[go: up one dir, main page]

JPH0232059A - インダゾール誘導体 - Google Patents

インダゾール誘導体

Info

Publication number
JPH0232059A
JPH0232059A JP17876288A JP17876288A JPH0232059A JP H0232059 A JPH0232059 A JP H0232059A JP 17876288 A JP17876288 A JP 17876288A JP 17876288 A JP17876288 A JP 17876288A JP H0232059 A JPH0232059 A JP H0232059A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
group
lower alkyl
hydrogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17876288A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Sugaya
亨 菅谷
Masao Matsukuma
松隈 征夫
Shiro Akinaga
士朗 秋永
Makoto Morimoto
森本 眞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd filed Critical Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Priority to JP17876288A priority Critical patent/JPH0232059A/ja
Publication of JPH0232059A publication Critical patent/JPH0232059A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、抗細胞活性を有する新規インダゾール誘導体
に関する。
従来の技術 インダゾールの3位がビニレン(−[H=CH−)を介
してカルボキシル、アセチル、ベンゾイル等である化合
物がKhim、 Geterosikl、 5oedi
n、、 7゜957(+978)  Cケミカル・アブ
ストラクツ(c、 A、 )89゜163493q(1
978) 〕に開示されている。
発明が解決しようとする課題 本発明は、本発明にかかわる化合物が抗細胞活性を有す
るという新しい知見のもとに、新規インダゾール誘導体
を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明は式(1) (式中、Rは、水素、置換もしくは非置換の低級アルキ
ル、−(C)+2)。NR’R’  (式中、R1およ
びR2は、同一または異なって水素、置換もしくは非置
換の低級アルキル、低級アルカノイルおよび隣接する窒
素原子と共に複素環を形成する基からなる群から選ばれ
、nは1〜6の整数を表わす)、−(CH2)、、N(
CH2)、NR’R’  C式中、R3は、水素、低級
アルキルおよび低級アルカノイルからなる群から選ばれ
、mは1〜6の整数を表わし、R1、R2おおよびnは
前記と同義である)およびトリチルからなる群から選ば
れる基を表わし、 それぞれ同一または異なって、水素、ハロゲン、低級ア
ルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシル、ニトロ、ニ
トロソ、カルボキシル、低級アルコキシ力ルポニノb、
−NR1R” (式中、RIMおよびR2aは、前記R
’およびR2の定義と同義である)、0([:Hz)n
’NR”R2責式中、口2は前記nの定義と同義であり
、RIMおよびR2aは前記と同義である)およびQ’
、 02および03のオルト位の任意の2つが一同一ま
たは異なって水素、低級アルキルおよび一緒になって炭
素数4〜5のアルキレンからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる〕、ピリジルおよび および低級アルコキシルからなる群から選ばれる)から
なる群から選ばれる基を表わし、 Xは水素、低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、低
級アルコキシル、ニトロ、ニトロソ、−NR1bR2b
(式中、Rlbおよび1t2bは前記R1およびR2の
定義と同義である)および−0(C1lz)n5NR1
bR2b(式中、nbは前記nの定義と同義であり、[
llbおよびR2bは前記と同義である)からなる群か
ら選ばれる基を表わす) で表されるインダゾール誘導体〔以下、化合物(1)と
いう。他の式番号の化合物についても同様である〕およ
びその薬理上許容される塩に関する。
式(I)の6基の定義における低級アルキルとは、炭素
