m1のジメチルホルムアミド2
(1ml溶液に水素化ナトリウl−<60%油状物)[
)、 68 gを加え5分間攪拌(7た。そこへ化合物
81、 OOgのジメチルホルムアミド7ml溶液を加
え100℃で9.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、減圧a縮した。得
られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出し2、塩化
アンモニウム水溶液で洗滌後、無水硫酸ナトリウムで乾
煙、ついで減圧濃縮した。(!)られた残渣をクロロホ
ルム−メタノール(9:lV/ν)を溶出溶媒としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.65g (67,7%)を得た。3こ
れを常法により塩酸塩とした。
エチニル:] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−
111−インダゾール エタンチオール1.27m1のジメチルホルムアミド2
(1ml溶液に水素化ナトリウl−<60%油状物)[
)、 68 gを加え5分間攪拌(7た。そこへ化合物
81、 OOgのジメチルホルムアミド7ml溶液を加
え100℃で9.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、減圧a縮した。得
られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出し2、塩化
アンモニウム水溶液で洗滌後、無水硫酸ナトリウムで乾
煙、ついで減圧濃縮した。(!)られた残渣をクロロホ
ルム−メタノール(9:lV/ν)を溶出溶媒としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.65g (67,7%)を得た。3こ
れを常法により塩酸塩とした。
実施例53と同様の方法により得られる化合物およびそ
の収率を第3−3表に示す。
の収率を第3−3表に示す。
第3−3表
実施例57゜
1− (2−8[1−(2−ジメチルアミノ)エトキン
フェニル]エチニル)−1−(2−ジメチルアミノエチ
ルl−11(−、−インダゾール化合物500.30g
と2−ジメチルアミノエチルクロリド0.21gとをジ
メチルホルムアミド10m1に懸濁させ攪拌しながら水
素化ナトリウム(6f)%油状物)0.098gを加え
、70℃で7時間攪拌した後1通した。P液は減圧下に
濃縮し、得られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出
した。
フェニル]エチニル)−1−(2−ジメチルアミノエチ
ルl−11(−、−インダゾール化合物500.30g
と2−ジメチルアミノエチルクロリド0.21gとをジ
メチルホルムアミド10m1に懸濁させ攪拌しながら水
素化ナトリウム(6f)%油状物)0.098gを加え
、70℃で7時間攪拌した後1通した。P液は減圧下に
濃縮し、得られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出
した。
り「1v1ホルム層は無水硫酸す) IJウムで乾燥後
、減圧濃縮し得られた残渣をタロt】ホルム−メタノー
ル(6: IV/V)を溶出溶媒と12でンリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製するこ吉により標記化合
物0゜16g(43,2%)を得た。これを常法により
塩酸塩と[7t、二。
、減圧濃縮し得られた残渣をタロt】ホルム−メタノー
ル(6: IV/V)を溶出溶媒と12でンリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製するこ吉により標記化合
物0゜16g(43,2%)を得た。これを常法により
塩酸塩と[7t、二。
実施例57と同様の方法により(−)られる化合物およ
びその収率を第3−4表に示す。
びその収率を第3−4表に示す。
第3−4表
実施例60゜
3− [2−(4−カルボキシフェニル)エテール]−
1−、12−ジメチルアミノエチル)−1Hインダゾー
ル 化合物111.7gをメタノール35m1と4規定水酸
化ナトリウム35m1の混合溶液に溶解(−150℃で
1時間攪拌した。反応液を冷却し、6規定塩酸でpH5
,5に調整した後、減圧濃縮した。残渣にメタノールを
加え析出する食塩をρ別した後、水を加えて結晶化する
ことにより標記化合IM1.04g(63,7%)を得
た。これを常法により塩酸塩にした。
1−、12−ジメチルアミノエチル)−1Hインダゾー
ル 化合物111.7gをメタノール35m1と4規定水酸
化ナトリウム35m1の混合溶液に溶解(−150℃で
1時間攪拌した。反応液を冷却し、6規定塩酸でpH5
,5に調整した後、減圧濃縮した。残渣にメタノールを
加え析出する食塩をρ別した後、水を加えて結晶化する
ことにより標記化合IM1.04g(63,7%)を得
た。これを常法により塩酸塩にした。
実施例61゜
5−アセチルアミノ−3−[1−(4−エトキシ−2−
オキソ−28−1−ベンゾビラン−フィル)エチニル)
−1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾ
ール 化合物450.15gをタロロホルノ−8m1に溶解し
、トリエチルアミン0.25m1を加え水冷下撹拌しな
がら塩化アセチル0.13m1を加えた後、室温でl、
5時間攪拌した。反応後、クロロホルムと水を加え、炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整した。分液した
クロロホルム層は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮した。得られた残渣はクロロホルム−メタノール<9
