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JPH02294574A - 真空排気装置 - Google Patents

真空排気装置

Info

Publication number
JPH02294574A
JPH02294574A JP11495489A JP11495489A JPH02294574A JP H02294574 A JPH02294574 A JP H02294574A JP 11495489 A JP11495489 A JP 11495489A JP 11495489 A JP11495489 A JP 11495489A JP H02294574 A JPH02294574 A JP H02294574A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pump
vacuum
heat
stage pump
screw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11495489A
Other languages
English (en)
Inventor
Riichi Uchida
利一 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP11495489A priority Critical patent/JPH02294574A/ja
Publication of JPH02294574A publication Critical patent/JPH02294574A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は,真空排気装置に係り、特に,例えば半導体製
造装置などクリーンな真空を必要とする51境に用いる
のに好適な真空排気装置に関するものである. 〔従来の技術〕 真空装置の到達圧力を決めるものは、系内からのガス放
出+tQとポンプの排気速度Sであり,このときの1ヒ
カPは, Q P=− S で与えられる.したがって、圧力Pを下げるには排気速
度Sを増すか、ガス放出iQを下げるかのいずれかの手
段しかない. ガス放出MQは真空ポンプで長時間排気すると、次第に
減少する性質を持ブている.ほとんどの物貿は数十分以
上排気した後は,排気時間tに対して1/Fないし1/
tにおおよそ比例して減少している.したがって,常温
排気のままガス放出mQを何桁も下げることは、大変な
ことである.このような場合、真空ポンプ自身およびこ
れ番こ連結した真空容器の温度を上げて排気すること番
よ、固体表面を清浄にし,低い圧力を達成する上できわ
めて効果がある.この加熱脱ガスの操作はベーキングと
呼ばれ、加熱にはヒータが用一られることが多い. 以上の内容は、真空技術:堀越源一著、東京大学出版会
.1983年3月発行,ページ112〜121において
論じられている. 〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来技術は、真空ポンプ自身およびこれ番こ連結し
た真空容器の温度を上げるため,ヒータを設ける必要が
あり、また、ヒータ用の電源設備を別に設ける必要があ
った. 本発明は、上記従来技術における課題を解決するために
なされたもので,ヒータを用いなレ1で真空装置のベー
キングを可能にし、真空装置の到達圧力を低くしうる真
空排気装置の提供を、その目的とするものである. (ifll!題を解決するための手段〕上記し1的を達
成するために,本発明に係る真空排気装置の構成は、前
段ポンプと後段ポンプとからなる真空排気装置であって
、前記後段ポンプで発生した圧縮熱を前記前段ポンプに
導く手段を設けたものである. より詳しく述べれば,本発明に係る真空排気装1??の
桶成は、前段ポンプと後段ポンプとを流体管路を介して
直列に連結する真空排気装置であって,前記後段ポンプ
の作動室周りに形成した受熱ジャケットと,前記前段ポ
ンプの作動室周りに形成した加熱ジャケットと、これら
両ジャケット間を接続する導管と、この導管により前記
後段ポンプから前記前段ポンプへ流通する循環水を制御
する手段とを備えたものである. なお付記すれば、本発明は、上記目的を達成するために
、真空排気装置を前段ポンプと後段ボンプで構成し、後
段ポンプで発生した圧縮熱を前段ポンプあるいはこれに
連結した真空容器の加熱用熱源として利用したものであ
る. 〔作用〕 後段ポンプは、背圧が大気圧で,吸入圧は大気圧から1
0−zないしl O−’Torrの間で動作する.而段
ポンプは、背圧10Torr以下で動作し,到達圧力は
l O−’Torr以下となる.後段ポンプは、吸込ん
だガスを常に大気まで圧縮するので、圧縮熱が発生する
.圧縮熱は後段ポンプのロータおよびケーシングを加熱
する。一方、前段ポンプは10Torr以下で動作する
ため、圧縮熱はほとんど発生することなく,通常はロー
タ,ケーシングとも常温状態を保っている. 前段,後段ポンプからなる真空排気装置においては、真
空排気装置の到達圧力は,前段ポンプの性能、すなわち
,前段ポンプのガス放火で決まる.本発明では,後段ポ
ンプで発生した熱をロータあるいはケーシングから取り
出し、この熱を前段ポンプの加熱エネルギとするため、
前段ポンプのガス放出を急激に低減し,真空排気装置の
到達圧力を著しく向−ヒすることができる. 〔実施例〕 以ド、本発明の一実施例を第1図および第2図を参照し
て説明する. 第1図は,本発明の一実施例に係る真空排気装首の縦断
面図、第2図は,第1図のA−A矢視断面図である。