数1〜6の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、1−プロピル、n−ブチ
ル、1−ブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチルお
よびヘキシル等を包含し、置換低級アルキルにおける置
換基とはヒドロキシルおよびハロゲンがあげられる。
低級アルカノイルは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状
のアルカノイル基、例えばホルミル、アセチル、n−プ
ロピオニル、l−プロピオニル、ローブチリル、1−ブ
チリル、t−ブチリル、n−ペンタノイル等およびトリ
フルオロアセチル等を包含する。
低級アルコキシルおよび低級アルコキシカルボニルにお
けるアルコキシルは炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状
の例えばメトキシ、エトキシ、n−ブロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、ブトキシ、S−ブトキシ、t
−ブトキシおよびn−へキシルオキシ等を包含する。
また、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素の各
原子が包含され、隣接する窒素原子と共に形成される複
素環としては、5〜7員環の脂環式複素環、例えばピロ
リジン、ピペリジン、N置換もしくは非置族のピペラジ
ン、モルホリン、チオモルホリンおよびN−置換もしく
は非置換のホモピペラジン等が包含され、置換基として
は前記したと同義の低級アルキルまたは低級アルカノイ
ルがあげられる。
化合物(1)の薬理上許容される塩は、薬理上許容され
る酸付加塩が包含され、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩あるいはシュウ酸塩、酢
酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン
酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等のを機酸塩があげられる
以下、化合物(1)の製造法を説明する。しかし、化合
物(1)の製造法はそれらに限定されるものではない。
化合物(1)において、Rが水素の化合物(■l)およ
び水素以外の基である化合物(1−2>は、次の反応工
程に従い製造することができる。
(■ Cト■0 □ (i、H=CHΔr (式中、R’は前記したRの定義で水素以外の基を表わ
し、11a1はハロゲンを、R4は低級アルキルまたは
ベンジルをそれぞれ表わし、八1、XおよびRは前記と
同義である) ここで、Halで表わされるハロゲンは塩素、臭素およ
びヨウ素が、R4で表わされる低級アルキルはメチル、
エチルおよびn−プロピル等がそれぞれ例示される。
化合物(II−2)は、公知の方法〔例えば、J、 八
m、  Chem、  Soc、、74. 2009(
1952)  ;  C,八、、  87゜18451
0 (1977)等〕あるいはそれに準じて合成される
化合物(II−1)と1〜5当量の化合物(I)もしく
はその酸付加塩(前記したと同様の塩が例示される;以
下の記載においても同様である)とを当量〜過剰の塩基
の存在下、不活性な溶媒中、通常室温〜70℃で、1−
10時間反応することにより得ることができる。適当な
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化銀等の無機塩基、あ
るいはソジウムメトキシド、ソジウムエトキシド、ポタ
シウムt−ブトキシド、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基が、適当な不活性溶媒としては、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、ジクロルメタンあるいはメタノール
、エタノール、l−プロパツール、t−ブタノール等の
低級アルコール類がそれぞれ用いられる(工程1)。
化合物(1−1)または(1−2)は、それぞれ対応す
る化合物(I[−1)または(II−2)から得ること
ができる。反応は、化合物(n−1)または(II−2
)と公知の方法〔例えば、J、 Org。
Che+n、、26.5243(1961)等〕あるい
はそれに準じて合成される化合物(■)1〜2当量とを
、化合物(TV)と当量の塩基の存在下、不活性な溶媒
中、通常冷却〜室温、好ましくは一40〜25℃で行い
、0.5〜lO時間で終了する。適当な塩基としては、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、ソジウトメトキシ
ド、ソジウムエトキシド、ボタシウム1−ブトキシド、