:IV/V)を溶出溶媒としたシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより標記化合物0.12
g(72,2%)を得た。これを常法により塩酸塩とし
た。
オキソ−28−1−ベンゾビラン−フィル)エチニル)
−1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾ
ール 化合物450.15gをタロロホルノ−8m1に溶解し
、トリエチルアミン0.25m1を加え水冷下撹拌しな
がら塩化アセチル0.13m1を加えた後、室温でl、
5時間攪拌した。反応後、クロロホルムと水を加え、炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整した。分液した
クロロホルム層は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮した。得られた残渣はクロロホルム−メタノール<9
:IV/V)を溶出溶媒としたシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより標記化合物0.12
g(72,2%)を得た。これを常法により塩酸塩とし
た。
実施例62゜
3− [1−(4−ヒドロキシフェニル)エチニル]
−18−インダゾール 実施例53と同様にして化合物431.22gから’3
−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニルヨー1−
トリチルーIH−インダゾール0.85g(71,7%
)を得た。
−18−インダゾール 実施例53と同様にして化合物431.22gから’3
−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニルヨー1−
トリチルーIH−インダゾール0.85g(71,7%
)を得た。
上記化合物0.15 gにメタノール6mlと濃塩酸0
.6mlを加え3.5時間攪拌した。反応液にクロロホ
ルムと水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,
5に調整した。分液したクロロホルム層は無水炭酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をクロロ
ホルム−メタノール(6:lV/V)を展開溶媒とした
薄層シリカゲルクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.068 g(91,7%)を得た。こ
れをクロロホルム−メタノール−酢酸エチルから再結晶
した。
.6mlを加え3.5時間攪拌した。反応液にクロロホ
ルムと水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,
5に調整した。分液したクロロホルム層は無水炭酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をクロロ
ホルム−メタノール(6:lV/V)を展開溶媒とした
薄層シリカゲルクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.068 g(91,7%)を得た。こ
れをクロロホルム−メタノール−酢酸エチルから再結晶
した。
実施例63゜
3− (2−C4−(2−ジメチルアミノ)エトキシフ
ェニル〕エチニル)−18−インダゾール実施例62で
得られる3−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニ
ル] −1−)リチルーIHインダゾール0.45gか
ら実施例57と同様の方法で3− (1−[4−(2−
ジメチルアミノ)エトキシフェニル〕エチニル) −1
−) リfルーIHインダゾール0.49g(95,0
%)を得た。
ェニル〕エチニル)−18−インダゾール実施例62で
得られる3−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニ
ル] −1−)リチルーIHインダゾール0.45gか
ら実施例57と同様の方法で3− (1−[4−(2−
ジメチルアミノ)エトキシフェニル〕エチニル) −1
−) リfルーIHインダゾール0.49g(95,0
%)を得た。
上記化合物にメタノール18m1、水10m1および濃
塩酸2.2mlを加え室温で一夜攪拌した。反応液にク
ロロホルムと水を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液
でpH7,5に調整した。分液したクロロホルム層は無
水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮した。得られた残渣
をクロロホルム−メタノール(9+ I V/V)を溶
出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより標記化合物0.15g(53,1%)
を得た。これを常法により塩酸塩にした。
塩酸2.2mlを加え室温で一夜攪拌した。反応液にク
ロロホルムと水を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液
でpH7,5に調整した。分液したクロロホルム層は無
水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮した。得られた残渣
をクロロホルム−メタノール(9+ I V/V)を溶
出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより標記化合物0.15g(53,1%)
を得た。これを常法により塩酸塩にした。
実施例64
3−[2−(2,5−ジヒドロキシフェニル)エチニル
] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−IH−イン
ダゾール 化合物80.35gをジクロルメタン20m1に溶解し