図に示すように、本実施例の真空排気装置は,後段ポン
プと前段ポンプとで構成され,向ポンプは流体管路であ
る配管3で直列に連結されて}Nる.後段ポンプは,作
動室に油を用いなレ1粗引きポンプとし2スクリュー真
空ボンプ1が用いられ、前段ポンプは、分子ポンプに係
るねじ溝分子ポンプ2が用いられている. スクリュー真空ポンプ1はメインケーシング4,吐出側
ケーシング5,エンドカバ6からなるケーシングと、ケ
ーシング内に収容した一対のスクリューロータ7、その
スクリューロータ7を支持する軸受8、およびスクリュ
ーロータ7を非接触回転させるためのタイミングギャ9
で構成されている. スクリューロータ7の一方は,ねじれ方向が右の右スク
リューロータ7a.他方はねじれ方向が左の左スクリュ
ーロータ7bで、これらスクリューロータ’/(7a,
7bの総称)とメインケーシング4とで作動室10を形
成している.メインケーシング4の上部には吸入口11
,下部には排気口12が設けられている.また、作動室
10周りとなる前記メインケーシング4には,循環水を
流通せしめる受熱ジャケット13が形成されている. ねじ溝分子ポンプ2は、ねじ溝ロータ21,ケーシング
22,モータ23,回djl5@24.この回転軸24
を支持する軸受25で楕成されている.ねじ溝ロータ2
1の外周には方形のねじ溝21aが形成され、ケーシン
グ22と間に微小すきまを保って、ねじ溝ロータ21は
高速回転して作動室を構成する.ケーシング22の上部
には吸気口26が設けてあり,モータケーシング23I
1の側而には排気口27が設けられている.また、作動
室周りとなるケーシング22には、循環水を流通せしめ
る加熱ジャケット28が形成されている.加熱ジャケッ
ト28は、導管29でスクリュー真空ボンプ1の受熱ジ
ャケット13に連結されている, 受熱ジャケット13,加熱ジャケット28、および導’
l?29内にはlI!f環水が流通しており,その斌は
制御弁30.31によって制御されるように稙成されて
いる. このように構成された本実施例の動作について次に説明
する。
スクリューロータ7の一方が,図示していない外部駈動
機構によって回転されると、タイミングギャ9を介して
スクリューロータ7a,7bは互いに反対方向に回転す
る.スクリューロータ7の回転に伴い、吸入口11から
ガスを吸込み、作動室10で圧縮したのち、排気口l2
から外部へ排気する. ねじ溝分子ボンプ2の吸気026は、図示していない真
空容器と連結されており、スクリュー真空ポンブ1が運
転され,吸気口11の圧力が低下すると、この圧力低下
と共にねじ溝分子ポンプ2内の圧力および真空容器内の
圧力も低下する.ねじ溝分子ポンプ内の圧力が10To
rr以下になると、ねじ溝分子ポンプ2を起動させる.
通常の真空排気装置で、ねじ溝分子ポンプ2の排気速度
は,スクリュー真空ポンプ1の排気速度の5ないし20
倍で、真空容器の圧力は急激に低下する.また,スクリ
ュー真空ポンプ1のみでは,到達圧力は約1 0−”T
orrであるのに対して、ねじ溝分子ボンプ2とスクリ
ュー真空ポンプ1とを直列に接続した真空排気装置では
,到達圧力は10−7Torr以下となる. スクリュー真空ボンプ1は,吸込んだガスを大気圧まで
圧縮するため、作動室は200ないし400℃の高温と
なる.この高温となった熱はメインケーシング4の内壁
を通過して,受熱ジャケット13内の循環水を加熱する
.そして,高温となった循環水は導管29を通って、加
熱ジャケット28に棉かれ,ケーシング22を加熱し、
さらにはねじ溝ロータ21をも加熱することになる.そ
の結果、ねじ溝分子ポンプ内部に吸着していたガス分子
の脱離が促進され、真空装置の圧力を容易に低くするこ
とができる. 実施例では、ねじ溝分子ボンプ2のみを加熱するように
しているが,これに連結する真空容器の加熱も同様の方
法で行うことができる。
本実施例によれば、真空装置(前段ポンプ,真空容器)
の加熱脱ガス操作、いわゆるベーキングをポンプ自身(
後段ポンプ)の圧縮熱で行うため、従来技術のような加
熱ヒータおよびヒータを加熱するための電源設備を別に
設ける必要がなくなる.なお,上記の実施例では、前段
ポンプとして分子ポンプ(+oLecular dra
g pump:モレキュラ ドラグポンプ)の一例であ
るねじ溝分子ポンプを用い、後段ポンプとしてスクリュ
ー真空ポンプを用いた例を説明したが,本発明はこれに
限定されるのものではない.前段ポンプとしては、他の
分子ポンプ,例えばターボ分子ポンプ(turbomo
lecular pu+*p :ターボ モレキュラ 
ポンプ)を用い、後段ポンプとしては、作動室に油を用
いない他の楕造の粗引きポンプを用いることを妨げない
. 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、本発明によれば、ヒータを
用いないで真空装置のベーキングを可能にし、真空装置
の到達圧力を低くしうる真空排気装置を提供することが
できる.
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る真空排気装置の縦断
面図,第2図は,第1図のA−A矢視断而図である. 1・・・スクリュー真空ポンプ,2・・・ねじ溝分子ポ
ンプ,3・・・配管、4・・・メインケーシング、7・
・・スクリューロータ,10・・・作動室.11・・・
吸入口,12・・・徘気口,13・・・受熱ジャケット
、21・・・ねじ溝ロータ,22・・・ケーシング,2
6・・・吸気口、27・・・排気口、28・・・加熱ジ
ャケット、29・・・導管,30,31・・・制御弁.