n−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、リチウムジ
イソプロピルアミド等が、適当な不活性溶媒としては、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、メタノール、エタノ
ール、1−プロパツール、t−ブタノール等がそれぞれ
使用される(工程2および3)。
また、化合物(1−2)は、化合物(I−1)と化合物
(III)より、工程1と同様の方法に準じて製造する
こともできる(工程4)。
これらの製造方法により得られる化合物(Hにおいて、
定義した基が実施方法の条件下に変化するか、または方
法を実施するのに不適切な場合、有機化学で常用される
手段、例えば官能基の保護、脱保護〔例えば、Prot
ective Groups in OrganicS
ynthesis、 T、 Green著、John 
Willey & 5onsInc、(1981))等
に付すことにより容易に実施することができる。
また、ここに得られる化合物(1)の中には、これらを
合成中間体として、さらに新規な化合物(1)を得るこ
ともできる。
例えば、式(1)の定義において、O’、 Q2および
03の中で少くとも1つく以下、総称してQということ
がある)および/またはXがアミノ(NL)である化合
物N a)は、対応する基がニトロである化合物(1b
)を還元することによっても得ることができる。
反応は、化合物(I b)を低級アルコール中、5〜1
5%のパラジウム/炭素および4〜20当量のヒドラジ
ン水和物の存在下、室温〜90℃で通常1〜10時間で
終了する。溶媒として用いられる低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、n−プロパツール、1−
プロパツール、エチレングリコール等があげられる。
また別の方法として化合物(I a)は、化合物N b
)を低級アルコール/塩酸中で、1〜3倍重量の鉄粉の
存在下に、室温〜90℃で5分〜2時間反応することに
よっても得ることができる。使用される塩酸は、2〜1
2規定で化合物(Ib)の4〜20倍量用いられる。低
級アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−
プロパツール、1−プロパツール等が使用できる。
Qおよ[/4たl;!l(、−NHR”lバーN(R5
)2〔式中、R5は式(1)で定義した低級アルキルま
たは低級アルカノイルと同義である〕である化合物(I
c)は、対応するアミノ体(Ia)もしくはその酸付加
塩と1〜10当量の次式で示される化合物(V) R’−Hal   (V) (式中、R5およびHatは前記と同義である)とを、
当量〜過剰の塩基の存在下、不活性溶媒中、0〜60℃
で通常1〜20時間反応することにより得ることもでき
る。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ト
リエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン、酸化銀等が、不活性溶媒としては、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロ7ラン、
クロロホルム、ジクロルメタン等が用いられる。
Qおよび/またはXが、 0(Cl12)nNR’R2
(式中、R’、 R’およびnは前記と同義である)で
ある化合物(Id)は、対応する基がヒドロキシルであ
る化合物(Ie)と1〜2当Mの次式で示される化合物
(VT)もしくはその酸付加塩 Hal  ([:)lx)nNR’R’   (Vl)
(式中、R1、R2、Halおよびnは前記と同義であ
る)とを、当量〜過剰の塩基の存在下に不活性溶媒中、
室温〜70℃でO15〜10時間反応することにより得
ることもできる。塩基としては、水素化ナトリウム、n
−ブチルリチウム、S−ブチルリチウム、t−ブチルリ
チウム、炭酸カリウム、炭酸すトリウ!、等が用いられ
、不活性溶媒志j5ては、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、テ)・うしドロフラン、ジク℃1ル
メタン、エーテル等が用いられる。
Qがカルボキンルである化合物(I f)は、対応する
基が低級アルコキシカルボニルである化合物(Ig)を
加水分解することによって得ることもできる。反応は、
化合物(Ig)を1〜10規定の水酸化すl□ IJウ
ノ、または水酸化カリウl、水溶液中、あるいはこれら
アルカリ水溶液とメタノールまたはエタノールとの混合
溶媒中、通常室温〜70℃で行なわれ、0.5〜lO時
間で終了ずろ。
上述1−だ製造法におりる中間体および目的化合物は、
有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、抽出、
乾怪、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付し