窒素気流下−40℃に冷却した。攪拌しなから1規定の
三臭化ホウ素−ヘキサン溶液6mlを加え、徐々に室温
に戻して一夜攪拌した。反応液を氷水に注入し、2規定
水酸化す) IJウム水溶液でpH8に調整後、クロロ
ホルムで抽出し無水硫酸す) Uラムで乾燥、減圧濃縮
した。得られた残渣をタロロホムーメタノール(6:I
V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより標記化合物0.03g(
9,3%)を得た。これを常法により塩酸塩とした。
] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−IH−イン
ダゾール 化合物80.35gをジクロルメタン20m1に溶解し
窒素気流下−40℃に冷却した。攪拌しなから1規定の
三臭化ホウ素−ヘキサン溶液6mlを加え、徐々に室温
に戻して一夜攪拌した。反応液を氷水に注入し、2規定
水酸化す) IJウム水溶液でpH8に調整後、クロロ
ホルムで抽出し無水硫酸す) Uラムで乾燥、減圧濃縮
した。得られた残渣をタロロホムーメタノール(6:I
V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより標記化合物0.03g(
9,3%)を得た。これを常法により塩酸塩とした。
第4−1表
56.37
10.27
第
表
発明の効果
本発明によれば、化合物(1)およびその薬理上許容さ
れる塩は優れた抗細胞活性を有し、抗腫瘍剤として期待
される。
れる塩は優れた抗細胞活性を有し、抗腫瘍剤として期待
される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、Rは、水素、置換もしくは非置換の低級アルキ
ル、−(CH_2)_nNR^1R^2(式中、R^1
およびR^2は、同一または異なって水素、置換もしく
は非置換の低級アルキル、低級アルカノイルおよび隣接
する窒素原子と共に複素環を形成する基からなる群から
選ばれ、nは1〜6の整数を表わす)、▲数式、化学式
、表等があります▼(式中、R^3は、水素、低 級アルキルおよび低級アルカノイルからなる群から選ば
れ、mは1〜6の整数を表わし、R^1、R^2おおよ
びnは前記と同義である)およびトリチルからなる群か
ら選ばれる基を表わし、 Arは、▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、Q
^1、Q^2およびQ^3は、それぞれ同一または異な
って、水素、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシル、
低級アルコキシル、ニトロ、ニトロソ、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、−NR^1^aR^2^a
(式中、R^1^aおよびR^2^aは、前記R^1お
よびR^2の定義と同義である)、−O(CH_2)n
^aNR^1^aR^2^a(式中、n^aは前記nの
定義と同義であり、R^1^aおよびR^2^aは前記
と同義である)およびQ^1、Q^2およびQ^3のオ
ルト位の任意の2つが一緒になって▲数式、化学式、表
等があります▼(式中、R^4およびR^5は、同一ま
たは異なって水素、低級アルキルおよび一緒になって炭
素数4〜5のアルキレンからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる〕、ピリジルおよび▲数式、化学式
、表等があります▼(式中、Yは水素、低 級アルキルおよび低級アルコキシルからなる群から選ば
れる)からなる群から選ばれる基を表わし、Xは水素、
低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、低級アルコキ
シル、ニトロ、ニトロソ、−NR^1^bR^2^b(
式中、R^1^bおよびR^2^bは前記R^1および
R^2の定義と同義である)および−O(CH_2)n
^bNR^1^bR^2^b(式中、n^bは前記nの
定義と同義であり、R^1^bおよびR^2^bは前記
と同義である)からなる群から選ばれる基を表わす} で表わされるインダゾール誘導体およびその薬理上許容
される塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17876288A JPH0232059A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | インダゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17876288A JPH0232059A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | インダゾール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0232059A true JPH0232059A (ja) | 1990-02-01 |
Family
ID=16054166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17876288A Pending JPH0232059A (ja) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | インダゾール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0232059A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1988
- 1988-07-18 JP JP17876288A patent/JPH0232059A/ja active Pending
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