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、前段ポンプと後段ポンプとからなる真空排気装置で
    あつて、前記後段ポンプで発生した圧縮熱を前記前段ポ
    ンプに導く手段を設けたことを特徴とする真空排気装置
    。 2、前段ポンプと後段ポンプとを流体管路を介して直列
    に連結する真空排気装置であつて、 前記後段ポンプの作動室周りに形成した受熱ジャケット
    と、 前記前段ポンプの作動室周りに形成した加熱ジャケット
    と、 これら両ジャケット間を接続する導管と、 この導管により前記後段ポンプから前記前段ポンプへ流
    通する循環水を制御する手段とを備えたことを特徴とす
    る真空排気装置。 3、前段ポンプは、分子ポンプであり、後段ポンプは、
    作動室に油を用いない粗引きポンプであることを特徴と
    する請求項1または請求項2記載のいずれかの真空排気
    装置。
JP11495489A 1989-05-10 1989-05-10 真空排気装置 Pending JPH02294574A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11495489A JPH02294574A (ja) 1989-05-10 1989-05-10 真空排気装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP11495489A JPH02294574A (ja) 1989-05-10 1989-05-10 真空排気装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02294574A true JPH02294574A (ja) 1990-12-05

Family

ID=14650759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11495489A Pending JPH02294574A (ja) 1989-05-10 1989-05-10 真空排気装置

Country Status (1)

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JP (1) JPH02294574A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100567006B1 (ko) * 1997-05-22 2007-11-30 가부시끼가이샤 티. 디. 기겐 용적형펌프
CN107709773A (zh) * 2015-07-23 2018-02-16 埃地沃兹日本有限公司 排气系统

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100567006B1 (ko) * 1997-05-22 2007-11-30 가부시끼가이샤 티. 디. 기겐 용적형펌프
CN107709773A (zh) * 2015-07-23 2018-02-16 埃地沃兹日本有限公司 排气系统

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