て単離精製することができる。
また中間体においては、特に精製することなく次の反応
に供することも可能である。
化合物(1)の塩を取得したいときは、化合物(+)が
塩の形で得られる場合にはそのまま精製すればよく、ま
た遊離の形で得ら才する場合には通常の方法により塩を
形成させればよい。
また、化合物(1)およびその薬理」二許容される塩は
、水あるいは各種溶媒の付加物の形で存在することもあ
るが、これら伺加物も本発明に包含される。
以上の製造法によって得られる化合物(I)においては
、ビニレン基(−F”H=[:H−)に関しY0体と2
体の幾何異性体が存在し、上記の製造法においては通常
それらの混合物を与える場合が多い。
それらの混合物は、有機合成化学において通常行われる
方法、例えば、各種クロマトグラフィ再結晶等により分
離可能である場合もある。
なお本発明は、化合物(1)において、1″、記のE/
Zl性体に限らず、すべての可能な立体異性体およびそ
れらの混合物も包含される。
各製造法によって得られる化合物(+>の具体例を第1
表に示す。
第 表 CI−13 (CII3) 2NCIl□0112 (CL) 2NCLCII2 (CL) 2NCII□C112 トI −く○汗OCH。
べo、7 ベ○、、、−CO,l:H。
1′9.> (CI+3> 2NCI(、C1+。
(○、″N (CI+、) 2N(:112CI+2I] にCに−0CI+。
(CL)JCH,CH2 一:○゛辷N02 (CH3) 、NC11,CI+。
一′○ゝ−N口 \−−/ (C11,) 、NCII、CH2 (C113> 211CII、CH。
ト( JC舛[1 \−) 0、 C1(。
イづ<o×c++。
\OCI+。
CR3 X0CH。
CI+。
(CsHs) 3C DC1+3 OCI+。
ゝOCH。
’ QC)13 (ΣN べ、Q、’+ OCII 3 ゝOCI+。
(C113) 2NCH2CH2 −CL CH3 一2″○ン 一゛・。[:L ゝOCR。
C)13 一の”;−NO3 (CL) 2NCII2CH2 (CII+> 2NCH2CI□ トI (CII3) 2NCH2C11□ ゼCレーOH CI(。
(C)13) JCH,CH。
イ0”;−o++ イ叶 べΩ/−OH ()io+2c++。
(CL) 、NC112cH。
(Il’ll、) 、N[l+21”+12CH。
(CI、l) 2MCII□[112 1■ 1」 I( ■( ”OCH3 O ト 1qン ゝOCI+。
−て又−0C1liCIIJ (C113) zべ○>
−0CtlzCIItCIIaN (CH3) 2−〇
と0CI(−CtlJ (C1l−) 2イ0.−co
□11 +011 づン[1CLC)I、N (CH,) 2+11J 次に、化合物(1)の癌細胞に対する抗細胞活性につい
て試験例で示す。
試験例 (1)  1.11’:F 7細胞 96穴マイクロタイタープレー1・の各式に、RPMI
−IG40培地(Gibcn Sf製) 、10%牛脂
児血清、lojAg/mlインシュリンおよび10−’
Mエストラジオールからなる培地(以下、培地A、!:
いう)で4.5 X 10’個/ m lに調製したM
CF 7細胞を0.1…1ずつ分注した。該プレートを
炭酸ガスインキュベータ内で37℃、20時間培養後、
これに培地へにより適宜希釈した検体(試験化合物)を
0.05mjずつ加え、炭酸ガスインキュベータ内で3
7℃、72時間培養した。培養土浦を除去後、残渣に培
地Aおよび0.02%ニュートラルレッドからなる培地
を0.1mlずつ加え、37℃で1時間炭酸ガスインキ
コベータ内で培養し、細胞を染色した。
培養」1清を除去後、残渣を生理食塩水で1回洗浄した
。ついで0.001規定塩酸/30%エタノールで色素
を抽出後、マイクロプレートリーグ−により550nm
の吸光度を測定した。無処理細胞と既知濃度の検体で処
理した細胞の吸光度を比較することにより細胞の増殖を
50%阻害する検体濃度(IC3゜)を算出した。その
結果を第2表に示す。
(2)  He L a S s細胞 96穴マイクロタイタープレートの各式にMEM培地(
日永製薬製)および2mMグルタミンからなる培地で3
X10’個/mlに調製したHeLa5.細胞を0.1
mlず・つ分注した。以下、前記!JCF7細胞の場合
と同様にしてIns。を算出した。その結果を第2表に
示す。
第   2   表 *:未実施 第2表に見られるように、化合物(I)は優れた抗細胞
活性を示し、抗腫瘍剤としての用途が期待される。
以下に実施例を、また得られた化合物の物理化学的性質
を第4−1表および第4−2表に示す。
なお、実施例番号は化合物番号に対応している。
実施例1゜ 1−(2−ジメチルアミノエチル) −3−(2−フェ
ニルエチニル)−LH−インダゾール3−ホルミル−1
−(2−ジメチルアミノエチル)−18−インダゾール
1.60 gとベンジル亜リン酸ジエチルエステル1.
85 gをジメチルホルムアミド30m1に溶解し、攪
拌しながら水素化ナトリウム(60%油状物)0.34
gを少量ずつ加え更に1.5時間室温で攪拌した。反応
終了後、少量の飽和硫酸ナトリウム水溶液を加えた後、
反応液を減圧下に濃縮した。得られた油状物に水を加え
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸す) IJウムで乾燥し
た。減圧下に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メ
タノール(30: 1 v/v)を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
、標記化合物1.56g(72,7%)を得た。これを
酢酸エチル160m1に溶かし1.15規定の塩化水素
−エーテル溶液7.5mlを加え塩酸塩とした。
実施例1と同様の方法で得られる化合物およびその収率
を第3−1表に示す。
第3 1表 実施例45゜ 5−アミノ−3−〔2−、(4−エトキシ−2−オキソ
−28−1−ベンゾピラン−7−イル)エチニル] −
1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダゾール 化合物370.70gと10%パラジウム/炭素0.0
45gとをエタノール15n1に懸濁させ50℃でヒド
ラジン1水和物0.45m1を加えた。さらに70℃ま
で加熱し3時間攪拌した後、熱時不溶物を戸別した。冷
却後析出した沈澱を戸数し、さらにクロロホルム−メタ
ノール(9: I  V/V)を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムタロマドグラフィーで@製することにより、
標記化合物0.54g (82,8%)を得た。これを
常法により塩酸塩とした。
実施例45と同様の方法で得られる化合物およびその収
率を第3−2表に示す。
第3−2表 実施例48゜ 3− (2−(4−アミノフェニル)エチニル〕−1−
(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 化合物31.22gと鉄粉1.22 gをエタノール2
0m1に懸濁させ攪拌しながら、4規定塩酸6mlを加
えた。この溶液を80℃で15分攪拌し、冷却後10規
定水酸化ナトリウム6mlおよびジクロルメタン50m
1を加え不溶物を戸別した後、水を加えて抽出した。ジ
クロルメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
に濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタノール(
15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラ
ムクロマトクラフィーで精製することにより標記化合物
0.83 g(74,7%)を得た。これを常法により
塩酸塩とした。
実施例49゜ 3− C2−(2−アミノフェニル)エチニル〕1−(
2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾール 実施例48と同様の方法により収率51,8%で標記化
合物を得た。
実施例50゜ 3− C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニル]−
1−(2−ジメチルアミノエチル) −18インダゾー
ル エタンチオール0.29m1のジメチルホルムアミド7
ml溶液に水素化す) IJウム(60%油状物)0、
16 gを加え5分間攪拌した。そこへ化合物20、5
0 gのジメチルホルムアミド8ml溶液を加え100
℃で7.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和硫酸ナト
リウム水溶液を加え減圧下に濃縮した。
得られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出、塩化ア
ンモニウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧濃縮し、得られた残渣をクロロホルム−メタ
ノール(15: I V/V)を溶出溶媒としてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより標
記化合物0.34 g (77,3%)を得た。これを
常法により塩酸塩にした。
実施例51゜ 3− C2−(4−1:)’ロキシフェニル)エチニル
)−1−メチル−IH−インダゾール実施例50と同様
の方法により収率80.5%で標記化合物を得た。
実施例52゜ 3−[:2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチニ
ル]−1−(2−ジメチルアミノエチル)IH−インダ
ゾール 化合物60.50gをテトラヒドロフラン5ml、水2
.0mlおよび濃塩酸4.5mlの溶液に溶解し、50
℃で2.5時間攪拌した。反応液は水に注入し、2規定
水酸化ナトリウムでpH9に調整し、クロロホルムで抽
出した。クロロホルム層は塩化アンモニウム水溶液で洗
條後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、つい−Cj減圧a、
縮1.た1、得られた残渣をクロロポルムーメタノール
(9: IV/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製することにより標記化合物0
.31g(69,6%)を得た。
、、れを常法により塩酸塩と17だ。
実施例1)3゜ 3−[2−(2−ヒドロキシ−5−メト手シフSニル)
エチニル:] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−
111−インダゾール エタンチオール1.27m1のジメチルホルムアミド2
(1ml溶液に水素化ナトリウl−<60%油状物)[
)、 68 gを加え5分間攪拌(7た。そこへ化合物
81、 OOgのジメチルホルムアミド7ml溶液を加
え100℃で9.5時間攪拌した。反応後、少量の飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、減圧a縮した。得
られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出し2、塩化
アンモニウム水溶液で洗滌後、無水硫酸ナトリウムで乾
煙、ついで減圧濃縮した。(!)られた残渣をクロロホ
ルム−メタノール(9:lV/ν)を溶出溶媒としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.65g (67,7%)を得た。3こ
れを常法により塩酸塩とした。
実施例53と同様の方法により得られる化合物およびそ
の収率を第3−3表に示す。
第3−3表 実施例57゜ 1− (2−8[1−(2−ジメチルアミノ)エトキン
フェニル]エチニル)−1−(2−ジメチルアミノエチ
ルl−11(−、−インダゾール化合物500.30g
と2−ジメチルアミノエチルクロリド0.21gとをジ
メチルホルムアミド10m1に懸濁させ攪拌しながら水
素化ナトリウム(6f)%油状物)0.098gを加え
、70℃で7時間攪拌した後1通した。P液は減圧下に
濃縮し、得られた油状物に水を加えクロロホルムで抽出
した。
り「1v1ホルム層は無水硫酸す) IJウムで乾燥後
、減圧濃縮し得られた残渣をタロt】ホルム−メタノー
ル(6: IV/V)を溶出溶媒と12でンリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製するこ吉により標記化合
物0゜16g(43,2%)を得た。これを常法により
塩酸塩と[7t、二。
実施例57と同様の方法により(−)られる化合物およ
びその収率を第3−4表に示す。
第3−4表 実施例60゜ 3− [2−(4−カルボキシフェニル)エテール]−
1−、12−ジメチルアミノエチル)−1Hインダゾー
ル 化合物111.7gをメタノール35m1と4規定水酸
化ナトリウム35m1の混合溶液に溶解(−150℃で
1時間攪拌した。反応液を冷却し、6規定塩酸でpH5
,5に調整した後、減圧濃縮した。残渣にメタノールを
加え析出する食塩をρ別した後、水を加えて結晶化する
ことにより標記化合IM1.04g(63,7%)を得
た。これを常法により塩酸塩にした。
実施例61゜ 5−アセチルアミノ−3−[1−(4−エトキシ−2−
オキソ−28−1−ベンゾビラン−フィル)エチニル)
−1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H−インダゾ
ール 化合物450.15gをタロロホルノ−8m1に溶解し
、トリエチルアミン0.25m1を加え水冷下撹拌しな
がら塩化アセチル0.13m1を加えた後、室温でl、
5時間攪拌した。反応後、クロロホルムと水を加え、炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整した。分液した
クロロホルム層は無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮した。得られた残渣はクロロホルム−メタノール<9
:IV/V)を溶出溶媒としたシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより標記化合物0.12
g(72,2%)を得た。これを常法により塩酸塩とし
た。
実施例62゜ 3− [1−(4−ヒドロキシフェニル)エチニル] 
−18−インダゾール 実施例53と同様にして化合物431.22gから’3
−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニルヨー1−
トリチルーIH−インダゾール0.85g(71,7%
)を得た。
上記化合物0.15 gにメタノール6mlと濃塩酸0
.6mlを加え3.5時間攪拌した。反応液にクロロホ
ルムと水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,
5に調整した。分液したクロロホルム層は無水炭酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をクロロ
ホルム−メタノール(6:lV/V)を展開溶媒とした
薄層シリカゲルクロマトグラフィーで精製することによ
り標記化合物0.068 g(91,7%)を得た。こ
れをクロロホルム−メタノール−酢酸エチルから再結晶
した。
実施例63゜ 3− (2−C4−(2−ジメチルアミノ)エトキシフ
ェニル〕エチニル)−18−インダゾール実施例62で
得られる3−C2−(4−ヒドロキシフェニル)エチニ
ル] −1−)リチルーIHインダゾール0.45gか
ら実施例57と同様の方法で3− (1−[4−(2−
ジメチルアミノ)エトキシフェニル〕エチニル) −1
−) リfルーIHインダゾール0.49g(95,0
%)を得た。
上記化合物にメタノール18m1、水10m1および濃
塩酸2.2mlを加え室温で一夜攪拌した。反応液にク
ロロホルムと水を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液
でpH7,5に調整した。分液したクロロホルム層は無
水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮した。得られた残渣
をクロロホルム−メタノール(9+ I V/V)を溶
出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより標記化合物0.15g(53,1%)
を得た。これを常法により塩酸塩にした。
実施例64 3−[2−(2,5−ジヒドロキシフェニル)エチニル
] −1−(2−ジメチルアミノエチル)−IH−イン
ダゾール 化合物80.35gをジクロルメタン20m1に溶解し
窒素気流下−40℃に冷却した。攪拌しなから1規定の
三臭化ホウ素−ヘキサン溶液6mlを加え、徐々に室温
に戻して一夜攪拌した。反応液を氷水に注入し、2規定
水酸化す) IJウム水溶液でpH8に調整後、クロロ
ホルムで抽出し無水硫酸す) Uラムで乾燥、減圧濃縮
した。得られた残渣をタロロホムーメタノール(6:I
V/V)を溶出溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより標記化合物0.03g(
9,3%)を得た。これを常法により塩酸塩とした。
第4−1表 56.37 10.27 第 表 発明の効果 本発明によれば、化合物(1)およびその薬理上許容さ
れる塩は優れた抗細胞活性を有し、抗腫瘍剤として期待
される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ {式中、Rは、水素、置換もしくは非置換の低級アルキ
    ル、−(CH_2)_nNR^1R^2(式中、R^1
    およびR^2は、同一または異なって水素、置換もしく
    は非置換の低級アルキル、低級アルカノイルおよび隣接
    する窒素原子と共に複素環を形成する基からなる群から
    選ばれ、nは1〜6の整数を表わす)、▲数式、化学式
    、表等があります▼(式中、R^3は、水素、低 級アルキルおよび低級アルカノイルからなる群から選ば
    れ、mは1〜6の整数を表わし、R^1、R^2おおよ
    びnは前記と同義である)およびトリチルからなる群か
    ら選ばれる基を表わし、 Arは、▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、Q
    ^1、Q^2およびQ^3は、それぞれ同一または異な
    って、水素、ハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシル、
    低級アルコキシル、ニトロ、ニトロソ、カルボキシル、
    低級アルコキシカルボニル、−NR^1^aR^2^a
    (式中、R^1^aおよびR^2^aは、前記R^1お
    よびR^2の定義と同義である)、−O(CH_2)n
    ^aNR^1^aR^2^a(式中、n^aは前記nの
    定義と同義であり、R^1^aおよびR^2^aは前記
    と同義である)およびQ^1、Q^2およびQ^3のオ
    ルト位の任意の2つが一緒になって▲数式、化学式、表
    等があります▼(式中、R^4およびR^5は、同一ま
    たは異なって水素、低級アルキルおよび一緒になって炭
    素数4〜5のアルキレンからなる群から選ばれる)から
    なる群から選ばれる〕、ピリジルおよび▲数式、化学式
    、表等があります▼(式中、Yは水素、低 級アルキルおよび低級アルコキシルからなる群から選ば
    れる)からなる群から選ばれる基を表わし、Xは水素、
    低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、低級アルコキ
    シル、ニトロ、ニトロソ、−NR^1^bR^2^b(
    式中、R^1^bおよびR^2^bは前記R^1および
    R^2の定義と同義である)および−O(CH_2)n
    ^bNR^1^bR^2^b(式中、n^bは前記nの
    定義と同義であり、R^1^bおよびR^2^bは前記
    と同義である)からなる群から選ばれる基を表わす} で表わされるインダゾール誘導体およびその薬理上許容
    される塩。
JP17876288A 1988-07-18 1988-07-18 インダゾール誘導体 Pending JPH0232059A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17876288A JPH0232059A (ja) 1988-07-18 1988-07-18 インダゾール誘導体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17876288A JPH0232059A (ja) 1988-07-18 1988-07-18 インダゾール誘導体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0232059A true JPH0232059A (ja) 1990-02-01

Family

ID=16054166

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17876288A Pending JPH0232059A (ja) 1988-07-18 1988-07-18 インダゾール誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0232059A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000012481A3 (en) * 1998-09-01 2000-06-08 Cerebrus Pharm Ltd Indazole derivatives with 5-ht2 receptor activity________________
US6410858B1 (en) 1999-12-17 2002-06-25 Shinko Electric Industries Co. Ltd. Multilayered wiring board, a production process for, and semiconductor device using, the same
WO2004050088A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Jnk阻害剤
WO2005012257A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. インダゾール誘導体
WO2005012258A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. タンパク質キナーゼ阻害剤
WO2005094823A1 (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Flt-3阻害剤
WO2006080450A1 (ja) * 2005-01-27 2006-08-03 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Igf-1r阻害剤
WO2008001885A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. INHIBITEUR DE KINASE Abl
WO2008001886A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Inhibiteur d'aurora
WO2008020606A1 (fr) * 2006-08-16 2008-02-21 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Agent anti-angiogénique
WO2008111441A1 (ja) 2007-03-05 2008-09-18 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. 医薬組成物
JP2010215610A (ja) * 2009-02-17 2010-09-30 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The N−(2−アミノエチル)アゾール系化合物の製造方法
JP4975616B2 (ja) * 2005-04-28 2012-07-11 協和発酵キリン株式会社 インダゾール−3−イルメチルホスホニウム塩の製造法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000012481A3 (en) * 1998-09-01 2000-06-08 Cerebrus Pharm Ltd Indazole derivatives with 5-ht2 receptor activity________________
US6410858B1 (en) 1999-12-17 2002-06-25 Shinko Electric Industries Co. Ltd. Multilayered wiring board, a production process for, and semiconductor device using, the same
WO2004050088A1 (ja) * 2002-12-03 2004-06-17 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Jnk阻害剤
EA010165B1 (ru) * 2003-07-30 2008-06-30 Киова Хакко Когио Ко., Лтд. Производные индазола
WO2005012257A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. インダゾール誘導体
WO2005012258A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. タンパク質キナーゼ阻害剤
US7919517B2 (en) 2003-07-30 2011-04-05 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Indazole derivatives
JPWO2005012258A1 (ja) * 2003-07-30 2006-09-14 協和醗酵工業株式会社 タンパク質キナーゼ阻害剤
AU2004260756B2 (en) * 2003-07-30 2010-03-25 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Indazole derivatives
US7470717B2 (en) 2003-07-30 2008-12-30 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Indazole derivatives
CN100390149C (zh) * 2003-07-30 2008-05-28 协和发酵工业株式会社 吲唑衍生物
WO2005094823A1 (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Flt-3阻害剤
JP2009108069A (ja) * 2005-01-27 2009-05-21 Kyowa Hakko Kirin Co Ltd Igf−1r阻害剤
US7605272B2 (en) 2005-01-27 2009-10-20 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. IGF-1R inhibitor
WO2006080450A1 (ja) * 2005-01-27 2006-08-03 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Igf-1r阻害剤
AU2006209712B2 (en) * 2005-01-27 2011-06-09 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. IGF-1R inhibitor
JP4975616B2 (ja) * 2005-04-28 2012-07-11 協和発酵キリン株式会社 インダゾール−3−イルメチルホスホニウム塩の製造法
WO2008001886A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Inhibiteur d'aurora
WO2008001885A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. INHIBITEUR DE KINASE Abl
WO2008020606A1 (fr) * 2006-08-16 2008-02-21 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. Agent anti-angiogénique
WO2008111441A1 (ja) 2007-03-05 2008-09-18 Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd. 医薬組成物
JP2010215610A (ja) * 2009-02-17 2010-09-30 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The N−(2−アミノエチル)アゾール系化合物の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI823911B (zh) 製備方法
JPH0232059A (ja) インダゾール誘導体
US20100197923A1 (en) Salts of clopidogrel and process for preparation
JPS6056143B2 (ja) アミジン誘導体ならびにその製造法
EP0680950B1 (en) Propenone derivatives
EP0503537A1 (en) 6,9 Bis(substituted-amino)benzo-[g]isoquinoline-5,10-diones
US5723484A (en) Benzopyran compounds as 5-HT2C receptor antagonists
AU2011310078A1 (en) Chromene derivatives
CA2212195A1 (en) Pyrimido 4,5- indoles
SK42299A3 (en) N-(benzothiazol-2-yl) piperidine-1-ethanamine derivatives, their preparation and application in therapeutics
JPS604170B2 (ja) 1,2− ジフエニルエタノ−ルアミン誘導体の製法
JPS6059915B2 (ja) 新規なノル−トロパン誘導体、その製法及び用途
TWI454470B (zh) 硫苯並薁丙酸衍生物之製造法
JPH09143166A (ja) 新規な縮合インダン誘導体及びその塩
EP1968970A2 (en) Processes for the preparation of alfuzosin
JPH0269476A (ja) ピリミジン誘導体の製法
CN114716427B (zh) 一种作为rip抑制剂的化合物及其制备方法和用途
RU2809821C2 (ru) Соединения на основе триазолопиримидина и их соли, композиции на их основе и пути их применения
JPH07121931B2 (ja) ベンゾ〔b〕フラン誘導体
JP7333420B2 (ja) トリアゾロピリミジン化合物及びその塩、組成物と使用
JPH08277242A (ja) プロペノン誘導体
CN107660204B (zh) 制备吲唑衍生物的方法
JP3635345B2 (ja) 縮合インダン化合物又はその塩
JPS61152676A (ja) ジベンズ〔b,e〕オキセピン誘導体の製造法
JPH0778062B2 (ja) D−ノル−7−エルゴリン誘導体、その製法、薬剤組成物及び使用